CN206216467U - 一种光学零件平面研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光学零件平面研磨装置，包括研磨下盘和研磨上盘，研磨下盘设于一个旋转支撑主轴上，旋转支撑主轴连接能够调节主轴转速及转向的变频电机，研磨上盘设于一个精密进给主轴上，精密进给主轴中设有导向定位套筒和精密进给滚珠丝杠副，精密进给滚珠丝杠副的输出端设有能够定位夹紧研磨上盘的压紧定位夹套，压紧定位夹套中设有压力检测传感器，精密进给滚珠丝杠副的输入端连接伺服电机，变频电机、压力检测传感器和伺服电机连接一个精密研磨控制器；本实用新型能够根据需要精密调节研磨速度、研磨压力和研磨进给量，研磨抛光压力和行程调节精密可控，确保研磨抛光精度高，尤其适合高精度、超薄、超小型的光学零件研磨抛光使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种光学零件平面研磨装置。
背景技术
在加工光学零件时需要对光学零件进行研磨、抛光，研磨、抛光是加工光学零件的关键加工工序。现有技术中通常是采用通用的光学抛光机对平面光学零件进行研磨抛光，抛光时下抛光盘在光学抛光机转轴的驱动下自动旋转，上抛光盘在光学抛光机往复摆杆的驱动下围绕下抛光盘中心相对转动，同时上抛光盘在抛光摩擦时也跟随自转，使固定在下抛光盘上的光学零件在上抛光盘压力下不断被研磨，从而使光学零件逐渐被抛光。
由于现有的这些光学抛光机结构较为简易，生产时不能够根据需要调节上抛光盘的压力和研磨行程，只能够通过改变上抛光盘的物理重量来改变研磨压力，对于一些高精度、超薄、超小型的光学零件最好能够施加不同的研磨抛光压力和调节研磨进给行程，以保证研磨抛光质量，因此需要研制专用的平面研磨装置。
发明内容
为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种研磨精度高、研磨抛光压力和行程调节精密可控的光学零件平面研磨装置。
本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种光学零件平面研磨装置，包括研磨下盘和研磨上盘，所述研磨下盘设于一个旋转支撑主轴上，所述旋转支撑主轴连接一个能够调节主轴转速及转向的变频电机，所述研磨上盘设于一个精密进给主轴上，所述精密进给主轴中设有导向定位套筒和精密进给滚珠丝杠副，所述精密进给滚珠丝杠副的输出端设有能够定位夹紧所述研磨上盘的压紧定位夹套，所述压紧定位夹套中设有一个压力检测传感器，所述精密进给滚珠丝杠副的输入端连接一个伺服电机，所述变频电机、压力检测传感器和伺服电机连接一个精密研磨控制器；在研磨抛光时能够根据需要精密调节研磨速度、研磨压力和研磨进给量，研磨参数精密可控。
所述研磨下盘外设有一个研磨防护罩，所述研磨防护罩的底部设有抛光液收集槽，所述抛光液收集槽连接有抛光液循环供给装置，所述抛光液循环供给装置中设有抛光液喷头。
所述研磨上盘的顶面中设有抛光液输入孔，所述研磨上盘的研磨底面设有同心状的抛光环槽和放射状的抛光沟槽。
本实用新型的有益效果是：采用上述结构，通过设置一个专用的平面研磨装置，专用的平面研磨装置中设置能够调节主轴转速及转向的研磨下盘，研磨上盘设于一个伺服电机驱动 的精密进给主轴上，精密进给主轴与研磨上盘之间设置压力检测传感器，在研磨抛光时能够根据需要精密调节研磨速度、研磨压力和研磨进给量，研磨下盘和研磨上盘运行精度高，研磨抛光压力和行程调节精密可控，确保研磨抛光精度高，尤其适合高精度、超薄、超小型的光学零件研磨抛光使用。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：
图1是本实用新型光学零件平面研磨装置的结构示意图；
图2是本实用新型研磨上盘研磨底面的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。
请参阅图1及图2所示，本实用新型光学零件平面研磨装置包括研磨下盘1和研磨上盘2，所述研磨下盘1设于一个旋转支撑主轴3上，所述旋转支撑主轴3连接一个能够调节主轴转速及转向的变频电机4，所述研磨上盘2设于一个精密进给主轴5上，所述精密进给主轴5中设有导向定位套筒51和精密进给滚珠丝杠副52，所述精密进给滚珠丝杠副52的输出端设有能够定位夹紧所述研磨上盘2的压紧定位夹套53，所述压紧定位夹套53中设有一个压力检测传感器6，所述精密进给滚珠丝杠副52的输入端连接一个伺服电机7，所述变频电机4、压力检测传感器6和伺服电机7连接一个精密研磨控制器8。
所述研磨下盘1外设有一个研磨防护罩9，所述研磨防护罩9的底部设有抛光液收集槽91，所述抛光液收集槽91连接有抛光液循环供给装置10，所述抛光液循环供给装置10中设有抛光液喷头101。
所述研磨上盘2的顶面中设有抛光液输入孔21，所述研磨上盘2的研磨底面设有同心状的抛光环槽22和放射状的抛光沟槽23。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (3)
1.一种光学零件平面研磨装置，其特征在于：包括研磨下盘和研磨上盘，所述研磨下盘设于一个旋转支撑主轴上，所述旋转支撑主轴连接一个能够调节主轴转速及转向的变频电机，所述研磨上盘设于一个精密进给主轴上，所述精密进给主轴中设有导向定位套筒和精密进给滚珠丝杠副，所述精密进给滚珠丝杠副的输出端设有能够定位夹紧所述研磨上盘的压紧定位夹套，所述压紧定位夹套中设有一个压力检测传感器，所述精密进给滚珠丝杠副的输入端连接一个伺服电机，所述变频电机、压力检测传感器和伺服电机连接一个精密研磨控制器。
2.根据权利要求1所述的一种光学零件平面研磨装置，其特征在于：所述研磨下盘外设有一个研磨防护罩，所述研磨防护罩的底部设有抛光液收集槽，所述抛光液收集槽连接有抛光液循环供给装置，所述抛光液循环供给装置中设有抛光液喷头。
3.根据权利要求1所述的一种光学零件平面研磨装置，其特征在于：所述研磨上盘的顶面中设有抛光液输入孔，所述研磨上盘的研磨底面设有同心状的抛光环槽和放射状的抛光沟槽。
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| CN109664188A (zh) * | 2018-12-14 | 2019-04-23 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 晶圆片装卸装置 |
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