CN206109526U - 非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂 - Google Patents
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Abstract
非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，涉及吸气剂设备领域，尤其涉及非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于该吸气剂直接生长在光学窗口上，所述的吸气剂包括多孔结构调节层和气体吸收层，在光学窗口上沉积一层多孔结构调节层，多孔结构调节层上沉积一层气体吸收层。本实用新型的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，含有多孔结构调节层和气体吸收层，具有低温激活性质和高吸气性能，满足非制冷焦平面探测器陶瓷封装和晶圆级封装的图形化要求，且该薄膜吸气剂可靠性高，使用寿命长，易于大批量生产，有利于降低生产成本，提高经济效益。
Description
技术领域
本实用新型涉及吸气剂设备领域，尤其涉及非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂。
背景技术
吸气剂一般用于获得、维持真空以及纯化气体等，对维持理想的高真空环境有重要的作用，非制冷焦平面探测器性能需要在高真空环境下方能保持，而探测器组件由于内部材料放气导致器件真空度降低。为了达到维持非制冷焦平面探测器组件内部真空品质与理想工作环境的目的，通常使用吸气剂进行调节。目前常用的吸气剂材料有柱状吸气剂和片状吸气剂，两者都存在体积都较大、成本高、振动过程中容易掉颗粒、焊接工艺复杂的问题，导致组件的可靠性差，另外目前市场上的薄膜吸气剂多为高温激活、薄膜的有效吸收面积较小而导致吸气效率低下且不利于降低成本。
实用新型内容
本实用新型所要解决的就是目前的柱状吸气剂和片状吸气剂存在体积大、成本高、振动过程中容易掉颗粒、焊接工艺复杂的问题，提供一种非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂。
本实用新型的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于该吸气剂直接生长在光学窗口上，所述的吸气剂包括多孔结构调节层和气体吸收层，在光学窗口上沉积一层多孔结构调节层，多孔结构调节层上沉积一层气体吸收层。
所述的光学窗口为长有红外增透的锗窗或者硅窗口。
所述的光学窗口与多孔结构调节层之间沉积一层过渡层。
所述的多孔结构调节层为海绵状结构，其成分为Ti、Zr、AL、Cr、Cu、Fe、Pt和Ru中的一种或多种组分形成的合金，其厚度在1µm～2µm，纯度大于4N。
所述的气体吸收层的成分为Ti、Zr、Y、La和Co中的至少一种材料形成的多元合金，其厚度为2µm～5µm。
本实用新型的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，含有多孔结构调节层和气体吸收层，具有低温激活性质和高吸气性能，其中多孔结构调节层能控制气体吸收层的微观结构，能抑制光学窗口对气体吸收层的毒化作用，同时多孔结构调节层与光学窗口的过渡层为致密层，并与光学窗口金属功函数较为匹配，增强了薄膜吸气剂在光学窗口的附着力，同时薄膜吸气剂可配合掩膜、光刻等非制冷焦平面探测器兼容的工艺，获得精度较高的图案，满足非制冷焦平面探测器陶瓷封装和晶圆级封装的图形化要求，且该薄膜吸气剂可靠性高，使用寿命长，易于大批量生产，有利于降低生产成本，提高经济效益。
附图说明
图1为本实用新型的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂的结构示意图；
其中，光学窗口1，过渡层2，多孔结构调节层3，气体吸收层4。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
实施例1：非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，该吸气剂包括光学窗口1、多孔结构调节层3和气体吸收层4，光学窗口1为长有红外增透的锗窗或者硅窗口，采用电子束蒸发设备在光学窗口1上沉积一层过渡层2，过渡层2为致密层，其材料为Ti膜，厚度为50nm，采用电子束蒸发设备在过渡层2上沉积一层多孔结构调节层3，多孔结构调节层3为海绵状结构，优选Ti作为多孔结构调节层3的材料，其厚度在2µm，纯度为5N，采用电子束蒸发设备在多孔结构调节层3上沉积一层气体吸收层4，气体吸收层4的成分为Zr、Co、Y三种合金，其中Zr含量占70 %，Co含量占20 %，Y含量占10 %，气体吸收层4的厚度为5µm。
以上仅为本实用新型的一种实施方式，只要使用了以上所述结构，均应落入本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于该吸气剂直接生长在光学窗口（1）上，所述的吸气剂包括多孔结构调节层（3）和气体吸收层（4），在光学窗口（1）上沉积一层多孔结构调节层（3），多孔结构调节层（3）上沉积一层气体吸收层（4）。
2.根据权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于所述的光学窗口（1）为长有红外增透的锗窗或者硅窗口。
3.根据权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于所述的光学窗口（1）与多孔结构调节层（3）之间沉积一层过渡层（2）。
4.根据权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于所述的多孔结构调节层（3）为海绵状结构，其成分为Ti、Zr、AL、Cr、Cu、Fe、Pt和Ru中的一种或多种组分形成的合金，其厚度在1µm～2µm，纯度大于4N。
5.根据权利要求1所述的非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂，其特征在于所述的气体吸收层（4）的成分为Ti、Zr、Y、La和Co中的至少一种材料形成的多元合金，其厚度为2µm～5µm。
Priority Applications (1)
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| CN201621143441.8U CN206109526U (zh) | 2016-10-21 | 2016-10-21 | 非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂 |
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| CN201621143441.8U CN206109526U (zh) | 2016-10-21 | 2016-10-21 | 非制冷焦平面探测器低温激活薄膜吸气剂 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110863228A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-03-06 | 中山凯旋真空科技股份有限公司 | 二氧化钛纳米管基吸气剂薄膜及其制备方法 |
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2016
- 2016-10-21 CN CN201621143441.8U patent/CN206109526U/zh active Active
Cited By (2)
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| CN110863228A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-03-06 | 中山凯旋真空科技股份有限公司 | 二氧化钛纳米管基吸气剂薄膜及其制备方法 |
| CN110863228B (zh) * | 2019-11-29 | 2021-08-10 | 中山凯旋真空科技股份有限公司 | 二氧化钛纳米管基吸气剂薄膜及其制备方法 |
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