CN205787590U - 双面膜曝光机的帧收放结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及柔性电子产品应用技术领域，尤其是双面膜曝光机的帧收放结构，包括有上料单元、曝光单元及收料单元，上料单元设置在曝光单元的上料端，上料单元包括有上料基座，上料基座上设有上料辊以及上料缓存浮动辊，在上料辊释放基材的一端设有两根上料从动辊，两根上料从动辊上面分别设有第一压板和第二压板，在第一压板和第二压板中间设有第一切边单元，上料缓存浮动辊的进出侧分别设有上料张力辊和上料辅助从动辊；收料单元设置在曝光单元的出料端，收料单元包括有收料底座、收料基座，收料基座设有下料辊及第二切边单元，收料底座上设有收料缓存单元。实现一次双面覆膜曝光，且达到一帧一帧连续曝光工作，提升工作效率及工作质量。

Description

双面膜曝光机的帧收放结构

技术领域

本实用新型涉及将薄膜覆于ITO Film和金属软膜表面，通过曝光、显影和蚀刻制作软膜电路，广泛应用触摸屏Senser、精密FPC和软性电池等柔性电子产品应用技术领域，尤其是卷对卷制作双面柔性电子线路上的曝光制作装置。

背景技术

近年来，随着材料等基础产业的技术进步，使电路的设计和生产技术获得了较大发展，各种新的设计理念得到了广泛的应用和推广，电子产品的市场趋势皆走向追求轻薄化，使用电路的基材由传统的玻璃、硅晶圆转向薄化玻璃、金属箔与塑胶基板等软性材料取代，亦即现在泛称的软性电子(或可挠式电子)。工艺设备由于应软性材料的不同，需要导入卷对卷 ( RTR ) 的传输设备，制作电子线路具有配线密度高、重量轻、厚度薄的特点。在双面电路板在生产时，需要采用覆膜机将干膜贴合在导电基材表面，然后经紫外光对MASK照射曝光后，见光的干膜分解，在碱性显液中溶解，导电基材表面留下与MASK一样的图案，然后用蚀刻液喷淋导电基材，没有干膜保护的导电层被蚀刻，再除去基材上的残留干膜，使导电电路裸露出来，这是制作电路过程。而现有的是单面导电基板进行单面覆膜机，采用覆膜、曝光、显影、蚀刻和除膜，完成A面导电电路工作，同样方法，用另一卷膜制作B面导电电路，用A、B面导电电路组合在一起形成双面电路，工序繁琐，工作效率低，不良率高，且曝光上料准确性不佳，导致上下面覆膜曝光不一致。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种双面覆膜曝光机的帧收放结构，实现一次双面覆膜曝光，且达到一帧一帧连续曝光工作，优化工艺，提升工作效率及工作质量。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

双面膜曝光机的帧收放结构，包括有上料单元、曝光单元及收料单元，其中：

所述上料单元设置在曝光单元的上料端，上料单元包括有上料基座，上料基座上设有上料辊，在上料辊释放基材的一端设有两根上料从动辊，两根上料从动辊上面分别设有第一压板和第二压板，在第一压板和第二压板中间设有第一切边单元，该第一切边单元给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线上；以及一上料缓存浮动辊，该上料缓存浮动辊的进出侧分别设有上料张力辊和上料辅助从动辊，基材缓存是上料缓存浮动辊在上料张力辊和上料辅助从动辊中间往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊和上料辅助从动辊之间；

所述收料单元设置在曝光单元的出料端，收料单元包括有收料底座、收料基座，收料基座上设有下料辊及第二切边单元，收料底座上设有收料缓存单元，曝光后的基材进入本结构时依次经过收料缓存单元、第二切边单元后收卷在下料辊上；收料缓存单元包括有收料浮动辊、收料张力辊和收料辅助从动辊，收料张力辊和收料辅助从动辊分别设置在收料浮动辊的进出侧，基材缓存是收料浮动辊在收料张力辊和收料辅助从动辊中间往下沉，使基材拉长存放在收料张力辊和收料辅助从动辊之间。

所述曝光单元的上料端设有辅助夹紧基材的第一主辊和第一下压辊，而在曝光单元的出料端设有辅助夹紧基材的第二主辊和第二下压辊，依次给予张紧及稳定曝光单元上的基材，稳定曝光工作。

所述上料基座设计为可移动体，该上料基座铺设在上料底座的两根上料导轨的滑块上，在上料马达驱动器带动下相对底座左右移动，基座移动方向受上料纠偏感测器控制。

所述上料缓存浮动辊输出侧设有除尘辊，除尘辊成对设计，实现基材上下面除尘。

所述第二切边单元设有两根下料从动辊，两根下料从动辊上面分别设有第三压板和第四压板，在第三压板和第四压板中间设有切边模块，该切边模块给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线。

所述收料基座设计为可移动体，在收料底座上设有两根收料导轨，基座铺设在两根收料导轨的滑块上，在收料马达驱动器带动下相对收料底座左右移动，收料基座移动方向受收料纠偏感测器控制。

与现有技术对比，本实用新型提供的双面膜曝光机的帧收放结构，在满足一次双面膜曝光同时，还利用基材放出时上料缓存浮动辊在上料张力辊和上料辅助从动辊中间往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊和上料辅助从动辊之间；而基材收回是收料浮动辊在收料张力辊和收料辅助从动辊中间往下沉，使曝光好基材拉长存放在收料张力辊和收料辅助从动辊之间；通过一放一收协调，实现双面膜曝光机的一帧一帧连续曝光工作，上料、收料准确，上下面曝光一致，优化工艺，提升工作效率及工作质量。

附图说明：

附图1为本实用新型较佳实施例结构示意图；

附图2为图1实施例立体示意图。

具体实施方式：

以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。

参阅图1、2所示，系本实用新型的较佳实施例示意图，本实用新型有关一种双面膜曝光机的帧收放结构，包括有上料单元1、曝光单元2及收料单元3。

所述上料单元1设置在曝光单元2的上料端，上料单元1包括有上料基座11，上料基座11上设有上料辊12，在上料辊12释放基材的一端设有两根上料从动辊13，两根上料从动辊13上面分别设有第一压板14和第二压板15，在第一压板14和第二压板15中间设有第一切边单元16，该第一切边单元16给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线上；以及一上料缓存浮动辊17，该上料缓存浮动辊17的进出侧分别设有上料张力辊171和上料辅助从动辊172，基材缓存是上料缓存浮动辊17在上料张力辊171和上料辅助从动辊172中间往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊171和上料辅助从动辊172之间。

所述收料单元3设置在曝光单元2的出料端，收料单元3包括有收料底座34、收料基座31，收料基座31上设有下料辊32及第二切边单元33，收料底座34上设有收料缓存单元35，曝光后的基材进入本结构时依次经过收料缓存单元35、第二切边单元33后收卷在下料辊32上；收料缓存单元35包括有收料浮动辊351、收料张力辊352和收料辅助从动辊353，收料张力辊352和收料辅助从动辊353分别设置在收料浮动辊351的进出侧，基材缓存是收料浮动辊351在收料张力辊352和收料辅助从动辊353中间往下沉，使基材拉长存放在收料张力辊352和收料辅助从动辊353之间。

所述曝光单元2的上料端设有辅助夹紧基材的第一主辊21和第一下压辊22，而在曝光单元2的出料端设有辅助夹紧基材的第二主辊23和第二下压辊24，依次给予张紧及稳定曝光单元2上的基材，稳定曝光工作。曝光单元2实现上下侧曝光，即相应基板平直进入曝光工位，经紫外光照射曝光，即可实现上下侧曝光，无需翻转重复单面工作，优化工艺，提升工作效率及工作质量。第一下压辊22和第二下压辊24在气缸等机构驱动下压和抬起，下压时，第一下压辊22配合第一主辊21夹紧曝光单元2上料端的基材，防止上料缓存浮动辊17作用回拉基材。第二下压辊24则配合第二主辊23夹紧曝光单元2收料端的基材，防止收料浮动辊351作用拉出基材。反之，要移出曝光好的基材，则第一下压辊22和第二下压辊24抬起。

上料单元1工作是：基材从上料辊12牵引出来，穿过上料从动辊13和第一压板14之间，到切边单元16下面，按动开关使第一压板14压着基材，用切边单元16切割基材，基材形成斜边端口；从后面拉过来的基膜穿过另一上料从动辊13和第二压板15之间，到切边单元16下面，按动开关使第二压板15压着基膜，用切边单元16切割基膜，在基膜形成斜边端口，再把基材和基膜端口对齐，用胶带贴合封紧，保证基材和基膜端头拼接在同一直线上，再放开第一压板14和第二压板15。通过牵引基材进行曝光生产，形成一个闭环的张力控制系统，可减少基材无谓浪费，节约成本。实例中所述基材缓存是上料缓存浮动辊17在上料张力辊171和上料辅助从动辊172中间往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊171和上料辅助从动辊172之间。上料张力辊171具有基材张力感应功能，当张力变小时，上料缓存浮动辊17往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊171和上料辅助从动辊172之间，从而收紧基材；当张力变大时，上料缓存浮动辊17往上升，释放基材使上料张力辊171感测张力变小，从而使基材的张力达到平衡，控制生产基材伸缩变化在很小范围内，解决双面电子线路对位不准确的难题，提升双面电子线路工作稳定性能。

本实施例中，在所述上料缓存浮动辊17输出端还设有除尘辊5，除尘辊5成对设计，基材从除尘辊5中间通过，基材上的灰尘被除尘辊5带走，从而实现基材上下面除尘，减少撕保护膜产生静电吸附灰尘，使灰尘对后续工序主产质量影响降至最少。所述上料基座11设计为可移动体，该上料基座11铺设在上料底座18的两根上料导轨181的滑块上，在上料马达驱动器19带动下相对底座18左右移动，基座11移动方向受上料纠偏感测器4控制。上料纠偏感测器4发出信号控制上料马达驱动器19动作，实现与发料纠偏联动操作，解决生产中软性基材跑偏问题。本实施例的上料纠偏感测器4为现有技术，其通过感测基材边缘位置来发出控制信号，具体原理在此不再赘述。

收料单元3工作是：基材从曝光单元2牵引出来，缓存是收料浮动辊351在收料张力辊352和收料辅助从动辊353中间往下沉，使基材拉长存放在收料张力辊352和收料辅助从动辊353之间。收料张力辊352具有基材张力感应功能，当张力变小时，收料浮动辊351往下沉，使基材拉长存放在收料张力辊352和收料辅助从动辊353之间，从而收紧基材；当张力变大时，收料浮动辊351往上升，释放基材使收料张力辊352感测张力变小，从而使基材的张力达到平衡，控制生产基材伸缩变化在很小范围内，解决双面电子线路对位不准确的难题，提升双面电子线路工作稳定性能。所述第二切边单元33设有两根下料从动辊334，两根下料从动辊334上面分别设有第三压板332和第四压板333，在第三压板332和第四压板333中间设有切边模块331，该切边模块331给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线。第二切边单元33设置在下料辊32收料的一端，当生产基材品质不好，按动开关使第三压板332压着基材，用切边模块331切割基材，基材形成斜边端口；操作下料辊32倒转，从后面拉出来品质不好的基材穿过下料从动辊334和第四压板333之间，到切边模块331下面，按动开关使第四压板333压着基材，用切边模块331切割基材，在基膜形成斜边端口，再把两个基材端口对齐，用胶带贴合封紧，保证两基材端头拼接在同一直线上，再放开第三压板332和第四压板333，用下料辊32收紧基材，形成一个闭环的张力控制系统，继续进行生产可减少基材无谓浪费，节约成本；符合产业利用，极大提升机器设备的运行效，以及降低运行成本。

本实施例中，收料单元3上收料基座31设计为可移动体，在收料底座34上设有两根收料导轨341，基座31铺设在两根收料导轨341的滑块上，在收料马达驱动器36带动下相对收料底座34左右移动，收料基座31移动方向受收料纠偏感测器6控制。收料纠偏感测器6发出信号控制收料马达驱动器36动作，实现与收料纠偏联动操作，解决生产中软性基材跑偏问题。本实施例的收料纠偏感测器6为现有技术，其通过感测基材边缘位置来发出控制信号，具体原理在此不再赘述。

本实用新型工作过程：当曝光完成时，第二压板15和第三压板332下降压紧基材，上料缓存浮动辊17上升高位，同时收料浮动辊351下沉低位，把一帧基材送到曝光位，另一帧曝光后的基材送到收料张力辊352和收料辅助从动辊353之间缓存；曝光时，第一下压辊22和第二下压辊24下降压紧基材，第二压板15和第三压板332松开，驱动上料辊12送料，上料缓存浮动辊17下沉到低位，把一帧基材的长度存放在上料张力辊171和上料辅助从动辊172之间，同时收料浮动辊351上升到高位，收料辊32把一帧曝光好的基材收走；工作重复上面二个步骤，生产过程中保持基材的张力一致性，实现双面膜曝光机的一帧一帧连续曝光收放工作，上料、收料准确，上下面曝光一致，优化工艺，提升工作效率及工作质量。

以上结合实施方式对本实用新型做了详细说明，只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限定本实用新型的保护范围，故凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (6)

1.双面膜曝光机的帧收放结构，包括有上料单元（1）、曝光单元（2）及收料单元（3），其特征在于：

所述上料单元（1）设置在曝光单元（2）的上料端，上料单元（1）包括有上料基座（11），上料基座（11）上设有上料辊（12），在上料辊（12）释放基材的一端设有两根上料从动辊（13），两根上料从动辊（13）上面分别设有第一压板（14）和第二压板（15），在第一压板（14）和第二压板（15）中间设有第一切边单元（16），该第一切边单元（16）给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线上；以及一上料缓存浮动辊（17），该上料缓存浮动辊（17）的进出侧分别设有上料张力辊（171）和上料辅助从动辊（172），基材缓存是上料缓存浮动辊（17）在上料张力辊（171）和上料辅助从动辊（172）中间往下沉，使基材拉长存放在上料张力辊（171）和上料辅助从动辊（172）之间；

所述收料单元（3）设置在曝光单元（2）的出料端，收料单元（3）包括有收料底座（34）、收料基座（31），收料基座（31）上设有下料辊（32）及第二切边单元（33），收料底座（34）上设有收料缓存单元（35），曝光后的基材进入本结构时依次经过收料缓存单元（35）、第二切边单元（33）后收卷在下料辊（32）上；收料缓存单元（35）包括有收料浮动辊（351）、收料张力辊（352）和收料辅助从动辊（353），收料张力辊（352）和收料辅助从动辊（353）分别设置在收料浮动辊（351）的进出侧，基材缓存是收料浮动辊（351）在收料张力辊（352）和收料辅助从动辊（353）中间往下沉，使基材拉长存放在收料张力辊（352）和收料辅助从动辊（353）之间。

2.根据权利要求1所述的双面膜曝光机的帧收放结构，其特征在于：所述曝光单元（2）的上料端设有辅助夹紧基材的第一主辊（21）和第一下压辊（22），而在曝光单元（2）的出料端设有辅助夹紧基材的第二主辊（23）和第二下压辊（24），依次给予张紧及稳定曝光单元（2）上的基材，稳定曝光工作。

3.根据权利要求1所述的双面膜曝光机的帧收放结构，其特征在于：所述上料基座（11）设计为可移动体，该上料基座（11）铺设在上料底座（18）的两根上料导轨（181）的滑块上，在上料马达驱动器（19）带动下相对底座（18）左右移动，基座（11）移动方向受上料纠偏感测器（4）控制。

4.根据权利要求1所述的双面膜曝光机的帧收放结构，其特征在于：所述上料缓存浮动辊（17）输出侧设有除尘辊（5），除尘辊（5）成对设计，实现基材上下面除尘。

5.根据权利要求1所述的双面膜曝光机的帧收放结构，其特征在于：所述第二切边单元（33）设有两根下料从动辊（334），两根下料从动辊（334）上面分别设有第三压板（332）和第四压板（333），在第三压板（332）和第四压板（333）中间设有切边模块（331），该切边模块（331）给予基材和基膜端头切整齐，保证基材和基膜端头拼接在同一直线。

6.根据权利要求1所述的双面膜曝光机的帧收放结构，其特征在于：所述收料基座（31）设计为可移动体，在收料底座（34）上设有两根收料导轨（341），基座（31）铺设在两根收料导轨（341）的滑块上，在收料马达驱动器（36）带动下相对收料底座（34）左右移动，收料基座（31）移动方向受收料纠偏感测器（6）控制。