CN205046212U - 一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸 - Google Patents

Abstract

一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，包括主电镀槽和缓冲槽，所述主电镀槽与缓冲槽连接的侧壁上设有溢流口，所述主电镀槽中的电镀液能够通过溢流口溢流至缓冲槽，主电镀槽与缓冲槽之间还连接有补流通道，缓冲槽中的电镀液能够通过补流通道补充至主电镀槽中。主槽的溶液中放置有铜条和电镀工件，铜条和电镀工件分别通过第一线缆和第二线缆与外部电源连接；主槽的外壁设有若干支辊，第一线缆和第二线缆以至少一个拐点的曲线状绕支辊布置；通过将线缆以曲线状放置，可使电镀溶液在线缆的拐点处滴落，减少腐蚀线缆的长度。

Description

一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸

技术领域

本实用新型涉及电镀领域，具体是一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸。

背景技术

电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用。

电镀缸是电镀设备中最基础的设备。现有电镀缸普遍存在如下缺点：当电镀工件体积较大时，需要从主电镀槽抽出一部分电镀液，防止电镀作业时电镀液溢出，相反当电镀工件体积较小时，又需将存放的已经冷却的电镀液补充回主电镀槽，然后还需要对电镀液进行搅拌升温，防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降，另外长期电镀作业后电镀液内杂质含量增多，将导致电镀质量的下降；补充电镀液时直接在主电镀槽添加，补充电镀液中的杂质在主电镀槽底部沉积，影响电镀质量的同时还不易排出该杂质。

且当前电镀缸一般采用垂直线缆式，即伸出电镀缸之外的电镀线，直接与地面的电源相连，电镀线几乎垂直于地面。电镀过程中，电镀溶液容易在线缆与被镀物或欲镀金属的连接位上汇积，并会顺着线缆流下。经过长时间的累积，这些具有腐蚀性的电镀溶液会严重腐蚀线缆，造成电镀电流的不稳定，影响镀层质量，同时对电镀线周围环境造成污染，甚至造成电源短路，造成危险。如果发生腐蚀现象，则必须定期更换整条线缆。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，包括主电镀槽和缓冲槽，所述主电镀槽与缓冲槽连接的侧壁上设有溢流口，所述主电镀槽中的电镀液能够通过溢流口溢流至缓冲槽，主电镀槽与缓冲槽之间还连接有补流通道，缓冲槽中的电镀液能够通过补流通道补充至主电镀槽中；

主槽的溶液中放置有铜条和电镀工件，铜条和电镀工件分别通过第一线缆和第二线缆与外部电源连接；主槽的外壁设有若干支辊，第一线缆和第二线缆以至少一个拐点的曲线状绕支辊布置。

还包括作为补流通道的补流管，补流管的一端连接到缓冲槽的底部，另一端连接至主电镀槽。

所述补流管中设置有输送泵。

所述补流管中设置有电镀液过滤机。

所述缓冲槽中设置有电镀液加热器。

所述第一线缆和第二线缆与主槽的连接处分别设有引流收集装置，引流收集装置由设置于线缆与主槽连接处的引流条和引流条底部的收集盘组成。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型能够灵活地根据不同待电镀工件的体积大小，存储电镀液或者向主电镀槽中添加电镀液，避免频繁抽出或者补充电镀液，与此同时，存储在缓冲槽中的电镀液均能通过电镀液加热器加热保温，从而避免添加进入主电镀槽中的电镀液与原主电镀槽中的电镀液存在较大温差，进而防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降。此外，主电镀槽中补充电镀液的操作过程均在缓冲槽中完成，从而使得补充电镀液中的杂质在缓冲槽的底部沉积，便于收集排出杂质的同时，防止了杂质影响电镀质量。

第一线缆和第二线缆以至少一个拐点的曲线状绕支辊布置，可使电镀溶液在线缆的拐点处滴落，减少腐蚀线缆的长度。第一线缆和第二线缆与主槽的连接处还分别设有引流收集装置，引流收集装置由设置于线缆与主槽连接处的引流条和引流条底部的收集盘组成，引流条可以加速线缆上电镀溶液的滴落，收集盘用于收集滴落的电镀溶液，避免其对环境的影响。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为图1的俯视图；

图3为本实用新型中线缆固定装置的结构示意图。

图中所示：1、主电镀槽，2、缓冲槽，3、溢流口，4、电镀液加热器，5、输送泵，6、支辊，7、第一线缆，8、电镀工件，9、铜条，10、外部电源，11、引流条，12、收集盘，13、第二线缆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型实施例中，一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，包括主电镀槽1和缓冲槽2，所述主电镀槽1的侧壁上形成有溢流口3，所述主电镀槽1中的电镀液能够通过溢流口3溢流至缓冲槽2，所述主电镀槽1与缓冲槽2之间还连接有补流通道，所述缓冲槽2中的电镀液能够通过补流通道补充至主电镀槽1中。

所述缓冲槽2中设置有电镀液加热器4，利用电镀液加热器4可对缓冲槽2中的电镀液加热保温，避免电镀液冷却，进而避免添加进入主电镀槽1中的电镀液与原主电镀槽1中的电镀液存在较大温差，防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降。

本实用新型能够灵活地根据不同待电镀工件8的体积大小，存储电镀液或者向主电镀槽1中添加电镀液，避免频繁抽出或者补充电镀液，与此同时，存储在缓冲槽2中的电镀液均能通过电镀液加热器4加热保温，从而避免添加进入主电镀槽1中的电镀液与原主电镀槽1中的电镀液存在较大温差，进而防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降。此外，向立式电镀缸中补充电镀液的操作过程均在缓冲槽2中完成，从而使得补充电镀液中的杂质在缓冲槽2的底部沉积，便于收集排出该杂质的同时，防止了该杂质影响电镀质量。

所述立式电镀缸包括作为补流通道的补流管，补流管的一端连接到缓冲槽2的底部，另一端连接至主电镀槽1，从而使得立式电镀缸可以利用重力并通过补流管，将缓冲槽2中的电镀液补充进入主电镀槽1中。此外补流管可设置有开关阀，从而可以根据需要，选择是否进行补流。

所述补流管中设置有输送泵5，从而能够通过该输送泵5将缓冲槽2中的电镀液补充进入主电镀槽1中。

所述补流管中设置有电镀液过滤机，从而能够利用该电镀液过滤机将缓冲槽2中的电镀液补充进入主电镀槽1中，与此同时，还能将电镀液进行过滤处理，并通过电解反应去除电镀液中混合的金属杂质。

铜条9作为阳极，放置在主电镀槽1的溶液中，电镀工件8也放置在主电镀槽1的溶液中，铜条9和电镀工件8分别通过第一线缆7和第二线缆13与外部电源10连接。所述主电镀槽1的外壁设有若干支辊6，第一线缆7和第二线缆13以至少一个拐点的曲线状绕支辊6布置。通过将线缆以曲线状放置，可使电镀溶液在线缆的拐点处滴落，减少腐蚀线缆的长度。

所述第一线缆7和第二线缆13与主电镀槽1的连接处分别设有引流收集装置，引流收集装置由设置于线缆与主电镀槽1连接处的引流条11和引流条11底部的收集盘12组成。引流条11可以加速线缆上电镀溶液的滴落，收集盘12用于收集滴落的电镀溶液，避免其对环境的影响。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，包括主电镀槽和缓冲槽，其特征在于，所述主电镀槽与缓冲槽连接的侧壁上设有溢流口，所述主电镀槽中的电镀液能够通过溢流口溢流至缓冲槽，主电镀槽与缓冲槽之间还连接有补流通道，缓冲槽中的电镀液能够通过补流通道补充至主电镀槽中；

主槽的溶液中放置有铜条和电镀工件，铜条和电镀工件分别通过第一线缆和第二线缆与外部电源连接；主槽的外壁设有若干支辊，第一线缆和第二线缆以至少一个拐点的曲线状绕支辊布置。

2.根据权利要求1所述一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，其特征在于，还包括作为补流通道的补流管，补流管的一端连接到缓冲槽的底部，另一端连接至主电镀槽。

3.根据权利要求2所述一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，其特征在于，所述补流管中设置有输送泵。

4.根据权利要求2所述一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，其特征在于，所述补流管中设置有电镀液过滤机。

5.根据权利要求1所述一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，其特征在于，所述缓冲槽中设置有电镀液加热器。

6.根据权利要求1所述一种可灵活添加电镀溶液的立式电镀缸，其特征在于，所述第一线缆和第二线缆与主槽的连接处分别设有引流收集装置，引流收集装置由设置于线缆与主槽连接处的引流条和引流条底部的收集盘组成。