CN204953233U - 用于将液体连续施涂到基底的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种用于将液体连续施涂到基底的装置，其特别地用于压力机中制造材料的过程，其中，液体藉由施涂装置转移到所述基底，施涂装置包括施涂辊，该施涂辊绕施涂辊的轴旋转。本实用新型包括合适地使用液体，并可以根据最大所需宽度将液体施涂到基底上。本实用新型特征在于，配量装置布置成用于将液体施涂到施涂装置的旋转的施涂辊，其中，所述配量装置适合滴到、喷射到或者灌注到施涂辊上。对于其它改善，传感器可以布置在所述基底上以检测在施涂辊回流中和/或施涂辊与基底接触后的液体膜，并且传感器可以与开环或闭环控制装置有效连接，以控制配量装置或液体的施涂量。

Description

用于将液体连续施涂到基底的装置

技术领域

本实用新型涉及一种用于将液体连续施涂到基底的装置。

背景技术

根据现有技术，已知通过各种各样的装置和方法(擦拭、刮涂、喷射……)将液体直接施涂到相应基底上。这些措施的成功直接取决于所使用的液体和该液体或基底的相应边界条件。概括来说，在已回火的基底中直接喷射到该基底上可能是有问题的，因为用于包含在液体中的物质的施涂效果在液体的蒸发部分的情况下是不足的。例如在用于压板的脱模剂的情况下，物质溶解在液体中，这允许以更容易或完整的方式从压力机的压板释放被压制的材料。如果没有脱模剂，则不得不在压制过程后以笨重的方式清洁压板，并且待制造的产品的表面可能会是不规则或者被损坏。

从DE10337594A1中已知一种用于将液体(脱模剂)施涂到基底的装置。它涉及一种用于连续工作压力机的压带的脱模剂施涂装置，包括施涂辊和配量辊，其中施涂辊可以借由压紧力抵靠于压带进行移动，该压紧力由待施涂到压带的脱模剂量限定，并且该申请公开了一种闭环控制装置，用于根据相应所需的脱模剂施涂量来控制压紧力。在该公开中相关的是施涂辊通过配量辊接纳它的脱模剂，该配量辊收集浸池中的脱模剂并将脱模剂转移到施涂辊，以转移到压带。该装置在原理上证明了其与转移到压带上的低耗能相关的价值，而且也示出了各种系统相关的缺陷。

在随后的公开DE102010049777A1中提供了一种替代的润湿装备，其接近于与该主题相关的上述公开，并且示出了用于将液体施涂到基底的相同或相似的特征。在该案中，公开的不是压带作为基底，而是待在压力机中压紧并硬化以获得平坦材料面板的材料块作为基底。在该案中，也意图使用液体作为脱模剂，以防止固化期间在压带上结块。由该系统引起的各种缺陷也可以在该案中看到。

这些缺陷之一是不能调整与待压材料相关的宽度。如果压力机中的该材料的最大宽度是例如4m，并且如果在压力机中制造宽度为3.25m的产品，那么会得到的0.75m的区域不需要施涂脱模剂。在该案中也不可能将不同强度的脱模剂在基底的宽度上适应性地施涂到基底上。由此，不能灵活地分别施涂到基底的整个宽度上或者压带的宽度上或者材料块的宽度上，也不能参照数量进行施涂。

其它缺陷是浸池由杂质污染。在该案中，包含污染物并来自回流的用过的液体通过施涂辊转回到浸辊，然后到达新鲜液体。也需要捕获不被压带吸收并到达入口间隙(在施涂辊和基底之间的间隙)的边界区的过量液体。常规地也将该液体经清洁后导引回到浸池。明显地，所述液体的再生过程也会引起过滤器的不利磨损和撕裂，使得最终消耗比使用还要多的液体。

非限制性地，其它缺陷是，浸池需要特定的安装位置，并且从技术的角度来讲不可能实施复杂的安装位置和高处浸池，由于该原因，在机器中的已知设备的可用性被限制。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种通用装置，该装置用于将液体施涂到基底以使得总体上消耗更少液体，并且根据基底的宽度，甚至在特定情形下根据在宽度上的基底的不同属性可以调整液体的施涂。在该目的的扩展中，具体地，液体的配量能力得以提高，并且特别在不同生产和基底条件的高端措施的情形下能够进行调整。

本实用新型的提供一种用于将液体连续施涂到基底的装置，该装置特别是用于压力机中制造材料的过程，液体藉由施涂装置转移到基底，施涂装置包括施涂辊，所述施涂辊绕施涂辊的轴旋转。针对装置的措施是配量装置布置成将液体施涂到施涂装置的正在旋转的施涂辊上，其中该配量装置适于将液体滴到、喷射到或灌注到施涂辊上。

有利地，施涂装置或施涂辊相对于基底可动地布置。配量装置适用于根据基底的宽度设定待施涂的液体的宽度。

特别在用一个或多个喷嘴喷射液体时，有利的是，可根据基底的宽度来调整待施涂的液体，并且仅为在实际上设置有基底的区域中向施涂辊提供液体。

因此，如果在特别优选的实施例中，基底的行进由传感器跟踪并且配量装置跟随该基底行进，则是有利的。在传送带上的材料块可以与例如特定区域中的理想线偏离。该装置的构造任务是：在边界区中的单独的配量装置(例如多个彼此相邻的喷嘴)是否停用或致动。配量装置也可以进行单独地移位，并且可以根据它们的适用外形(如喷射雾锥)按需要来进行调整。

最终，可以考虑机械喷射限制，其可以根据基底的边界区来主动地(致动器)或者被动地(由基底本身)移位。机械边界提供这样的优势，即液体而不受由于冲击在边界上而导致的污染，并且一般可以直接在边界处没有任何过滤作用的情况下导引回到配量装置(例如藉由收集槽)。

根据该实施例，基底和/或施涂装置或施涂辊可以运动以根据相应条件来调整施涂方式或质量。具体地，也可以根据机器或基底来调整该装置，而不考虑安装位置。

该基底优选地是材料带或者平坦的机械元件，特别地是压力机的钢带或压板。该方法和装置能以特别优选的方式应用于连续工作双带式压力机或者辊压机中。

作为替代或者以组合方式，可以至少仅部分地沿着施涂辊来施涂液体，并且可以沿着施涂辊在基底和施涂辊之间的入口间隙中分布液体。

作为替代或者以组合方式，施涂到施涂辊的液体的宽度根据基底的宽度进行设定，特别地通过沿着施涂辊的轴停用或者调整外侧的配量装置。

作为替代或者以组合方式，当使用多个配量装置时，它们可以沿着施涂辊的轴进行布置，并且它们可以特别地以单独和/或成组的方式受控或受调节。此也特别地包括可以停止单独的各配量装置。

作为替代或者以组合方式，可以在施涂辊的回流中和/或在施涂辊与基底接触后，在基底上和/或在配量装置和液体薄膜的入口间隙之间确定液体膜，并且该液体膜可以用以藉由开环或闭环控制装置来控制配量装置或液体的施涂量。

也能以特别优选的方式监测入口间隙，以确定是否有太少或者太多液体，以因此控制或调节配量装置。

作为替代或者以组合方式，可以沿着施涂辊的轴使用可移位(喷射)边界，优选地，该可移位(喷射)边界具有用于液体的收集槽。所述边界主动或被动地移位，并且应当跟随基底的边界区。当配量装置藉由例如喷射雾锥来覆盖施涂辊的预定局部区域时，此可以是特别有用的，但配量装置不能够足够精密地调整以关于所设定的宽度来进行改变，或者技术努力会太大。

作为替代或者以组合方式，配量装置可以特别优选地根据表面属性和/或基底密度而在基底的整个宽度上进行不同的调整。

作为替代或者以组合方式，配量装置可以适用于根据基底的宽度设定待施涂的液体的宽度。

作为替代或者以组合方式，当使用多个配量装置时，它们可以沿着施涂辊的轴进行设置，其中配量装置也可以布置成能够关于施涂辊的轴进行轴向和/或径向地调整。

作为替代或者以组合方式，多个配量装置可以单独或成组的方式进行受控或受调节。

作为替代或者以组合方式，至少一个喷嘴可以布置为配量装置。

可以特别是规定，在施涂辊回流中和/或施涂辊和基底接触之后，多个传感器可以布置在基底上，以检测液体膜，并且这些传感器与开环或闭环控制装置进行有效连接，以控制液体或者配量装置的施涂量。

作为替代或者以组合方式，可以沿着施涂辊的轴布置可移位喷射边界，优选地，该可移位喷射边界具有用于液体的收集槽。具体地，该可移位喷射边界可以布置成能够主动或被动地进行移位。

作为替代或者以组合方式，至少外侧的配量装置可以布置成使得它们沿施涂辊的轴可被停用。

如果该装置用在压力机中，并且材料带或平坦机械元件布置为基底，则是特别有利的。

总之，有利地，确保以区别化的和合适的方式在基底的宽度上设定液体的施涂量。具体地，可以根据该基底来特别地以一定轮廓(profiled)的方式来调整在该宽度上的液体量。也不再必要的是，在回路中保持并清洁脱模剂，并且如果如此仅有明显减小的数量并且没有由施涂辊污染。基底的不必要污染或者在边界区中不需要的机器可以最少化。制造成本由于减少的液体消耗而降低了，并且环境得到保护。

附图说明

以下参照附图更详细地解释根据本实用新型的装置，附图中：

图1结合示例性辊压机(部分示出)的钢带示出了根据本实用新型的装置的侧视图；

图2示出了图1所示根据本实用新型的装置的俯视图；以及

图3示出了该装置在连续工作压力机中的使用和另一侧视图，该压力机具有两个钢带，因此具有两个已布置的装置。

具体实施方式

在如图1的示意图中和相应的图2的俯视图中，在左侧示出了滚筒6和以回转方式绕所述滚筒导引的连续钢带4。根据本实用新型的装置在第一实施例中包括具有轴10的施涂辊3。使施涂辊3行进以接触钢带4，其中，优选地，滚筒6的轴和施涂辊3的轴10处在一个平面上。这两个轴以特别优选的方式相对彼此同轴地设置。因此，施涂辊3与钢带4形成用于液体2的入口间隙15。施涂辊3可以包括用于更好地传送液体2的橡胶表面，特别是该施涂辊3带有用以接纳液体2的孔隙。至少一个配量装置布置成用于将液体2施涂到施涂辊3上，该配量装置能够将液体2滴到、喷射到或灌注到施涂辊上。具体地，优选地藉由至少一个喷嘴1将液体2喷射到施涂辊上，使得施涂辊相对于配量装置的安装位置优选地与重力无关。当使用较长的施涂辊时，可取的是，使用带有多个喷嘴1的喷嘴梁12。各喷嘴会以类似的方式应用到不是喷嘴1的配量装置。单独的喷嘴1或者配量装置应当能够通过开环或闭环的控制装置16进行控制。抽吸设备5布置成与施涂装置有效连接，并且特别是至少与配量装置有效连接，该抽吸设备5能够从入口间隙15抽取蒸气或者喷雾和/或所产生的排放气体。根据该装置的安装位置，抽吸设备5也可以适用于去除未被施涂辊接纳并以非受控方式从施涂辊滴落的过量液体2。

从方法的观点来看，在本实例中，由配量装置(布置为喷嘴1)将该液体喷射到施涂辊3上，施涂辊3以与滚筒6或钢带4相反方向转动的方式将液体2转移到钢带4上，使得液体膜14形成在钢带4上。特别在用于由材料带9制造产品的压力机的情形下，所述液体膜用作脱模剂使得该材料在压制过程之后顺利地从钢带4脱离。特别地在俯视图中，材料带9沿生产方向从右侧由右向左进入，该材料带具有宽度7。所述材料带9搁置于传送带11上，并且仅在滚筒6下方接触钢带4，此在俯视图中不可见。在该俯视图中可见地示出了沿着喷嘴梁12的多个喷嘴1，其中，在该实施例的优选布置中，两个最外边的喷嘴1在边界区8内由于材料9的宽度7而未启动。为了更准确的调整，至少外侧的配量装置或者喷嘴1能以可移位的方式布置，或者也可以是喷嘴梁12的部分或全部。在其它可替换实施例中，边界(在此示出为图1中的喷射边界18)也可以设定边界区8，并藉由收集槽19排走过量液体2。

可以适合的是，使用传感器17以将液体2合适地施涂到施涂辊3上或者合适地在基底上形成液体膜14，该传感器17决定液体膜14或者在钢带4(未示出)或者施涂辊3的回流中仍旧存在的液体2量，并且将这些值传送到开环或闭环控制装置16。然后，开环或闭环控制装置能够合适地触发与液体2的量相关的配量装置或者喷嘴1。

图3示出了在连续工作压力机中的本实用新型的优选实施例(只示出了入口)。该装置处于用于上钢带和下钢带4的应用中，并为各钢带提供适合的液体膜14，特别是，按照材料带9的宽度而调整该液体膜。在传送带11上将材料带9传送到压力机的入口。

该装置施涂到作为基底的材料带9上的过程未以独立图示的方式示出。实施本实用新型的相同优势在此情形下通过必要的修正也适用于本情形。本领域的技术人员在他或她的专业技能范围内能实施诸如在基体或施涂辊的回流中的脱模器等其它实施例和用于改善液体损耗等的其它传感器系统，以进一步改善本实用新型的结果。

附图标记列表

1喷嘴

2液体

3施涂辊

4钢带

5抽吸设备

6滚筒

7宽度

8边界区

9材料带

10轴

11传送带

12喷嘴梁

14液体膜

15入口间隙

16开环或闭环控制装置

17传感器

18喷射边界

19收集槽

Claims (11)

1.一种用于将液体连续施涂到基底的装置，所述液体(2)藉由施涂装置转移到所述基底，所述施涂装置包括施涂辊(3)，所述施涂辊(3)绕所述施涂辊的轴(10)旋转，其特征在于，配量装置布置成用于将液体(2)施涂到所述施涂装置的旋转的所述施涂辊(3)，其中，所述配量装置适于滴到、喷射到或者灌注到所述施涂辊(3)上。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述施涂装置或所述施涂辊(3)相对于所述基底可动地布置。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述配量装置适用于根据所述基底的宽度(7)设定待施涂的液体的宽度。

4.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，当使用多个配量装置时，所述配量装置沿着所述施涂辊(3)的轴(10)布置。

5.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，将所述配量装置实施成至少一个喷嘴(1)。

6.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，多个配量装置以单独和/或成组的方式受控或受调节。

7.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，在所述施涂辊(3)回流中和/或所述施涂辊(3)与所述基底接触之后，传感器(17)布置在所述基底上以检测液体膜(14)，并且所述传感器与开环或闭环控制装置(16)有效连接，以控制所述配量装置或液体(2)的施涂量。

8.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，沿所述施涂辊的轴布置有可移位喷射边界(18)。

9.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，至少外侧的配量装置布置成使得它们沿所述施涂辊(3)的所述轴(10)能够被关闭。

10.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述装置用在压力机中，并且将所述基底构造成材料带(9)或平坦机械元件。

11.如权利要求8所述的装置，其特征在于，所述可移位喷射边界(18)具有用于液体(2)的收集槽(19)。