CN204918742U - 用于改善蒸发源塞孔装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于改善蒸发源塞孔装置，该装置包括真空腔室及设置在真空腔室内的蒸发源，本实用新型通过增设激光脉冲对准蒸发源的喷孔位置的激光头，通过激光局部加热喷孔，解决蒸发源的塞孔问题。本实用新型的优点：？1、激光局部加热,不影响材料或蒸镀率。2、激光可架在真空腔室外，不影响腔室内空间，容易设计，可外加。3、激光角度可调,可对应各式蒸发源或防着板的不同位置。

Description

用于改善蒸发源塞孔装置

技术领域

本实用新型涉及一种蒸镀装置，具体来说涉及一种用于改善蒸发源塞孔装置。

背景技术

有机发光二极管（OLED）能自发光，无视角障碍，低温特征好，因此OLED显示器已被认为是继液晶显示器、等离子显示器之后最具市场价值的新一代平板显示器。

OLED的制作过程大都采用以玻璃为基板，利用蒸镀设备将多层薄膜相继沉积在基板上而形成。OLED蒸镀技术为利用一蒸发源,内部充填OLED材料,在真空环境下加热蒸发源使材料升华或气化,透过金属掩模,蒸镀于基板上。

蒸发源依镀膜方式,一般分为点蒸发源（pointsource）与线蒸发源(linearsource)。参见图1，通过基板6旋转,加热的点蒸发源5使材料升华或气化，通过喷孔蒸镀于基板上，在基板6上形成膜厚均匀的薄膜层；参见图2，线蒸发源7是利用多个并排的喷孔搭配蒸发源7沿垂直与喷孔的排列方向来回移动在基板6上形成膜厚均匀的薄膜层。

OLED用蒸发源的加热方式,较普遍为电热式；其中又以加热线圈（Heater）直接接触蒸发源的“热传导”（Thermalconduction）加热以及加热线圈不接触蒸发源的“热辐射”（ThermalRadiation）加热最为常见。其目的为使蒸发源内的材料均匀受热,稳定的将OLED材料从喷孔处喷出。

由于材料必须通过喷孔附着在基板上,为不影响材料的蒸镀路径,喷孔的上方与基板之间不能有任何阻挡物,所以喷孔处无法装设保温结构,使得喷孔的温度,容易成为蒸发源中温度较低的地方。若是喷孔的温度低于材料蒸气的温度,材料就会凝结在喷孔上,使得喷孔堵塞,无法继续蒸镀材料。

传统的解决喷孔堵塞的方式为在喷孔附近增加加热线圈,使喷孔温度增加。但通常蒸发源的体积受真空腔室的限制,蒸发源小型化的结果使加热线圈不易安装在喷孔上；此外，喷孔与蒸发源材料的位置相距不是很远，如果在喷孔上安装上加热线圈，在线圈加热喷孔的同时,也加热到蒸发源内的材料，使得材料的蒸镀率不稳定,或是使材料性质劣化。

此外，一般真空腔室中还设置有防着板，用于防止蒸镀材料附着到真空腔室的内壁上，因此防着板上会积累有蒸镀材料，不易清除。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型提供一种用于改善蒸发源塞孔装置，用以解决在镀膜过程中出现的蒸发源塞孔或材料累积在防着板上的问题。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

用于改善蒸发源塞孔装置，包括真空腔室及设置在真空腔室内的蒸发源，其特征在于，还包括激光脉冲对准蒸发源的喷孔位置的激光头。

优选的，所述激光头架设在真空腔室内。

优选的，所述真空腔室设置有视窗，激光头架设在真空腔室外，激光脉冲透过视窗加热喷孔。

优选的，所述激光头为激光角度可以调整的可旋转结构。

优选的，所述蒸发源为点蒸发源，所述激光头发射一道激光脉冲，且对准点蒸发源的喷孔位置。

优选的，所述蒸发源为线蒸发源，所述激光头发射多道激光脉冲，且多道激光脉冲与线蒸发源的喷孔位置一一对应。

本实用新型通过激光局部加热，解决塞孔或材料累积问题。

本实用新型的优点：

1、激光局部加热,不影响材料或蒸镀率。

2、激光头可架在真空腔室外，不影响腔室内空间，容易设计，可外加。

3、激光角度可调,可对应各式蒸发源或防着板的不同位置。

本实用新型的特点可参阅本案图式及以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。

附图说明

图1为现有技术中点蒸发源镀膜的示意图。

图2为现有技术中线蒸发源镀膜的示意图。

图3为本实用新型中激光头设置在真空腔室外的示意图。

图4为激光头加热点蒸发源的示意图。

图5为激光头加热线蒸发源的示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例进一步阐述本实用新型。

参见图3，蒸发源1设置在真空腔室2内，蒸发源1中设置有待蒸镀的材料13，真空腔室2设置有视窗21，一激光头3架设在真空腔室2外，激光脉冲透过视窗21加热蒸发源1的喷孔14，若在蒸镀过程中，由于喷孔被加热，材料不会凝结在喷孔14处，因而喷孔14不会被堵塞；对于被堵塞的喷孔14则可以通过激光的加热使喷孔处凝结的材料融化，使喷孔14恢复畅通，。激光头3架在真空腔室外，不影响腔室内空间，容易设计，可外加。

当然，激光头3也可以架设在真空腔室内。

参见图4，蒸发源为点蒸发源11，激光头31发射一道激光脉冲，并对准点蒸发源11的喷孔14位置对喷孔进行局部加热。

参见图5，针对蒸发源为线蒸发源12的情况，激光头32发射多道激光脉冲，且多道激光脉冲与线蒸发源的喷孔14位置一一对应，使线蒸发源的多个喷孔14同时被加热。

真空腔室2内还设置有防着板（图中未示出），防止蒸镀材料附着到真空腔室2的内壁上，因此也可以通过激光头对防着板上累积的蒸镀材料进行加热，进而清除防着板上累积的材料。

激光头3为激光角度可以调整的可旋转结构，方便调整激光脉冲的照射方向，使其对准蒸孔位置，此外还可以不定期清理防着板的材料累积处。

本实用新型通过激光局部加热，解决蒸发源塞孔或材料累积在防着板上的问题。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。

Claims (6)

1.用于改善蒸发源塞孔装置，包括真空腔室及设置在真空腔室内的蒸发源，其特征在于，还包括激光脉冲对准蒸发源的喷孔位置的激光头。

2.根据权利要求1所述的用于改善蒸发源塞孔装置，其特征在于，所述激光头架设在真空腔室内。

3.根据权利要求1所述的用于改善蒸发源塞孔装置，其特征在于，所述真空腔室设置有视窗，所述激光头架设在所述真空腔室外，所述激光脉冲透过视窗加热所述喷孔。

4.根据权利要求1所述的用于改善蒸发源塞孔装置，其特征在于，所述激光头为激光角度可以调整的可旋转结构。

5.根据权利要求1所述的用于改善蒸发源塞孔装置，其特征在于，所述蒸发源为点蒸发源，所述激光头发射一道激光脉冲，且对准点蒸发源的喷孔位置。

6.根据权利要求1所述的用于改善蒸发源塞孔装置，其特征在于，所述蒸发源为线蒸发源，所述激光头发射多道激光脉冲，且多道激光脉冲与线蒸发源的喷孔位置一一对应。