CN204434756U - 一种电镀槽装置 - Google Patents
一种电镀槽装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204434756U CN204434756U CN201520025786.2U CN201520025786U CN204434756U CN 204434756 U CN204434756 U CN 204434756U CN 201520025786 U CN201520025786 U CN 201520025786U CN 204434756 U CN204434756 U CN 204434756U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cell body
- electroplating
- plating bath
- electroplating cell
- bath arrangement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 133
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 claims abstract description 94
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims abstract description 35
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种电镀槽装置，包括供待镀板在其中电镀的电镀槽体，装有电镀药液的回流箱体，设置在所述电镀槽体内，对待镀板的表面进行喷镀的喷管，以及设置在所述回流箱体内实现电镀槽体、回流箱体之间电镀药液循环的过滤循环系统，所述过滤循环系统包括由所述回流箱体向所述电镀槽体内供洁净电镀药液的第一循环部分，由所述电镀槽体向所述喷管供洁净电镀药液的第二循环部分，以及从所述电镀槽体中向所述回流箱体中溢流电镀药液的第三循环部分。本实用新型的电镀槽装置不仅能够保证电镀槽体中的电镀液流动性好，电镀液中化学成分均匀分散，而且还能保证喷管碰到待镀板上的电镀液的两和液压均稳定，从而能够保证电镀质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀设备领域，具体涉及一种电镀设备上的电镀槽装置。
背景技术
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用。电镀槽装置是完成电镀的重要设备，电镀生产过程中，镀件在充满电镀液的电镀槽装置体中完成电镀作业，它决定了电镀效率、产品质量和生产成本。
电镀槽装置是电镀设备中比较重要的一部分，中国专利文献CN203096220U公开了一种电镀槽装置过滤循环系统，包括循环泵浦装置、过滤装置和喷管组件，所述过滤装置和喷管组件均定位设置在电镀槽装置内，且所述过滤装置的出口端通过循环管路连通于所述喷管组件。该专利文献的电镀槽装置过滤循环系统是通过将过滤装置定位设置在电镀槽装置内，很好的节约了电镀装置的占地空间，另喷管组件包括底盒和多个喷管，底盒和喷管皆为中空管体，且多个喷管的一端皆可拆卸连接于底盒上并与底盒内部相贯通，使多个喷管分流均匀，大大提高了产品品质。
但是由于上述专利文献中的电镀槽装置过滤循环系统仅是喷管喷出的液体经与电镀槽装置底部连通的管道，在泵浦的作用下，流向过滤装置，再将经过滤装置过滤完的洁净药液向喷管输送，因此，电镀槽装置内的溶液量和压力以及喷管单位时间内的喷出量和压力均不容易实现稳定和均衡，故而影响待镀板的电镀质量。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于现有技术中的电镀槽装置过滤循环系统中电镀槽装置内的溶液量和压力以及喷管单位时间内的喷出量和压力均不容易实现稳定和均衡的问题；进而提供一种结构合理的，能够保证喷管单位时间内的喷出量和压力能够均衡稳定的电镀槽装置。
为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种电镀槽装置，包括供待镀板在其中电镀的电镀槽体，装有电镀药液的回流箱体，设置在所述电镀槽体内，对待镀板的表面进行喷镀的喷管，以及实现电镀槽体、回流箱体之间电镀药液循环的过滤循环系统，所述过滤循环系统包括由所述回流箱体向所述电镀槽体内供洁净电镀药液的第一循环部分，由所述电镀槽体向所述喷管供洁净电镀药液的第二循环部分，以及从所述电镀槽体中向所述回流箱体中溢流电镀药液的第三循环部分。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述第一循环部分包括从所述回流箱体内抽取电镀药液的第一泵，与所述第一泵的出液口连接的第一过滤器，将所述第一过滤器与所述电镀槽体底部连通的第一管路。
在本实用新型的电镀槽装置中，连接在所述第一泵进液口处的吸液管伸入所述回流箱体内的一端还设有吸入口网罩。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述第二循环部分包括设置从电镀槽体内抽取电镀药液的第二泵，通过第二管路所述第二泵的出液口连通的第二过滤器，以及连通所述第二过滤器的出液口与所述喷管的第三管路。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述第三循环部分包括成型在所述电镀槽体的侧壁的上端的溢流孔，处于所述电镀槽体的外侧壁上，且围绕所述溢流孔设置的溢流腔，以及将所述溢流腔处的电镀药液导向所述回流箱体内的回流通道。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述溢流腔由若干溢流板围成。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述电镀槽体的侧壁上高于所述溢流孔的位置处还设有药液气味排出孔，且所述溢流孔与所述药液气味排出孔之间还设有溢流抽风隔板。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述电镀槽体上还设有添加盒，所述添加盒上分布有若干容纳孔，盛放装有阳极金属材料的钛篮通过所述容纳孔分布在所述添加盒上。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述喷管也安装在所述添加盒上。
在本实用新型的电镀槽装置中，每个所述喷管上设置有若干喷嘴。
在本实用新型的电镀槽装置中，分布在所述电镀槽体一侧的所述喷管相对于另一侧的所述喷管对称或是以错位排布的方式布置。
在本实用新型的电镀槽装置中，分布在所述电镀槽体同一侧的相邻的喷嘴在竖直方向上以错位排布的方式布置。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述电镀槽体与所述回流箱体之间的槽体中间板上设有循环泄流口、循环吐出口，以及铜球排泄口。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述电镀槽体由多个电镀分槽体首尾相接形成，每个所述电镀分槽体配设有一个分回流箱体，每个所述分回流箱体上设置有连通管，相邻两所述分回流箱体之间通过所述连通管连通。
在本实用新型的电镀槽装置中，所述回流箱体、所述第一过滤器、所述第二过滤器均设置在所述电镀槽体下方的下槽体内，所述第一泵、所述第二泵设置在所述下槽体外，且处于所述下槽体的两端。
本实用新型的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
(1)在本实用新型中，包括有三路循环部分的过滤循环系统的设置，使得在电镀生产过程中，电镀液不仅可以在电镀槽体与回流箱体之间循环流动，同时也使得电镀液可以在电镀槽体内部循环流动，增加了电镀液的流动性，使电镀槽装置内电镀液的化学成分更加均匀，从而使电镀层也更加均匀，提高了电镀效果。而第三循环部分的设置，既能控制电镀槽体的液面高度，同时能够实现将溢流出来的电镀药液回流至回流箱体，另外，由于喷管的进液是从液面稳定的电镀槽体中提供，而不是直接从液面不稳定的回流箱体中提供，因此，能够保证喷管单位时间内喷出来的电解液的量，以及液压均衡，电镀质量高。
(2)在本实用新型中，通过在电镀槽体的顶端设置溢流孔，可以保证电镀槽体的液面，当出现异常状况时，电镀槽体内的电镀液不至于从槽顶端溢出。最好是在电镀槽体的两侧都设置溢流孔，这种设置可以在溢流时使镀件受力平衡，保证镀件(特别是薄板镀件)平稳。
(3)在本实用新型中，在电镀槽体的溢流孔上设置药液气味排出孔，用于将生产过程中产生的气体排出槽体内。最好是在电镀槽体的两侧都设置有抽风孔，以减小对槽内电镀液流动方向的影响。
(3)在本实用新型中，通过在电镀槽体内设置喷管和喷嘴，提高了电镀液的出液速度，进一步提高了电镀液的流动性，当多个喷管和喷嘴等高等距并排布置与电镀槽体一侧时，能够使得电镀槽体内电镀液的化学成分更加均匀。电镀槽体-喷管之间设置两组泵和过滤器，可以提供更强的动力和更好的净化效果。
(4)在本实用新型中，通过设置加热装置，用于将回流箱体内的电镀液加热或保温，以实现对电镀液温度的控制，可以提高电镀效果。当使用水浴加热装置时，能够实现对温度的精确控制。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解，下面根据本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
图1是本实用新型的电镀槽装置的主视图；
图2是本实用新型的电镀槽装置的俯视图；
图3是第一循环部分的示意图(箭头方向表示电镀药液的流向)
图4是本实用新型的电镀槽装置仅设置第一循环部分的主视图；
图5是第二循环部分的示意图(箭头方向表示电镀药液的流向)；
图6本实用新型的电镀槽装置仅设置第二循环部分的主视图；
图7是本实用新型的电镀槽装置的槽体(仅包括电镀槽体和下槽体)的结构图；
图8是图7A-A方向的剖视图；
图9是图7B-B方向的剖视图；
图中附图标记表示为：
A1-电镀槽体，A2-下槽体，A3-喷管，A4-第一过滤器，A5-第一管路A6-吸入口网罩，A7-第二过滤器，A8-第三管路，A9-溢流孔，A10-溢流腔，A11-回流通道，A12-药液气味排出孔，A13-溢流抽风隔板，A14-喷嘴，A15-槽体中间板，A16-循环泄流口、A17-循环吐出口，A18-铜球排泄口，A19-连通管、A20-第一泵、A21-第二泵、A22-第二管路、A23-回流箱体、A24-钛篮、A25-吸液管、A26-添加盒。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本实用新型的具体实施方式。
如图1-4所示，本实施例的一种电镀槽装置，包括供待镀板在其中电镀的电镀槽体A1，装有电镀药液的回流箱体A23，设置在电镀槽体A1内，对待镀板的表面进行喷镀的喷管A3，以及实现电镀槽体A1、回流箱体A23之间电镀药液循环的过滤循环系统，所述过滤循环系统包括由回流箱体A23向电镀槽体A1内供洁净电镀药液的第一循环部分，由电镀槽体A1向喷管A3供洁净电镀药液的第二循环部分，以及从电镀槽体A1中向回流箱体A23中溢流电镀药液的第三循环部分。在本实用新型的电镀槽装置中，上述结构的过滤循环系统的设置，使得在电镀生产过程中，电镀液不仅可以在电镀槽体与回流箱体之间循环流动，同时也使得电镀液可以在电镀槽体内部循环流动，增加了电镀液的流动性，使电镀槽装置内电镀液的化学成分更加均匀，从而使电镀层也更加均匀，提高了电镀效果。而第三循环部分的设置，既能控制电镀槽体A1的液面高度，同时能够实现将溢流出来的电镀药液回流至回流箱体A23，另外，由于喷管A3的进液是从液面稳定的电镀槽体A1中提供，而不是直接从液面不稳定的回流箱体A23中提供，因此，能够保证喷管A3单位时间内喷出来的电解液的量，以及液压均衡，电镀质量高。
在本实施例中，所述第一循环部分包括从所述回流箱体A23内抽取电镀药液的第一泵A20，与所述第一泵A20的出液口连接的第一过滤器A4，将所述第一过滤器A4与所述电镀槽体A1底部连通的第一管A5。为了进一步过滤药液中的杂质，连接在所述第一泵A20进液口处的吸液管A25伸入所述所述回流箱体A23内的一端还设有吸入口网罩A6。如图7所示，所述第二循环部分包括设置从电镀槽体A1内抽取电镀药液的第二泵A21，通过第二管路A22所述第二泵A21的出液口连通的第二过滤器A7，以及连通所述第二过滤器A7的出液口与所述喷管A3的第三管路A8。由于喷管A3在电镀槽体A1体内相对设有两排，因此，所述第二循环部分也设有两套。其中所述回流箱体A23、所述第一过滤器A4、所述第二过滤器A7均设置在所述电镀槽体A1下方的下槽体A2内，所述第一泵A20、所述第二泵A21设置在所述下槽体A2外，且处于所述下槽体A2的两端。这样的布局能够使整体结构不仅有序，而且更为紧凑。
所述第三循环部分包括成型在电镀槽体A1的侧壁的上端的溢流孔A9，处于电镀槽体A1的外侧壁上，且围绕溢流孔A9设置的溢流腔A10，以及将溢流腔A10处的电镀药液导向回流箱体A23内的回流通道A11。在本实施例中，所述溢流腔A10由若干溢流板围成。
为了改善工人的工作环境，所述电镀槽体A1的侧壁上高于溢流孔A9的位置处还设有药液气味排出孔A12，且溢流孔A9与药液气味排出孔A12之间还设有溢流抽风隔板A13，电镀槽体A1的药液气味由药液气味排出孔A12，通过与溢流腔A10连通的排风管以及抽风装置，将药液气味排出厂房外进行环保处理。
所述电镀槽体A1上还设有添加盒，所述添加盒A26上分布有若干容纳孔，盛放装有阳极金属材料的钛篮A24通过所述容纳孔分布在所述添加盒A26上。
所述喷管A3也安装在添加盒A26上，且喷管A3在添加盒A26上的位置相对钛篮A24的位置更靠近电镀槽体A1的中心。为了保证喷出方向，每个喷管A3上设置有若干喷嘴A14。通过在电镀槽体内设置喷管和喷嘴，提高了电镀液的出液速度，进一步提高了电镀液的流动性，当多个喷管和喷嘴等高等距并排布置与电镀槽体一侧时，能够使得电镀槽体内电镀液的化学成分更加均匀。
在本实施例中，优选分布在电镀槽体A1一侧的喷管A3相对于另一侧的喷管A3是以错位排布的方式布置，当然在其他实施例中，也可以对称排列。
进一步优选分布在电镀槽体A1同一侧的相邻的喷嘴A14在竖直方向上以错位排布的方式布置。
加热装置用于为回流箱体A23内的电镀药液加热或保温。本实施例中优选所述加热装置为板式加热器。通过设置加热装置，用于将回流箱体内的电镀液加热或保温，以实现对电镀液温度的控制，可以提高电镀效果。当使用水浴加热装置时，能够实现对温度的精确控制。
所述电镀槽体A1与回流箱体A23之间的槽体中间板A15上设有循环泄流口A16、循环吐出口A17，以及铜球排泄口A18。
当所述回流箱体A23并列设置有多个时，每个回流箱体A23上设置有连通管A19，相邻两回流箱体A23之间通过连通管A19连通。
所述电镀槽体A1由多个电镀分槽体首尾相接形成，每个所述电镀分槽体配设有一个分回流箱体，每个所述分回流箱体上设置有连通管A19，相邻两所述分回流箱体之间通过所述连通管A19连通。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。
Claims (14)
1.一种电镀槽装置，包括供待镀板在其中电镀的电镀槽体(A1)，装有电镀药液的回流箱体(A23)，设置在所述电镀槽体(A1)内，对待镀板的表面进行喷镀的喷管(A3)，以及实现电镀槽体(A1)、回流箱体(A23)之间电镀药液循环的过滤循环系统，其特征在于：所述过滤循环系统包括由所述回流箱体(A23)向所述电镀槽体(A1)内供洁净电镀药液的第一循环部分，由所述电镀槽体(A1)向所述喷管(A3)供洁净电镀药液的第二循环部分，以及从所述电镀槽体(A1)中向所述回流箱体(A23)中溢流电镀药液的第三循环部分。
2.根据权利要求1所述的电镀槽装置，其特征在于，所述第一循环部分包括从所述回流箱体(A23)内抽取电镀药液的第一泵(A20)，与所述第一泵(A20)的出液口连接的第一过滤器(A4)，将所述第一过滤器(A4)与所述电镀槽体(A1)底部连通的第一管路(A5)。
3.根据权利要求2所述的电镀槽装置，其特征在于，连接在所述第一泵(A20)进液口处的吸液管(A25)伸入所述回流箱体(A23)内的一端还设有吸入口网罩(A6)。
4.根据权利要求3所述的电镀槽装置，其特征在于，所述第二循环部分包括设置从电镀槽体(A1)内抽取电镀药液的第二泵(A21)，通过第二管路(A22)与所述第二泵(A21)的出液口连通的第二过滤器(A7)，以及连通所述第二过滤器(A7)的出液口与所述喷管(A3)的第三管路(A8)。根据权利要求1-4中任一项所述的电镀槽装置，其特征在于，所述第三循环部分包括成型在所述电镀槽体(A1)的侧壁的上端的溢流孔(A9)，处于所述电镀槽体(A1)的外侧壁上，且围绕所述溢流孔(A9)设置的溢流腔(A10)，以及将所述溢流腔(A10)处的电镀药液导向所述回流箱体(A23)内的回流通道(A11)。
5.根据权利要求4所述的电镀槽装置，其特征在于，所述溢流腔(A10)由若干溢流板围成。
6.根据权利要求5所述的电镀槽装置，其特征在于，所述电镀槽体(A1)的侧壁上高于所述溢流孔(A9)的位置处还设有药液气味排出孔(A12)，且所述溢流孔(A9)与所述药液气味排出孔(A12)之间还设有溢流抽风隔板(A13)。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的电镀槽装置，其特征在于，所述电镀槽体(A1)上还设有添加盒，所述添加盒(A26)上分布有若干容纳孔，盛放装有阳极金属材料的钛篮(A24)通过所述容纳孔分布在所述添加盒(A26)上。
8.根据权利要求7所述的电镀槽装置，其特征在于，所述喷管(A3)也安装在所述添加盒(A26)上。
9.根据权利要求8所述的电镀槽装置，其特征在于，每个所述喷管(A3)上设置有若干喷嘴(A14)。
10.根据权利要求9所述的电镀槽装置，其特征在于，分布在所述电镀槽体(A1)一侧的所述喷管(A3)相对于另一侧的所述喷管(A3)对称或是以错位排布的方式布置。
11.根据权利要求10所述的电镀槽装置，其特征在于，分布在所述电镀槽体(A1)同一侧的相邻的喷嘴(A14)在竖直方向上以错位排布的方式布置。
12.根据权利要求1-6中任一项所述的电镀槽装置，其特征在于，所述电镀槽体(A1)与所述回流箱体(A23)之间的槽体中间板(A15)上设有循环泄流口(A16)、循环吐出口(A17)，以及铜球排泄口(A18)。
13.根据权利要求2-6中任一项所述的电镀槽装置，其特征在于，所述电镀槽体(A1)由多个电镀分槽体首尾相接形成，每个所述电镀分槽体配设有一个分回流箱体，每个所述分回流箱体上设置有连通管(A19)，相邻两所述分回流箱体之间通过所述连通管(A19)连通。
14.根据权利要求2-6中任一项所述的电镀槽装置，其特征在于，所述回流箱体(A23)、所述第一过滤器(A4)、所述第二过滤器(A7)均设置在所述电镀槽体(A1)下方的下槽体(A2)内，所述第一泵(A20)、所述第二泵(A21)设置在所述下槽体(A2)外，且处于所述下槽体(A2)的两端。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520025786.2U CN204434756U (zh) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 一种电镀槽装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520025786.2U CN204434756U (zh) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 一种电镀槽装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204434756U true CN204434756U (zh) | 2015-07-01 |
Family
ID=53602650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201520025786.2U Active CN204434756U (zh) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 一种电镀槽装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204434756U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110791803A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-02-14 | 广德东威科技有限公司 | 一种电镀工艺槽的回流消泡系统 |
| CN113481574A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-08 | 江苏台祥自动化科技有限公司 | 一种自动化智能电镀系统 |
| CN114836814A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-08-02 | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 | 一种电镀药液循环系统 |
-
2015
- 2015-01-14 CN CN201520025786.2U patent/CN204434756U/zh active Active
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110791803A (zh) * | 2019-11-20 | 2020-02-14 | 广德东威科技有限公司 | 一种电镀工艺槽的回流消泡系统 |
| CN113481574A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-08 | 江苏台祥自动化科技有限公司 | 一种自动化智能电镀系统 |
| CN113481574B (zh) * | 2021-07-16 | 2024-03-08 | 江苏台祥自动化科技有限公司 | 一种自动化智能电镀系统 |
| CN114836814A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-08-02 | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 | 一种电镀药液循环系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN204434756U (zh) | 一种电镀槽装置 | |
| CN204589338U (zh) | 电子插针和接插件连续局部镀金全自动生产线 | |
| CN105063731A (zh) | 连续挂镀生产线及其生产工艺 | |
| CN203807588U (zh) | 一种fpc电镀自动加液装置 | |
| CN204825104U (zh) | 连续挂镀生产线 | |
| CN204434750U (zh) | 一种垂直连续电镀设备 | |
| CN217378065U (zh) | 一种用于水平电镀设备的喷流阳极装置 | |
| CN204380997U (zh) | 一种滚镀镍自动生产线用的组合式节水清洗槽 | |
| CN109023458A (zh) | 一种pcb电路板的电镀装置和方法 | |
| CN201024221Y (zh) | 卧式流镀机 | |
| CN207498482U (zh) | 一种镀金厚度均匀性及镀速提升的设备结构 | |
| CN108926875A (zh) | 一种酪氨酸加工用快速沉放冷却装置 | |
| CN203356116U (zh) | 一种半自动超声波清洗去膜设备 | |
| CN209741093U (zh) | 浸出器喷淋装置 | |
| CN206447969U (zh) | 一种电镀液清洗装置 | |
| CN201650885U (zh) | 印刷电路板电镀用过滤机泵浦的防损结构 | |
| CN106637360B (zh) | 金刚石线锯均匀性上砂装置及上砂方法 | |
| CN101973648A (zh) | 重力油水分离器 | |
| CN205693985U (zh) | 一种蚀刻机之吸液机构 | |
| CN209779004U (zh) | 一种碱性直接电解槽及应用其的电解产线 | |
| CN211616032U (zh) | 一种陶瓷清洗装置 | |
| CN106929905A (zh) | 一种提高品质的卧式滚镀生产线 | |
| CN203807581U (zh) | 一种电镀导流装置及系统 | |
| CN204982107U (zh) | 一种两端可调节电镀箱 | |
| CN204039553U (zh) | 一种喷涌式多段煮茧池 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 215311 East Side of Dongding Road, Bacheng Town, Kunshan City, Suzhou City, Jiangsu Province Patentee after: Kunshan Weiwei Science and Technology Co.,Ltd. Address before: Suzhou City, Jiangsu province 215335 Dongting Lake Development District of Kunshan City Road 9, room 2 Patentee before: KUNSHAN DONGWEI PLATING EQUIPMENT TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| IP01 | Partial invalidation of patent right |
Commission number: 5W118231 Conclusion of examination: Claim 1-3 of No. 201520025786.2, citing claims 7 and 12 of claims 1-3, indirectly referring to claims 8-11 of claims 1-3, 13 referring to claims 2-3 and claims 14 referring to claims 1-3 are invalid. Claims 4-6 are followed by claims 8-11 of claims 4-6, The patent is still valid on the basis of referring to claims 7 and 12-14 of claims 4-6. Decision date of declaring invalidation: 20200113 Decision number of declaring invalidation: 42793 Denomination of utility model: An electroplating bath device Granted publication date: 20150701 Patentee: Kunshan Weiwei Science and Technology Co.,Ltd. |
|
| IP01 | Partial invalidation of patent right |