CN204369974U - 蒸发镀膜仪 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台；载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。本实用新型通过钨体，依靠电蒸发系统和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜装置，具体涉及一种蒸发镀膜仪。
背景技术
目前，蒸发镀膜仪即可以用作一种光学镀膜，金属、非金属表面镀膜设备，也可以用作电子显微镜制样、镀导电膜、光栏加热清洗、教学及生产线前期工艺试验时所必须使用的设备，已经广泛应用在研究院校和实验当中。
现在技术中的蒸发镀膜仪，大多只装有单个钨舟，并采用从上向下的镀膜的方式，存在效率低的缺陷，无法有效满足实验要求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、镀膜效率高的蒸发镀膜仪。
一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台；载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。
作为对上述技术方案的进一步描述：
所述钨体为钨舟或钨丝篮。
作为对上述技术方案的进一步描述：
所述真空室包括石英玻璃罩，石英玻璃罩的上下端分别盖设有上盖板与下盖板，上盖板一端铰接在石英玻璃罩上，载物台固定在上盖板的底面上。
作为对上述技术方案的进一步描述：
所述真空室上开设有真空抽气口，真空泵通过管路与真空抽气口相连通。
作为对上述技术方案的进一步描述：
所述载物台一侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪。
作为对上述技术方案的进一步描述：
所述钨体之间设有挡板，挡板底部设有旋转轴，由电机带动旋转。
本实用新型通过钨体，依靠电蒸发系统和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图。
图例说明：
1、机架；2、真空室；21、石英玻璃罩；22、上盖板；23、下盖板；3、载物台；4、电蒸发系统；41、陶封电极；411、公共电极；412、负极；42、钨体；5、测厚仪；6、挡板；7、旋转轴；8、电机。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参见图1，本实用新型提供的一种蒸发镀膜仪，包括机架1，机架1上设有真空室2，真空室2内设有载物台3，为了解决背景技术中所述的技术问题，本实用新型的技术方案是，载物台3设置在真空室2的上腔体中，真空室2的下腔体中设有电蒸发系统4，电蒸发系统4包括陶封电极41，陶封电极41包括公共电极411及一个以上的负极412，公共电极411与负极412之间连接有钨体42。
使用时，将样品(如AL，Mg，和Li等)放在钨体42上，再将真空室2抽真空，并通惰性气体反复清洗几次真空室2，之后将电蒸发系统4通电，使钨体42上的样品挥发，打在载物台2上的待镀件上即可。通过钨体42，依靠电蒸发系统4和真空腔室，采用从下往上的蒸发方式，大大的提高了蒸发的效率，可简单并有效的满足蒸镀要求。
本实施例中，钨体42为钨舟或钨丝篮。可以根据使用需要进行选择适用。
本实施例中，真空室2包括石英玻璃罩21，石英玻璃罩21的上下端分别盖设有上盖板22与下盖板23，上盖板22一端铰接在石英玻璃罩21上，载物台3固定在上盖板22的底面上。目的在于，石英玻璃罩21具有较好的强度及耐热性，配合上盖板22与下盖板23的盖合方式，能方便的进行组装、维护，载物台3固定在上盖板22的底面上，能够确保蒸发全面，操作时也非常方便。
本实施例中，真空室2上开设有真空抽气口，真空泵(图未示)通过管路与真空抽气口相连通。目的在于，提高操作时的方便度及可控性。
本实施例中，载物台3一侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪5。
本实施例中，钨体42之间设有挡板6，挡板6底部设有旋转轴7，由电机8带动旋转。目的在于，使得钨体42的样品之间不会受到污染。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种蒸发镀膜仪，包括机架，机架上设有真空室，真空室内设有载物台，其特征在于：所述载物台设置在真空室的上腔体中，真空室的下腔体中设有电蒸发系统，电蒸发系统包括陶封电极，陶封电极包括公共电极及一个以上的负极，公共电极与负极之间连接有钨体。
2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述钨体为钨舟或钨丝篮。
3.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述真空室包括石英玻璃罩，石英玻璃罩的上下端分别盖设有上盖板与下盖板，上盖板一端铰接在石英玻璃罩上，载物台固定在上盖板的底面上。
4.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述真空室上开设有真空抽气口，真空泵通过管路与真空抽气口相连通。
5.根据权利要求1或2所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述载物台一侧设有用于检测镀膜厚度的测厚仪。
6.根据权利要求1所述的蒸发镀膜仪，其特征在于：所述钨体之间设有挡板，挡板底部设有旋转轴，由电机带动旋转。
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|---|---|---|---|---|
| CN107958866A (zh) * | 2015-11-20 | 2018-04-24 | 苏州赛森电子科技有限公司 | 蒸发镀膜工艺中的圆片固定装置 |
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2014
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Cited By (2)
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| CN107958866A (zh) * | 2015-11-20 | 2018-04-24 | 苏州赛森电子科技有限公司 | 蒸发镀膜工艺中的圆片固定装置 |
| CN107958866B (zh) * | 2015-11-20 | 2021-09-14 | 苏州赛森电子科技有限公司 | 蒸发镀膜工艺中的圆片固定装置 |
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