CN203595896U - 基板显影处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供基板显影处理装置包括：一基座；滚轮组，安装于基座上，所述滚轮组由复数个互相平行并且沿水平方向一字排列的滚轮组成；滚轮组驱动装置，所述滚轮组驱动装置驱动所述滚轮组的滚轮转动；挡块，位于滚轮组两端的挡块,所述挡块下方设置有挡块升降机构；基板位置传感器。基板在显影过程中被放置于滚轮组上，通过滚轮驱动装置驱动滚轮不停正转反转使位于滚轮组上的基板沿水平方向晃动，通过晃动可以使基板表面的显影液的分布更加均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种半导体制造设备，尤指一种基板显影处理装置。
背景技术
在用作OLED的玻璃基板上形成预定图形的抗腐蚀膜时，需要对在玻璃基板表面上形成的抗腐蚀膜进行预定图形的曝光显影，通过显影只留下预定图形的抗腐蚀膜。
在进行上述显影处理时，首先在曝光后的抗腐蚀膜表面上喷淋显影液，在基板上形成显影液层，在预定时间内进行显影反应，反应结束之后回收显影液，漂洗并干燥基板。但是在实际生产过程中经常会碰到由于显影液回流或没有完全覆盖，导致玻璃基板表面显影液液盛不良，往往只能通过人工加检才能发现，如未及时发现最终导致产品异常（金属残留），导致返工甚至报废，并且现在没有成熟的技术可以在显影过程中实时检测显影液在基板表面的分布情况。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的局限，而提供一种基板显影处理装置，其能够解决基显影过程中基板上显影液分布不均的问题。
为了达到上述目的，本实用新型的主要技术手段在于：提供一种基板显影处理装置，其包括：基座；滚轮组，安装于所述基座上，所述滚轮组包括互相平行并且沿水平方向一字排列的复数个滚轮；与所述滚轮组连接、用于驱动所述滚轮组中的滚轮转动的滚轮组驱动装置；挡块，位于滚轮组两端；设置于基座上、用于感应基板位置以供所述滚轮组驱动装置据此控制所述滚轮组转动方式的基板位置传感器。基板在显影过程中被放置于滚轮组上，通过滚轮驱动装置驱动滚轮不停正转反转使位于滚轮组上的基板沿水平方向晃动，通过晃动可以使基板表面的显影液的分布更加均匀。
本实用新型的进一步改进在于：所述挡块下方设置有挡块升降机构。
本实用新型的进一步改进在于：所述滚轮组中的滚轮包括复数个传动滚轮，所述传动滚轮的一侧设置有端部齿轮，所述传动滚轮和所述滚轮组驱动装置通过齿轮传动连接，所述滚轮组中的传动滚轮的滚轮直径相同，在运动时所述滚轮组中的传动滚轮沿相同方向、相同转速绕其轴线转动。
本实用新型的进一步改进在于：所述滚轮组中的滚轮还包括复数个自由滚轮，所述自由滚轮间隔地排列在滚轮之间。这样改进的有益效果在于：自由滚轮的设置可以减少滚轮组驱动装置需要驱动的滚轮竖梁，并且自由滚轮可以为基板提供有效的支撑。
本实用新型的进一步改进在于：所述滚轮组中的滚轮的直径与自由滚轮的直径相同。
附图说明
图1为本实用新型基板显影处理装置的俯视图；
图2为本实用新型基板显影处理装置的一侧的视图
图3为基板上显影液分布不均时的示意图。
图4为本实用新型基板显影处理装置搭载基板的过程的示意图；
图5为本实用新型基板显影处理装置对其搭载的基板进行处理时的示意图；
图6为本实用新型基板显影处理装置对其搭载的基板处理完成的基板运至下一工序的示意图；
图7为理想状况下本实用新型基板显影处理装置处理之后基板表面显影液分布的示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的实施例做详细介绍。
参考图1，本实用新型的基板显影处理装置主要包括一基座10，在基座10上安装有滚轮组20，安装于滚轮组20两端的可升降的挡块40以及挡块40下方的挡块升降机构41，在滚轮组20两端还设置有基板位置传感器24。
如图2所示，滚轮组20由复数个互相平行并且沿水平方向一字排列的传动滚轮21组成，所有传动滚轮21的半径相同且轴线共面。在基座10上还安装有滚轮组驱动装置30，在本实施例中滚轮组驱动装置30通过复数个同轴的锥形齿轮31与端部齿轮22啮合，当滚轮组驱动装置30的电机32驱动锥形齿轮31转动时，滚轮组20的端部齿轮22随之转动进而带动传动滚轮21转动。特别的，当控制电机32以不同的转速和转向转动时，滚轮组20的传动滚轮21也会以相应的转速和转向转动。在本实施例中所有的端部齿轮22和与其对应的锥形齿轮31的变比相同，这样可以保证所有的传动滚轮21的运动状态相同。滚轮组20还包含复数个自由滚轮23，自由滚轮23的轴线和传动滚轮21的轴线平行，并且自由滚轮23和传动滚轮21的直径相同。自由滚轮23间隔的布设在传动滚轮21之间，其与传动滚轮21的主要区别在于自由滚轮23不与滚轮组驱动装置30相连接。自由滚轮23可以在基座10上沿其轴线自由转动。
如图4所示，滚轮组20两端设置有可升降的挡块40，挡块40通过其下方的挡块升降机构41实现升降，基板50装入基板显影处理装置的过程中挡块40降低到基板的水平位置以下，当基板显影处理装置处理基板50时挡块40升起，防止基板50自滚轮组20滑落或者超出运动范围。当基板显影处理装置搭载基板50时，基板50的下表面和滚轮组20接触，其中传动滚轮21主要负责驱动基板50运动，而自由滚轮23主要负责支撑并滚动传送基板50。
如图3所示，基板50的显影过程，首先要在基板50上喷淋一层显影液，但是由于种种原因会出现显影液分布不均匀的问题，图3中阴影部分为显影液覆盖的区域，空白区域没有显影液覆盖，因此基板显影处理装置对于如喷淋过显影液的基板50做如下处理：
第一步：如图4所示，降下位于滚轮组20一端的挡块40，将喷淋过显影液的基板搭载到基板显影处理装置，搭载完成后将挡块40升起；
第二步：如图5所示,基板50搭载完成之后使用滚轮组驱动装置30驱动滚轮组20顺时针转动，待位于滚轮组20另一端的基板位置传感器24检测到基板50到达之后滚轮组驱动装置30反转，滚轮组20驱动基板50逆时针方向运动，等到位于基板50出发端的基板位置传感器24检测到基板50到达后滚轮组驱动装置30停止驱动滚轮组20；将本步骤重复预定次数；
第三步：待处理完成后，理想状况处理过后的基板表面显影液分布如图7所示，其表面显影液分布均匀，无空白区域；进一步配合图6所示，将基板50运至下一道工序。
以上所述仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型做任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (5)
1.一种基板显影处理装置，其特征在于主要包括：
基座；
滚轮组，安装于所述基座上，所述滚轮组包括互相平行并且沿水平方向一字排列的复数个滚轮；
与所述滚轮组连接、用于驱动所述滚轮组中的滚轮转动的滚轮组驱动装置；
挡块，位于滚轮组两端；
设置于基座上、用于感应基板位置以供所述滚轮组驱动装置据此控制所述滚轮组转动方式的基板位置传感器。
2.如权利要求1所述的基板显影处理装置，其特征在于：所述挡块下方设置有挡块升降机构。
3.如权利要求1所述的基板显影处理装置，其特征在于：所述滚轮组中的滚轮包括复数个传动滚轮，所述传动滚轮的一侧设置有端部齿轮，所述传动滚轮和所述滚轮组驱动装置通过齿轮传动连接，所述滚轮组中的传动滚轮的滚轮直径相同，在运动时所述滚轮组中的传动滚轮沿相同方向、相同转速绕其轴线转动。
4.如权利要求3所述的基板显影处理装置，其特征在于所述滚轮组中的滚轮还包括复数个自由滚轮，所述自由滚轮间隔地排列在滚轮之间。
5.如权利要求4所述的基板显影处理装置，其特征在于所述滚轮组中的滚轮的直径与自由滚轮的直径相同。
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