CN203373418U - 电子枪装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种电子枪装置，在适于装置运转的位置具备极片，该极片在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸。电子枪装置（1）具备：坩埚（3），其收容蒸镀材料；电子束射出机构（7），其射出电子束（EB），以使坩埚（3）内的蒸镀材料加热蒸发；壳体（10），其在内部收容电子束射出机构（7）；第1极片（11）以及第2极片（12），其在固定于壳体（10）的状态下使电子束（EB）朝着坩埚（3）内的蒸镀材料偏转；以及第3极片（13），其为了调整电子束（EB）对坩埚（3）内的蒸镀材料的照射位置，使向壳体（10）外射出的电子束（EB）进一步偏转，第3极片（13）在配置于坩埚（3）的上方位置的状态下朝着坩埚沿水平方向延伸，位于壳体（10）外，并且与壳体（10）分离。

Description

电子枪装置
技术领域
本实用新型涉及电子枪装置，特别是涉及蒸镀用的电子枪装置。 
背景技术
作为在基体的表面形成薄膜的技术，公知有真空蒸镀法。该真空蒸镀法是将电子束照射于金属或化合物等蒸镀材料而使其加热蒸发，使由此生成的蒸镀粒子附着沉积于基体（被成膜体）的表面，在基体的表面上形成由蒸镀材料构成的薄膜。 
电子束从具有灯丝和电极等作为构成要素的电子枪主体射出后，通过由极片形成的磁场进行偏转，射向坩埚内的蒸镀材料。 
在具备以上的这样的功能的电子枪装置中，存在这样的电子枪装置：配置在坩埚的上方位置的极片朝着坩埚沿水平方向延伸（例如，参照专利文献1）。在专利文献1记载的蒸镀用电子枪中，如图5以及6所示，一对L字状的由强磁性体构成的极片101a、101b横向设置于壳体104的坩埚103侧端部，坩埚103配置在该极片101a、101b的下方位置。图5以及6是示出关于电子枪装置的结构的第1现有例的图，图5是立体图，图6是示意侧视图，为了便于说明，切除了壳体104的侧壁的一部分。 
在如上构成的专利文献1所述的蒸镀用电子枪中，从电子枪主体部102射出的电子束EB通过由极片101a、101b或设置在壳体104内的未图示的磁场形成体所形成的磁场，偏转大约270度。由此，如图6所示，电子束EB通过形成在壳体104的上表面的开口104a向壳体104外射出，最终照射到坩埚103内的蒸镀材料。 
此处，在专利文献1所述的蒸镀用电子枪中，上述极片101a、101b通过螺钉紧固而固定于壳体104，所以，极片101a、101b的配置位置的自由度较低，难以将极片101a、101b配置于合适的位置。 
此外，由于极片101a、101b按图6所示的位置固定于壳体104，坩埚103所产生的蒸镀粒子容易附着于极片101a、101b，有可能由于该附着物而在基体的成膜面产生颗粒。此外，将坩埚103保持于未图示的大致圆盘状的炉床，在通过使该炉床旋 转而使坩埚103沿着炉床的外周方向移动时，如果上述附着物沉积于坩埚103的上端周缘部与极片101a、101b的下表面之间的空隙部，则沉积的该附着物与坩埚103的上端周缘部之间产生摩擦。并且，由于该摩擦的产生，妨碍了炉床的旋转。 
关于以上的这样的问题，开发了一种蒸镀用电子枪，如图7以及8所示，在电子枪主体部202的壳体204外未设置极片，仅在壳体204内设置极片201a、201b、201c、201d（例如，参照专利文献2）。图7以及8是示出关于电子枪装置结构的第2现有例的图，图7是立体图，图8是示意侧视图，为了便于说明，对各图都切除了壳体204的侧壁的一部分。 
关于专利文献2所述的蒸镀用电子枪，由于极片201a、201b、201c、201d未露出于壳体204的外部，所以在蒸镀工序中，坩埚203所产生的蒸镀粒子不会附着于极片201a、201b、201c、201d，能够抑制产生上述附着物导致的问题。 
在先技术文献 
专利文献 
专利文献1：日本特开2008－63635号公报 
专利文献2：日本特开2010－18826号公报 
实用新型内容
实用新型要解决的问题 
但是，如果缺少与上述的极片101a、101b相当的极片、即在坩埚203的上方朝着坩埚203延伸的极片，则如图8所示，电子束EB难以相对于坩埚203的开口面垂直地入射。更具体地说，由于电子束EB相对于坩埚203的开口面从倾斜方向入射，如图9所示，电子束EB对坩埚203内的蒸镀材料的照射范围为大致椭圆状。其结果是，坩埚203内的蒸镀材料的熔痕形状难以成为理想的熔痕形状（例如，参照后述的图10），坩埚203内的蒸镀材料可能很难被有效利用。图9是示出第2现有例中将电子束照射于坩埚内的蒸镀材料时的熔痕的图。该图所示的情况是将ZrO2用作蒸镀材料，图中的阴影线的部分是相当于熔痕的部分。 
因此，在将电子束适当地照射于坩埚内的蒸镀材料时，在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸的极片变得更为重要，但是如上所述，对于该极片，期望确保其配置的自由度，能够配置于合适的位置。 
因此，本实用新型的目的在于提供能够将在收容蒸镀材料的收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片配置于合适的位置的电子枪装置。 
此外，本实用新型的其它目的在于提供即使是具备上述极片的结构也能够抑制由于收容部产生的蒸镀粒子附着于该极片而产生的问题的电子枪装置。 
用于解决课题的方法 
上述课题可通过如下方式解决：根据本实用新型的电子枪装置，其具备：收容部，其收容蒸镀材料；电子束射出机构，其射出电子束，以使该收容部内的所述蒸镀材料加热蒸发；壳体，其在内部收容该电子束射出机构；极片，其在固定于该壳体的状态下，使从所述电子束射出机构射出的所述电子束以朝着所述收容部内的所述蒸镀材料的方式偏转；以及其它极片，其在所述极片进行偏转后，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转，以调整所述电子束对所述收容部内的所述蒸镀材料的照射位置，该其它极片在配置于所述收容部的上方位置的状态下朝着所述收容部沿水平方向延伸，位于所述壳体外，并且与所述壳体分离。 
根据上述电子枪装置，与以往的电子枪装置、更具体地讲是上述专利文献1所述的电子枪装置不同，虽然设置了设置在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片，由于不是固定于壳体，所以与以往的电子枪装置相比，提高了设置的便利性。也就是说，关于本实用新型的电子枪装置，能够自由设定对在收容蒸镀材料的收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片进行配置的位置，因此，能够将上述极片配置于合适的位置。 
此外，更优选的是，在上述电子枪装置中，还具备盖，所述盖被配置在所述收容部的上方位置，具有为了使所述收容部露出而切出的缺口部，利用该缺口部以外的非缺口部覆盖所述收容部，所述其它极片配置在与所述盖的所述非缺口部在上下方向重合的位置，使向所述壳体外射出的所述电子束以朝着位于所述缺口部下方的所述收容部内的所述蒸镀材料的方式偏转。 
如上所述，如果将在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的其它极片配置为在上下方向与盖的非缺口部重合，则上述极片与位于缺口部的下方的收容部、即收容照射电子束的蒸镀材料的收容部在水平方向上分离。由此，蒸镀粒子不易附着于在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片，能够抑制由于蒸镀粒子附着于上述极片而产生的问题。 
此外，更优选的是，所述其它极片以位于所述盖的所述非缺口部下方的方式固定于所述盖。 
即使蒸镀粒子附着于在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片，通过将上述极片配置于盖的非缺口部的下方，能够有效地防止该附着物的飞散。 
此外，更优选的是，在上述电子枪装置中，所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件，该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态，所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转，用于形成所述磁场的一对永久磁铁位于所述间隙内，该一对永久磁铁中的一个永久磁铁与所述一对板状部件中的一个板状部件抵接，另一个永久磁铁与另一个板状部件抵接。 
根据以上的结构，其它极片、即在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片，能够适当地形成施加于电子束的磁场，使电子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
此外，更优选的是，在所述一对永久磁铁之间，配置有用于调整所述磁场的强度的调整部件，该调整部件在水平方向上沿与所述一对永久磁铁排列的方向交叉的方向移动，由此，改变所述一对永久磁铁间的磁导率，调整所述磁场的强度。 
通过设置上述调整部件，能够调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度，例如，能够适当地进行该磁场的初始调整或随时间的变化而所需的再次调整。 
另外，磁场的强度的调整是通过使上述调整部件在水平方向上沿与一对永久磁铁排列的方向交叉的方向移动而改变永久磁铁之间的磁导率来进行的。通过这样的结构，能够通过调整部件的滑行运动容易地调整磁场的强度。 
此外，也可以是，在上述电子枪装置中，所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件，该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态，所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转，用于形成所述磁场的至少1个以上的永久磁铁位于所述间隙内，该至少1个以上的永久磁铁与所述一对板状部件的双方抵接。 
在以上的结构中，与设置有上述的一对永久磁铁的情况同样地，在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片能够适当地形成施加于电子束的磁场，使得电 子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
此外，也可以是，在上述电子枪装置中，所述至少1个以上的永久磁铁在水平方向上沿与所述一对板状部件排列的方向交叉的方向移动，由此调整所述磁场的强度。 
根据以上的结构，通过使至少1个以上的永久磁铁进行水平移动，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
此外，在上述电子枪装置中，还可以是设置有调整部件，该调整部件通过与所述至少1个以上的永久磁铁接触来调整所述磁场的强度。 
根据以上的结构，在板状部件之间设置了至少1个以上的永久磁铁的情况下，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
此外，也可以是，在上述电子枪装置中，所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件，该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态，所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转，用于形成所述磁场的电磁铁位于所述间隙内，该电磁铁与所述一对板状部件的双方抵接。 
在以上的结构中，与设置有上述的一对永久磁铁或至少1个以上的永久磁铁的情况同样地，在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片能够适当地形成施加于电子束的磁场，使得电子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
此外，在上述电子枪装置中，可以是通过变更流过所述电磁铁的绕组的电流的大小，调整所述磁场的强度。 
根据以上的结构，在板状部件之间设置有电磁铁的情况下，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
实用新型效果 
根据权利要求1的电子枪装置，能够自由地设定对在收容蒸镀材料的收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片进行配置的位置，将该极片配置在合适的位置。 
根据权利要求2的电子枪装置，蒸镀粒子不易附着于在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片，能够防止由于蒸镀粒子附着于上述极片而产生的问题。 
根据权利要求3的电子枪装置，通过将在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方 向延伸的极片配置于电子束无法抵达的位置，能够有效地防止位于照射电子束的位置的收容部产生的蒸镀粒子附着。 
根据权利要求4的电子枪装置，在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片能够适当地形成施加于电子束的磁场，使得电子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
根据权利要求5的电子枪装置，关于在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度，能够适当进行初始调整或随时间的变化而所需的再次调整。另外，能够通过调整部件的滑行运动来容易地调整磁场强度。 
根据权利要求6的电子枪装置，与权利要求4的电子枪装置同样地，在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片能够适当地形成施加于电子束的磁场，使得电子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
根据权利要求7的电子枪装置，通过使至少1个以上的永久磁铁进行水平移动，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
根据权利要求8的电子枪装置，在板状部件之间设置有至少1个以上的永久磁铁的情况下，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
根据权利要求9的电子枪装置，与权利要求4、6的电子枪装置同样地，在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片能够适当地形成施加于电子束的磁场，使得电子束以朝着收容部内的蒸镀材料的方式偏转。 
根据权利要求10的电子枪装置，在板状部件之间设置有电磁铁的情况下，能够容易地调整在收容部的上方位置朝着收容部沿水平方向延伸的极片形成的磁场的强度。 
附图说明
图1是示出本实施方式的电子枪装置1的结构的示意侧视图。 
图2是本实施方式的电子枪装置1的示意立体图。 
图3是从下方观察安装于炉床盖5的极片13时的图。 
图4是示出极片13和炉床盖5的位置关系的图。 
图5是示出关于电子枪装置的结构的第1现有例的立体图。 
图6是示出关于电子枪装置的结构的第1现有例的示意侧视图。 
图7是示出关于电子枪装置的结构的第2现有例的立体图。 
图8是示出关于电子枪装置的结构的第2现有例的示意侧视图。 
图9是示出在第2现有例中将电子束EB照射于坩埚203内的蒸镀材料时的熔痕的图。 
图10是示出在本实施方式中将电子束EB照射于坩埚3内的蒸镀材料时的熔痕的图。 
图11是示出与安装于炉床盖5的极片13周边相关的第1变形例的图。 
图12是示出与安装于炉床盖5的极片13周边相关的第2变形例的图。 
具体实施方式
以下，参照图1至4以及图10说明本实用新型的一个实施方式（以下称为本实施方式）。图1是示出本实施方式的电子枪装置1的结构的示意侧视图。图2是本实施方式的电子枪装置1的示意立体图，在该图中，关于壳体10内的设备，仅示出极片11、12。图3是从下方观察安装于炉床盖5的极片13时的图。在该图中，对安装于炉床盖5的极片13的位置进行说明，用虚线示出位于照射电子束EB的位置的坩埚3。图4是示出极片13和炉床盖5的位置关系的图。 
图10是示出在本实施方式中将电子束EB照射于坩埚3内的蒸镀材料时的熔痕的图。该图所示的情况是将ZrO2用作蒸镀材料，图中的阴影部分是相当于熔痕的部分。 
本实施方式的电子枪装置1是一种薄膜形成装置，具体地讲是电子束蒸镀用的电子枪装置。如图1所示，本实施方式的电子枪装置1具备作为主要构成要素的电子枪装置主体2、多个坩埚3、炉床4、炉床盖5、炉床驱动机构6和多个极片11、12、13。 
电子枪装置主体2产生电子束EB以使坩埚3内的蒸镀材料加热蒸发，具有电子束射出机构7、扫描线圈9以及盒状的壳体10，该壳体10在内部收纳电子枪装置主体2各部。 
电子束射出机构7射出电子束EB，在本实施方式中采用公知的结构，具体地讲， 利用由未图示的电极形成的电场对从加热后的灯丝8射出的热电子进行加速从而射出电子束EB。扫描线圈9通过产生扫描磁场并施加于从电子束射出机构7射出的电子束EB，由此，在水平方向、更具体地讲在水平方向相互垂直的2个方向的各方向扫描电子束EB对坩埚3内的蒸镀材料的照射位置（照射点）。 
在本实施方式中，壳体10由非磁性体构成，在壳体10的上壁中的与坩埚3所处的一侧相反的一侧的部分形成有矩形的开口10a。此外，在本实施方式中，如图1以及2所示，2组极片11、12收容于壳体10内。这些极片11、12相当于本实用新型的极片，通过螺钉等固定手段固定于壳体10。并且，这些极片11、12进行协作，使从电子束射出机构7射出的电子束EB以朝向坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转。 
具体地讲，如图2所示，2组极片11、12中的第1极片11由一对板状部件11a、11b构成，并且，在壳体10的内空间中，配置在从上述开口10a观察时与坩埚3侧相反的一侧，其中，板状部件11a、11b由强磁性体构成。如图2所示，构成第1极片11的一对板状部件11a、11b隔着间隙在水平方向排列，经由由强磁性体构成的磁轭材料（未图示）与永久磁铁（未图示）接触。由此，在板状部件11a、11b之间，形成用于使电子束EB偏转的磁场。 
另一方面，2组的极片11、12中的第2极片12由一对板状部件12a、12b构成，并且，在壳体10的内空间中，配置在从上述开口10a观察时与坩埚3侧相同的一侧，其中，板状部件12a、12b也由强磁性体构成。并且，构成第2极片12的一对板状部件12a、12b与第1极片同样地，隔着间隙在水平方向排列，经由由强磁性体构成的磁轭材料（未图示）与永久磁铁（未图示）接触。由此，在板状部件12a、12b之间，形成使电子束EB偏转的磁场。 
通过这些2组的极片11、12所形成的磁场，使从电子束射出机构7射出的电子束EB以朝向坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转，穿过上述开口10a向壳体10外射出。 
坩埚3相当于本实用新型的收容部，是收容ZrO2等蒸镀材料的容器，通过设置在形成于圆盘状炉床4的凹陷处，而被保持于炉床4上。炉床4通过沿着其外周形成多个上述凹陷，能够保持多个坩埚3。此外，通过由炉床驱动机构6传递驱动力，炉床4绕着位于其中央的轴而旋转。并且，随着炉床4的旋转，处于保持在炉床4上的状态的坩埚3沿着炉床4的外周方向移动。 
通过以上结构，保持在炉床4上的各坩埚3能够从对内部的蒸镀材料照射电子束 EB的位置（以下称为照射位置）向不照射电子束EB的位置（以下称为非照射位置）移动，此外，能够从非照射位置向照射位置运动。因此，当上述照射位置的坩埚3内的蒸镀材料蒸发而消失后，炉床4旋转，该坩埚3从照射位置退至非照射位置，取而代之，上述坩埚3的相邻位置的坩埚3移至照射位置。 
另外，炉床4由铜等热传导性高的金属形成，通过未图示的水冷装置直接地或间接地冷却。 
炉床盖5相当于本实用新型的盖，是配置于炉床4的正上方位置的大致圆盘状的部件，防止由于蒸发而从坩埚3飞散的蒸镀材料无谓地扩散到成膜用腔室内。此外，为了使保持在炉床4上的多个坩埚3中的位于照射位置的坩埚3露出，在炉床盖5上形成有缺口部5a，该缺口部5a是大致半圆状地切除外周部中的位于该坩埚3上方位置的部分而得到的。通过形成该缺口部5a，能够借助缺口部5a露出位于照射位置的坩埚3，向该坩埚3内的蒸镀材料照射电子束EB。 
另一方面，保持在炉床4上的多个坩埚3中的位于照射位置的坩埚3以外的坩埚3、即位于非照射位置的坩埚3被炉床盖5的缺口部5a以外的部分（以下称为非缺口部5b）覆盖。 
并且，在本实施方式中，在与炉床盖5的非缺口部5b在上下方向重合的位置，更具体地讲在非缺口部5b的正下方位置，配置有第3极片13。该第3极片13相当于本实用新型的其它极片，在第1极片11以及第2极片12进行偏转后，使向壳体10外射出的电子束EB进一步偏转，以调整电子束EB对坩埚3的蒸镀材料的照射位置。 
第3极片13在配置于位于照射位置的坩埚3的上方位置的状态下朝着该坩埚3沿水平方向延伸。更具体地讲，第3极片13具有由强磁性体构成的一对板状部件13a、13b，该一对板状部件13a、13b配置成在水平方向隔着间隙排列的状态，从与电子枪装置主体2侧相反的一侧朝着位于照射位置的坩埚3延伸。此外，各板状部件13a、13b朝着照射位置的坩埚3弯曲为L字状，如图3所示，在弯曲的各板状部件13a、13b的前端之间设置有空隙S，位于照射位置的坩埚3设置在该空隙S的前方（电子枪装置主体2侧）。 
此外，如图3所示，在板状部件13a、13b之间的间隙内配置有用于形成使向壳体10外射出的电子束EB进一步偏转的磁场的一对永久磁铁14a、14b。其中一个永 久磁铁14a以和一个板状部件13a并排的方式与该板状部件13a相邻，另一个永久磁铁14b同样地以和一个板状部件13b并排的方式与该板状部件13b相邻。 
通过以上的结构，第3极片13在上述空隙S形成磁场，通过该磁场使向壳体10外射出的电子束EB进一步偏转。通过这样的第3极片13的作用，向壳体10外射出的电子束EB以朝着保持在炉床4上的多个坩埚3中的位于缺口部5a下方的坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转。 
如上所述，在本实施方式中，为了使在壳体10内射出的电子束EB以朝着坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转，设置有3组极片11、12、13，通过这些极片11、12、13的协作，电子束EB从其射出位置偏转大约270度，照射于位于照射位置的坩埚3内的蒸镀材料的表面。 
另外，在本实施方式中，具有在坩埚3的上方位置朝着坩埚3沿水平方向延伸的极片、即第3极片13，从而能够将电子束EB对坩埚3内的蒸镀材料的照射位置调整为期望的位置。此外，通过具备第3极片13，电子束EB相对于坩埚3的开口面大致垂直地入射。其结果是，如图10所示，坩埚3内的蒸镀材料的熔痕形状成为理想的熔痕形状，即成为大致均匀地照射蒸镀材料的表面中央部后的形状。如果是这种状态，则坩埚3内的蒸镀材料可被适当地加热蒸发，有效地作为成膜材料进行利用。 
此外，在本实施方式中，第3极片13位于壳体10外，并且与壳体10分离。这样，通过使第3极片13与壳体10分离，在本实施方式中，与以往的电子枪装置（例如，上述专利文献1所述的电子枪装置）相比，在坩埚3的上方位置朝着坩埚3沿水平方向延伸的极片即第3极片13的设置方便性得到了提高。 
如上所述，第3极片13的配置位置的自由度得到了提高，由此，在本实施方式中，抑制了坩埚3所产生的蒸镀粒子附着于第3极片13的情况，能够抑制由于该蒸镀粒子的附着而产生的问题。 
更具体地讲，能够通过自由地设定第3极片13的配置位置，在本实施方式中，如图2以及3所示，将第3极片13配置在与炉床盖5的非缺口部5b在上下方向重合的位置。通过这样的位置关系，第3极片13与位于缺口部5a下方的坩埚3即照射位置的坩埚3在水平方向分离。因此，如图4所示，从该坩埚3产生的蒸镀粒子不易附着于第3极片13。 
以上的结果是，能够抑制从照射位置的坩埚3产生的蒸镀粒子附着于第3极片 13、然后该附着物混入其它坩埚3内而改变该坩埚3内的成分的情况。 
此外，在蒸镀粒子的附着物混入其它坩埚3内的情况下，当电子束EB照射于该其它坩埚3内的蒸镀材料时上述混入物再次蒸发，该再蒸发物附着于基体的成膜面，其结果是，在基体的成膜面生成颗粒。与此相对，在本实施方式中，如上所述，由于蒸镀粒子不易附着于第3极片13，所以能够减少基体的成膜面中的颗粒。 
此外，如果从坩埚3产生的蒸镀粒子附着于第3极片13、上述附着物沉积在坩埚3的上端周缘部和第3极片13的各板状部件13a、13b的下表面之间的空隙部，则在炉床4旋转时，在沉积的该附着物与坩埚3的上端周缘部之间产生摩擦。由于该摩擦的产生，炉床4可能无法适当地旋转。与此相对，在本实施方式中，如上所述，由于蒸镀粒子不易附着于第3极片13，所以在坩埚3的上端周缘部和第3极片13的各板状部件13a、13b的下表面之间的空隙部不会沉积蒸镀粒子的附着物，也不会由于该附着物而妨碍炉床4的旋转。 
并且，特别是在本实施方式中，第3极片13以位于非缺口部5b下方的方式固定于炉床盖5。如果这样地将第3极片13配置于炉床盖5的非缺口部5b下方，即使蒸镀粒子附着于第3极片13，也能够通过炉床盖5有效地防止该附着物飞散。此外，如图4所示，由于电子束EB不会照射于第3极片13，所以能够防止附着于第3极片13的蒸镀粒子再次蒸发而附着于基体的成膜面从而在该成膜面上产生颗粒。 
如上所述，第3极片13具有由磁性体构成的一对板状部件13a、13b，通过在该一对板状部件13a、13b之间（更具体地讲，设置在板状部件13a、13b的前端之间的空隙S）形成的磁场，使向壳体10外射出的电子束EB进一步偏转。并且，用于形成上述磁场的一对永久磁铁14a、14b分别与对应的板状部件13a、13b相邻。通过这样的结构，第3极片13能够适当地形成施加于电子束EB的磁场，来使电子束EB以朝着坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转。 
此外，在本实施方式中，如图3所示，在一对永久磁铁14a、14b之间具备作为调整部件的分流棒16，通过该分流棒16，能够调整第3极片13形成的磁场的强度。更具体地讲，分流棒16是由纯铁构成的棒状部件，经由位于其两侧的磁轭材料15a、15b与上述一对永久磁铁14a、14b分别接触。磁轭材料15a、15b形成引导由永久磁铁14a、14b产生的磁场的磁路，与分流棒16同样地由纯铁构成。 
此外，在本实施方式中，分流棒16构成为能够在水平方向上沿与一对永久磁铁 14a、14b排列的方向交叉的方向具体地讲是图3中的箭头所示的方向移动。具体地讲，分流棒16能够在一对永久磁铁14a、14b之间，以相对于各永久磁铁14a、14b滑动的方式沿图3中的箭头方向滑行。另外，分流棒16的移动可以通过人把持分流棒16来进行，或者，可以设置具备人工操作的手柄等操作部的未图示的驱动机构，通过该操作部的操作，上述驱动机构使分流棒16移动与操作量对应的距离。 
并且，在分流棒16沿图3中的箭头方向滑行移动时，一对永久磁铁14a、14b之间的磁导率发生变化，从而调整第3极片13形成的磁场的强度。这样，作为形成磁场强度的结果，调整电子束EB的偏转程度，由此，能够控制电子束EB对坩埚3的蒸镀材料的照射位置。 
另外，在分流棒16位于图3所示的位置的状态、即位于分流棒16中的与永久磁铁14a、14b重叠的位置的部分为最大的状态下，上述磁导率最大，第3极片13形成的磁场的强度也最大。另一方面，如果由于分流棒16进行滑行运动而分流棒16中的与永久磁铁14a、14b重叠的部分减少（换言之，在磁轭材料15a、15b之间的空间中不存在分流棒16的区域增加），则与此对应地，磁导率减少，磁场的强度也降低。 
通过设置以上的这样的分流棒16，能够调整第3极片13形成的磁场的强度，例如，能够适当地进行该磁场的初始调整或随时间的变化而所需的再次调整。此外，磁场的强度的调整是通过使分流棒16在水平方向上沿与一对永久磁铁14a、14b排列的方向交叉的方向移动而改变永久磁铁14a、14b之间的磁导率来进行的。通过这样的结构，在本实施方式中，能够通过分流棒16的滑行运动容易地调整磁场的强度。 
以上，对本实施方式的电子枪装置1进行了说明，但本实施方式仅是为了使本实用新型容易理解的一例，上述的部件、配置等并非限定本实用新型，可根据本实用新型的主旨进行各种改变、改良，并且，本实用新型当然也包含其等同物。 
例如，在上述实施方式中，将2种极片（具体地讲，第1极片11以及第2极片12）固定于壳体10，但是并非限定于此，关于固定于壳体10的极片的数量，只要设置至少1个以上即可。此外，在上述实施方式中，关于固定于壳体10的极片，是在收容于壳体10内的状态下固定于壳体10，但是并非限定于此，例如，也可固定于壳体10的外壁而露出于壳体10外。 
此外，在上述实施方式中，在配置于坩埚3的上方位置的状态下朝着坩埚3沿水平方向延伸的极片即第3极片13在上下方向被设置在炉床盖5的非缺口部5b的下方。 可是，关于第3极片13的设置位置，并不限定于上述位置，例如，也可配置在炉床盖5的非缺口部5b的上方。 
此外，在上述实施方式中，作为收容部的一例，对保持在炉床4上的坩埚3进行了说明，但是并非限定于此，例如，也可在炉床4b主体上形成收容蒸镀材料的部分。此外，在上述实施方式中，对在炉床4上保持多个坩埚3的结构进行了说明，但是炉床也可以是仅保持1个坩埚3的炉床。 
此外，在上述实施方式中，说明了通过多个极片11、12、13的协作，使电子束EB从其射出位置偏转大约270度、照射于位于照射位置的坩埚3内的蒸镀材料的表面的情况，但是偏转角度并没有特别限定，例如，也可使电子束EB从其射出位置偏转约180度而照射于位于照射位置的坩埚3内的蒸镀材料。 
此外，在上述实施方式中，在构成第3极片13的一对板状部件13a、13b之间，配置了一对永久磁铁14a、14b，各永久磁铁14a、14b与对应的板状部件13a、13b相邻。此外，在上述实施方式中，在一对永久磁铁14a、14b之间具备作为调整部件的分流棒16，通过使分流棒16沿与永久磁铁14a、14b排列的方向交叉的方向进行水平移动来调整第3极片13形成的磁场的强度。 
可是，作为用于在一对板状部件13a、13b之间形成磁场的结构，除了上述实施方式以外，例如还可以考虑图11、图12所示的结构。图11以及图12是示出与安装于炉床盖5的极片13（即，第3极片13）周边相关的变形例的图。 
在图11所示的情况下，在一对板状部件13a、13b之间的间隙配置横长的永久磁铁17来替代一对永久磁铁14a、14b。并且，该横长的永久磁铁17的两端分别与对应的板状部件13a、13b抵接。由此，在图11所示的情况下，与设置了上述一对永久磁铁14a、14b的情况相同，在坩埚3的上方位置朝着坩埚3沿水平方向延伸的极片即第3极片13能够形成适当地形成使电子束EB以朝着坩埚3内的蒸镀材料的方式偏转而所需的磁场。 
另外，在图11所示的情况下，在一对板状部件13a、13b之间的间隙只配置了一个横长的永久磁铁17，但是并非限定于此，例如，也可在上述间隙配置将断片状的多个永久磁铁排列成列状而得到的永久磁铁，可以将该多个永久磁铁中的位于两端的永久磁铁与对应的板状部件13a、13b抵接。即，为了由第3极片13形成使电子束EB偏转而所需的磁场，只要在一对板状部件13a、13b之间的间隙设置至少1个以上 的永久磁铁，该至少1个以上的永久磁铁与一对板状部件13a、13b的双方抵接即可。 
此外，在图11所示的情况下，在能够在水平方向上沿与一对板状部件13a、13b排列的方向交叉的方向具体地讲是图11中的箭头所示的方向移动的状态下安装有横长的永久磁铁17，通过使横长的永久磁铁17沿该方向移动，能够调整第3极片13形成的磁场的强度。 
此外，在图11所示的情况下，由强磁性体、具体地讲纯铁构成的调整部件18与横长的永久磁铁17所具有的表面中的位于与板状部件13a、13b的前端部相反的一侧的面接触。并且，通过使该调整部件18与横长的永久磁铁17接触，能够调整第3极片13形成的磁场的强度。 
如上所述，在图11所示的情况下，通过使横长的永久磁铁17进行水平移动，或使调整部件18与永久磁铁17接触，能够容易地调整第3极片13形成的磁场的强度。 
另一方面，在图12所示的情况下，在一对板状部件13a、13b之间的间隙内配置有电磁铁19，该电磁铁19的两端分别与对应的板状部件13a、13b抵接。即使是这种结构，也与设置了上述的一对永久磁铁14a、14b和横长的永久磁铁17的情况同样地，第3极片13能够适当地形成使电子束EB偏转而所需的磁场。此外，在图12所示的情况下，通过变更流过电磁铁19的绕组（线圈）的电流的大小，能够容易地调整上述磁场的强度。 
标号说明 
1 电子枪装置 
2 电子枪装置主体 
3 坩埚 
4 炉床 
5 炉床盖 
5a 缺口部 
5b 非缺口部 
6 炉床驱动机构 
7 电子束射出机构 
8 灯丝 
9 扫描线圈 
10 壳体 
10a 开口 
11 第1极片 
11a、11b 板状部件 
12 第2极片 
12a、12b 板状部件 
13 第3极片 
13a、13b 板状部件 
14a、14b 永久磁铁 
15a、15b 磁轭材料 
16 分流棒 
17 永久磁铁 
18 调整部件 
19 电磁铁 
101a、101b 极片 
102 电子枪主体部 
103 坩埚 
104 壳体 
104a 开口 
201a、201b、201c、201d 极片 
202 电子枪主体部 
203 坩埚 
204 壳体 
EB 电子束 
S 空隙 

Claims (10)

1.一种电子枪装置，该电子枪装置具备： 
收容部，其收容蒸镀材料； 
电子束射出机构，其射出电子束，以使该收容部内的所述蒸镀材料加热蒸发； 
壳体，其在内部收容该电子束射出机构； 
极片，其在固定于该壳体的状态下，使从所述电子束射出机构射出的所述电子束以朝着所述收容部内的所述蒸镀材料的方式偏转；以及 
其它极片，其在所述极片进行偏转后，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转，以调整所述电子束对所述收容部内的所述蒸镀材料的照射位置， 
该电子枪装置的特征在于， 
所述其它极片在配置于所述收容部的上方位置的状态下朝着所述收容部沿水平方向延伸，位于所述壳体外，并且与所述壳体分离。 
2.根据权利要求1所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述电子枪装置还具备盖，所述盖被配置在所述收容部的上方位置，具有为了使所述收容部露出而切出的缺口部，利用该缺口部以外的非缺口部覆盖所述收容部， 
所述其它极片配置在与所述盖的所述非缺口部在上下方向重合的位置，使向所述壳体外射出的所述电子束以朝着位于所述缺口部下方的所述收容部内的所述蒸镀材料的方式偏转。 
3.根据权利要求2所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述其它极片以位于所述盖的所述非缺口部下方的方式固定于所述盖。 
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件， 
该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态， 
所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转， 
用于形成所述磁场的一对永久磁铁位于所述间隙内，该一对永久磁铁中的一个永久磁铁与所述一对板状部件中的一个板状部件抵接，另一个永久磁铁与另一个板状部件抵接。 
5.根据权利要求4所述的电子枪装置，其特征在于， 
在所述一对永久磁铁之间，配置有用于调整所述磁场的强度的调整部件， 
该调整部件在水平方向上沿与所述一对永久磁铁排列的方向交叉的方向移动，由此，改变所述一对永久磁铁间的磁导率，调整所述磁场的强度。 
6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件， 
该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态， 
所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转， 
用于形成所述磁场的至少1个以上的永久磁铁位于所述间隙内，该至少1个以上的永久磁铁与所述一对板状部件的双方抵接。 
7.根据权利要求6所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述至少1个以上的永久磁铁在水平方向上沿与所述一对板状部件排列的方向交叉的方向移动，由此调整所述磁场的强度。 
8.根据权利要求6所述的电子枪装置，其特征在于， 
该电子枪装置还设置有调整部件，该调整部件通过与所述至少1个以上的永久磁铁接触来调整所述磁场的强度。 
9.根据权利要求1至3中的任意一项所述的电子枪装置，其特征在于， 
所述其它极片具有由磁性体构成的一对板状部件， 
该一对板状部件被配置成在水平方向隔着间隙排列的状态， 
所述其它极片通过在所述一对板状部件之间形成的磁场，使向所述壳体外射出的所述电子束进一步偏转， 
用于形成所述磁场的电磁铁位于所述间隙内，该电磁铁与所述一对板状部件的双方抵接。 
10.根据权利要求9所述的电子枪装置，其特征在于， 
通过变更流过所述电磁铁的绕组的电流的大小，调整所述磁场的强度。 
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