CN201376997Y - 硅材料酸腐蚀综合处理装置 - Google Patents

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余仲
黄进权
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Shenzhen S. C New Energy Equipment Co., Ltd.
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SHENZHEN SC EXACT EQUIPMENT CO Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种硅材料酸腐蚀综合处理装置，其特征在于包括：主槽(1)、副槽(2)和设置在主槽和副槽之间，用于将副槽中酸液导入主槽中的循环泵(3)，所述的主槽由相互套合的外槽和内槽组成，内槽底部与外槽间隔开并设置有排液阀(4)，外槽底部分别设置有排酸阀(5)和排水阀(6)，排酸阀(5)排出的酸液导入副槽(2)中，所述的内槽顶部设置有防护盖(7)、喷淋装置(8)和进水管(9)。本实用新型使硅材料的腐蚀过程在一带有盖子的主槽内进行，通过快排酸及快速喷淋、注水浸洗，使硅材料缩短与空气接触时间，减少硅材料的再次氧化，硅产品质量高，安全性好。

Description

硅材料酸腐蚀综合处理装置
技术领域
本实用新型涉及化学处理设备，尤其涉及一种硅材料酸腐蚀综合处理装置。
背景技术
在硅片、硅料与硅芯的处理中，由于硅材料与酸产生剧烈的化学反应，若这种反应暴露于空气中，会产生氧化物浓烟，为了有效减少硅材料过久暴露于空气，引起氧化，影响腐蚀效果，同时为了减少浓烟的溢出，腐蚀设备和伤害人体，需要对该设备进行安全防护处理，以保证产品质量和人身安全。
因此，如何设计出一种既能保证产品质量，又能保证人身安全的处理设备是目前业内亟待解决的一个课题。
实用新型内容
本实用新型的目的是为克服上述现有技术中存在的问题，提出一种硅材料酸腐蚀综合处理装置，该装置使得硅材料的腐蚀过程在一带有盖子的主槽内进行，安全性能好。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是设计一种硅材料酸腐蚀综合处理装置，包括：主槽、副槽和设置在主槽和副槽之间，用于将副槽中酸液导入主槽中的循环泵；所述的主槽由相互套合的外槽和内槽组成，内槽底部与外槽间隔开并设置有排液阀，外槽底部分别设置有排酸阀和排水阀，排酸阀排出的酸液导入副槽中；所述的内槽顶部设置有防护盖、喷淋装置和进水管。
在本实用新型的一个较佳实施例中所述的内槽上部还设置有排酸气的抽风口；所述副槽中设置有冷却酸液的冷却装置。
与现有技术相比，本实用新型在硅材料进行酸或碱处理的设备中，使硅材料的腐蚀过程在一带有盖子的主槽内进行，通过快排酸及快速喷淋、注水浸洗，使硅材料缩短与空气接触时间，减少硅材料的再次氧化，硅产品质量高，安全性好。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明：
图1为本实用新型的系统示意图。
具体实施方式
图1是本实用新型的一个实施例的示意图。本实用新型设计的一种硅材料酸腐蚀综合处理装置包括：主槽1、副槽2和设置在主槽和副槽之间，用于将副槽中酸液导入主槽中的循环泵3。主槽由相互套合的外槽和内槽组成，内槽底部与外槽间隔开并设置有排液阀4。外槽底部分别设置有排酸阀5和排水阀6，排酸阀5排出的酸液导入副槽2中循环使用，排水阀排出的水则经过污水处理系统处理后循环使用。内槽顶部设置有防护盖7、喷淋装置8和进水管9。
本实用新型在酸腐蚀处理工序中采用酸腐蚀→酸快排→纯水喷淋、浸洗→排水等多个综合处理步骤，所有的步骤在一个带有盖子的处理主槽内连续完成。此外，主槽的顶部还设有抽风口10，通过管道与外部风机相连，将内中酸气抽出。
副槽2中还设置有冷却酸液的冷却装置，用于冷却硅与酸反映产生的热量，保证酸腐蚀所需的工艺温度。
本实用新型在整个生产过程始中，使得硅材料的腐蚀过程在一带有盖子的主槽内进行，通过快排酸及快速喷淋、注水浸洗，使硅材料缩短与空气接触时间，减少硅材料的再次氧化，另主槽设有抽风口，将处理过程中产生的浓烟通过抽风管抽出，不至于开盖提出硅料时，浓烟溢出。
上述为本实用新型优选实施例，凡在此原理上改进，均落入本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1、一种硅材料酸腐蚀综合处理装置，其特征在于包括：主槽(1)、副槽(2)和设置在主槽和副槽之间，用于将副槽中酸液导入主槽中的循环泵(3)，所述的主槽由相互套合的外槽和内槽组成，内槽底部与外槽间隔开并设置有排液阀(4)，外槽底部分别设置有排酸阀(5)和排水阀(6)，排酸阀(5)排出的酸液导入副槽(2)中，所述的主槽顶部设置有防护盖(7)、喷淋装置(8)和进水管(9)。
2、根据权利要求1所述的硅材料酸腐蚀综合处理装置，其特征在于：所述内槽上部设置有排酸气的抽风口(10)。
3、根据权利要求1所述的硅材料酸腐蚀综合处理装置，其特征在于：所述副槽中设置有冷却酸液的冷却装置。
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TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20110329

Address after: 518000, Shenzhen Baoan District manhole Street oyster four Lin slope pit Industrial Zone, A4 building, first floor

Patentee after: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

Address before: 518103 A13 building, oyster four woods slope pit Industrial Zone, Baoan District, Guangdong, Shenzhen

Patentee before: Shenzhen SC Exact Equipment Co., Ltd.

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CP03 Change of name, title or address

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Patentee before: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

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