CN201301338Y - 溅镀机的冷却装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种溅镀机的冷却装置，包含有：一溅镀源、一防着板结构、一输送带结构及若干置物板，该防着板结构设于输送带结构两侧；该防着板结构及/或输送带结构的异于溅镀区方向的表面锁设有可拆离的冷却装置，所述冷却装置包含有一控制结构。本实用新型的有益效果为：强制冷却并可控制冷却效率，所以被镀物不致有因高温产生变形的情形，良率提升；控制降低溅镀发热，所以制程速度减缓，溅镀符合要求，制程也可以缩短。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种溅镀机的冷却装置。
背景技术
现有溅镀机的结构主要包含有：一溅镀源，该溅镀源以离子溅射原理，先利用电场使两极间产生电子，这些加速电子会与真空腔中已预先充入的惰性气体碰撞，使其带正电，这些带正电的粒子会受阴极(靶材)吸引而撞击阴极，入射离子受到电场作用获得动量，撞击靶材表面的原子，这些原子受到正电离子的碰撞得到入射离子的动量转移，被撞击的靶材表面原子因接受入射离子的动量，对靶材表面下原子造成挤压使其发生移位，此靶材表面下多层原子挤压，会发生垂直靶材表面的作用力而把表面原子碰撞出去，这些被碰撞出去的原子，最后终于沉积在被镀物上完成溅镀；一防着板结构，该防着板结构设于导轨结构两侧，防着板结构防止原子沉积于置物板以外之机台其他位置；一导轨结构，该导轨结构设于输送带结构的两侧以导引置物板移动方向；一输送带结构，该输送带结构输送置物板经过溅镀源；若干置物板，提供被镀物放置；通过上述结构，被镀物置于置物板，再将置物板置于输送带结构，经导轨结构导引而经过溅镀源完成溅镀。
但是上述现有的溅镀机仍存在有下列缺点：1、溅镀源的溅镀过程会产生发热，而真空腔会有热累积的问题，现有的溅镀机只能利用金属材质机台自然导热散热，但过程相当缓慢，造成温度居高不下，影响被镀物因过高温度产生变形等问题，造成不良品增加；2、因为被镀物无法耐高温，所以现有的做法就是加快输送带的速度，以减短被镀物在高温环境的时间，但短时间并不能溅镀完全，所以增加溅镀机制程使溅镀完成，但如此不但机台成本增加，制程也变长，需要较大的场所才能摆设。所以针对上述现有结构所存在的问题，如何开发一种更具理想实用性的创新结构实为消费者所殷切期盼，也是相关业者须努力研发突破之目标及方向。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种溅镀机的冷却装置，以克服现有的溅镀机其制程过程中会产生发热，且真空腔会有热积累的问题，自然散热速度也过慢，而被镀物为无法耐高温的材制(如塑料)，所以被镀物在高温溅镀过程容易变形，而如果加快制程速度，则制程之长度就需要增长，设备也要增加，场地也需要配合增加的不足。
实现本实用新型的目的的技术方案如下：
一种溅镀机的冷却装置，包含有：一溅镀源、一防着板结构、一输送带结构及若干置物板，该防着板结构设于输送带结构两侧；该防着板结构及/或输送带结构的异于溅镀区方向的表面锁设有可拆离的冷却装置，所述冷却装置包含有一控制结构。
所述冷却装置为水冷循环式冷却装置、液冷循环式冷却装置或热管冷却装置；所述控制结构为泵浦装置、压缩机装置或风扇装置。
优选地，所述防着板结构包含有至少二个防着板，所述二个防着板锁设在溅镀机的输送带结构两侧，所述冷却装置锁设于所述二个防着板的异于溅镀区方向的表面；所述输送带结构包含有一区隔板，所述冷却装置装设于区隔板的异于溅镀区方向的表面。
本实用新型的有益效果为：强制冷却并可控制冷却效率，所以被镀物不致有因高温产生变形的情形，良率提升；控制降低溅镀发热，所以制程速度减缓，溅镀符合要求，制程也可以缩短。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步说明：
图1是本实用新型的溅镀机的剖面示意图；
图2是本实用新型的防着板锁设冷却装置的立体示意图；
图3是本实用新型的溅镀机平面示意图；
图4是本实用新型的溅镀机流程示意图。
图中：20、溅镀源；21、防着板；211、防着板表面；23、输送带结构231、输送轮；232、区隔板；233、表面；24、置物板；25、被镀物；26、溅镀区；31、输入装置；32、清洁装置；33、第一缓冲装置；34、溅镀装置；35、第二缓冲装置；36、输出装置；40、冷却装置；41、冷却装置；50、控制结构。
具体实施方式、
如图1-2所示，本实用新型实施例所述的溅镀机的冷却装置，包括：溅镀源20，该溅镀源20以离子溅射原理，先利用电场使两极间产生电子，这些加速电子会与真空腔中已预先充入的惰性气体碰撞，使其带正电，这些带正电的粒子会受阴极(靶材)吸引而撞击阴极，入射离子受到电场作用获得动量，撞击靶材表面的原子，这些原子受到正电离子的碰撞得到入射离子的动量转移，被撞击的靶材表面原子因接受入射离子的动量，对靶材表面下原子造成挤压使其发生移位，此靶材表面下多层原子挤压，会发生垂直靶材表面的作用力而把表面原子碰撞出去，这些被碰撞出去的原子，最后终于沉积在被镀物25上完成溅镀，过程会产生发热，且会于真空腔内累积；二个防着板结构21，该防着板结构21设于输送带结构23两侧，防着板结构21防止原子沉积于置物板24以外的机台其他位置，防着板结构21必要时需拆卸下来，作必要清洁；输送带结构23，该输送带结构23输送置物板24经过溅镀源20；若干置物板24提供被镀物25放置；主要在于：防着板结构21的异于溅镀区26方向的防着板表面211，锁设有可拆离的冷却装置40，该冷却装置40可为水冷、液冷或热管冷却等等除了自然散热以外之强制散热，以冷却装置40可以降低真空腔内溅镀制程所累积的发热，如此可使制程速度减缓，制程长度也可缩短，良率也可提升。
另一方面，输送带结构23包含有输送轮23 1间所设的区隔板232，区隔板232仅供输送轮231的部分轮面穿贯出，区隔板232据以区隔溅镀区26与传动区，区隔板21的异于溅镀区26方向的表面233，锁设固定可拆离的冷却装置41，该冷却装置41可为水冷、液冷或热管冷却等等除了自然散热以外之强制散热，以冷却装置41可以降低真空腔内溅镀制程所累积的发热，如此可使制程速度减缓，制程长度也可缩短，良率也可提升。
所述冷却装置40或41更包含有一控制结构50，控制结构50控制冷却装置40或41的冷却效率，该控制机构50可为泵浦装置、风扇装置。
通过上述结构，被镀物25置于置物板24，再将置物板24置于输送带结构23，经导引而经过溅镀源20完成溅镀。
参阅图4-5所示，被镀物25被置于置物板24上，置物板25置于输送带结构23上，置物板15首先经过溅镀机的输入装置31送入溅镀机内部，其后以清洁装置32将被镀物25清洁以利溅镀的附着，清洁之后进入第一缓冲装置33缓冲一段时间，再将置物板24连同被镀物25送入溅镀装置34溅镀，溅镀完成后，经第二缓冲装置35以一段时间缓冲后，由输出装置36将置物板24连同被镀物25送出，最后完成所有溅镀制程。所述溅镀装置34、第一缓冲装置33或第二缓冲装置35均可依需求增加。
上述实施例为本实用新型产业上的一较佳实施例，凡依本实用新型权利要求所作的等效变化皆属本案权利要求的内。
Claims (5)
1、一种溅镀机的冷却装置，包含有：一溅镀源、一防着板结构、一输送带结构及若干置物板，该防着板结构设于输送带结构两侧；其特征在于：该防着板结构及/或输送带结构的异于溅镀区方向的表面锁设有可拆离的冷却装置，所述冷却装置包含有一控制结构。
2、如权利要求1所述的溅镀机的冷却装置，其特征在于：所述冷却装置为水冷循环式冷却装置、液冷循环式冷却装置或热管冷却装置。
3、如权利要求1所述的溅镀机的冷却装置，其特征在于：所述控制结构为泵浦装置、压缩机装置或风扇装置。
4、如权利要求1-3任一项所述的溅镀机的冷却装置，其特征在于：所述防着板结构包含有至少二个防着板，所述二个防着板锁设在溅镀机的输送带结构两侧，所述冷却装置锁设于所述二个防着板的异于溅镀区方向的表面。
5、如权利要求1-3任一项所述的溅镀机的冷却装置，其特征在于：所述输送带结构包含有一区隔板，所述冷却装置装设于区隔板的异于溅镀区方向的表面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CNU2008201358875U CN201301338Y (zh) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 溅镀机的冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2008201358875U CN201301338Y (zh) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 溅镀机的冷却装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| CN201301338Y true CN201301338Y (zh) | 2009-09-02 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNU2008201358875U Expired - Fee Related CN201301338Y (zh) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 溅镀机的冷却装置 |
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| CN (1) | CN201301338Y (zh) |
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