CN1990363A - 平面显示器用基板输送装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种通过最小的显影装置安装空间来获得最高的空间利用率的平面显示器用基板输送装置。本发明包括：腔室，其用于提供基板处理空间；显影液供给装置，其安装在所述腔室内，并用于在输入到腔室的基板上涂敷显影液；支撑部，其安装在所述腔室内部，并具有一定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接于所述支撑部，且具备由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于使所述支撑部上升及下降；倾斜诱导装置，其诱导所述多个倾斜输送部以铰接部为中心倾斜一定角度。

Description

平面显示器用基板输送装置
技术领域
本发明涉及一种平面显示器用基板输送装置，尤其涉及一种在制造平面显示器用基板的过程中，能够适用于显影装置的、且通过最小的基板显影装置安装空间来获得最大的空间利用率的平面显示器用基板输送装置。
背景技术
通常，在平面显示装置的制造工序中，在玻璃基板上形成电路图形的过程，可包括清洗基板的工序、在已清洗的基板表面涂敷感光性树脂而形成感光膜的工序、通过预定图案曝光所述感光膜而进行显影(developing)的工序。
这种显示器的制造工序中，显影工序利用现有的显影液供给装置来对基板涂敷显影液。这种显影工序，可采用向盛有显影液的腔室通过基板的方式或者采用喷射装置向基板喷射显影液的方式进行。而这种显影装置，包括用于向腔室供给显影液的显影液供给装置和用于输送基板的输送装置。由此，当基板输送到腔室时，通过显影液供给装置向基板供给显影液，并经过一段时间之后，通过输送装置向清洗装置输送基板。通常，为了提高基板的处理效率，基板输送装置以倾斜状态输送基板并进行清洗及干燥，该基板输送装置安装在所述显影装置的一侧，并将从显影装置中输出的基板输送到清洗装置。当显影液供给到基板时，这种现有的显影装置为了显影(developing)需搁置一段时间，之后再通过基板输送装置向清洗装置输送基板，因此基板处理时间增加，生产效率降低。而且，在显影装置的出口处，为倾斜输送基板需增设倾斜输送装置，因此安装空间变大并增加制造费用。
发明内容
本发明鉴于上述问题而作，其目的在于提供一种在基板显影处理过程中，能减少处理时间，并通过最小的显影装置安装空间来减少基板制造费用的平面显示器用基板输送装置。
为达到上述目的，本发明提供一种平板显示器用基板输送装置，其包括：腔室，其提供用于处理基板的空间；支撑部，其安装在所述腔室内部，且具有一定的框架结构；多个倾斜输送部，其铰接在所述支撑部上，且安装有由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；导引机构，其用于引导所述支撑部移动；另一驱动单元，其用于驱动所述支撑部，以使之沿着所述导引机构移动；倾斜诱导装置，其诱导所述多个倾斜输送部以铰接部为中心按预定角度倾斜。
所述多个倾斜输送部包括，铰接于所述支撑部的第一倾斜输送部和铰接于所述支撑部在所述第一倾斜输送部下方位置的第二倾斜输送部。
所述倾斜诱导装置，可包括由致动器移动的杆体，该杆体能够与所述倾斜输送部上铰接部的相反侧接触或者解除该接触状态。
本发明的输送基板的倾斜输送部，具有多层结构，因此能够减少基板显影时的节拍时间，并且由于具有能够以倾斜状态输出基板的结构，还可以减少显影装置的安装空间，并由此而减少基板的制造费用。
附图说明
图1是表示本发明所适用的基板输送装置的结构图。
图2是用于说明本发明所涉及实施例的整体结构图。
图3是用于说明图2的主要部分及动作过程的示意图。
图4是用于说明本发明动作过程的示意图。
具体实施方式
下面，参照附图详细说明本发明的优选实施例。
图1是用于说明本发明所适用的实施例的结构图，表示显影装置。本发明的显影装置包括：基板供给部3，其用于供给玻璃基板等基板；显影液喷射部71，其用于从所述基板供给部3接收被处理对象基板G1(或者G2)，并对所述基板G1(或者G2)涂敷显影液；显影部1，其用于从所述显影液喷射部71接收基板G1(或者G2)，并搁置基板显影所需时间，以进行显影；清洗部81，其能够以倾斜状态接收来自所述显影部1的基板G1(或者G2)，并对其进行清洗；干燥部91，其用于接收来自所述清洗部81的基板G1(或者G2)，并对其进行干燥；以及基板输出部5，其用于输出所述干燥部91内的基板G1(或者G2)。
在所述显影装置中，显影液喷射部71包括显影液供给装置71a及基板输送装置71b。所述显影液供给装置71a设于腔室内，且对基板G1(或G2)涂敷显影液，并可包括显影液喷嘴等。本发明的所述显影液供给装置71a，可采用能够向基板G1(或G2)供给显影液并进行基板G1(或G2)的显影处理的任何一种装置，也可以采用通常的装置，因此省略其详细说明。
而且，所述清洗装置的清洗部81和干燥部91，是用于清洗和干燥已显影的基板，所以也可以采用通常的装置，因此省略其详细说明。
图2是用于说明本发明所涉及实施例的整体结构图；图3是用于说明图2中主要部分及动作过程的示意图，图中显示显影部1。该显影部1用于暂时保管基板G1(或者G2)，并以倾斜状态输出基板，以使所述基板G1(或者G2)在显影处理中能够获得必要的显影时间。
在本发明中，结合附图说明在所述显影部1的一侧设有基板供给部3，并由该基板供给部3向显影部1供给基板G1(或G2)的实施例。另外，结合附图说明在所述显影部1的基板G1(或G2)输出侧设有能够以倾斜状态输送基板的基板输出部5的实施例。在本发明中，亦可由显影液喷射部71取代向所述显影装置1供给基板G1(或G2)的基板供给部3(如图1所示)的位置，并由清洗部81取代基板输出部5的位置。为方便起见，本发明只说明在基板供给部3和基板输出部5之间安装显影部1的实施例。
即，在本发明中，通过基板供给部3来说明以水平状态向显影部1供给基板G1(或G2)的实施方式，而通过所述基板输出部5来说明以倾斜状态输出基板G1(或G2)的实施方式。
如图2所示，所述基板供给部3具备由通常的驱动源即电机3a转动的多个辊轮R，并通过这些辊轮R向水平方向输送基板G1(或G2)。另外，所述基板输出部5具备由另一通常的驱动源即电机5a转动的多个辊轮R，而这些辊轮R用于接收以倾斜状态输送的基板G1(或G2)，并将其输送到清洗装置，而这些辊轮R沿着倾斜方向设置，以使基板G1(或G2)在倾斜状态下移动。
所述显影部1包括：腔室11，其提供用于处理所述基板G1(或G2)的空间；支撑部15，其安装在所述腔室11内部；第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19，其铰接于所述支撑部15的上、下位置；导引机构21，其用于引导所述支撑部15，以使其沿着上下方向移动；驱动单元23，其用于带动所述支撑部15移动；以及倾斜诱导装置25，其用于使第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19分别以第一铰接部18和第二铰接部20为中心转动并保持一定的倾斜角度。
所述腔室11提供能够使平面显示器用基板G1(或G2)滞留一段时间，以接受显影(developing)处理的空间。所述腔室11包括用于接入基板G1(或G2)的入口12和在结束显影处理后用于输出基板G1(或G2)的出口14等。
所述支撑部15可沿上下方向移动，且具有框架结构。而所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19分别铰接于该支撑部15。这种支撑部15并不限于框架形状的结构，只要是能够上下移动的结构均可采用。另外，所述支撑部15上铰接有所述第一倾斜输送部17和所述第二倾斜输送部19的结构，能够在倾斜状态下输送基板G1(或G2)。同时，所述支撑部15被制成能够使所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19在其上上下并排的结构。
即，所述支撑部15的上、下位置上铰接有第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19，且具有第一铰接部18和第二铰接部20，而且所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19可保持水平或者按一定角度倾斜的状态。换言之，所述支撑部15与第一倾斜输送部17的一侧铰接，而第二倾斜输送部19的一侧铰接于所述支撑部15在第一倾斜输送部17的下方位置上。所述第一倾斜输送部17和所述第二倾斜输送部19，可通过所述支撑部15，以水平状态予以固定，也可以按一定的倾斜角度(能够使基板在倾斜状态下移动的角度)分别以第一铰接部18和第二铰接部20为中心转动。其中，所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19可通过如下结构水平配置：所述支撑部15为框架形状，而所述支撑部15与所述第一倾斜输送部17及第二倾斜输送部19之间的铰接部及其相反侧保持同一个水平面，从而使第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19能够放置在支撑部15上。虽然本实施例的示意图上所显示的支撑部15具有框架结构，但本发明并不限于此，只要是能够使所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19与其铰接、并以一定的倾斜角度转动，同时能够保持水平状态或上下并排的结构均可采用。
所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19可通过同一个驱动源或者各自的驱动源输送基板G1(或G2)。所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19(如图2所示)上，连续配置有用于输送基板G1(或G2)的多个辊轮R，这些辊轮R通过多个框架31、33、35、37相结合。所述框架31、35分别和驱动电机17a、19a相配合。所述电机17a、19a的驱动力可通过通常的传动带、链条、链轮齿等动力传递部件传递到所述辊轮R，并使之转动。带动所述辊轮R转动的结构，当然可以采用通常的动力传递结构。此外，所述框架31、35铰接于所述支撑部15上，并可在水平或者倾斜状态下输送所述基板G1(或G2)。
所述导引机构21起着引导所述支撑部15上下移动的作用。如图所示，这种导引机构21可通过单独的导引框架来导引所述支撑部15，也可通过与腔室11内部相结合的结构，或者腔室11的内壁等结构来引导所述支撑部15上下移动。即，本发明的导引机构21并不限于图示的结构或者所述实施例的说明，只要是能够引导所述支撑部15，以使其上升或下降的结构均可采用。
在所述支撑部15可配有驱动单元23，以使所述支撑部15能够沿着所述导引机构21升降。所述驱动单元23可以使用气缸、油压缸或者电机及由电机转动的旋转螺杆等。例如，所述驱动单元23可包括电机23a，和用于传递所述电机23a的驱动力以使所述支撑部15上下移动的动力传递部件。作为所述动力传递部件的一例，可采用如下结构：即在支撑部15上可转动地配合旋转螺杆23c，而通过传动带23b或链条等部件，所述电机23a等的驱动力传递到所述旋转螺杆23c上并使之转动，而所述旋转螺杆23c的旋转又可带动所述支撑部15上下移动。本发明中只说明了所述驱动单元23的一个实施方式，但只要是能够使结合有所述第一倾斜输送部17及第二倾斜输送部19的支撑部15上下移动的结构均可采用。
本发明的倾斜诱导装置25可将所述第一倾斜输送部17和第二倾斜输送部19从水平配置状态维持在倾斜状态，而所述倾斜诱导装置25可由致动器构成。所述致动器设置在腔室11或支撑部15的一侧上，并具有可沿水平方向移动的挂住部25a。即，所述致动器具有可在水平方向上往复移动一段距离的挂住部25a，并可由气缸等工作。当所述挂住部25a在所述致动器的作用下移到第一倾斜输送部17或者第二倾斜输送部19的下方位置时，倘若有所述支撑部15下降，则所述第一倾斜输送部17或者第二倾斜输送部19铰接部的相反侧与所述挂住部25a相接触，而所述第一倾斜输送部17或第二倾斜输送部19即可呈现倾斜状态，并以倾斜状态输送基板G1(或G2)。本发明的所述倾斜诱导装置25的结构，并不限于图中所示的结构，只要是配置在所述支撑部15上，且能够使所述第一倾斜输送部17及第二倾斜输送部19，从水平状态转变成一定倾斜角度的结构均可采用。
下面详细说明本发明的上述实施例的动作过程。
首先通过以下实施例来进行说明。即，所述基板供给部3被配置成能够以水平状态输送基板G1的状态，且位于能够以水平状态向显影部1的第一倾斜部17输送基板G1的位置上，而所述基板输出部5位于能够以倾斜状态接收从所述显影装置1输出的基板G1(或G2)的位置上(如图4所示状态)。
当所述基板供给部3以水平状态向显影部1供给基板G1时，所述第一倾斜输送部17就以水平状态接收基板G1。此时，电机17a的驱动力经链条及链轮齿传递到辊轮R上并使之转动，而在所述辊轮R的转动下，所述第一倾斜输送部17得以接收基板G1。当所述基板G1位于所述第一倾斜输送部17上时，可通过控制器(未图示)控制电机17a以使其停止，从而，所述基板G1得以被置放在第一倾斜输送部17上。被输入的所述基板G1上也可涂敷有显影液，此时，所述基板G1可能需要显影反应时间。而在此时，驱动所述驱动单元23中的电机23a，并通过传动带23b及旋转螺杆23c，提升所述支撑部15。据此，所述支撑部15沿着导引机构21上升，以使第二倾斜输送部19位于和所述基板供给部3相等高度的位置上。此时，所述基板供给部3又把另一个基板G2以水平状态输送到所述第二倾斜输送部19。所述第二倾斜输送部19通过和所述第一倾斜输送部17的基板输送方式相同的方式接收基板G2。而在此过程中，第一基板G1则完成显影(图2所示状态)。
此时，在控制器的控制下，所述驱动单元23的电机23a被驱动而使所述支撑部15下降一定距离。并且当驱动所述倾斜诱导装置25时，挂住部25a向第一倾斜输送部17的第一铰接部18相反侧的下方位置移动。在此状态下，通过控制所述驱动单元23的电机23a，使所述支撑部15下降以使所述第一倾斜部17和基板输出部5保持相同的高度。此时，所述第一倾斜部17就能够以第一铰接部18为中心转动而倾斜一定角度。接着，继续驱动电机17a而使辊轮R转动时，第一基板G1则在倾斜状态下向基板输出部5方向移动。
此外，当所述基板G1完全输出到基板输出部5一侧时，驱动所述电机23a而提升所述支撑部15，并使所述倾斜诱导装置25的挂住部25a向水平方向移动。
此时，所述第一倾斜部17保持水平配置的状态，而此时再通过控制所述电机23a，以使第一倾斜部17下降到和所述基板供给部3保持相同的高度、且可接收新的基板(未图示)的位置上。此时，如前所述，第一倾斜部17又从基板供给部3接收另一基板(未图示)。
接着说明向基板输出部5输送所述第二倾斜输送部19上第二基板G2的方法。
使所述倾斜诱导装置25的挂住部25a移向和所述第二倾斜输送部19的位置相反的方向。之后通过控制电机23a来使支撑部15上升。当然，所述支撑部15在移动时同样接受导引机构21的导引。而在所述支撑部15上升时，第二倾斜输送部19也随之上升。此时，通过控制电机23a，使所述第二倾斜输送部19停止在稍高于基板输出部5高度的位置上。然后，控制所述倾斜诱导装置25，以使其挂住部25a的前端位于第二倾斜输送部19的第二铰接部20相反侧的下方。然后，用控制器控制驱动单元23的电机23a，使其驱使支撑部15下降。此时，所述第二倾斜输送部19也随之下降，并以第二铰接部20为中心转动而倾斜。然后，通过驱动电机19a来使所述第二倾斜输送部19的辊轮R转动，从而在倾斜状态下将第二基板G2输送到所述基板输出部5(如图3所示状态)。
综上，本发明不仅可以保障基板显影处理的充分的时间，还可以缩短总体时间来提高生产效率。此外，还可以在倾斜状态下输出基板，从而能够大幅减少腔室或装置的安装空间。

Claims (3)

1、一种平面显示器用基板输送装置，其特征在于，包括：
腔室，其提供用于处理基板的空间；
支撑部，其安装在所述腔室内部，且具有预定的框架结构；
多个倾斜输送部，其铰接在所述支撑部上，且安装有由驱动单元转动的输送辊，并通过该输送辊输送基板；
导引机构，其用于引导所述支撑部移动；
另一驱动单元，其用于使所述支撑部上升或下降；
倾斜诱导装置，其诱导所述倾斜输送部以铰接部为中心按预定角度倾斜。
2、根据权利要求1所述的平面显示器用基板输送装置，其特征在于：
所述倾斜输送部包括：铰接于所述支撑部的第一倾斜输送部；以及铰接于所述支撑部在所述第一倾斜输送部下方位置的第二倾斜输送部。
3、根据权利要求1所述的平面显示器用基板输送装置，其特征在于：
所述倾斜诱导装置包括杆体，所述杆体可通过致动器移动，并由此与所述倾斜输送部的铰接部相反侧接触或者解除该接触状态。
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