CN1982020A - 模仁及其制作方法 - Google Patents

模仁及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1982020A
CN1982020A CN200510120726.XA CN200510120726A CN1982020A CN 1982020 A CN1982020 A CN 1982020A CN 200510120726 A CN200510120726 A CN 200510120726A CN 1982020 A CN1982020 A CN 1982020A
Authority
CN
China
Prior art keywords
die
layer
carbon
film structure
middle section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN200510120726.XA
Other languages
English (en)
Inventor
陈杰良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN200510120726.XA priority Critical patent/CN1982020A/zh
Priority to US11/309,671 priority patent/US7531246B2/en
Publication of CN1982020A publication Critical patent/CN1982020A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/321—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/343—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one DLC or an amorphous carbon based layer, the layer being doped or not
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/347—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with layers adapted for cutting tools or wear applications
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12576—Boride, carbide or nitride component
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12625—Free carbon containing component

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种模仁，其包括一基底层，该基底层包括一中央区域及环绕该中央区域的边缘区域，该中央区域凸出于该边缘区域，该中央区域及该边缘区域的表面具有一多层膜结构，该多层膜结构具有一位于该模仁表层的类金刚石碳层。本发明还提供该种模仁的制作方法。

Description

模仁及其制作方法
【技术领域】
本发明是关于一种模仁及其制作方法。
【背景技术】
模仁广泛应用于注射成型及模压成型制程，如手机、数码相机、液晶显示器及PS(Playstation)等消费性电子产品的外壳及内部构件，采用注射成型及直接模压成型(Direct Press-molding)技术可直接生产所需的构件，无需打磨、抛光等后续加工步骤，可大大提高生产效率及产量，且产品质量好。但直接模压成型法对于模仁的稳定性、抗热冲击性能、机械强度、表面光滑度等要求非常高。故，注射成型及模压成型技术的发展实际上主要取决于模仁材料及模仁制造技术的进步。对于模压成型的模仁一般有以下要求：
(1)在高温时，具有良好的刚性、耐机械冲击强度及足够的硬度；
(2)在反复及快速加热冷却的热冲击下模仁不产生裂纹及变形；
(3)在高温时模仁成型表面与待加工物件不发生化学反应，不黏附对象；
(4)不发生高温氧化；
(5)加工性能好，易加工成高精度及高表面光洁度的型面；
(6)成本低。
请参阅图1，是常用模仁10的结构示意图，该模仁10仅由一基底构成，其包括一模压面12以及多个侧面14与其相接。该模压面12为高度抛光的光洁表面，与待加工物件直接接触。但是，该模仁10常需连续生产上万片所需产品，经过大量连续生产后，因与待加工物件频繁接触，光滑的模压面12极易磨损，尤其模压面12与侧面14相接形成的边脚处一般磨损最严重。另外，模仁还用于加工腐蚀性物质，经过长时间使用后，该模仁10裸露于外的部分易被腐蚀，从而使得模压面12的表面形状被破坏，模仁精度下降，影响模仁10的使用寿命。
有鉴于此，提供一种耐腐蚀、抗磨损及延长使用寿命的模仁及其制作方法实为必需。
【发明内容】
以下，将以实施例说明一种耐腐蚀、抗磨损及延长使用寿命的模仁及其制作方法。
所述模仁包括一基底层，该基底层包括一中央区域及环绕该中央区域的边缘区域，该中央区域凸出于该边缘区域，该中央区域的表面具有一多层膜结构，该多层膜结构具有一位于该模仁表层的类金刚石碳层。
该边缘区域的表面具有该多层膜结构。
所述模仁的制作方法包括如下步骤：提供一基底层，该基底层具有一中央区域及环绕于该中央区域的边缘区域，该中央区域凸出于该边缘区域；及于该基底层中央区域的表面形成一多层膜结构，该多层膜结构具有一位于该模仁表层的类金刚石碳层。
与现有技术相比，本发明模仁基底层的中央区域表面形成一多层膜结构，位于该多层膜结构表面的类金刚石碳层与待加工物件直接接触，因类金刚石碳含有sp2及sp3混合键结，具有金刚石的高硬度(＞15GPa)、耐强酸强碱、高表面平滑度、摩擦系数小、膜致密度高、电绝缘性佳、高热传导性及抗磨耗性佳等。因只有中央区域参与模压过程，该多层膜结构可提供良好刚性、抗磨损性及耐腐蚀性；而该边缘区域的存在可进一步保护该模仁中央区域的边脚免受磨损。因此，模仁在模具组装与模压过程中不至于损坏模仁表面结构以及磨损边脚，从而所得模仁的使用寿命延长。进一步的，在基底层的边缘区域也形成多层膜结构，从而使整个基底层均处于多层膜的保护中，更加有利于模仁的抗磨损、耐腐蚀，以及延长模仁的使用寿命。
【附图说明】
图1是现有技术模仁结构示意图。
图2是所述模仁结构的第一实施方式示意图。
图3是所述模仁结构的第二实施方式示意图。
【具体实施方式】
请参阅图2，是所述模仁的第一实施方式示意图。该模仁100包括一基底层110，该基底层110包括中央区域102以及环绕于该中央区域102的边缘区域104，该边缘区域104厚度比该中央区域102厚度薄，也就是说，该中央区域102凸出于该边缘区域104。从而，在模造过程中，与待加工物件接触的是模仁的中央区域102，而边缘区域104起到保护中央区域102的作用。
该基底层110的材质为常用模具钢材料，可为铁-碳-铬、铁-碳-铬-钼、铁-碳-铬-硅、铁-碳-铬-镍-钼、铁-碳-铬-镍-钛、铁-碳-铬-钨-锰、铁-碳-铬-钨-钒、铁-碳-铬-钼-钒、铁-碳-铬-钼-钒-硅等合金材质。该中央区域102的表面为镜面抛光，抛光度(Ra)小于等于10纳米。
在该基底层110的中央区域102表面设置有一多层膜结构112，该多层膜结构112包括依次覆于该基底层110表面的一保护层120、一粘合层130、一中间过渡层140以及一类金刚石碳层150，从而形成本实施例所述的模仁100。该类金刚石碳层150位于模仁100的表层，在模造过程中与待加工物件直接接触。
该保护层120的材质为镍磷(NiP)合金，其厚度为1微米～30微米，优选5微米～20微米。该镍磷合金是采用化学镀(Electro-less Plating)方法沉积而成。
该粘合层130的材质为铬，是通过直流磁控溅射(Direct-CurrentMagnetron)或交流磁控溅射(Alternating Current Magnetron)方法溅镀而成。其厚度为50～500纳米，优选100～300纳米。因铬化学反应性差，不易被其它物质腐蚀，因此该粘合层130也同时起到防腐蚀作用。
该中间过渡层140的材质为氮化铬(CrN)，其厚度为100～2000纳米，优选500～1500纳米。它是通过直流磁控反应溅射、交流磁控反应溅射、射频溅镀等方法，在氩气与氮气的混合气氛下形成，其中氮气与氩气的体积比为0.5～1.5。
该类金刚石碳层150是含氢类金刚石碳，厚度为100～3000纳米，优选300～1000纳米。它是采用直流反应溅射、交流反应溅镀、射频反应溅射方法形成。在溅镀过程中，溅镀气体由A和B两类气体组成，其中A类气体为惰性气体，如氩气、氪气等，B类气体为氢气或含氢气体，如氢气、甲烷、乙烷等。例如，该溅镀气体可为氩气与氢气的混合气体、氩气与乙烷的混合气体、氪气与甲烷的混合气体、氪气与乙烷的混合气体、氩气与氢气的混合气体或者氪气与氢气的混合气体等。在该溅镀气体中，B类气体与A类气体的体积比为3％～40％，优选5％～20％。当采用交流反应溅射时，交流频率为20～600kHz，优选40～400kHz。当采用射频反应溅射时，频率为13.56MHz，且射频溅射的靶材(阴极)与相匹配的系统连接，该系统包含一感应器(Inductor)或电容器(Capacitor)，可将输入的射频被调整或优化，从而使反应能量最低。
该模仁100的制作方法为：
首先，提供一模仁基底层110，其具有一凸出的中央区域102以及一环绕该中央区域102的边缘区域104；
其次，在该中央区域102形成所需的多层膜结构112。形成该多层膜结构112的具体步骤为：
在该基底层110的表面形成一材质为镍磷合金的保护层120，它是采用化学镀方法沉积而成；
再在该保护层120的表面形成一材质为铬的粘合层130，它是采用直流磁控溅射或交流溅射方法形成；
然后，在该粘合层130的表面形成一材质为氮化铬(CrN)的中间过渡层140，它是采用直流磁控溅射、交流反应溅射、射频反应溅镀方法形成；
最后，在该中间过渡层140的表面形成一类金刚石碳层150。
优选的，为获得均匀的各膜层厚度，在形成该多层膜结构112的各膜层过程中可将基板以转速为每分钟10～200转旋转，优选为每分钟20～80转。
为获得如图2所示的模仁，在溅镀过程中，优选采用一与边缘区域104相配合的遮罩将该边缘区域104预先遮起来，然后再形成各膜层。
形成的模仁100中，该类金刚石碳层150与待加工物件直接接触，其具有优良的物理及化学性质，包括：高硬度(＞15GPa)、耐强酸强碱、高表面平滑度、摩擦系数小、膜致密度高、电绝缘性佳、高热传导性及抗磨耗性佳等，因而其可提供良好刚性、抗磨损性及耐冲击强度，使模仁100在模压过程中不至于损坏表面结构。
请参阅图3，是所述模仁的第二实施方式示意图。该模仁200具有一基底层210，该基底层210具有一凸出的中间区域202以及一环绕于该中间区域202周围的边缘区域204。该模仁200的表面为镜面抛光，抛光度(Ra)小于等于10纳米。
该中间区域202以及该边缘区域204的表面均具有一多层膜结构212。该多层膜结构212包括依次覆于该基底层210表面的一保护层220、一粘合层230、一中间过渡层240以及一类金刚石碳层250，从而形成本实施例所述的模仁200。该类金刚石碳层250位于模仁200的表层，在模造过程中与待加工物件直接接触。该多层膜结构212的各膜层材质与第一实施方式相同。其制作方法为：
首先，提供一基底层210；
然后，在该基底层210的中央区域202以及边缘区域204表面同时形成该多层膜结构212的各膜层，各层膜可同时沉积，如首先在基底层210上形成一保护层220，然后再于该保护层220上形成一粘合层230，......以此类推，最后形成整个多层膜结构212。
另外，该模仁还可采用下列方法制作而成：
首先，提供一基底层210；
然后，用一与边缘区域204形状相配合的第一遮罩将该边缘区域204遮起来，然后再于该中央区域202表面形成一多层膜结构212；
最后，再用一与中央区域202形状相配合的第二遮罩将该中央区域遮起来，然后再于该边缘区域204表面形成一多层膜结构212。
或者，该制作方法还可为：先将中央区域202遮起来，在边缘区域204形成多层膜结构212，然后再将边缘区域204遮起来，在中央区域202形成多层膜结构212。
与现有技术相比，本发明模仁基底层的中央区域表面形成一多层膜结构，位于该多层膜结构表面的类金刚石碳层与待加工物件直接接触，因类金刚石碳含有sp2及sp3混合键结，具有金刚石的高硬度(＞15GPa)、耐强酸强碱、高表面平滑度、摩擦系数小、膜致密度高、电绝缘性佳、高热传导性及抗磨耗性佳等。因只有中央区域参与模压过程，该多层膜结构可提供良好刚性、抗磨损性及耐腐蚀性；而该边缘区域的存在可进一步保护该模仁中央区域的边脚免受磨损。因此，模仁在模具组装与模压过程中不至于损坏模仁表面结构以及磨损边脚，从而所得模仁的使用寿命延长。
进一步的，在基底层的边缘区域也形成多层膜结构，从而使整个基底层均处于多层膜的保护中，更加有利于模仁的抗磨损、耐腐蚀，以及延长模仁的使用寿命。
本实施方式的模仁及其制作方法可适用于所有模压成型或注射成型的物件的生产。

Claims (20)

1.一种模仁，其包括一基底层，该基底层包括一中央区域及环绕该中央区域的边缘区域，该中央区域凸出于该边缘区域，该中央区域的表面具有一多层膜结构，该多层膜结构具有一位于该模仁表层的类金刚石碳层。
2.如权利要求1所述的模仁，其特征在于所述基底层的材质选自合金铁-碳-铬、铁-碳-铬-钼、铁-碳-铬-硅、铁-碳-铬-镍-钼、铁-碳-铬-镍-钛、铁-碳-铬-钨-锰、铁-碳-铬-钨-钒、铁-碳-铬-钼-钒和铁-碳-铬-钼-钒-硅之一。
3.如权利要求1所述的模仁，其特征在于所述边缘区域的表面具有该多层膜结构。
4.如权利要求1或3所述的模仁，其特征在于所述类金刚石碳层的厚度为100～3000纳米。
5.如权利要求1或3所述的模仁，其中由该基底层至该类金刚石碳层，该多层膜结构依次包括一保护层、一粘合层及一中间过渡层。
6.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述保护层的材质为镍磷合金。
7.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述保护层的厚度为1微米～30微米。
8.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述粘合层的材质为铬。
9.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述粘合层的厚度为50～500纳米。
10.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述中间过渡层的材质为氮化铬。
11.如权利要求5所述的模仁，其特征在于所述中间过渡层的厚度为100～2000纳米。
12.一种模仁的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基底层，该基底层具有一中央区域及环绕于该中央区域的边缘区域，该中央区域凸出于该边缘区域；及
于该基底层中央区域的表面形成一多层膜结构，该多层膜结构具有一位于该模仁表层的类金刚石碳层。
13.如权利要求12所述模仁的制作方法，其特征在于所述边缘区域形成该多层膜结构。
14.如权利要求13所述模仁的制作方法，其特征在于所述边缘区域以及该中央区域的多层膜结构是同时形成。
15.如权利要求13所述模仁的制作方法，其特征在于所述边缘区域以及该中央区域的多层膜结构是预先采用一与两区域中任一区域相配合的遮罩将该对应区域遮起来，再于另一区域形成该多层膜结构，然后采用相同方法形成剩余区域表面的多层膜结构。
16.如权利要求13所述模仁的制作方法，其特征在于所述类金刚石碳层是采用直流反应溅射、交流反应溅射或射频反应溅射方法形成。
17.如权利要求12或13所述模仁的制作方法，其中于该基底层至该类金刚石碳层之间依次形成一保护层、一粘合层及一中间过渡层。
18.如权利要求17所述模仁的制作方法，其特征在于所述保护层是采用化学镀方法形成。
19.如权利要求17所述模仁的制作方法，其特征在于所述粘合层是采用直流磁控溅射或交流磁控溅射方法形成。
20.如权利要求17所述模仁的制作方法，其特征在于所述中间过渡层是采用直流磁控溅射、交流反应溅射、射频反应溅镀方法，在氩气与氮气的气氛下形成。
CN200510120726.XA 2005-12-16 2005-12-16 模仁及其制作方法 Pending CN1982020A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200510120726.XA CN1982020A (zh) 2005-12-16 2005-12-16 模仁及其制作方法
US11/309,671 US7531246B2 (en) 2005-12-16 2006-09-08 Core insert and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200510120726.XA CN1982020A (zh) 2005-12-16 2005-12-16 模仁及其制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1982020A true CN1982020A (zh) 2007-06-20

Family

ID=38165011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200510120726.XA Pending CN1982020A (zh) 2005-12-16 2005-12-16 模仁及其制作方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7531246B2 (zh)
CN (1) CN1982020A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107532292A (zh) * 2015-05-11 2018-01-02 舍弗勒技术股份两合公司 具有中间涂层和碳涂层的基材

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI372111B (en) * 2007-12-28 2012-09-11 Ind Tech Res Inst Structural material of diamond like carbon complex films and method of manufacturing the same
CN101900936A (zh) * 2009-05-26 2010-12-01 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 压印模具及其制作方法
WO2012067924A1 (en) * 2010-11-18 2012-05-24 Corning Incorporated Enhanced, protected silver coatings on aluminum for optical mirror and method of making same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5744173A (en) * 1996-02-27 1998-04-28 Aeroquip Corporation Mold inserts for injection moldings
US6197438B1 (en) * 1998-03-11 2001-03-06 Roger Faulkner Foodware with ceramic food contacting surface
US6749787B2 (en) * 2001-02-28 2004-06-15 Xerox Corporation Composite coating for mold insert and method for making a coated mold insert
CN1986213B (zh) * 2005-12-22 2010-12-08 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 一种磁性耐磨镀膜的制作方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107532292A (zh) * 2015-05-11 2018-01-02 舍弗勒技术股份两合公司 具有中间涂层和碳涂层的基材
US10927452B2 (en) 2015-05-11 2021-02-23 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Substrate having an intermediate coating and a carbon coating
CN107532292B (zh) * 2015-05-11 2022-03-25 舍弗勒技术股份两合公司 具有中间涂层和碳涂层的基材

Also Published As

Publication number Publication date
US7531246B2 (en) 2009-05-12
US20070141383A1 (en) 2007-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100250946B1 (ko) 프레스성형용금형과그제조방법및이것을이용한유리제품의제조방법
US7290751B2 (en) Composite mold and method for manufacturing the same
WO2016171273A1 (ja) 被覆金型およびその製造方法
CN109594042B (zh) 用于注塑模具的防粘附硬质涂层及其制备方法
WO2007020769A1 (ja) 光学素子成形用金型およびその製造方法
US20120107536A1 (en) Amorphous alloy housing and method for making same
CN1982020A (zh) 模仁及其制作方法
CN111825311A (zh) 光学玻璃阵列透镜微纳热压成型工艺
CN101254515B (zh) 冲压模具及冲压模具的制造方法
JP2008168611A (ja) 立体模様と視覚効果のあるプラスチック部材及び製作方法
CN100482379C (zh) 一种压铸模仁及其制备方法
JP4650113B2 (ja) 積層構造体、ドナー基板、および積層構造体の製造方法
JP2008093686A (ja) マグネシウム合金成形用金型、その製造方法、及びマグネシウム合金の成形方法
US6314763B1 (en) Method of manufacturing a 2-5 inch diameter glass substrate for a magnetic disk
JP4767614B2 (ja) 粗さ標準片及びその製造方法
CN110078536B (zh) 一种用于玻璃热弯成型的模具及其制造方法
CN102127733A (zh) 温热锻造模具及其制造方法
JPH11157852A (ja) ガラス光学素子成形用金型の製造方法及びガラス光学素子の成形方法
US20070141857A1 (en) Target designs and related methods for enhanced cooling and reduced deflection and deformation
CN219861046U (zh) 一种可直接模压红外硫系玻璃非球面透镜衍射面的模具
JPH10231129A (ja) プレス成形用金型及びこの金型によるガラス成形品
CN101164931B (zh) 模造玻璃模仁及其制造方法
Zhang et al. The manufacturing of an injection molding tool with a precision natural leather pattern surface by the plasma spraying of stainless steel
JPH0356601A (ja) 金属粉末射出成形用金型
JPH03114709A (ja) デイスク用金型

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20070620