CN1970167A - 糊剂涂敷装置 - Google Patents
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Abstract
在一个框架上备有若干个涂敷头的糊剂涂敷机中,在更换涂敷头部、尤其是更换包含喷出糊剂的喷嘴的喷嘴收纳筒时,需要能简单地修正喷嘴的位置偏离。本发明的涂敷装置中,与若干个喷嘴的糊剂喷出口相向地、将基板载置在台上,一边使收纳在糊剂收纳筒内的糊剂从上述喷出口喷出到上述基板上,一边使上述喷嘴与该基板的相对位置关系变化,在该基板上描绘出所需形状的糊剂图形。在一个框架上沿X方向备有各喷嘴,备有调节各喷嘴间的X轴方向间隔的机构、调节各喷嘴间的Y轴方向相对位置的机构、调节各喷嘴间的Z方向相对位置的机构。
Description
技术领域
本发明涉及在平板制造工序中,往基板上涂敷糊剂或滴下液晶的涂敷装置。
背景技术
已往的技术中,如日本特开2002-346452号公报所示,存在调节喷嘴的X方向间隔的技术。或者如日本特许第2740588号公报所示,存在调节喷嘴的Z方向位置的技术。
已往的技术中,Y方向的喷嘴间的位置调节,是以在装置的安装时进行调节为前提的。但是,当今,由于描绘到基板上的糊剂图形的多样化、糊剂种类的多样化、或者为了提高糊剂补充时的作业性,需要更换喷嘴,在每次更换喷嘴时,必须调节各喷嘴间的X方向、Y方向、Z方向的喷嘴位置。另外,本发明的技术领域内,随着玻璃基板的大型化,每一台涂敷装置上搭载的喷嘴数增加,所以,喷嘴的位置调节需要更多的时间。另外,随着玻璃基板的大型化,操作者的操作位置与喷嘴间的距离加长,用手工作业进行喷嘴的位置调节是很困难的。
发明内容
本发明的目的是提供涂敷装置,该涂敷装置中,在一个框架上设有若干个喷嘴,能高精度且简单地进行各喷嘴间的、相对于框架长度方向的直角方向的位置整合。
为了实现上述目的,本发明中,设有能对各喷嘴独立地调节X、Y、Z各方向的移动调节机构、和控制它们的控制机构。上述X、Y、Z方向的移动调节机构以一个喷嘴的位置为基准,计测其它喷嘴的X、Y、Z方向的位置偏移量,基于该计测结果,使各喷嘴在X、Y、Z方向独立地移动。
根据上述构造,可以在短时间内,进行已往很难做到的、各喷嘴间的位置调节。
附图说明
图1是本发明糊剂涂敷机一实施例的概略立体图。
图2是上述实施例中的Y方向微少移动机构的概略图。
图3是上述实施例中的控制装置一具体例的框图。
图4是Y方向微少移动机构的、与图2不同实施例的图。
具体实施方式
本发明,在备有若干个喷嘴的糊剂涂敷装置中,能有效地进行喷嘴的初期位置调节。图1是表示本发明的糊剂涂敷装置一实施例的概略立体图。
图1中,涂敷头,是把喷嘴1a、1b安装在糊剂收纳筒(或注射器)2a、2b上而构成的。3a、3b是光学式距离计、4a、4b是Z轴台、5是X轴台、6是Y轴台、7是被描绘糊剂图形的基板、8是θ轴台、9是台架部、10是框架、11a、11b是图像识别照相机、12a、12b是喷嘴支承具、13是吸附固定着基板7的吸附台、14a是主控制装置、14b是副控制装置、15是图像处理装置、16是外部存储装置、17是图像监视器、18是表示两控制装置14a、14b的控制处理状况的显示器、19是键盘、20a、20b分别是图像识别照相机11a、11b的镜筒、21a和21c~21e是伺服马达、22是照相机支承部。另外,为了避免图面的烦杂,Z轴台4a、4b相对于框架10的X方向移动机构图示省略。
该图中,X轴台5固定在台架部9上,在该X轴台5上,搭载着可在X轴方向移动的Y轴台6。Y轴台6借助伺服马达21a在X轴方向移动。在该Y轴台6上,搭载着可在Y轴方向移动并且可转动的θ轴台8。通过驱动伺服马达21b,θ轴台8可在Y轴方向移动。在该θ轴台8上,固定着吸附台13。另外,θ轴台8借助设在Y轴台6上的伺服马达21e可以旋转θ角。作为涂敷对象物的基板7(玻璃基板),其各边与X、Y轴方向平行地被吸附固定在该吸附台13上。即,在吸附台13上,设有与供给负压的负压源连接着的若干个吸附孔,借助供给到吸附孔的负压,可以吸引吸附基板。
在台架部9上,跨越上述XYθ轴台地设有框架10,在该框架10上,设有可在X轴方向移动的若干个涂敷头。
在台架部9的下侧,设有用信号线连接着的主控制装置14a、副控制装置14b、图像处理装置15、外部存储装置16。另外,图像监视装置17和显示控制处理状况等的显示器17与主控制装置14a连接,设置在容易看见的位置。另外,输入主控制装置14a或副控制装置14b的控制条件等用的键盘等构成的输入机构19,与主控制装置14a连接。
图2表示Z轴台部的概略构造。另外,该图表示了Z轴台4b部,Z轴台4a部也是同样的构造。
框架10,设有可在X轴方向移动的Z轴台支承部35b。在框架10上,图未示的线性马达沿长度方向(Y轴方向)设置着,Z轴台支承部35b借助该线性马达移动。在该Z轴台支承部35b上,设有若干个滑动导轨31,Z轴台4b能沿着滑动导轨31在Y轴方向移动地被支承着。另外,用设在Z轴台支承部35b上的驱动用直动式马达30,使Z轴台4b在Y轴方向移动。在Z轴台4b的可动部32上,安装着糊剂收纳筒2b和光学式距离传感器3b,在糊剂收纳筒2b的下端,通过喷嘴支承具设置着喷嘴1b。另外,Z轴台4b的可动部32,借助伺服马达21d可在Z轴方向移动,可在设在Z轴台4b上的直线轨道(图未示)上滑动。
如前所述,设置由滑动导轨31和直动式马达30构成的、涂敷头的Y轴方向调节用驱动机构(Y方向微少移动机构),从而可以自动地调节若干个涂敷头间的位置。
图3是表示主控制装置和副控制装置的构造的框图。本图中,主要由主控制装置14a进行设在台架部9上的各台的驱动控制和图像处理,副控制装置14b进行Z轴台的各移动控制。
在微机14a1上,连接着马达控制器14a3和外部接口14a2,在该马达控制器上,连接着X、Y、θ各台的各轴驱动器14a4、14a5、14a6,这样,构成了主控制装置14a。另外,在外部接口14a2上,连接着设在主控制装置14a外面的键盘19、显示器18、外部存储装置16、图像处理装置15、以及设在副控制装置14b上的外部接口14b2。另外,图像处理装置15上,连接着CCD照相机11a、11b、和图像监视器17。在X轴驱动器14a4上,连接着设在X轴台5上的伺服马达21a。在Y轴驱动器14a5上,连接着设在Y轴台6上的伺服马达21b,在θ轴驱动器14a6上,连接着使θ轴台8进行θ旋转的伺服马达21e。
副控制装置14b是与主控制装置14a同样的构造,在微机14b1上,连接着外部接口14b2和马达控制器14b3,在该马达控制器14b3上,连接着使Z轴台4a、4b在Z轴方向移动的Z轴驱动器14b4、14b5、和Y-Y轴驱动器14b6。另外,本图中,Y-Y轴驱动器是一个,但也可以与Z轴驱动器同样地,按照Z轴台的数目设置。另外,用于使Z轴台在X轴方向移动的马达驱动器(图未示),也与Z轴台的数目一致。该副控制装置14b的外部接口14b2上,连接着光学式距离计3a、3b,在Z轴驱动器14b4上连接着伺服马达21c,在Z轴驱动器14b5上连接着伺服马达21d,在Y-Y轴驱动器上连接着伺服马达30。
搭载在吸附台13上的基板7,借助主控制装置14a的控制驱动,可在X、Y各轴方向移动。即,当伺服马达21a被主控制装置14a驱动时,Y轴台6在X轴方向移动,基板7向X轴方向移动。当图3所示的伺服马达21b被主控制装置14a驱动时,θ轴台8在Y轴方向移动,基板7向Y轴方向移动。因此,主控制装置14a分别使Y轴台6和θ轴台8移动任意距离时,基板7在与台架部9平行的面内,在任意方向移动任意距离。另外,θ轴台8借助伺服马达21e,能以其中心位置为中心,在θ方向转动任意量。
另外,在台架部9上,设置着支承Z轴台支承部35的框架10。在Z轴台支承部35上,安装着可在Z轴方向(上下方向)移动的Z轴台4a、4b。设在一方Z轴台4a上的可动部32a上,载置着喷嘴1a、糊剂收纳筒2a、光学式距离计3a。在另一方Z轴台4b的可动部32b上,载置着喷嘴1b、糊剂收纳筒2b、光学式距离计3b。Z轴台4a、4b的X、Y、Z轴方向的驱动控制,是由副控制装置14b进行的。即,伺服马达21c、21d被副控制装置14b驱动时,Z轴台4a、4b在Z轴方向移动,随之,喷嘴1a、1b、糊剂收纳筒2a、2b、光学式距离计3a、3b在Z轴方向移动。另外,喷嘴1a、1b分别设在糊剂收纳筒2a、2b的前端,喷嘴1a、1b和糊剂收纳筒2a、2b的下端隔着备有连接部的喷嘴支承具12a、12b稍稍离开。
光学式距离计3a、3b分别用非接触三角测定法,测定喷嘴1a、1b的前端(下端)即糊剂喷出口与基板7的上面之间的距离。
Z轴台4a固定在Z轴台支承部35上,Z轴台4b,如图2所示,通过若干个滑动导轨31,借助直动式马达30,可相对于Z轴台支承部35在Y轴方向移动。另外,Z轴台支承部35借助伺服马达可在框架10上沿X轴方向移动。
下面,说明喷嘴的位置调节动作。基板7和喷嘴1a及1b的Z方向距离,预先调节为相同,其详细说明从略。
首先,驱动XYθ轴台,使搭载在吸附台13上的基板7移动到预先规定的位置。接着,驱动XYθ轴台,一边使基板7移动,一边用喷嘴1a、喷嘴1b在基板7上呈十字形地涂敷糊剂。然后,将基板7移动到照相机20a的位置,用照相机20a读取各十字交点的坐标。判断喷嘴1a和喷嘴1b的坐标值是否成为预先决定的数值。如果是预先决定的数值,则不需要调节。如果不是预先决定的数值,则要实施喷嘴间的调节。这时,首先,相对于喷嘴1a涂敷的糊剂所描绘的十字交点的X坐标,把喷嘴1b涂敷的糊剂所描绘的十字交点的X坐标调节成为预先决定的数值。即,用图未示的X方向调节机构(线性马达),使带有喷嘴1b的Z轴台4b移动,调节喷嘴1b的X方向位置。当然,已往的涂敷装置中,也能进行该X轴方向的调节。
接着,以喷嘴1a涂敷的糊剂所描绘的十字交点的Y坐标为基准,计算出喷嘴1b涂敷的糊剂所描绘的十字交点的Y坐标相对于该基准的差。然后,借助安装在Z轴台支承部35上的直动式马达30,使Z轴台4b沿Y方向移动相当于该差的距离,把Y坐标纳入预定的误差内,这样进行调节。这样,喷嘴1a和喷嘴1b的X、Y轴方向的相对位置的调节完成。
该调节完成后,框架10上的各涂敷头的X、Y方向作为固定,驱动XYθ轴台,使基板移动到涂敷开始位置,对各糊剂收纳筒2a、2b施加加压力,使糊剂从喷嘴1a、1b中喷出。同时,驱动XYθ轴台,使基板7移动,可以同时地描绘若干个糊剂图像。另外,在该描绘中,用光学式距离计3a、3b对各喷嘴测定基板与喷嘴的喷出口之间的距离,根据该结果,驱动伺服马达21c、21d,将各喷嘴与基板间的距离保持为一定。
这里,说明了喷嘴为2个时的例子,但是,即使设有若干个喷嘴,也能以喷嘴1a为基准,对各喷嘴反复进行上述操作,进行各喷嘴的X方向、Y方向的位置调节。
另外,也可以在设有Z轴台的框架部上,设置基准位置标记,用观察该基准位置和喷嘴喷出口位置的移动用照相机进行观测,求出相对于基准位置的偏离,进行修正。另外,也可以以一个喷嘴的喷出口为基准,观测另一个喷嘴的喷出口,从该观测结果,求出偏离,进行位置的修正。
如上所述,以一个喷嘴为基准,可自动地调节各喷嘴的Y轴方向的位置偏离,采用若干个涂敷头,可同时高精度地进行若干个糊剂涂敷。
图4表示图2所示的Z轴台部的另一实施例。
图4中,为了使Z轴台部4b在Y轴方向移动,不采用图2中的由若干个滑动导轨31和直动式马达30构成的Y轴方向调节用驱动机构(Y方向微少移动机构),而是采用由脉冲马达41和偏心凸轮40构成的Y轴方向调节用驱动机构(Y方向微少移动机构)。另外,该图中,虽然未示出光学式距离计3b,但实际上是设置着的,可以计测从喷嘴出射口到基板面的距离。
本构造中,在Z轴台支承部35b与Z轴台4b之间设置了线性轴承,使设在Z轴台支承部35b上的脉冲马达41旋转时,偏心凸轮40就旋转,Z轴台4b可在Y轴方向移动。
涂敷头的位置调节方法与上述实施例中说明的方法相同,其说明从略。
根据这样的构造,可用上述的方法,简单地修正喷嘴部的Y轴方向的位置偏离。
另外,作为Y轴方向调节用的驱动机构,也可以采用线性马达使Z轴台移动的构造。
Claims (5)
1.糊剂涂敷装置,与设在若干个涂敷头上的喷嘴的糊剂喷出口相向地将基板载置在台上,一边使收纳在糊剂收纳筒内的糊剂从上述喷出口喷出到上述基板上,一边使上述喷嘴与上述基板的相对位置关系变化,在上述基板上描绘出所需形状的糊剂图形;其特征在于,
在框架上沿X轴方向备有上述各喷嘴,备有调节各喷嘴间的X轴方向间隔的机构、调节各喷嘴间的Y轴方向相对位置的机构、调节各喷嘴间的Z方向相对位置的机构。
2.如权利要求1所述的糊剂涂敷装置,其特征在于,更换上述若干个涂敷头中的至少一个时,用各涂敷头描绘出对准位置用的标记,从该描绘的标记位置求出喷嘴的位置偏离量,调节各喷嘴的位置。
3.如权利要求1所述的糊剂涂敷装置,其特征在于,在上述框架上,设有使Z轴台支承部在X轴方向移动的线性马达,为了使备有上述涂敷头的Z轴台在Y轴方向移动,在上述Z轴台支承部上,设有由若干个滑动导轨和直动式马达构成的Y轴方向调节用的驱动机构。
4.如权利要求1所述的糊剂涂敷装置,其特征在于,在上述框架上,设有使Z轴台支承部在X轴方向移动的线性马达,为了使备有上述涂敷头的Z轴台在Y轴方向移动,在上述Z轴台支承部上,设有由备有脉冲马达的偏心凸轮构成的Y轴方向调节用的驱动机构。
5.糊剂涂敷装置的涂敷头位置调节方法,在该糊剂涂敷装置中,与设在若干个涂敷头上的喷嘴的糊剂喷出口相向地将基板载置在台上,一边使收纳在糊剂收纳筒内的糊剂从上述喷出口喷出到上述基板上,一边使上述喷嘴与上述基板的相对位置关系变化,在上述基板上描绘出所需形状的糊剂图形;其特征在于,
从搭载在框架上的各涂敷头将糊剂涂敷成十字形,求出各涂敷的糊剂的十字交点坐标,以一个涂敷头描绘的交点坐标为基准,如果没有达到预先决定的值时,用X轴方向调节机构和Y轴方向用的调节机构,调节各喷嘴间的相对位置。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |