CN1866099A - 显示屏板、其制造方法及液晶显示器 - Google Patents

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Abstract

一种具有透射区域和反射区域的LCD，其包括：第一基板，在所述第一基板上形成的栅极线和数据线，连接至所述栅极线和数据线的TFT，连接至所述TFT并包括透明电极和反射电极的像素电极，面对所述第一基板的第二基板，在所述第二基板上形成的布置在所述反射区域处的多个凸形凸起，以及在所述凸起和所述第二基板上形成的滤色器。

Description

显示屏板、其制造方法及液晶显示器
技术领域
本发明总体上涉及液晶显示器(LCD)，更具体而言，涉及用于透射反射型LCD的显示屏板，及其制造方法。
背景技术
通常，LCD包括一对均具有在其内表面形成的电极的屏板，以及插入到所述屏板之间的介电各向异性液晶(LC)层。将两个偏振器分别附着于所述屏板的外表面。在LCD中，由电极产生的电场的强度变化改变LC层中的LC分子的取向，LC分子的取向决定了穿过LC层的光的偏振。这时，偏振器透过或阻挡所述偏振光，以产生白色(或明亮)或黑色(或暗淡)区域。因此，实现了预期的图像显示。
LCD为非发射显示器，不产生任何形式的光。因此，LCD利用独立提供的背光装置的灯发出的人造光或环境光作为光源。
根据用于图像显示的光源的种类，将LCD划分为三种类型：透射型、反射型和透射反射(透射-反射)型。在透射型LCD中，采用背光从后面照射像素。在反射型LCD中，采用来自周围环境的入射光从正面照射像素。透射反射型LCD结合了透射型和反射型的特征。在中等光线条件下，例如室内环境，或者在彻底黑暗的条件下，LCD以透射模式工作，而在非常亮的条件下，例如室外环境下，它们以反射模式工作。通常将反射型和透射反射型LCD用于中小型显示装置。
在透射反射型LCD中，具有透射区域和反射区域。在反射区域内，外部光通过反射两次穿过滤色器，在透射区域内，在LCD屏板组件后面提供的背光发出的光只穿过滤色器一次。在这些特征的影响下，透射区域和反射区域之间可能产生色调的差异。
有两种常用的方法解决上述问题。第一种方法是形成比反射区域的滤色器厚的透射区域的滤色器。第二种方法是在反射区域的滤色器内形成光孔(light holes)。
但是，后一种方法具有一些缺点。在这种方法中，在形成孔之后，在所有滤色器上涂覆覆盖层，以补偿带有孔的滤色器和没有孔的滤色器之间的台阶差异，由此形成平面化的表面。但是，在这种情况下，从技术的角度来讲，理想的平面化是不可能的。因此，即使在所有滤色器上形成了覆盖层，位于带有孔的反射区域处的单元缝隙(cell gap)和位于没有孔的透射区域的单元缝隙之间也互不相同。而且，公共电极在孔的附近下凹。因此，LC分子的取向变差，而且，那些分子可能无法正常工作。
发明内容
本发明降低了透射区域和反射区域之间的色调差异。
根据本发明的一个方面，提供了一种用于透射反射型LCD的具有透射区域和反射区域的显示屏板，其包括基板，在所述基板上形成的并且布置在所述反射区域处的多个凸形凸起，以及在所述凸起和基板上形成的滤色器。
在这一结构中，所述凸起包括透明有机材料。每一凸起可以具有10μm到15μm的直径和1μm到2μm的高度，所述凸起可以具有相同尺寸或不同尺寸。
所述滤色器可以具有平坦的顶面。
所述显示屏板可以进一步包括在所述基板上形成的光阻挡部件。
所述显示屏板可以进一步包括在所述滤色器上形成的公共电极。
所述显示屏板可以进一步包括在所述滤色器和所述公共电极之间形成的覆层。
根据本发明的另一个方面，提供了一种具有透射区域和反射区域的LCD，其包括：第一基板，在所述第一基板上形成的栅极线和数据线，连接至所述栅极线和数据线的薄膜晶体管(TFT)，连接至所述TFT并包括透明电极和反射电极的像素电极，与所述第一基板相对的第二基板，在所述第二基板上形成的布置在所述反射区域处的多个凸形凸起，以及在所述凸起和所述第二基板上形成的滤色器。
在这一结构中，所述凸起包括透明有机材料。每一凸起可以具有10μm到15μm的直径和1μm到2μm的高度，所述凸起可以具有相同尺寸或不同尺寸。
所述滤色器可以具有平坦的顶面。
在所述透射区域和反射区域处形成透明电极，在所述反射区域处形成反射电极。在所述透明电极上形成反射电极。
所述LCD可以进一步包括在所述TFT和所述像素电极之间形成的上部钝化层和下部钝化层。所述上部钝化层可以包括暴露了下部钝化层的切口，并且其可以具有不平坦的顶面。
所述LCD可以进一步包括在所述第二基板上形成的光阻挡部件。
所述LCD可以进一步包括在所述滤色器上形成的公共电极。
所述LCD可以进一步包括在所述滤色器和所述公共电极之间形成的覆层。
根据本发明的另一个方面，提供了一种制造LCD的显示屏板的方法，其包括的步骤有：提供基板，在所述基板上形成凸形凸起，以及在所述凸形凸起和所述基板上形成滤色器。
形成凸形凸起的步骤包括：在所述基板之上形成光敏有机层，通过掩模有选择地对基板曝光，对基板显影和焙烤基板。
在形成凸形凸起的步骤中采用的掩模可以是狭缝型掩模。
每一凸起可以具有10μm到15μm的直径和1μm到2μm的高度，所述凸起可以具有相同尺寸或不同尺寸。
所述滤色器可以具有平坦的顶面。
在这一方法中可以进一步包括在基板上形成光阻挡部件的步骤。
在这一方法中可以进一步包括在滤色器上形成公共电极的步骤。
在这一方法中可以进一步包括在所述滤色器和公共电极之间形成覆层的步骤。
附图说明
通过参照附图，对本发明的优选实施例进行更加详细的说明，本发明的上述目的及其他优势将变得更加明显。
图1是根据本发明的实施例的LCD的示意性横截面图。
图2式根据本发明的实施例的LCD的布局图。
图3是沿图2的III-III’获得的横截面图。
图4是沿图2的IV-IV’获得的横截面图。
图5A示出了根据本发明的实施例的公共电极屏板的垂直配置。
图5B示出了沿图5A的H1-H1，H2-H2和H3-H3的三个水平横截面。
图6A到6D是说明制造根据本发明实施例的公共电极屏板的步骤的横截面图。
图7示出了本发明的实施例中采用的狭缝型(slit-type)掩模。
具体实施方式
在下文中，将参照附图对本发明进行更加详细的说明，在附图中将示出本发明的优选实施例。但是，可以以不同的形式体现本发明，而不应推断本发明仅限于文中所述实施例。相反地，提供这些实施例的目的在于对本发明予以更加彻底、全面的公布，并向本领域技术人员充分传达本发明的范围。
在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜和区域的厚度。类似的数字自始至终指代类似的元件。应当理解的是：在称诸如层、膜、区域或基板的元件位于另一元件上时，其可能直接位于另一元件上，也可能存在插入元件。
在下文中，将参照附图对根据本发明的优选实施例的LCD予以详细说明。
图1是说明根据本发明的实施例的LCD的横截面图。
参照图1，这一实施例的LCD包括彼此相对的TFT阵列屏板100和公共电极屏板200，LC层3插入到二者之间。
TFT阵列屏板100包括绝缘基板110、在绝缘基板110上形成的开关元件(未示出)和钝化层180，以及在钝化层180上形成的像素电极190。每一像素电极190由透明电极192和覆盖部分透明电极192的反射电极194构成。
公共电极屏板200包括绝缘基板210和滤色器230、覆层250和在基板210上形成的公共电极270。
在透射反射型LCD中，具有由透明电极192界定的透射区域TA和由反射电极194界定的反射区域RA。更具体而言，透射区域TA是布置在位于TFT阵列屏板100、公共电极屏板200和LC层3中的透明电极192的暴露部分之上和之下的一段部分，反射区域RA是布置在反射电极194之上和之下的一段部分。在透射区域TA中，从LCD后面发出的内部光依次穿过TFT屏板100和LC层3，之后从公共电极屏板200出射，由此起到显示作用。在反射区域RA中，从LCD的正面提供的外部光依次穿过公共电极屏板200和LC层3，之后由TFT屏板100的反射电极194反射。在反射之后，外部光再次穿过LC层3，之后从公共电极屏板200出射，由此起到显示作用。
在每一反射区域RA中，在下部基板210和滤色器230之间形成一组凸状凸起(convex-shaped protrusion)241。凸起241的尺寸可以彼此相等，也可以彼此不同。凸起241具有非常小的直径。所形成的每一凸起241类似于半球，其高度在中央处具有最大值，并随着高度测量点从中央向边缘移动而降低，其平面尺寸在底面处最大，并随着面积测量点从底面移动而减小至位于顶部中央的一点。
凸起241的最大高度远小于直接覆盖凸起241的滤色器230的厚度。由于这一原因，可以在不考虑凸起241的情况下使滤色器230平面化，由此在显示器的整个区域上均匀地形成单元缝隙。此外，由于在反射区域RA处形成的凸起241的作用，所形成的布置在反射区域RA处的滤色器230比布置在透射区域TA处的滤色器230更薄。也就是说，布置在反射区域RA处的滤色器230的平均厚度变得比布置在透射区域TA处的滤色器230的平均厚度小。因此，采用这种方式形成的滤色器230能够降低透射区域TA和反射区域RA之间产生的色调差异。
在下文中，将参照图2到图4对上述LCD的基本结构进行更为详细的说明。
图2是根据本发明的实施例的LCD的布局图，图3和图4分别是沿图2的III-III′和IV-IV′得到的横截面图。
参照图2到图4，LCD包括彼此相对的TFT阵列屏板100和公共电极屏板200，以及插入到二者之间的LC层3。
按照下述说明配置所述TFT阵列屏板100。
在由透明玻璃或塑料制成的绝缘基板110上形成多个栅极线121和多个存储电极线131。
用于传输栅极信号的栅极线121基本上沿水平方向延伸。每一栅极线121包括多个向上突出的栅电极124，以及具有较大尺寸的末端129，以连接不同的层或外部装置。可以将用于产生栅极信号的栅极驱动器(未示出)安装在附着于基板110的软性印刷电路(未示出)上或直接安装在基板110上。否则，可以将栅极驱动器集成到基板110中。在这种情况下，将栅极线121直接连接到栅极驱动器。
用于接收预定电压的存储电极线131基本上平行于栅极线121延伸，并且具有多个存储电极133。每一存储电极线131布置在两个相邻的栅极线之间，具体来讲，靠近所述两个栅极线中位置较低的栅极线。每一存储电极线131包括多个向上和向下突出的扩大部分137。在其他实施例中可以改变存储电极线131外形和布局。
栅极线121和存储电极线131优选由下述材料构成：诸如Al或Al合金的含有铝(Al)的金属、诸如Ag或Ag合金的含有银(Ag)的金属、诸如Au或Au合金的含有金(Au)的金属、诸如Cu或Cu合金的含有铜(Cu)的金属、诸如Mo和Mo合金的含有钼(Mo)的金属、铬(Cr)、钛(Ti)或钽(Ta)。可以将栅极线121和存储电极线131配置成多层结构，其中，包括具有不同物理特性的至少两个导电层(未示出)。在这样的结构当中，所述两个导电层中的一个由低电阻率金属构成，例如含有Al的金属、含有Ag的金属、含有Cu的金属等，以降低信号时延或栅极线121以及存储电极线131中的电压降。另一个由具有优良的物理化学特性以及与例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等其他材料的良好电接触特性的材料构成。例如，可以采用含有Mo的金属、Cr、Ta、Ti等形成同一层。所述两层组合的可取实例为下部Cr层和上部Al(或Al合金)层，以及下部Al(或Al合金)层和上部Mo(或Mo合金)层。除了上面列举的材料之外，可以采用各种金属和导体形成栅极线121和存储电极线131。
栅极线121和存储电极线131的所有横向侧面优选相对于基板110的表面倾斜大约30°到80°之间的角度。
由氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)构成的栅极绝缘层140形成于栅极线121和存储电极线131上。
在栅极绝缘层140上形成由氢化非晶硅(简称“a-Si”)或多晶硅构成的多个线状半导体151。每一线状半导体151基本上沿垂直方向延伸，其包括多个沿相应的栅电极124延伸并且具有朝向存储电极线131的扩大部分137延伸的子凸起157的凸起154。线状半导体151在栅极线121和存储电极线131的附近扩大，以较宽地覆盖它们。
在线状半导体151上形成多个线状欧姆接触161和岛状欧姆接触165。欧姆接触161和165可以由采用诸如磷(P)的N型杂质高度掺杂的N+氢化非晶硅或硅化物构成。线状欧姆接触161包括多个凸起163。在半导体151的凸起154上布置一组凸起163和岛状欧姆接触165。
线状半导体151和欧姆接触163、165的所有横向侧面相对于基板110的表面倾斜大约30°到80°之间的角度。
在欧姆接触163、165上以及栅极绝缘层140上形成多个数据线171和多个漏电极175。
用于传输数据信号的数据线171基本上沿与栅极线121和存储电极线131交叉的垂直方向延伸。每一数据线171包括多个朝相应的栅电极124延伸的源电极173和具有较大尺寸的连接至不同层或外部设备的末端部分179。可以将用于产生数据信号的数据驱动器(未示出)安装在附着于基板110的软性印刷电路(未示出)上或直接安装在基板110上。否则，可以将数据驱动器集成到基板110内。在这种情况下，将数据线171直接连接至数据驱动器。
与数据线171隔开的漏电极175的位置与源电极173相对，位于栅电极124的中央。每一漏电极175包括具有较大尺寸和条形末端的扩大部分177。漏电极175的扩大部分177被存储电极线131的扩大部分137所覆盖，并且条形末端部分局部地被弯曲的源电极173围绕。
栅电极124、源电极173、漏电极175和半导体151的凸起154形成了薄膜晶体管(TFT)。TFT沟道形成于在源电极173和漏电极175之间提供的凸起154内。
数据线171和漏电极175优选由诸如Mo、Cr、Ta、Ti或其合金的耐高温金属构成，并且可以将其配置成多层结构，其包括耐高温金属层(未示出)和低电阻率导电层(未示出)。所述多层结构的可取实例为由Cr、Mo和Mo合金中的一种构成的下层和由Al或Al合金构成的上层。另一个例子是由Mo或Mo合金构成的下层、由Al或Al合金构成的中层和由Mo或Mo合金构成的上层。除了上述材料以外，可以采用各种金属和导体形成数据线171和漏电极175。
数据线171和漏电极175的所有横向侧面优选相对于基板110的表面倾斜大约30°到80°之间的角度。
欧姆接触163和165只存在于下层半导体151和覆盖的数据线171之间，以及覆盖的漏电极175和下层半导体151之间，以降低其间的接触电阻。所形成的大多数线状半导体151比数据线171窄，但是，如前所述，线状半导体151的局部部分在与栅极线121相交处的附近扩大，以防止数据线171短路。在未被数据线171和漏电极175覆盖的位置，以及在源电极173和漏电极175之间，线状半导体151部分暴露出来。
在数据线171、漏电极175和半导体151的暴露部分上形成钝化层180。将钝化层180配置为双层结构，其包括由诸如SiNx或SiOx的无机绝缘体构成的下层180p和由有机绝缘体构成的上层180q。用于上层钝化层180q的可取有机绝缘体具有介电常数低于4.0的低介电常数和/或光敏性。为上部钝化层180q提供切口(aperture)195，下部钝化层180p在所述切口195处局部暴露，上部钝化层180q的顶面不平坦。可以将钝化层180配置为由无机绝缘体或有机绝缘体构成的单层结构。
为钝化层180提供多个接触孔182和185，数据线171的末端部分179和漏电极175分别通过所述接触孔露出。在钝化层180和栅极绝缘层140内形成多个接触孔181，通过其暴露栅极线121的末端部分129。
在钝化层180上形成多个像素电极190和多个接触辅助物81和82。
每一像素电极190具有由上部钝化层180q的不平坦顶面引起的波纹形轮廓，并且每一像素电极190由透明电极192和覆盖所述透明电极192的反射电极194构成。透明电极192是由诸如ITO或IZO的透明导体形成的，反射电极194是由诸如Al、Cr、Ag或其合金构成的不透明反射导体构成的。但是，可以将反射电极194配置为双层结构。在这种情况下，上层可以由诸如Al、Ag或Ag合金等低电阻率金属构成，下层可以由与ITO和IZO之间具有良好接触特性的材料构成，例如含有Mo的金属、Cr、Ta、Ti等。
仅在透明电极192的局部部分上形成每一反射电极194。因此，暴露了其余部分的透明电极192。这时，布置透明电极192的暴露部分，以对应于上部钝化层180q的切口195。
像素电极190通过接触孔185物理连接并电连接至漏电极175，以接收来自漏电极175的数据电压。提供了数据电压的像素电极190与公共电极屏板200的公共电极270一起生成电场，所述电场决定了插入到两个电极190和270之间的LC层3中的LC分子的取向。根据LC分子的取向，通过LC层3的光的偏振将发生变化。每一组像素电极190和公共电极270形成了能够在TFT截止之后存储外加电压的LC电容器。
在透射反射型LCD中，具有由透明电极192暴露的透射区域TA和由反射电极194界定的反射区域RA。更具体而言，透射区域TA是布置在位于TFT阵列屏板100、公共电极屏板200和LC层3中的透明电极192的暴露部分之上和之下的一段部分，反射区域RA是布置在反射电极194之上和之下的一段部分。在透射区域TA中，从LCD后面发出的内部光依次穿过TFT屏板100和液晶层3，之后从公共电极屏板200出射，由此起到显示作用。在反射区域RA中，从LCD的正面提供的外部光依次穿过公共电极屏板200和LC层3，之后由TFT屏板100的反射电极194反射。在反射之后，外部光再次穿过LC层3，之后从公共电极屏板200出射，由此起到显示作用。
反射电极194的不平坦顶面用于防止镜面反射。因此，防止了镜面反射，在镜面反射中，在LCD屏幕上显示某些图像。
上部钝化层180q不存在于透射区域TA当中。因此，与透射区域TA相关的LC层3的厚度(即单元缝隙)是与反射区域RA相关的LC层3的厚度的两倍。
为了提高LC电容器的电压储存能力，进一步提供了存储电容器。通过用存储电极线131覆盖像素电极190和与之电连接的漏电极175实现存储电容器。通过接触孔181和182将接触辅助物81和82分别连接至栅极线121的末端部分129和数据线171的末端部分179。接触辅助物81和82在暴露的末端部分129和179与外部设备之间增添粘附力，并对其予以保护。
按照下述说明配置面对TFT阵列屏板100的公共电极屏板200。
在由透明玻璃或塑料制成的绝缘基板210上提供被称为“黑色矩阵”的光阻挡部件220。光阻挡部件220防止光从像素电极190之间的壁垒(barrier)泄漏，其界定了面对像素电极190的切口区域。
在与反射区域RA相关的基板210上形成多个凸起241。每一凸起241均为凸透镜形。因此，在垂直二等分凸起241时，凸起241的高度在其中央具有最大值，并随着高度测量点从中央向外移动而缩小。
在基板210、光阻挡部件220和凸起241上形成多个滤色器230。将大多数滤色器230布置在由光阻挡元件220划定边界的切口区域内。
凸起241的直径非常小。所形成的每一凸起241类似于半球，其高度在中央处具有最大值，并随着高度测量点从中央向边缘移动而降低，其平面尺寸在底面处最大，并随着面积测量点从底面移动而减小至位于顶部中央的一点。凸起241的最大高度远小于直接覆盖凸起241的滤色器230的厚度。出于这一原因，可以在不考虑凸起241的情况下使滤色器230平面化。
此外，由于在反射区域RA处形成的凸起241的作用，所形成的布置在反射区域RA处的滤色器230比布置在透射区域TA处的滤色器230更薄。也就是说，布置在反射区域RA处的滤色器230的平均厚度变得比布置在透射区域TA处的滤色器230的平均厚度小。因此，采用这种方式形成的滤色器230能够降低透射区域TA和反射区域RA之间产生的色调差异。
在光阻挡部件220和滤色器230上形成由有机材料构成的覆层250，以保护滤色器230。可以省略覆层250。
在覆层250上形成由诸如ITO或IZO的透明导电材料制成的公共电极270。
在两个屏板100和200的内表面分别形成两个配向层(未示出)，以使LC层3中的LC分子沿预期方向配向。
将一个或更多的偏振器(未示出)附着于两个屏板100和200的外表面。
垂直于或平行于屏板100和200的表面对LC层3中的LC分子配向。
在两个屏板100和200之间提供多个弹性隔片(elastic spacer)(未示出)，以保持均匀布置有LC层3的两个屏板之间具有均匀单元缝隙。
为了组装TFT阵列屏板100和公共电极屏板200，可以向公共电极屏板200的边缘施加密封剂(未示出)。
在下文中，将参照图5A和图5B对具有凸起241的公共电极屏板200进行更为详细的说明。
图5A和图5B示出了在整个反射区域RA和透射区域TA上形成的滤色器230，以及在同一滤色器230的反射区域RA上形成的一些凸形凸起241。
参照示出了公共电极屏板200的垂直配置的图5A，在滤色器230的反射区域RA处形成一组凸形凸起241，滤色器230直接覆盖那些凸起241。滤色器230具有平面化顶面。在滤色器230上形成平面化覆层250和公共电极270。每一凸起241的高度在中央具有最大值，并随着高度测量点从中央向边缘移动而减小。在这一实施例中，每一凸起241具有大约1μm到2μm的最大高度。这样的高度比滤色器230的高度小得多。
图5B示出了沿图5A的H1-H1，H2-H2和H3-H3的三个水平横截面图。在三个剪裁线中最低的一条H1-H1切割的第一横截面(1)中，凸起241具有最大平面尺寸。反之，由最高剪裁线H3-H3切割的第三横截面(3)具有最小平面尺寸。这表示每一凸起241的平面尺寸随着面积测量点升高而减小，并变为位于顶部中央的一点。在这一实施例中，每一凸起241在其底面具有大约10μm到15μm的最大尺寸。
滤色器230的平面化程度可以视凸起241的高度和凸起241的最上面部分的平面尺寸而变化。通常，在具有凸起的层上涂覆材料时，所述材料倾向于在凸起上以及没有凸起的层上具有均匀厚度。因此，随着凸起的高度以及凸起与覆盖层的接触面积的增大，在具有凸起的部分和没有凸起的部分的边界产生的台阶差异将变大。但是，在本发明中，凸起241的最大高度比直接覆盖凸起241的滤色器230的厚度小得多，随着面积测量点由具有最大平面尺寸的底面移动，每一凸起241的平面尺寸逐渐减小至其顶部中央的一点。由于这些原因，可以在不考虑凸起241的情况下使滤色器230平面化，由此在显示器的整个区域上均匀地形成单元缝隙。
与此同时，由于在反射区域RA处形成的凸形凸起241的影响，布置在反射区域RA处的滤色器230的平均厚度变得比布置在透射区域TA处的滤色器230的厚度小，从而减小了透射区域TA和反射区域RA之间的光路差异和色调差异。这时，凸起241的总数以及每一凸起241的直径、截面形状和高度在控制两个区域RA和TA之间的光路差异时成为重要的参数。
图6A到图6D是说明制造具有在反射区域RA处形成的凸形凸起241的公共电极屏板200的加工步骤的横截面图。
首先，如图6A所示，在绝缘基板210上形成光阻挡部件220。光阻挡部件220可以由Cr层、Cr和氧化铬(CrO2)形成的双层或者具有黑色颜料的有机层形成。
接下来，在基板210之上形成光敏有机层240。之后，通过掩模对具有光敏有机层240的基板210有选择地曝光。曝光之后，基板210依次经过显影处理和烘烤处理。因此，如图6C所示，在与反射区域RA相关的局部基板210上形成了多个凸形凸起241。在这一步骤中，用于形成凸起241的掩模为狭缝型掩模。图7中示出了狭缝型掩模的实例。参照图7，在覆盖基板210的光敏有机层240上布置狭缝型掩模950。掩模950的上表面具有光阻挡区域951和光透射区域952。为了在掩模内形成两种类型的区域，在石英基板上部分形成诸如Cr、乳胶(emulsion)、氧化金属或硅的不透明材料。因此，具有Cr、乳胶、氧化金属或硅的不透明区域变成了光阻挡区域951，没有不透明材料的其余区域变为光透射区域952。如图7所示，在狭缝型掩模中，所形成的光透射区域952，即狭缝，在靠近中央的过程中变得越来越窄，并最终在中央处消失，在图7中由虚线表示的凸起241的最上面部分将位于中央。由于采种此种方式形成的狭缝型掩模950的原因，在曝光过程中，进入光敏有机层950的光的量随着入射位置而变化。也就是说，随着光的入射位置靠近光敏有机层240的中央部分，光的量在减少，在图7中由虚线表示的凸起241的最上面部分将位于所述中央部分。因此，位于掩模950的较宽的狭缝之下的光敏有机层240的去除量比位于较窄的狭缝之下的光敏有机层240的去除量小。而且，没有去除位于没有狭缝的掩模950的中央部分之下的光敏有机层240。这一光敏有机层240经历显影和焙烤处理，从而完成了凸形凸起的制作。
这里，可以优选通过改变每一狭缝或间隔的宽度控制每一凸起241的直径和形状，当在反射区域RA处提供具有优选形状的凸起时，降低了穿过透射区域TA的光和穿过反射区域RA的光之间的色调的差异。
接下来，如图6D所示，在图6C所生成的结构上依次形成滤色器230、覆层250和公共电极270。这时，可以对滤色器230、覆层250和公共电极270平面化。
如上所述，根据本发明，在反射区域RA处形成的凸形凸起能够降低反射区域和透射区域之间产生的色调差异，而不会对滤色器的平面化产生影响。
不应认为本发明仅限于上述具体实例，应当将本发明理解为覆盖了如权利要求所全面限定的本发明的所有特征。对于本发明所属领域的技术人员而言，在看过了所述简短说明之后，针对本发明的各种修改、等效处理以及各种结构是显而易见的。

Claims (36)

1.一种用于具有透射区域和反射区域的透射反射型液晶显示器的显示屏板，其包括：
基板；
在所述基板上形成的布置在所述反射区域处的多个凸形凸起；以及
在所述凸起和所述基板上形成的滤色器。
2.如权利要求1所述的显示屏板，其中，所述凸起包括透明有机材料。
3.如权利要求1所述的显示屏板，其中，每一凸起具有10μm到15μm的直径。
4.如权利要求1所述的显示屏板，其中，每一凸起具有1μm到2μm的高度。
5.如权利要求1所述的显示屏板，其中，所有的凸起具有相同的尺寸。
6.如权利要求1所述的显示屏板，其中，所述凸起具有不同的尺寸。
7.如权利要求1所述的显示屏板，其中，所述滤色器具有平坦的顶面。
8.如权利要求1所述的显示屏板，其进一步包括在所述基板上形成的光阻挡部件。
9.如权利要求1所述的显示屏板，其进一步包括在所述滤色器上形成的公共电极。
10.如权利要求9所述的显示屏板，其进一步包括在所述滤色器和所述公共电极之间形成的覆层。
11.一种具有透射区域和反射区域的液晶显示器，其包括：
第一基板；
在所述第一基板上形成的栅极线和数据线；
连接至所述栅极线和所述数据线的薄膜晶体管；
连接至所述薄膜晶体管并包括透明电极和反射电极的像素电极；
与所述第一基板相对的第二基板；
在所述第二基板上形成的布置在所述反射区域处的多个凸形凸起；以及
在所述凸起和所述第二基板上形成的滤色器。
12.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，所述凸起包括透明有机材料。
13.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，每一凸起具有10μm到15μm的直径。
14.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，每一凸起具有1μm到2μm的高度。
15.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，所有的凸起具有相同的尺寸。
16.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，所述凸起具有不同的尺寸。
17.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，所述滤色器具有平坦的顶面。
18.如权利要求11所述的液晶显示器，其中，在所述透射区域和所述反射区域处形成所述透明电极，而在所述反射区域处形成所述反射电极。
19.如权利要求18所述的液晶显示器，其中，在所述透明电极上形成所述反射电极。
20.如权利要求11所述的液晶显示器，其进一步包括在所述薄膜晶体管和所述像素电极之间形成的上部钝化层和下部钝化层。
21.如权利要求20所述的液晶显示器，其中，所述上部钝化层包括暴露下部钝化层的切口。
22.如权利要求20所述的液晶显示器，其中，所述上部钝化层具有不平坦顶面。
23.如权利要求11所述的液晶显示器，其进一步包括在所述第二基板上形成的光阻挡部件。
24.如权利要求11所述的液晶显示器，其进一步包括在所述滤色器上形成的公共电极。
25.如权利要求24所述的液晶显示器，其进一步包括在所述滤色器和所述公共电极之间形成的覆层。
26.一种制造液晶显示器的显示屏板的方法，其包括的步骤有：
提供基板；
在所述基板上形成凸形凸起；以及
在所述凸起和所述基板上形成滤色器。
27.如权利要求26所述的方法，其中，在所述基板上形成所述凸形凸起的步骤包括：
在所述基板之上形成光敏有机层；
通过掩模对所述基板有选择地曝光；
对所述基板显影；以及
焙烤所述基板。
28.如权利要求27所述的方法，其中，在通过掩模对所述基板有选择地曝光的步骤中采用的掩模为狭缝型掩模。
29.如权利要求26所述的方法，其中，每一凸起具有10μm到15μm的直径。
30.如权利要求26所述的方法，其中，每一凸起具有1μm到2μm的高度。
31.如权利要求26所述的方法，其中，所有的凸起具有相同的尺寸。
32.如权利要求26所述的方法，其中，所述凸起具有不同的尺寸。
33.如权利要求26所述的方法，其中，所述滤色器具有平坦的顶面。
34.如权利要求26所述的方法，其进一步包括在所述基板上形成光阻挡部件。
35.如权利要求26所述的方法，其进一步包括在所述滤色器上形成公共电极。
36.如权利要求35所述的方法，其进一步包括在所述滤色器和所述公共电极之间形成覆层。
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