CN1840326B - 层状产品 - Google Patents

层状产品 Download PDF

Info

Publication number
CN1840326B
CN1840326B CN2005100595499A CN200510059549A CN1840326B CN 1840326 B CN1840326 B CN 1840326B CN 2005100595499 A CN2005100595499 A CN 2005100595499A CN 200510059549 A CN200510059549 A CN 200510059549A CN 1840326 B CN1840326 B CN 1840326B
Authority
CN
China
Prior art keywords
adherend
adhesive
coating
deposit
inhomogeneous
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2005100595499A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1840326A (zh
Inventor
大杉良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Publication of CN1840326A publication Critical patent/CN1840326A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1840326B publication Critical patent/CN1840326B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00—Magnets
    • H01F7/02—Permanent magnets [PM]
    • H01F7/0205—Magnetic circuits with PM in general
    • H01F7/0221—Mounting means for PM, supporting, coating, encapsulating PM
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/032—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials
    • H01F1/04—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of hard-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/047—Alloys characterised by their composition
    • H01F1/053—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals
    • H01F1/055—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5
    • H01F1/057—Alloys characterised by their composition containing rare earth metals and magnetic transition metals, e.g. SmCo5 and IIIa elements, e.g. Nd2Fe14B
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

一种层状产品，其是通过对具有与厌氧粘合剂结合性低的表面的粘合体进行表面处理而制备的，其通过加快粘合剂的固化速率实现不需要复杂的工作、涂布底涂层，并且不改变粘合体的表面状态。所述层状产品包括粘合体、在粘合体表面上的不均匀沉积物，以及至少在不均匀沉积物上形成的粘合剂层，该不均匀沉积物包含Cu、V、Cu合金或V合金且高度为500nm或更小。

Description

层状产品
技术领域
本发明涉及层状产品(layered product)，该产品包括粘合体和布置在粘合体表面上的粘合剂层。
背景技术
在电子部件等领域中，常常将厌氧粘合剂(anaerobic adhesive)用于相互固定的部件中。这是由于厌氧粘合剂出色的可加工性，也就是说，厌氧粘合剂还具有厌氧性和在大多数情况下的紫外线(UV)固化性能，并且在UV照射的作用下，粘合剂在短时间就能固化。
然而，当在粘合体上形成与厌氧粘合剂结合性(binding property)低的涂层如Ni镀层时，粘合剂在短时期内可能不会固化，这引起容易发生剥落的问题。因此，需要给具有这种表面的粘合体的粘合面涂布底涂层(primer)作为固化促进剂。主要将主要含有能加速厌氧粘合剂固化速率的Cu离子、V离子等的有机溶剂用作底涂层。将底涂层涂布至粘合体的整个粘合面是一项复杂的工作，导致费用增加，该粘合体上形成有与厌氧粘合剂结合性低的涂层。
此外，当意图通过使用厌氧粘合剂在粘合体上(其上形成有与厌氧粘合剂结合性低的涂层)粘附层而不涂布底涂层时，可以采用这样一种技术，其中为了防止在UV照射期间的错位(misregistration)，采用夹具等固定粘合体，然后使其长时间静置，加热等。然而，该技术比涂布底涂层更复杂，因此在实际情况下通常不采用。
特别地，在粘合体是利用磁力磁化的磁体且铁磁材料如硅钢板用作待层合的材料的情况下，厌氧粘合剂可以用UV照射短时间固化而无需使用夹具等。但是，即使在这种情况下，通常仍使用定位夹来防止在照射期间磁体的错位，因为磁力通常没有粘合强度大。关于这点上，当没有确保通过UV照射充分固化了粘合剂就移去夹具时，在一些情况中会发生如磁体错位或粘合剂剥离的粘合破坏。
R-Fe-B型永磁体(其中R是至少一种包括Y的稀土元素)是廉价的稀土磁体，来源丰富并且比常规的Sm-Co永磁体磁性更优越。但是，由于R-Fe-B型永磁体本身容易被氧化，因此它们中的大多数用Ni镀层进行表面处理，该镀层是具有良好的装饰性、耐腐蚀性、化学耐性和耐磨性的廉价的防腐涂层。由于Ni镀层与厌氧粘合剂的反应性差，因此必须对该厌氧粘合剂涂布底涂层。
另一方面，Cu和Fe是公知的具有优良反应性的金属，因此不需要底涂层。已知有包含布置在表面上的Cu层的R-Fe-B型永磁体(例如，参见文献1)。然而，由于Cu层以厚度大约为1-60微米的薄膜存在于表面上，因此可能引起脱层。此外，Cu的氧化引起的脱色是显著的，因此为了防止外观不佳，必须用例如苯并三唑、吲唑或咪唑的含氮环状化合物进行后处理，从而导致费用增加。
文献1：JP-A-2003-338419
发明内容
考虑到这些问题，本发明提供了通过对具有与含厌氧粘合剂结合性低的表面的粘合体进行表面处理而制备的层状产品，其通过加快粘合剂的固化速率实现不需要复杂的操作、涂布底涂层，并且不改变粘合体的表面状态。
作为解决这些问题的方法，本发明提供：
1.层状产品，其包括粘合体，在粘合体表面上的不均匀沉积物和至少在不均匀沉积物上形成的粘合剂层，该不均匀沉积物包括Cu、V、Cu合金或V合金且高度为500nm或更小。
2.根据上述1的层状产品，其中不均匀沉积物包含多个沉积物的点；
3.根据上述1或2的层状产品，其中不均匀沉积物的高度为10-200nm；
4.根据上述1或2的层状产品，其中不均匀沉积物的高度为10-100nm；
5.根据上述1或2的层状产品，其中粘合剂是厌氧粘合剂；
6.根据上述1或2的层状产品，其中粘合体是R-Fe-B型永磁体；
7.根据上述1或2的层状产品，其还包含在粘合体的表面上布置的Ni层；以及
8.根据上述1至7中任一项的层状产品，其中不均匀沉积物包含Cu。
根据本发明，即使在与厌氧粘合剂反应性差的粘合体上也可以形成厌氧粘合剂层而也无需进行底涂层的涂布，可以省去涂布底涂层的复杂过程，并且无需长时间等待厌氧粘合剂固化就可以实现粘合过程的加快。此外，由于沉积物的高度最大可达500nm并以不均匀的方式(优选点状)出现，因此即使在沉积Cu时，由铜的氧化引起的脱色不显著，而且外观也会变好。
附图说明
图1为当通过用电镀法在R-Fe-B型永磁体上形成Ni镀层并在其上沉积Cu而制备样品，然后对样品的表面进行Ar离子蚀刻时，相应表面的组分的分析结果图。
具体实施方式
下文详细描述本发明。
对粘合体没有特别限制，但优选与厌氧粘合剂结合性低的材料。该材料的实例主要包括塑料和已进行过表面加工(如镀Ni)的金属材料。本发明对产生金属离子低的材料特别有效。具体地，在采用容易氧化的烧结R-Fe-B型磁体的情况中，在大多数情况下施用镀层，特别是Ni镀层，作为防腐蚀层且在本发明中是有效的。
当粘合体是R-Fe-B型永磁体时，主要元素是R(R是至少一种包括Y的稀土元素)、Fe和B，基于磁体的总重量，优选组合物含5-40％重量的R、50-90％重量的Fe、以及0.2-8％重量的B。当R的量小于5％重量时，α-Fe的沉淀量(precipitation amount)将变得大到不能获得高矫磁力(coerciveforce)。当R的量超过40％重量时，含有R的非磁相(non-magnetic phase)将变得大到可能降低残余磁通密度。当Fe的量小于50％重量时，残余磁通密度将低到不能获得磁特性。当Fe的量大于90％重量时，α-Fe的沉淀量将变得大到不能获得高矫磁力。当B的量小于0.2％重量时，不能获得高矫磁力。当B的量大于8％重量时，富B的非磁相将变得大到可能降低残余磁通密度。此外，本发明包括R-Fe-B型永磁体，为了提高磁性，向其中加入至少一种选自C、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr、Nb、Mo、Ag、Sn、Hf、Ta、W等的元素。关于这些加入的元素的量，希望Co为30％重量或更少，优选为0.5-20％重量，并且其它元素的总量为8％重量或更少。加入Co是为了改善残余磁通密度，但当Co的量超过30％重量时，矫磁力会降低。应该避免其它元素的总量超过8％重量，因为会劣化磁性。
在制备烧结R-Fe-B型磁体时，首先，将这些材料混入上述的组合物中，用高频熔炉等熔化并成型以制得锭块(ingot)，并用颚式破碎机、捣磨机等粗粉碎该锭块，然后再用球磨机、喷射磨等细粉碎以获得平均粒度为1-20μm的精细粉末。随后，该精细粉末在磁场中成型，在1000-1250℃烧结0.5-10小时，然后在400-900℃进行最后的热处理以制备R-Fe-B型永磁体。由于R-Fe-B型合金非常容易被氧化，因此优选在真空或惰性气氛如氩气等中进行上述步骤。
另外，可以对粘合体进行包括镀Ni的表面处理。具体地，当粘合体是烧结的R-Fe-B型磁体时，镀Ni对防止在表面发生腐蚀是有效的。在镀Ni的情况下，可以是光亮的Ni镀层、无光泽的Ni镀层，或者是其中布置了Cu镀层等作为中间层的多层镀层。当在最外表面层采用光亮的Ni镀层时，可以获得具有出色光泽的良好外观。即使在不需要表面处理时，本发明也包括其表面本身与厌氧粘合剂反应性差的粘合体。
根据本发明，进行表面处理以在粘合体的表面上形成包括Cu、V、Cu合金或V合金并具有500nm或更小高度的沉积物。根据包含Cu或V的沉积物，随着测量点越接近最外表面，Cu或V的浓度将连续地变得更高。Cu合金或V合金包括还含有Ni、Sn等的合金。沉积物的高度最大为500nm，且优选为10-200nm。更优选沉积物的高度为10-100nm。为了形成这样的沉积物，可以采用湿镀法(wet plating method)如电镀、非电解质镀(non-electrolytic plating)、复合涂布(composite coatings)等，机械喷镀法，真空镀膜法如蒸汽沉积、溅射、离子镀等，CVD(化学气相沉积)法，PVD(物理气相沉积)法等。当采用这些技术形成高度超过500nm的沉积物时，沉积物将变成膜并覆盖粘合体表面，因此会引起脱层的发生。特别在Cu或Cu合金的情况中，将其长时间放置后会发生脱色，从而逐步显示出Cu特有的铜(氧化的(blown))色的点并且外观变差。此外，当插入Ni镀层时，Ni镀层所具有的装饰性、耐腐蚀性、化学耐性和耐磨性完全被通常认为比Ni镀层差的Cu或Cu合金的那些性质代替。基于这样的观点，根据本发明将表面不均匀地(优选点状)覆盖500nm或更小高度的沉积物。在本发明中，术语“不均匀沉积物”优选指一种沉积物，其中根据用X射线电子能谱分析仪(XPS)等的测量，作为其表面测量的结果，不仅沉积物的成分，而且粘合体的成分或通过表面处理(如镀Ni)形成在粘合体上的层的成分都是部分检测到的。当进行用于表面处理的镀Ni时，在一些情况下进行铬酸盐处理作为其防腐蚀处理的后处理。在本发明中可以结合铬酸盐处理进行表面处理，在该情况下，希望预先进行铬酸盐处理。如果在本发明的表面处理后进行铬酸盐处理，可以在充分确认本发明的表面处理的效果没有因铬酸盐处理的强氧化性而劣化之后进行。
对R-Fe-B型永磁体镀Ni，通过电镀制备在其上沉积有Cu的样品，然后用Ar离子对样品的表面并以最高达50nm的预定量进行刻蚀。图1是采用X射线光电子能谱分析仪(XPS)得到的相应表面的组分分析结果图。如图1所示，样品中铜沉积的深度大约为20nm。在刻蚀前在最外表面(Ar离子刻蚀的深度为0nm)，基于组分的总重量，Cu的含量大约为30％重量，Ni的含量大约为40％重量，余下的量大约为30％重量的C和O。可以看到Cu的沉积物是点状的，高度大约为20nm。
此外，上述的测量是在作为R-Fe-B型永磁体的样品上进行的，该R-Fe-B型永磁体镀有光亮的Ni电镀层并随后镀上铜电镀层以在其上形成Cu的沉积物。当沉积物的高度大于500nm时，基于组分的总重量，在最外表面上的铜的含量大约为70％重量，由附着在最外表面上的少量有机物质和表面氧化产生的C和O等污染物的含量大约为30％重量。Ni几乎检测不到。
另外，当沉积物的高度为10nm(该高度是本发明优选沉积物高度的低值点)时，基于组分的总重量，在最外表面上的Cu的含量为10-20wt％，Ni的含量为50-70wt％，余下的含量为C、O等。
根据用Ar离子刻蚀的测量，按照深度方向，Cu的含量单调(monotonically)下降。因此，在R-Fe-B型永磁体的Ni镀层上沉积的Cu的沉积物的高度不是完全均匀的，Cu的沉积物具有从几个纳米到最高为30纳米的不同高度。
在本发明中，根据采用XPS的测量，沉积物的高度定义为在Cu或V的含量变为基本上为0wt％处的深度。通过采用XPS，可以在样品的最外表面上进行元素分析。也可以在XPS分析期间在纳米级别在深度方向分析样品。此外，在沉积物的高度通过飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、俄歇电子能谱、截面观测值(cross-section observation)测量的情况中，本发明包括具有高度小于500nm的沉积物的层状产品。
C和O是由附着在最外表面上的少量有机物质和表面氧化产生的污染物，它们各自在深度小于5nm的极浅处就消失了。
控制沉积物的高度同时确保待使用的厌氧粘合剂的固化速率的加速效应是理想的。也可以通过以前述方式，例如采用X射线光电能谱分析仪(XPS)等测量粘合体的表面和刻蚀部分的内部来精确检查沉积物的高度。
与采用电镀的情况相同，在采用化学镀(chemical plating)、蒸汽沉积、真空蒸镀、气化渗镀等在粘合体表面上沉积Cu、V、Cu合金或V合金的沉积物的情况下，短时间形成沉积物以防止表面的脱色，并且在确保厌氧粘合剂的固化速率的加速效应或由XPS测量的沉积物的高度下控制表面状态。当长时间沉积Cu或V的沉积物时，Cu或V的沉积物形成厚度为500nm或更多的薄膜，这不是本发明优选的。此外，在一些情况下薄膜的形成引起Cu的氧化和腐蚀。
优选在上述金属沉积之前清洁粘合体的表面。优选用纯水、乙醇、弱酸或类似物进行冲洗和碱性脱脂等。此外，在上述的沉积方法中，考虑到可加工性特别优选电镀。
本发明的层状产品是通过将粘合剂，特别是厌氧粘合剂，涂布在粘合体的表面而制备的，所述粘合体上覆盖有不均匀(优选点状)的沉积物。厌氧粘合剂指在以下条件下稳定的粘合剂，即粘合剂在容器中能和氧气接触，并且在隔离氧气以及当粘合剂在金属的微小间隙之间沉积时粘合剂得到由金属离子提供的催化活性的条件下开始聚合。厌氧粘合剂优选为丙烯酸类粘合剂。厌氧粘合剂更优选为包含丙烯酸酯单体作为主要组分的丙烯酸类粘合剂。优选涂布该粘合剂使得固化后的厚度为10-100微米，优选为20-50微米。在室温无氧气氛中固化粘合剂或者根据场合需要通过加热或加压固化粘合剂。另外，通过将其溶解在有机溶剂，例如醇或烃(如芳香烃)中使用该粘合剂。在对粘合体涂布粘合剂之后，在未固化的条件(半固化的条件)下，优选进一步层压所需待层合的材料，例如在磁体的情况下，层压磁性物质如铁等。
所需待层合的材料并不限于金属材料。可以采用不产生对厌氧固化很重要的金属离子的塑料材料，如聚缩醛共聚物。即使在使用塑料材料时，通过从本发明的层状产品表面提供的Cu或V离子可以快速固化厌氧粘合剂。在这点上，更优选易于产生金属离子的金属材料作为所需待层合的材料，以实现厌氧粘合剂更快固化和更高的粘合强度。
另外，当R-Fe-B型永磁体用作粘合体时，在许多情况中，所需待层合的材料是铁磁材料如钢。在该情况下，通常对R-Fe-B型永磁体和铁磁材料都进行表面处理，因为它们都是易于氧化的。本发明即使在上述情况中也是有效的。特别在R-Fe-B型永磁体和铁磁材料都采用电镀或者产生金属离子比较差的无电Ni镀进行表面处理时，与未经本发明的表面处理的情况相比，厌氧粘合剂的固化速率是快速的。
另外，在粘合后，层状产品的粘合体可以和树脂等进行成型。当脱色成铜的颜色对外观不重要时，可以沉积铜或铜合金而不用考虑脱色。此外，通过对粘合表面施加表面处理如等离子体处理等，可以增加粘合强度。
根据本发明的层状产品，在粘合体的表面上进行表面处理以形成沉积物的点，该沉积物包含Cu、V、Cu合金或V合金且高度为500nm或更小，因此对固化厌氧粘合剂不需要涂布底涂层作为固化促进剂。当表面镀Ni时，不会损害优异的装饰性、耐腐蚀性、化学耐性和耐磨性。
实施例
下面参考实施例，说明性地描述本发明的实施方案，但本发明并不限于此。
实施例1
在氩气气氛下使用感应加热高频熔炉将纯度为99.9％重量或更高的各金属材料熔化，然后成型以制备组成为32Nd-59.3Fe-7Co-1.2B-0.5A1(％重量)的合金锭。将该合金锭在1,100℃、氩气气氛下均匀化热处理24小时，在氩气气氛下采用颚式破碎机和brown磨粗粉碎，然后在氮气气氛下用喷射磨细粉碎以制备平均粒度为5μm的R-Fe-B型永磁体粉末。对该磁体粉末施加15kOe的磁场并在与施加磁场的方向垂直的方向上施加1吨/cm2的压力，成型该磁体粉末。在氩气气氛下将该模制品在1,060℃下烧结90分钟，然后在540℃再进行老化热处理使其成为永磁体。从这样得到的永磁体上切下5mm×5mm×1mm的样品。给样品镀上单层光亮的Ni镀层，然后进行电镀Cu 20秒。电镀之后，用XPS测量Cu镀层距样品表面的高度。
另外，在30kOe的磁场中磁化样品，在其上涂布2mg(固化后厚度为30-50微米)“由Three Bond制造的3065”厌氧丙烯酸类粘合剂，然后在用乙醇擦拭其表面后，利用磁体的吸引力将长和宽都为5cm、厚度为1cm的镀Ni铁板贴平(crimp)在涂布的表面上。之后，使其在室温下静置1、3、5或10分钟，利用推拉计(push-pull gage)(由Imada Seisakusho制造，FB max30kg)来进行压剪测试。每次测试的样品数为10，将平均值作为粘合强度。
通过与对比例1的样品比较，观察每个样品的外观，并评估在有光泽的Ni镀层上是否发现铜色。
测量和评估的结果示于表1中。表1中粘合强度的单位是kgf。
实施例2
将实施例1中电镀铜的时间改为30秒。其它条件与实施例1相同。
实施例3
将实施例1中电镀铜的时间改为1分钟。其它条件与实施例1相同。
对比例1
不进行电镀铜。其它条件与实施例1相同。
对比例2
不进行实施例1中的电镀铜，但对磁体附着的表面涂布“由Three Bond制造的1390E”作为厌氧丙烯酸类粘合剂的底涂层。其它条件与实施例1相同。在对比例2中，不用XPS测量沉积的底涂层距样品表面的沉积量。
表1
实施例 粘合强度(kgf) 外观评价 Cu沉积物高度
1分钟后 3分钟后 5分钟后 10分钟后
实施例1 1.8 11.5 15.9 23.8 有光泽的银色 31nm
实施例2 1.9 12.1 16.2 23.6 仅边缘有铜色 64nm
实施例3 1.9 12.7 16.6 24.2 有铜色的点 118nm
对比例1 0.2 0.6 1.1 2.4 有光泽的银色 0nm
对比例2 1.4 9.6 14.1 19.8 无光泽的银色 -
如表1所示，可确认根据本发明，当粘合体的表面带有高度为500nm或更小的Cu沉积物的点时，与厌氧粘合剂的粘合性增加而未损外观。
虽然参照其具体实施方案并详细描述了本发明，但在不背离本发明的范围下可以进行各种变化和修改，这对本领域的技术人员是显而易见的。
本申请以2004年3月29日提交的日本专利申请No.2004-094379为基础，在此引入其全部内容作为参考。

Claims (10)

1.一种层状产品，其包括
烧结的R-Fe-B型永磁体；
布置在烧结的R-Fe-B型永磁体表面上的Ni层；
在Ni层表面上形成的不均匀沉积物，所述不均匀沉积物包括Cu、V、Cu合金或V合金且高度为500nm或更小；和
至少在不均匀沉积物上形成的粘合剂层。
2.权利要求1的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含多个沉积物的点。
3.权利要求1或2的层状产品，其中所述不均匀沉积物的高度为10-200nm。
4.权利要求1或2的层状产品，其中所述不均匀沉积物的高度为10-100nm。
5.权利要求1或2的层状产品，其中所述粘合剂是厌氧粘合剂。
6.权利要求1的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含Cu。
7.权利要求2的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含Cu。
8.权利要求3的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含Cu。
9.权利要求4的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含Cu。
10.权利要求5的层状产品，其中所述不均匀沉积物包含Cu。
CN2005100595499A 2004-03-29 2005-03-29 层状产品 Expired - Fee Related CN1840326B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004094379 2004-03-29
JP094379/04 2004-03-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1840326A CN1840326A (zh) 2006-10-04
CN1840326B true CN1840326B (zh) 2010-11-24

Family

ID=34879900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005100595499A Expired - Fee Related CN1840326B (zh) 2004-03-29 2005-03-29 层状产品

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7250840B2 (zh)
EP (1) EP1583112B1 (zh)
CN (1) CN1840326B (zh)
MY (1) MY142406A (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5855723A (en) * 1995-02-15 1999-01-05 Sextant Avionique Process for the adhesive bonding of ferrite pieces
CN1234423A (zh) * 1998-05-06 1999-11-10 新和物产业株式会社 导电胶带

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH601481A5 (zh) * 1975-05-05 1978-07-14 Far Fab Assortiments Reunies
CA1057801A (en) * 1975-12-25 1979-07-03 Yuji Hayashi Electromagnetically operated switch with a permanent magnet armature
US4230768A (en) * 1979-03-29 1980-10-28 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Laminated light-polarizing sheet
US5403408A (en) * 1992-10-19 1995-04-04 Inland Steel Company Non-uniaxial permanent magnet material
US5456769A (en) * 1993-03-10 1995-10-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic material
JP3234741B2 (ja) * 1995-04-25 2001-12-04 昭和電工株式会社 希土類磁石用合金及びその製造方法
US5840375A (en) * 1995-06-22 1998-11-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for the preparation of a highly corrosion resistant rare earth based permanent magnet
JP3751084B2 (ja) * 1996-08-30 2006-03-01 本田技研工業株式会社 複合磁歪材料およびその製造方法
US6174609B1 (en) * 1997-12-19 2001-01-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Rare earth-based permanent magnet of high corrosion resistance
WO1999054986A1 (fr) * 1998-04-23 1999-10-28 Citizen Watch Co., Ltd. Rotor de moteur de petite taille
EP0984460B1 (en) * 1998-08-31 2004-03-17 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Fe-B-R based permanent magnet having corrosion-resistant film, and process for producing the same
JP3278647B2 (ja) * 1999-01-27 2002-04-30 住友特殊金属株式会社 希土類系ボンド磁石
US6858287B2 (en) * 2001-08-10 2005-02-22 Soliant Llc Formable bright film having discontinuous metallic layers
JP3935092B2 (ja) 2002-03-14 2007-06-20 Ｔｄｋ株式会社 Ｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石
JP4601262B2 (ja) * 2002-03-25 2010-12-22 日本写真印刷株式会社 金属発色を有するカバーパネル
US6788178B2 (en) * 2002-06-20 2004-09-07 Kaneka Corporation Magnet roller and process for preparing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5855723A (en) * 1995-02-15 1999-01-05 Sextant Avionique Process for the adhesive bonding of ferrite pieces
CN1234423A (zh) * 1998-05-06 1999-11-10 新和物产业株式会社 导电胶带

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP 2004-2976 A,说明书第6-17段、附图1-3.
US 5855723 A,说明书摘要、说明书第2栏47-60行、第4栏第15-21行、附图1-2.

Also Published As

Publication number Publication date
EP1583112A2 (en) 2005-10-05
US7250840B2 (en) 2007-07-31
EP1583112A3 (en) 2008-05-21
US20050214515A1 (en) 2005-09-29
CN1840326A (zh) 2006-10-04
MY142406A (en) 2010-11-30
EP1583112B1 (en) 2012-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0190461B1 (en) Process for producing permanent magnets and permanent magnet
KR101624245B1 (ko) 희토류 영구 자석 및 그 제조방법
EP1467385A1 (en) Rare earth element sintered magnet and method for producing rare earth element sintered magnet
CN102027552B (zh) 稀土类永久磁铁
US5275891A (en) R-TM-B permanent magnet member having improved corrosion resistance and method of producing same
CN112662939B (zh) 一种表面沉积涂层的超薄永磁体
CN1840326B (zh) 层状产品
EP2299455B1 (en) Corrosion-resistant magnet and method for producing the same
WO2006054617A1 (ja) 希土類焼結磁石
CN112725751B (zh) 一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法
EP0923087B1 (en) Corrosion-resistant permanent magnet and method for manufacturing the same
JP2004039917A (ja) 永久磁石の製造方法及び永久磁石
JP4401994B2 (ja) 積層体
JPH01268004A (ja) 耐食性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石及び製造方法
EP1675132B1 (en) R-T-B permanent magnet and plating film
JP3337558B2 (ja) 耐食性磁性合金
US5286366A (en) Surface treatment for iron-based permanent magnet including rare-earth element
JP3935092B2 (ja) Ｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石
JP3377605B2 (ja) 耐食性磁性合金
JP3248982B2 (ja) 永久磁石およびその製造方法
JPH0770382B2 (ja) 耐食性のすぐれた希土類磁石及びその製造方法
JP2894816B2 (ja) 耐食性を改善したｒ―ｔｍ―ｂ系永久磁石及びその製造方法
JP3650141B2 (ja) 永久磁石
JPH04287302A (ja) 永久磁石およびその製造方法
JP2631492B2 (ja) 耐食性永久磁石の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20101124

Termination date: 20120329