CN1831618A - 液晶显示装置公共电极的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示装置公共电极的制造方法，其包括以下步骤：提供一基板；在该基板多个部分区域上涂覆一光阻层；形成一透明导电层，该透明导电层部分形成于光阻层之上；去除光阻层，同时去除覆盖于光阻层上的透明导电层部分。

Description

液晶显示装置公共电极的制造方法
【技术领域】
本发明涉及一种液晶显示装置制造方法，尤其涉及一种液晶显示装置中公共电极的制造方法。
【背景技术】
液晶显示装置，是平面显示装置中的一种，其经过几十年来的发展，不仅在笔记本计算机领域得到广泛应用，还在监视器、电视及桌上型计算机领域占据越来越大的份额。
液晶显示装置包括上基板、下基板及设置于两基板间的液晶层，其利用位于下基板的像素电极与位于上基板的公共电极间产生的电场控制液晶层中的液晶分子的偏转，以达到使液晶显示装置显示图像的目的。一般的公共电极为一平面电极，其制造方法仅需要于玻璃基板上覆盖一透明导电层，该透明导电层为ITO(氧化铟锡)层或IZO(氧化铟锌)层。
请参阅图1，为液晶显示装置的上基板制造方法的流程图。该液晶显示装置的上基板即为彩色滤光片基板，其制造方法包括以下步骤：
步骤一：提供一玻璃基板；
步骤二：涂覆黑矩阵；
步骤三：涂覆彩色滤光片；
步骤四：溅镀一透明导电层，以作为公共电极。
为精确地控制液晶分子的偏转，该透明导电层会存在多个缺口，即该透明导电层具有多个断裂处。则，对于上述步骤四所形成的透明导电层应具有多个断裂处。因此，该公共电极的制造方法具体如图2至图7所示，其中图2为该公共电极制造方法的流程图，图3至图7为该公共电极的具体制造方法示意图。该公共电极的制造方法包括以下步骤：
步骤一：溅镀一透明导电层；
请一并参阅图3，在玻璃基板10上依次形成黑矩阵11(BlackMatrix，BM)、彩色滤光片12(Color Filter，CF)及保护层13(OeCota，OC)，该保护层13采用丙烯基树脂或环氧树脂材质制成。在此基础上，溅镀上一层透明导电层14，该透明导电层14采用氧化铟锡或氧化铟锌材质。
步骤二：涂覆一光阻层；
请一并参阅图4，在透明导电层14上涂覆一光阻层15，该光阻层15采用正光阻材质。
步骤三：光罩显影；
请一并参阅图5，利用激光在透明导电层14需要断裂处照射该部位，使该处的光阻层15键结被打断，再利用酸性溶液显影，去除该处的光阻层15，形成开口部16。
步骤四：蚀刻；
请一并参阅图6，采用干蚀刻或湿蚀刻工艺蚀刻开口部16处的透明导电层14，使透明导电层14于此处断裂，形成断裂处17。
步骤五：光罩显影；
请一并参阅图7，光罩显影剩余的光阻层15，去除剩余的光阻层15，形成具有断裂处17的公共电极。
但是，此种制造液晶显示装置中公共电极的方法需要两道光罩工序及一道蚀刻工序，制程较为复杂，且光罩及蚀刻工序成本较高，因此该种制造方法成本也偏高。
【发明内容】
为克服现有的制造液晶显示装置中公共电极的方法制程较为复杂，成本较高的问题，提供一种制程更为简单，成本较低的液晶显示装置中公共电极的制造方法实为必要。
解决该技术问题的一种技术方案是：提供一种液晶显示装置公共电极的制造方法，其包括以下步骤：提供一基板；在该基板多个部分区域上涂覆一光阻层；形成一透明导电层，该透明导电层部分区域形成于光阻层之上；去除光阻层，同时去除覆盖于光阻层上的透明导电层部分。
与现有的液晶显示装置公共电极的制造方法相比，由于该技术方案液晶显示装置公共电极的制造方法是先涂覆光阻，再溅镀透明导电层，在去除光阻的同时可去除覆盖于光阻上的透明导电层，即可形成具有多个断裂处的公共电极。该种制造方法不需要蚀刻工序，且可以减少光罩工序，因此，该种制造方法更为简单，且可以大大降低制造成本。
【附图说明】
图1是一种现有技术液晶显示装置彩色滤光片基板的制造方法流程图。
图2是一种现有技术液晶显示装置公共电极的制造方法流程图。
图3至图7是上述现有技术液晶显示装置公共电极的具体制造方法示意图。
图8是本发明第一实施方式液晶显示装置公共电极的制造方法流程图。
图9至图11是本发明第一实施方式液晶显示装置公共电极的制造方法示意图。
【具体实施方式】
请一并参阅图8至图11，为第一实施方式液晶显示装置的公共电极的制造方法示意图，其中，图8为该第一实施方式液晶显示装置的公共电极制造方法流程图，图9至图11为该第一实施方式液晶显示装置的公共电极具体制造方法示意图。
该液晶显示装置的公共电极的制造方法包括以下步骤：
步骤一：涂覆一光阻层；
请一并参阅图9，于玻璃基板100上依次形成黑矩阵110、彩色滤光片120及保护层130，该保护层130采用丙烯基树脂或环氧树脂材质制成。在此基础上，涂覆一光阻层150，且该光阻层仅涂覆于公共电极需要断裂的区域，该光阻层150采用正光阻材质，该光阻层150具有一定的厚度，因此该光阻层150为一梯形结构，且该梯形结构坡度较大，即该梯形结构的下底角角度较大，趋近于90°。
步骤二：溅镀一透明导电层；
请一并参阅图10，在步骤一的基础上溅镀一透明导电层140，该透明导电层140采用氧化铟锡或氧化铟锌材质，且该溅镀过程采用一定的速率均匀溅镀一层透明导电层140。在涂覆光阻层150处，该透明导电层140覆盖光阻层150，由于该光阻层150为梯形结构，该梯形结构坡度较大，且溅镀过程采用固定的速率，该梯形结构的斜边较长，因此，对于此区域，该透明导电层140的厚度应比其它区域的厚度要薄许多，且由于透明导电层140本身的厚度就极薄，一般小于1微米，则，该梯形结构的斜边区域处所溅镀上的透明导电层140的厚度极小，且易出现断裂的部分141及142。
步骤三：光罩显影；
请一并参阅图11，用激光照射该光阻层150，由于覆盖该光阻层150的透明导电层140厚度极小，且易出现断裂的部分141及142，因此，该光阻层150受激光照射后，其键结被打断，显影时利用酸性溶液即可溶解该光阻层150，且可以去除掉覆盖于光阻层150上的透明导电层140，使透明导电层140形成断裂处160，则形成具有多个断裂处160的公共电极。
由于该种制造液晶显示装置的公共电极方法仅需要一道光罩工序，与先前技术相比较，可省掉一道蚀刻及一道光罩工序，因此，该制造方法较为简单，且成本较低。
第二实施方式制造液晶显示装置公共电极的制造方法与第一实施方式大致相同，其不同在于光阻层150采用负光阻材质，因此在上述第三步骤中，不需要激光照射，利用酸性溶液即可去除该光阻层150，形成具有断裂处的公共电极。则，该实施方式可省掉一道蚀刻及两道光罩工序，因此，该制造方法更为简单，成本更低。

Claims (10)

1.一种液晶显示装置公共电极的制造方法，其包括以下步骤：提供一基板；在该基板多个部分区域上涂覆一光阻层；于该基板上形成一透明导电层，该透明导电层部分区域形成于光阻层之上；去除光阻层，同时去除覆盖在光阻层上的透明导电层部分。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该基板上还依次设置有黑矩阵、彩色滤光片及保护层。
3.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该透明导电层采用溅镀方式形成于基板上。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：溅镀该透明导电层的速率在溅镀过程中为一定值。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该透明导电层采用氧化铟锡材质。
6.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该透明导电层采用氧化铟锌材质。
7.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该光阻层采用正光阻材质。
8.如权利要求7所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：去除光阻层时，利用激光照射该正光阻层，使其键结打断，再利用酸性溶液溶解去除该光阻层。
9.如权利要求1所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：该光阻层采用负光阻材质。
10.如权利要求9所述的液晶显示装置公共电极的制造方法，其特征在于：直接利用酸性溶液溶解该光阻层，去除该光阻层。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102509695A (zh) * 2011-09-07 2012-06-20 友达光电股份有限公司 制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台
CN102627823A (zh) * 2011-08-10 2012-08-08 京东方科技集团股份有限公司 透明导电树脂、彩膜基板及制作方法、液晶显示装置
CN105278182A (zh) * 2015-11-17 2016-01-27 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及其制造方法
CN108828844A (zh) * 2018-06-15 2018-11-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 降低母板翘曲的成膜方法
CN114336276A (zh) * 2022-03-15 2022-04-12 度亘激光技术（苏州）有限公司 电极接触窗口的制作方法及半导体结构制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100262402B1 (ko) * 1997-04-18 2000-08-01 김영환 박막 트랜지스터 액정표시소자 및 그의 제조방법
US6833897B2 (en) * 2002-04-19 2004-12-21 Hannstar Display Corp. IPS-LCD device with a color filter formed on an array substrate
KR101012494B1 (ko) * 2003-04-04 2011-02-08 엘지디스플레이 주식회사 반사투과형 액정표시장치
KR100524621B1 (ko) * 2003-05-23 2005-10-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치 및 그 제조방법

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102627823A (zh) * 2011-08-10 2012-08-08 京东方科技集团股份有限公司 透明导电树脂、彩膜基板及制作方法、液晶显示装置
CN102627823B (zh) * 2011-08-10 2015-10-21 京东方科技集团股份有限公司 透明导电树脂、彩膜基板及制作方法、液晶显示装置
CN102509695A (zh) * 2011-09-07 2012-06-20 友达光电股份有限公司 制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台
CN102509695B (zh) * 2011-09-07 2013-11-06 友达光电股份有限公司 制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台
TWI467653B (zh) * 2011-09-07 2015-01-01 Au Optronics Corp 製作圖案化氧化物導電層的方法及蝕刻機台
CN105278182A (zh) * 2015-11-17 2016-01-27 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及其制造方法
CN108828844A (zh) * 2018-06-15 2018-11-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 降低母板翘曲的成膜方法
CN108828844B (zh) * 2018-06-15 2021-03-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 降低母板翘曲的成膜方法
CN114336276A (zh) * 2022-03-15 2022-04-12 度亘激光技术（苏州）有限公司 电极接触窗口的制作方法及半导体结构制备方法

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