CN1808187A - 滤色器用玻璃基板的再生方法 - Google Patents

Abstract

提供一种滤色器用玻璃基板的再生方法，用比现有情况更短的时间就可有效地对用于液晶显示器中的滤色器的制造工序中产生的不良滤色器进行再生处理，不废弃玻璃基板而能有效使用。在从滤色器(10)制造工序中产生的不良滤色器(11)再生玻璃基板(12)的方法中，使用搬送手段(20)一边搬送一边暂时停止不良滤色器(11)而在酸中除去玻璃基板(12)上的形成物，进行玻璃基板(12)的再生。在该再生处理时，依次使用浓度或种类不同的多种酸，能从玻璃基板(12)上除去形成物。

Description

滤色器用玻璃基板的再生方法

技术领域

本发明涉及一种滤色器用玻璃基板的再生方法，用于液晶显示器中，例如由透明电极和树脂膜形成不良的滤色器再生玻璃基板的滤色器用玻璃基板的再生方法。

背景技术

现在，例如、作为个人计算机、移动电话、电视或导航系统的显示装置被广泛使用的彩色液晶显示装置中，使用滤色器。

在玻璃基板上依次形成遮光层(BM)、着色层(RGB)、透明电极、配向膜和间隙壁(spacer)来制造该滤色器。另外，根据需要，有时在着色层和透明电极之间还形成保护膜层(overcoat layer)。

可是，其现状是：在滤色器的制造过程中，产生例如异物的混入、针孔或抗蚀剂涂布不均这样的缺陷，使滤色器成品率降低。完全排除这些缺陷是困难的，另外不用说严格管理制造工序，完全排除这些原因对工业有利。因此，例如在专利文献1中公开了在氯化铁水溶液和硫酸中依次浸渍不良滤色器后，用刷子清洗，再生滤色器用玻璃基板的方法。

[专利文献1]    特开2001-91731号公报

发明内容

但是，在专利文献1中公开的方法是以成批处理方式在处理液中浸渍不良滤色器，除去透明电极和树脂膜所需要的时间长(例如，除去透明电极为1小时，除去树脂膜为1小时)。

另外，由于处理设备规模的增大，使玻璃基板的再生处理量可比现状增加，但是在这种情况下，需要更多的设备投资因而不经济，而且需要由于设备建设的大量用地。

而且，存在以下问题：例如在玻璃基板表面上有损伤的不良玻璃基板，或形成树脂膜时在玻璃基板表面上产生凹凸状图形痕迹的不良玻璃基板，虽然使用处理液并用刷子清洗，由于残留损伤或图案痕迹，而不能被有效再利用。

本发明的目的是鉴于这种情况而提供一种不废除玻璃基板而能有效使用的滤色器用玻璃基板的再生方法，在比现有更短时间内有效地再生处理在用于液晶显示器的滤色器的制造工序中产生的不良滤色器。

根据上述目的的本发明滤色器用玻璃基板的再生方法是由滤色器制造工序中产生的不良滤色器再生玻璃基板的方法，通过使用搬送手段一边搬送上述不良滤色器一边使其暂时停止而在酸中除去上述玻璃基板上的形成物，进行上述玻璃基板再生。

在此，所谓滤色器是在玻璃基板上形成例如透明电极和树脂膜而形成的。

另外，透明电极是通过例如ITO(铟锡氧化物：Indium Tin Oxide)或IZO(铟锌氧化物：Indium Zinc Oxide)形成的。

另外，树脂膜是包含例如树脂制的基体(遮光层：树脂制BM)、色彩抗蚀剂(着色层：RGB)、保护膜(保护膜：OC)、配向膜和间隙壁(树脂制)中的任何一个或大于等于两个。

而且，除去了形成物(例如透明电极和树脂膜)的玻璃基板是不良玻璃基板的情况下，优选例如使用对不良玻璃基板相对地一边进行旋转一边摇动的研磨手段，有效地进行可使用的玻璃基板的再生。所谓该不良玻璃基板是有由酸处理后的玻璃基板上残留的附着物(例如，形成物的残渣)、滤色器的制造工序中产生的玻璃基板表面的凹凸(例如：损伤和图形痕迹中的任一种或两种)、以及玻璃基板和形成物的反应物中的一种或大于等于两种的基板。

在制造该滤色器时，在玻璃基板上依次形成例如黑色基体(blackmatrix)、色彩抗蚀剂、保护膜、透明电极、配向膜和间隙壁。

因此，由滤色器的制造工序产生的不良滤色器中，根据各制造工序在玻璃基板上形成例如包括黑色基体、色彩抗蚀剂、保护膜、透明电极、配向膜和间隙壁的任一种或大于等于两种的形成物。

本发明的滤色器用玻璃基板的再生方法，使用搬送不良滤色器的手段，例如每个或多个并列地排列，一边进行沿水平、倾斜和垂直中的任一个方向搬送或一边暂时停止用酸进行玻璃基板上形成物的除去，即由于进行单个方式，与所以如现有的那样一次进行多个不良滤色器的处理的成批方式不同，因为甚至连玻璃基板的细小部分都可以处理，所以可以有良好的再生玻璃基板的品质。

使用在玻璃基板上相对地一边旋转一边摇动的研磨手段进行玻璃基板处理的情况下，能够确实地除去形成物，同时由新的研削面构成再生玻璃基板的表面，因而可以得到与新品同等品质的玻璃基板。

另外，因为可以除去不良玻璃基板的图案痕迹或损伤，所以可以再生现状所不能再生的不良玻璃基板。

而且，通过研磨手段在玻璃基板表面的研磨时使用浆状研磨剂的情况下，除研磨手段的作用之外还赋予研磨剂的作用，可以使再生处理后的玻璃基板的品质更稳定。

在形成物上吹付酸来除去玻璃基板表面上的形成物的情况下，不仅提供酸的化学作用，还提供物理作用，可以以更短的时间实施除去操作。

在酸中混合氧化剂的情况下，通过氧化剂得到有机物的氧化分解反应，与只用酸处理的情况下相比，可以在更短时间内除去树脂膜。

另外，在酸中混合表面活性剂的情况下，酸对树脂膜的浸透性提高，而且因为通过酸而膨润的树脂膜由于界面张力容易剥离，所以与只通过酸处理的情况相比，可以在更短时间内除去树脂膜。

另外，在酸升温到预先设定的温度的情况下，使酸的作用进一步提高，可以进一步缩短除去形成物所需要的时间。

用酸的处理是多个工序，通过由各工序中具有浓度或种类不同的多种酸，除去玻璃基板上形成物的情况，与以往的例如使用一种浓度的硫酸作为酸的情况下，或与使用硫酸和其它药剂的情况相比，可以以短时间进行有效再生处理玻璃基板，能不废弃玻璃基板有效地加以使用。由此，玻璃基板的再生处理量可以比现状有很大的增加。

在此，形成物含有透明电极和树脂膜，由不同的工序分别进行以该透明电极为主体的除去处理和以树脂膜为主体的除去处理的情况下，通过在透明电极和树脂膜的各处理中分别使用适合的酸，可使玻璃基板的再生处理时间进一步缩短。

附图说明

图1的(A)、(B)分别是本发明一个实施方式的滤色器用玻璃基板的再生方法的工序说明图。

图2的(A)、(G)分别是示出了在相同再生方法中使用的滤色器的制造过程的说明图。

图3是在相同再生方法中使用的硫酸处理装置的说明图。

图4是在相同再生方法中使用变形例的硫酸处理装置的说明图。

[符号说明]

10：滤色器、11：不良滤色器、12、玻璃基板、13：透明电极、14：树脂膜、15：黑色基体、16：色彩抗蚀剂、17：保护膜层、18：配向膜、19：间隙壁、20：滚轮输送机(搬送手段)、21：搬送滚轮、22：搬入口、23：硫酸处理装置、24：喷射式喷嘴、25：供给用配管、26：处理液、27：收容器、28：贮留罐、29：循环泵、30：过滤器、31：硫酸处理装置、32：基板浸渍槽、33：不良滤色器、34、35：液切滚轮、36：玻璃基板、37、38：液切滚轮、39：喷射式喷嘴、41：研磨装置、42、43：刷子(研磨手段)、44：固定台、45：旋转轴、46：固定台、47：旋转轴、48：喷嘴、49：单个式清洗机、50、51：玻璃基板

具体实施方式

接着，参考附图，说明具体化本发明的实施方式，提供对本发明的理解。

在此，图1的(A)、(B)分别是本发明一个实施方式的滤色器用玻璃基板的再生方法的工序说明图。图2的(A)-(G)分别是示出了在相同再生方法中使用的滤色器的制造过程的说明图。图3是在相同再生方法中使用的硫酸处理装置的说明图。图4是在相同再生方法中使用变形例的硫酸处理装置的说明图。

如图1所示，本发明一个实施方式中的滤色器用玻璃基板的再生方法(下面，仅称为再生方法)，例如，由在图2(A)-(G)中所示的用于液晶显示器的滤色器10的制造工序中任一制造工序(图2(B)-(G))中发生的不良滤色器11，再生玻璃基板(下面，仅称为基板)12再生时，一边搬送不良滤色器11或暂时停止并用硫酸(酸的一个例子)处理，从玻璃基板12上除去形成物即透明电极13和树脂膜14。需说明的是，依次使用浓度不同的多种硫酸(在此是硫酸A和硫酸B)作为硫酸。

如图2(A)-(G)所示，滤色器10是在玻璃基板12上依次形成由树脂构成的黑色基体15、彩色抗蚀剂(红、绿、蓝)16、保护膜层17、用金属氧化物形成的透明电极(ITO：铟锡氧化物)13、配向膜18和间隙壁19而制造的。

在如图2(B)-(G)任一工序中，本发明的再生方法是例如在产生了异物的混入、针孔或抗蚀剂涂布不均那样的缺陷的不良滤色器中适用的方法，通过该再生方法，从不良滤色器中除去玻璃基板上的形成物而再生滤色器用玻璃基板(基本玻璃)。

在本实施方式的再生方法中，在不良滤色器11的玻璃基板12上作为形成物存在黑色基体15、彩色抗蚀剂16、保护膜层17、透明电极13、配向膜18和间隙壁19。另外，通过黑色基体15、彩色抗蚀剂16、保护膜层17、配向膜18和间隙壁19构成树脂膜14。该树脂膜14是由例如聚酰亚胺系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂和酚醛清漆系树脂的任一种或大于等于两种构成。

如图1(A)、(B)所示，不良滤色器11再生时，不良滤色器11载置在滚轮输送机20(搬送手段的一个例子)20中设置的多个搬送滚轮21上，一边每片水平搬送，一边在各个区域中进行不良滤色器搬入工序、一次硫酸处理工序、液切工序、二次硫酸处理工序、液切工序、药液除去工序、研磨工序、清洗工序的各种处理。

首先，如图1(A)所示，在不良滤色器的搬入工序中，从搬入口22装入不良滤色器11并载置在多个搬送滚轮21上。

然后，在一次硫酸处理工序中，一边通过搬送滚轮21搬送不良滤色器11，一边在不良滤色器11的表面侧(透明电极13和树脂膜14的形成侧)或两面上以例如大于等于5秒、小于等于5分左右吹付浓度为1质量％～95质量％(在此是50质量％)的硫酸A。

向不良滤色器11吹付硫酸A时，如图1(A)和图3所示使用硫酸处理装置23进行。

该硫酸处理装置23是具有在不良滤色器11的上方配置多个喷射式喷嘴(以下，简单称为喷嘴)24，在下部大致等间隔地设置各喷嘴24，与不良滤色器11的搬送方向直交的方向上配置的多个供给用配管25的装置。另外，不特别限制喷嘴24的设置位置，例如喷嘴的设置间隔可以设置为大于等于10mm、小于等于500mm，优选下限为30mm，更好为50mm，上限为300mm，更好为200mm。

另外，相对于不良滤色器11的喷嘴倾斜角度上限为90度(相对于不良滤色器11的表面或背面的垂直方向)，下限为10度，优选为30度，更优选为45度。这时，从一个喷嘴吹付的硫酸A的量是例如大于等于0.1升/分、小于等于30升/分。

这样，因为各喷嘴24朝向后侧(上流侧)向下方倾斜的状态(或垂直状态)安装在供给用配管25上，所以对搬送来的不良滤色器11的表面，从不良滤色器11的前倾斜上方(或正上方)吹付由各喷嘴24的吐出口吹出的硫酸A(参考图1(A))。

另外，硫酸处理装置23配置在搬送滚轮21的下方，即不良滤色器11的下方，具有可回收吹付在不良滤色器11上后落下的处理液26的向下方宽度缩小的接收容器27、在该接受容器27中贮存回收的处理液26的贮存罐28。

在此，通过循环供给硫酸A的循环用泵29连接供给用配管25和贮存罐28，在供给用配管25中设置除去杂质的过滤器30。

由此，调整成上述设定的浓度后，将贮存容器28中贮存的处理液26，通过循环用的泵29送到过滤器30，通过该过滤器30除去从形成物剥离的残渣或杂质。然后，通过供给用配管25再次将除去了残渣或杂质的硫酸A送到喷射式喷嘴24，吹付到不良滤色器11上。这样，因为能重复使用硫酸A，所以经济，同时也防止随着处理液26的废弃产生的环境恶化。

另外，通过由循环用泵29将贮存容器28中贮存的处理液26压送(加压)到喷嘴24侧，可以从各供给用配管25的多个喷嘴24喷出硫酸A。由此，对于搬送来的不良滤色器11，由于形成从斜上方流出的硫酸A的液体流，所以硫酸A吹付在透明电极13和树脂膜14上，将透明电极13和树脂膜14的一部分从玻璃基板12除去。

另外，向不良滤色器11吹付硫酸也可以是使用图4所示的硫酸处理装置31进行。需说明的是，与上述硫酸处理装置23相同的材料给于相同的号码。

该硫酸处理装置31，到上述喷嘴24的吐出口在硫酸(处理液26)中进行浸渍的位置，具有能贮存硫酸的基板浸渍槽32，该基板浸渍槽32内的下侧上配置用于搬送不良滤色器11的搬送滚轮21。

另外，因为设置了基板浸渍槽32的下部和各喷嘴24所设置的多个供给用配管25通过循环用泵29连接，所以通过循环用泵29的操作，可以重复使用硫酸。

在此，使用循环用泵29，通过压送硫酸到喷射式喷嘴24侧，可以从各供给用配管25的多个喷射式喷嘴24使硫酸喷出到基本浸渍槽32内的硫酸中。由此，由于相对于搬送来的不良滤色器11，形成从斜上方的硫酸液流，所以硫酸吹付到透明电极13和树脂膜14上，能从玻璃基板12上除去透明电极13和树脂膜14的一部分。

另外，因为不良滤色器11被搬送到基板浸渍槽32内贮存的硫酸中，所以不仅是喷射式喷嘴24喷出硫酸的吹付，而且不良滤色器11整体在硫酸中浸渍接触处理。

另外，由于使用的硫酸是大量的，所以浓度的变动不大，但是根据需要像上述硫酸处理装置23那样，也可能设置调整浓度的贮存罐。

硫酸A是溶解透明电极的强酸性酸，在其浓度超过95质量％时，硫酸A作为酸的作用几乎没有，除去透明电极需要时间长。另一方面，浓度低于1质量％时，作为酸的作用几乎不能期待，同样除去透明电极需要时间长。

因此，硫酸A具有作为酸的作用，为了在更短时间内除去透明电极，硫酸A的浓度下限值为1质量％，优选为10质量％，更优选为20质量％，其上限为95质量％，优选为70质量％，更优选为50质量％。

另外，该硫酸A升温到预定温度即大于等于20℃小于等于沸点(在此为80℃)，但也可以在室温。

在此，通过硫酸A的温度在大于等于20℃小于等于沸点，可以进一步提高硫酸A作为酸的作用。

因此，为了提高透明电极的除去效率，硫酸A的温度下限值为20℃，优选为50℃，更优选为70℃，其上限值为沸点，优选为95℃，更优选为90℃。

另外，通过加热上述浓度的硫酸A也可以调整该升温，但是优选利用由水稀释硫酸时产生的发热反应进行调整。

由此，用硫酸A使露出到外部的透明电极13和其表面上被覆了配向膜18或间隙壁19的透明电极13的一部分或全部溶解，从玻璃基板12上除去。

其次，在液切工序中，除去附着在透明电极13的一部分或全部被除去了的不良滤色器33的表面上附着的硫酸A。

在此，通过使不良滤色器33通过液切滚轮34、35之间，除去附着在不良滤色器33上的硫酸A。所述液切滚轮34、35配置方式是配置成夹持搬送不良滤色器33的搬送滚轮21上下方向相对而配置。

然后，在二次硫酸处理工序中，在除去了大部分的硫酸A的不良滤色器33的表面侧上，比硫酸A的浓度更高，与硫酸A的浓度差为大于等于5质量％小于等于80质量％，优选的下限值为20质量％，更优选为30质量％，另一方面上限值为70质量％，更优选为60质量％，与硫酸A的浓度相对应的大于等于50质量％小于等于100质量％(在此为98质量％)的硫酸B被吹付例如大于等于5秒、小于等于5分左右。另外，不特别限制硫酸B的喷射式喷嘴24的设置位置，优选与上述硫酸A的喷射式喷嘴24的设置位置相同。此时，从1个喷嘴吹付的硫酸B量是例如大于等于0.1升/分、小于等于30升/分。

在此，吹付到不良滤色器33的硫酸B使用上述图3所示的硫酸处理装置23或图4所示的硫酸处理装置31进行。

该硫酸B具有从树脂中除去水分的脱水作用，其浓度低于50质量％时，几乎不能期待脱水作用，除去树脂需要长时间。

因此，硫酸B具有脱水作用，而且为了在更短时间内除去树脂，硫酸B的浓度的下限值为50质量％，优选为90质量％，更优选为96质量％，其上限值为100质量％，优选为98质量％。

另外，硫酸B与上述硫酸A相同升温到预定温度，即大于等于20℃、小于等于沸点(在此为80℃)，但也可以是室温。由此，能够进一步提高硫酸B的脱水作用。

通过上述处理，脱水处理除去不良滤色器33上形成的树脂制的黑色基体15、彩色抗蚀剂16、保护膜层17、配向膜18和间隙壁19即树脂膜14。

在此，对于搬送来的不良滤色器33，硫酸B被吹付在树脂膜14上，通过该冲击，可以从玻璃基板12除去树脂膜14。

这样，用酸进行的处理有多个工序，各工序中使用浓度不同的多种酸，即使用硫酸A、B，处理不良滤色器11，从玻璃基板12上依次除去透明电极13和树脂膜14。

另外，用硫酸对不良滤色器的处理可以一边进行不良滤色器的搬送一边进行，另外一边也可以处理时暂时停止。

另外，作为酸，也可能使用无机酸和有机酸的任一种或两种。在此，所谓无机酸是以硫酸、硝酸、盐酸、磷酸、氢溴酸酸和氢碘酸酸的任一种或大于等于两种为主体的酸，所谓有机酸是以草酸、乙酸和甲酸的任一种或大于等于两种为主体的酸。此时，每个工序中使用浓度不同的多种酸时，酸的种类可以相同，另外也可以改变，而且，酸浓度也可以相同。

另外，优选在上述一次硫酸处理工序中，代替硫酸A使用无机酸或有机酸进行透明电极13的除去处理，在二次硫酸处理工序中，代替硫酸B，使用至少含有硫酸的酸进行树脂膜14的除去处理。

在此，例如用硫酸和盐酸构成在透明电极13的除去处理中使用的酸的情况下，可以在透明电极所含有的金属氧化膜中加入还原反应，例如与仅由硫酸处理的情况相比，可以在更短时间内除去透明电极。此时，酸的硫酸浓度的上限值为95质量％，优选为70质量％，更优选为50质量％，另一方面下限值为1质量％，优选为10质量％，更优选为20质量％。另外，酸的盐酸浓度的上限值为30质量％，优选为20质量％，更优选为10质量％，另一方面下限值为0.1质量％，优选为1质量％，更优选为2质量％。

另外，例如由硫酸和硝酸构成在树脂膜14的除去处理中使用的酸的情况下，可以附予树脂膜分解反应，例如与只用硫酸处理的情况相比，可以在更短时间内除去树脂膜。此时，酸的硫酸浓度的上限值为95质量％，优选为50质量％，更优选为30质量％，另一方面下限值为1质量％，优选为5质量％，更优选为10质量％。另外，酸的硝酸浓度的上限值为35质量％，优选为33质量％，更优选为30质量％，另一方面下限值为1质量％，优选为5质量％，更优选为10质量％。

这里虽然说明分别使用硫酸和盐酸、硫酸和硝酸的情况，但即使在使用其它酸的情况下，也可以以同样浓度进行调整加以使用。

在一次硫酸处理工序和二次硫酸处理工序中可以在使用的任何一种酸中混合使用氧化剂，但是优选在二次硫酸处理工序中使用的酸中混合使用氧化剂。作为该氧化剂，可以使用例如过氧化氢、过硫酸铵和臭氧水的任何一种或大于等于两种。由此，通过氧化剂得以进行有机物的氧化分解反应，与只由酸处理的情况相比，可以在更短时间内除去树脂膜。

在此，说明在硫酸中混合作为氧化剂的过氧化氢的混合液。

混合液中硫酸浓度的上限值为99质量％，优选为96质量％，更优选为94质量％，另一方面下限值为50质量％，优选为70质量％，更优选为90质量％。另外，混合液中的过氧化氢浓度的上限值为20质量％，优选为10质量％，更优选为5质量％，另一方面下限值为0.1质量％，优选为1质量％，更优选为2质量％。

另外，混合其它氧化剂的情况，也可以以与过氧化氢相同的浓度进行调整加以使用。

另外，可以在一次硫酸处理工序和二次硫酸处理工序中使用的任何一种酸中混合表面活性剂，但是优选在二次硫酸处理工序中使用的酸中混使用。作为该表面活性剂，例如可以使用氟类的表面活性剂。另外，作为该氟类的表面活性剂有例如全氟烷基羧酸盐、全氟烷基铵盐或全氟烷基三甲铵基乙内酯(betaine)。

在此，说明在硫酸中混合了氟类表面活性剂的混合液。

混合液中硫酸浓度的上限值为99质量％，优选为96质量％，更优选为94质量％，另一方面下限值为50质量％，优选为90质量％，更优选为92质量％。另外，混合液中氟类表面活性剂浓度的上限为10质量％，优选为5质量％，更优选为3质量％，另一方面下限值为0.1质量％，优选为0.5质量％，更优选为1质量％。由此，药液的浸透性提高，而且由于通过界面张力提高剥离性，所以与只用酸清洗相比，可以在更短时间内除去树脂膜。

在接着进行的液切工序中，与上述方法相同，通过夹持搬送除去了树脂膜14的玻璃基板36的搬送滚轮21并以上下方向相对地配置在液切滚轮37、38之间，使玻璃基板36通过，除去附着在玻璃基板36上的硫酸B。

接着，在药液除去工序中，对于液切硫酸B后的玻璃基板36的上下两面，通过多个喷射式喷嘴39吹付上水或纯水。虽然硫酸与水接触发热，但是由于玻璃基板36上附着的硫酸B，由液切工序除去其大部分，所以玻璃基板36的硫酸B附着量是极微量的。因此，即使液切后的玻璃基板36上吹付上水或纯水，但是玻璃基板36温度的急速上升被缓和，根据情况，也可以与使用的硫酸B相比在玻璃基板36上依次吹付低浓度的硫酸，在玻璃基板36上附着的硫酸B被充分稀释后，吹付上水或纯水。

接着，说明不良玻璃基板的处理。

在此，所谓不良玻璃基板是指具有在滤色器制造工序中，例如由于搬送不当产生的接触伤，在碱显像液中浸蚀产生的图案痕迹(以上是在滤色器制造工序中玻璃基板表面产生的凹凸的一个例子)，玻璃基板上残留的附着物，以及抗蚀剂中含有的偶联剂与玻璃基板相结合的产物(玻璃基板和形成物的反应物的一个例子)的任何一种或两种或两种以上的玻璃基板。

如图1(B)所示，在研磨工序中，从药液除去工序结束后的不良玻璃基板即玻璃基板36上除去上述不良处。在该研磨时使用研磨装置41进行。

该研磨装置41具有一边旋转一边摇动玻璃基板36的上侧表面的研磨手段的一个例子即多个上侧刷子42，和玻璃基板36搬送方向相邻的搬送滚轮21之间配置，一边旋转一边摇动玻璃基板36的下侧表面的研磨手段的一个例子即多个下侧刷子43。另外，对于多个上侧刷子42和下侧刷子43也可以一边旋转一边摇动玻璃基板36。

如果对玻璃基板36没有损伤，该各刷子42、43的材料没有特别限制，可以使用例如氨基甲酸酯、尼龙、聚丙烯。另外，各刷子也可以使用例如含有氧化铈和氧化铝的研磨剂的刷子。

上侧刷子42可以可拆卸地安装在玻璃基板36的宽度方向上摇动的固定台44的下部能旋转地被安装的旋转轴45上。另外下侧刷子43也可以可拆卸地安装在玻璃基板36的宽度方向上摇动的固定台46的上部能旋转地被安装的转动轴47上。

另外，根据需要在各固定台44、46的长度方向上可以配置多个各转动轴45、47，而且可以多列配置。

在玻璃基板36的搬送方向上，在各刷子42、43的上游侧设置用于从上方吹付研磨剂在玻璃基板36的表面上的喷嘴48。在此，作为研磨剂可以使用例如氧化铈(CeO)，在使用时，使用在水中加入了氧化铈(氧化铈的浓度是例如大于等于1质量％、小于等于30质量％)的浆状物。

使用该研磨装置41，将玻璃基板36搬送到各喷嘴48的设置位置时，从各喷嘴48对玻璃基板36吹付浆状的研磨剂，而且在搬送到各刷子42、43的设置位置时，通过一边旋转一边摇动各刷子42、43，对玻璃基板36的上侧表面或上下两侧面表面进行研磨。另外，在研磨时，研削玻璃基板36研磨到例如大于等于0.001μm、小于等于5μm左右。

由此，能除去玻璃基板36上的残留附着物(例如形成物的残渣和污染)、滤色器制造工序中产生的玻璃基板36表面的凹凸(损伤和图案痕迹的任何一种或两种)，以及树脂膜和玻璃基板36的反应物。

其次，在清洗工序中，通过单个式清洗机49的多个喷射式喷嘴39，例如将水吹付到除去了附着物或凹凸的玻璃基板50的两面上，除去玻璃基板50表面上附着的研磨剂。在此，可以例如使用含有气体或表面活性剂的水，使用添加超声波的水，而且也可以并用与上述刷子42、43相同构成的刷子。

另外，上述研磨工序和清洗工序分别重复多次(在此两次)进行，也可以为1次。

用以上方法清洗的玻璃基板51，通过例如用气刀或干燥器除去附着的水分，再生基本玻璃。

实施例

以下，说明为了确认本发明的作用效果而进行的实施例。

首先，在不良滤色器的搬入工序中，将玻璃基板上形成了透明电极和树脂膜的不良滤色器载置在滚轮输送机的搬送滚轮上，在一次硫酸处理工序中，升温到80℃的处理液X以规定的时间吹付后，进行水洗处理。

接着，对于水洗处理后的不良滤色器，在二次硫酸处理工序中，升温到80℃的处理液Y以规定的时间吹付后，进行水洗处理。

接着，在研磨工序中，将在水中加入氧化铈的氧化铈浓度调整到10质量％的为浆状的研磨剂边加在不良玻璃基板上，边通过聚氨酸树脂制的圆盘刷子(研磨手段)进行不良玻璃基板的研磨。

然后，一边吹付含有表面活性剂的清洗剂到结束研磨的玻璃基板表面，一边通过尼龙制的圆盘刷子除去附着在玻璃基板上的研磨剂。

而且，在单个方式的清洗机中清洗后，由气刀干燥(水分除去工序)得到玻璃基板。

通过目视、光学显微镜和高亮度灯观察该再生的玻璃基板，观察在滤色器用玻璃基板上形成的透明电极和树脂膜的残留状态。

通过以上所示的顺序，在表1的实施例1-7中示出了不良滤色器的处理条件和处理结果。

另外，作为处理条件，分别设定处理液X、Y的组成，其吹付方法(液体中：通过上述硫酸处理装置31吹付；喷射：通过上述硫酸处理装置23吹付)，以及处理时间，分别确认处理结果即透明电极残留状况、树脂膜的残留状况和其它(例如，玻璃基板的损伤、反应物和图案痕迹)。

在此，进行与实施例1-7的搬送方式、即单个搬送不同的成批搬送，作为比较例在表1中示出了处理不良滤色器后的结果。

[表1]

如实施例1-7所示，通过以单个方式进行不良滤色器的处理，不残留透明电极和树脂膜，没有玻璃基板的损伤、欠缺和模糊的缺陷，能确认得到良好品质的素玻璃基板。

另一方面，由于比较例通过成批方式进行多个不良滤色器的处理，所以不能处理到玻璃基板的细小部分，再生后的玻璃基板上残留透明电极、树脂膜和图案痕迹，不能有良好的品质。

这样，通过采用本发明的再生方法，能再生品质良好的玻璃基板，而且因为相比于有的情况能在更短时间内处理不良滤色器，所以能进行不良滤色器的大量处理。

以上，参考实施方式说明本发明，但是本发明不限定上述任何的实施方式中记载的构成，还包括在专利请求的范围内记载的事项范围内考虑的其它实施方式或变形例。例如，上述各个实施方式和变形例的一部分或全部的组合，而构成本发明的滤色器用玻璃基板的再生方法的情况也包含在本发明的权利范围中。

另外，在上述实施方式中，依次对使用两种浓度的硫酸，分别除去形成在玻璃基板上的透明电极和树脂膜的情况进行了说明，但是，根据玻璃基板上形成的透明电极和树脂膜的材质，硫酸的浓度也可以为大于等于三种。另外，作为无机酸，使用硫酸、硝酸、盐酸、磷酸、氢溴酸酸和氢碘酸酸的任何一种或大于等于两种的情况，另外作为有机酸，也同样使用草酸、乙酸和甲酸的任何一种或两种或两种以上的情况也同样。

在上述实施方式中，说明使用两种浓度的硫酸，对在玻璃基板上形成了例如黑色基体、彩色抗蚀剂、保护膜、透明电极、配向膜和间隙壁的不良滤色器进行再生处理的情况。但是也能使用两种或大于等于两种浓度的硫酸，对在制造过程中产生的不良滤色器，即玻璃基板上形成例如黑色基体、彩色抗蚀剂、保护膜、透明电极、配向膜和间隙壁的任何一种或大于等于两种的不良滤色器进行再生处理。

而且，在上述实施方式中说明了不良滤色器每个水平搬送进行再生处理的情况，但是也能多个并列水平搬送进行再生处理，另外可以不是水平搬送不良滤色器，而是以倾斜方向或垂直方向(超过0度的90度方向)搬送不良滤色器而进行再生处理。另外，不良滤色器搬送时的保持角度可以是水平、倾斜和垂直的任何一种。

【表1】

		搬送方式	一次硫酸处理工序			二次硫酸处理工序			高亮度灯检查结果(○：无残留、×：有残留)
												处理液X	方法	处理时间	处理液Y	方法	处理时间	透明电极	树脂膜	其它
			实施例	1	个	50质量％硫酸	液中	30秒	98质量％硫酸	液中	30秒										○	○	○
2	个	50质量％硫酸										喷雾	30秒	98质量％硫酸	喷雾	30秒	○	○	○
				3	个	50质量％硫酸	喷雾	30秒	92质量％硫酸2质量％过氧化氢水	喷雾	20秒									○	○	○
4	个	50质量％硫酸										喷雾	30秒	95质量％硫酸1质量％表面活性剂	喷雾	20秒	○	○	○
				5	个	50质量％硫酸	喷雾	30秒	91质量％硫酸5质量％硝酸	喷雾	20秒									○	○	○
6	个	23质量％硫酸27质量％盐酸										喷雾	20秒	98质量％硫酸	喷雾	20秒	○	○	○
				7	个	23质量％硫酸27质量％盐酸	喷雾	20秒	95质量％硫酸1质量％表面活性剂	喷雾	20秒									○	○	○
比较例		成批										98质量％硫酸	浸渍	10分	-	-	-	×	×				×

Claims (21)

1、一种滤色器用玻璃基板的再生方法，

在由滤色器制造工序中产生的不良滤色器再生玻璃基板的方法中，其特征在于：

通过使用搬送手段一边搬送上述不良滤色器一边暂时停止上述不良滤色器而在酸中除去上述玻璃基板上的形成物，进行上述玻璃基板再生。

2、根据权利要求1所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述不良滤色器的搬送是一个或多个并列，沿水平、倾斜和垂直的任何一个方向搬送该不良滤色器。

3、根据权利要求2所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述不良滤色器的黑色基体(black matrix)以树脂作为主体，用上述酸除去含有该黑色基体的上述玻璃基板上的形成物，将该玻璃基板再生成基本玻璃。

4、根据权利要求3所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于在上述玻璃基板上除去形成物是通过将上述酸吹付在该形成物上而进行的。

5、根据权利要求4所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述酸的吹付是由加压并喷出该酸进行的。

6、根据权利要求5所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于在使用一边相对上述玻璃基板表面上旋转一边摇动的研磨手段来除去用上述酸处理过的上述玻璃基板上残留的附着物、在上述滤色器的制造工序中产生的上述玻璃基板表面的凹凸、以及上述玻璃基板和上述形成物的反应物的任一种或大于等于两种。

7、根据权利要求6所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于通过上述研磨手段在上述玻璃基板表面研磨时，还使用浆状的研磨剂。

8、根据权利要求7所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于在上述酸中混合氧化剂。

9、根据权利要求7所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述酸中混合表面活性剂。

10、根据权利要求9所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述表面活性剂是氟系的表面活性剂。

11、根据权利要求10所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述酸升温到预定温度。

12、根据权利要求11所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述温度是大于等于20℃、小于等于沸点。

13、根据权利要求12所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于用上述酸的处理是多个工序，各工序具有浓度或种类不同的多种酸，由此除去上述玻璃基板上的上述形成物。

14、根据权利要求13所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述形成物含有透明电极和树脂膜，在各个工序中进行以该透明电极为主体的除去处理和以上述树脂膜为主体的除去处理。

15、根据权利要求1-14的任何一项所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述酸是无机酸和有机酸的任何一种或两种，上述无机酸用含有硫酸、硝酸、盐酸、磷酸、氢溴酸和氢碘酸的任何一种或大于等于两种的酸构成，上述有机酸用含有草酸、乙酸和甲酸的任何一种或大于等于两种的酸构成。

16、根据权利要求14所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述树脂膜除去处理中使用的上述酸含有硫酸。

17、根据权利要求16所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述透明电极的除去处理中使用的上述酸是以硫酸、硝酸、盐酸、磷酸、氢溴酸和氢碘酸的任何一种或大于等于两种为主体的无机酸。

18、根据权利要求16所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述透明电极除去处理中所使用的上述酸是以草酸、乙酸和甲酸中的任何一种或大于等于两种为主体的有机酸。

19、根据权利要求14所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述多个酸是两种浓度的硫酸A、B，由于该硫酸A、B的浓度差为大于等于5质量％、小于等于80质量％，而且该硫酸B的浓度比该硫酸A的浓度高，使用该硫酸A进行上述透明电极的除去处理后，使用上述硫酸B进行上述树脂膜的除去处理。

20、根据权利要求19所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述硫酸A的浓度是大于等于1质量％、小于等于95质量％。

21、根据权利要求19所述的滤色器用玻璃基板的再生方法，其特征在于上述硫酸B的浓度是大于等于50质量％、小于等于100质量％。

Images