CN1713044A - 液晶显示设备 - Google Patents

Abstract

在彩色滤光器衬底上形成第一和第二柱形间隔物，并且在与信号线相同的步骤中在有源矩阵衬底上形成台阶膜。通过接近式曝光形成柱形间隔物，并且通过用透镜投影系统的曝光来形成台阶膜。在平面图中，台阶膜布置在柱形间隔物之内。使第一柱形间隔物与保护膜的区域接触，其中该区域在高度上高于有源矩阵衬底中的台阶膜。

Description

液晶显示设备

技术领域

本发明涉及一种具有通过布置在其间的柱形间隔物而彼此相对放置的两个衬底的液晶显示设备。

背景技术

液晶显示设备由其间具有均匀距离(间隙)的彼此相对放置的两个玻璃衬底和布置在这些衬底之间的液晶层构成。在这种液晶显示设备中，为了在两个玻璃衬底之间具有均匀间隙，在该两个玻璃衬底之间形成多个间隔物。间隔物分为通过构图形成在一个衬底上以向另一个衬底延伸的柱形间隔物和分散在液晶层之内的球形间隔物。

图1是示出了具有柱形间隔物的现有液晶显示设备的截面图。如图1所示，该现有液晶显示设备具有玻璃衬底101。扫描线102形成在玻璃衬底101上，形成绝缘保护膜103以覆盖扫描线102。在绝缘保护膜103上形成信号线(未示出)、像素电极(未示出)等。在绝缘保护膜103上形成另一个绝缘保护膜104从而覆盖信号线和像素电极。该结构形成了TFT(薄膜晶体管，未示出)，在该TFT中，信号线连接到漏极、像素电极连接到源极、扫描线102连接到栅极。这是有源矩阵衬底105的结构。

另一方面，另一个玻璃衬底106与玻璃衬底101相对放置，并且在与有源矩阵衬底105相对的玻璃衬底106的表面上形成黑色矩阵(BM)107。黑色矩阵107布置在包括与有源矩阵衬底105的扫描线102相对应的区域的区域中。在黑色矩阵107上设置彩色滤光器(CF)108。形成保护膜109使其覆盖黑色矩阵107和彩色滤光器108。这是彩色滤光器衬底110的结构。

在黑色矩阵107和彩色滤光器108在彩色滤光器衬底110上相互重叠的区域之内，由丙稀酸树脂等制成的柱形间隔物111形成为向有源矩阵衬底105延伸。每个柱形间隔物111顶端与在有源矩阵衬底105的保护膜104的每条扫描线102正上方的部分区域相接触。在有源矩阵衬底105和彩色滤光器衬底110之间，填充液晶112以形成液晶层。

但是，上述现有液晶显示设备具有如下问题。当在玻璃衬底101和106上施加外力时，由此在平行于衬底的方向上使有源矩阵衬底105和彩色滤光器衬底110错位，即使在外力消失之后，柱形间隔物111和保护膜104之间的摩擦力也会阻止衬底之间的错位恢复。这使得玻璃衬底101和106具有双折射，由此引起与液晶取向无关的光泄漏。该光泄漏在黑色显示时特别显著，并且被认为是显示不均匀。通过减少柱形间隔物111的数目来减少柱形间隔物111和保护膜104之间的摩擦力将导致柱形间隔物111的塑性形变，由此引起间隙不均匀。

日本专利公开No.2002-182220公开了一种减小柱形间隔物和衬底之间的摩擦力同时又保持衬底之间的间隙的技术。图2和3是示出了在该专利文献，即日本专利公开No.2002-182220中公开的现有液晶显示设备的截面图。图2所示的液晶显示设备具有玻璃衬底121以及形成在其上的对置的电压信号线122。对置的电压信号线122被其上形成有漏信号线124的绝缘膜123所覆盖。形成的保护膜125覆盖漏信号线124，并且取向膜126形成在保护膜125上。这是有源矩阵衬底127的结构。有源矩阵衬底127的表面上，包括对置的电压信号线122的区域在高度上高于其他区域。

另一方面，与玻璃衬底121相对的玻璃衬底128在其与有源矩阵衬底127相对的表面上具有黑色矩阵129。形成保护膜130使得其覆盖黑色矩阵129。在保护膜130上形成多个柱形间隔物131a和131b。形成的取向膜132覆盖保护膜130和柱形间隔物131a和131b。这是彩色滤光器衬底133的结构。在有源矩阵衬底127和彩色滤光器衬底133之间填充液晶134从而形成液晶层。

在图2所示的液晶显示设备中，柱形间隔物131a形成在与有源矩阵衬底127上的对置的电压信号线122相对的位置中，并且柱形间隔物131a的顶端与有源矩阵衬底127上的升高的区域相接触。另一方面，其余的柱形间隔物131b形成在与有源矩阵衬底127上的对置的电压信号线122不相对的位置中，并且柱形间隔物131b的顶端与有源矩阵衬底127不相接触。

如上所述，多个柱形间隔物中，只使柱形间隔物131a与有源矩阵衬底127相接触，而不使柱形间隔物131b与之接触。结果，当每没有外力施加到液晶显示设备上时，由于只使柱形间隔物131a与有源矩阵衬底127相接触，所以摩擦力小，而当施加挤压液晶显示设备的外力时，柱形间隔物131a形变以使柱形间隔物131b的顶部与有源矩阵衬底127接触。这能够保持衬底之间的间隙。

上述专利文献即日本专利公开No.2002-182220还公开了在一些柱形间隔物的正下方提供基座图案的技术，如图3所示。在液晶显示设备的彩色滤光器衬底141中，玻璃衬底142的表面在其上具有黑色矩阵143和彩色滤光器144，并且在黑色矩阵143的一部分上形成基座图案145。形成的保护膜146覆盖黑色矩阵143、彩色滤光器144以及基座图案145。在保护膜146上形成多个柱形间隔物147a和147b。柱形间隔物147a形成在基座图案145的正上方，而柱形间隔物147b形成在基座图案145的正上方的区域之外的区域中。

因此，由于基座图案145的厚度，所以柱形间隔物147a的顶端在高于柱形间隔物147b的顶端的位置处。因此，柱形间隔物147a与有源矩阵衬底(未示出)相接触；但是，柱形间隔物147b与有源矩阵衬底不接触，除非施加了挤压这些衬底的外力。这使得能够保持衬底之间的间隙，同时减小柱形间隔物和有源矩阵衬底之间的摩擦力。

但是，上述现有液晶显示设备具有下面的问题。即使在液晶显示设备的制造中使彩色滤光器衬底上的柱形间隔物的高度均匀，但是有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底之间的间隙在液晶显示设备组装之后也会变化。这增加了在每台液晶显示设备中的亮度、色度和对比度的变化。

发明内容

本发明的目的是提供一种在有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底之间具有均匀间隙的液晶显示设备。

根据本发明的液晶显示设备，包括：彩色滤光器衬底；有源矩阵衬底，其与彩色滤光器衬底相对；以及液晶层，其放置在彩色滤光器衬底和有源矩阵衬底之间。彩色滤光器衬底包括：第一衬底；以及形成在与有源矩阵衬底相对的第一衬底的表面上的间隔物。有源矩阵衬底包括：第二衬底；像素电路，其形成在与彩色滤光器衬底相对的第二衬底的表面上；以及膜，其局部地形成在与间隔物相对的第二衬底上的至少一些区域中，并且在有源矩阵衬底的表面处产生台阶。该台阶与间隔物接触，并且台阶和间隔物之间的接触区域位于间隔物的接触表面的周边之内。

在本发明中，局部地形成的膜位于有源矩阵衬底上从而当从垂直于第二衬底的表面的方向看时，其在间隔物之内，并且包括局部地形成的膜的区域与间隔物接触。这使得能够通过局部地形成的膜的尺寸来确定有源矩阵衬底和局部地形成的膜之间的接触面积。在与像素电路形成在相同衬底上的局部地形成的膜能够通过半导体工艺以高图形精度制作。这使得有源矩阵衬底和局部地形成的膜之间的接触面积均匀，由此在有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底之间具有均匀间隙。

像素电路优选地包括扫描线；信号线；以及与扫描线和信号线连接的薄膜晶体管。并且局部地形成的膜优选地由与信号线相同的材料制成并且优选地与信号线形成在相同层上。并且，更优选地，局部地形成的膜与信号线在相同的步骤中形成。这允许形成局部地形成的膜而不增加额外步骤。

间隔物优选地通过在第一衬底的表面上形成第一膜、用接近式系统曝光，并显影用于构图的该第一膜而制成。并且局部地形成的膜优选地通过在第二衬底的表面上形成第二膜、在第二膜上形成光刻胶、用透镜投影系统或反射镜投影系统曝光光刻胶、显影用于构图的光刻胶以及使用构图的光刻胶作为掩模蚀刻第二膜而制成。这允许通过以接近式曝光以低成本形成间隔物，并且通过透镜投影系统或反射镜投影系统以高精度形成局部地形成的膜。

局部地形成的膜优选地只形成在与间隔物相对的第二衬底上的一些区域中。这使得一些间隔物垂直地与有源矩阵衬底相接触，由此减小彩色滤光器衬底和有源矩阵衬底之间的摩擦力。另一方面，当在使有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底彼此接近的方向中施加外力时，其他的间隔物与有源矩阵衬底相接触，由此阻止了间隙进一步减小尺寸。

根据本发明，局部地形成的膜位于有源矩阵衬底上从而当从垂直于第二衬底的表面的方向看时，其在间隔物之内，并且包括局部地形成的膜的区域与间隔物相接触。这使得通过膜的尺寸能够确定有源矩阵衬底和局部地形成的膜之间的接触面积，从而使有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底之间具有均匀间隙。

附图说明

图1是示出了具有柱形间隔物的现有液晶显示设备的截面图。

图2是示出了在日本专利公开No.2002-182220中公开的现有液晶显示设备的截面图。

图3是示出了在日本专利公开No.2002-182220中公开的另一个现有液晶显示设备的截面图。

图4是示出了根据本发明的实施例的液晶显示设备的平面图。

图5A是沿图4的线A-A′的截面图，而图5B是沿图4的线C-C′的截面图。

具体实施方式

为了克服上述现有问题，也就是即使令柱形间隔物的高度是均匀的，衬底之间也有间隙变化，本发明的发明人进行了多次勤奋实验和研究，由此获得了下面的认识。

通常，在液晶显示设备的制造中，有源矩阵衬底的制备要求形成包括TFT的微小结构，从而通过使用应用于半导体工艺的光刻工艺来进行。更具体地说，通过透镜投影系统或反射镜投影系统执行曝光工艺。透镜投影系统是通过使用透镜在衬底上形成图像的系统。由于对使用的透镜的尺寸的限制，通常通过与用于衬底的独立曝光的步进式系统相结合来实现透镜投影系统。另一方面，反射镜投影系统是通过使用反射镜在衬底上形成图像的系统，并且通常通过与用于衬底的单步曝光的对准系统相结合来实现。在衬底上形成图像的透镜投影系统和反射镜投影系统能够以高精度控制线宽。

相反，在制备彩色滤光器衬底的工艺中，由于无需形成包括TFT的微小结构，所以通过接近式系统来进行曝光。接近式系统是通过平行光而不使用诸如透镜或反射镜的光聚集装置来进行曝光的系统。这提供了比上述透镜投影系统和反射镜投影系统成本低的优点。另一方面，由于使用平行光，所以有引起光干涉、由此在控制曝光线宽方面比透镜投影系统和反射镜投影系统具有低精度的缺点。因此，如图1到3所示，形成在彩色滤光器衬底上的柱形间隔物的图形(form)精度不够，由此改变了与有源矩阵衬底的接触面积。

本发明的发明人已经发现柱形间隔物和有源矩阵衬底之间的接触面积的变化会引起有源矩阵衬底和彩色滤光器衬底之间的间隙变化，即使令柱形间隔物的高度是均匀的。换句话说，当显示面板的单位面积的柱形间隔物和有源矩阵衬底之间的接触面积小时，衬底之间的间隙小于接触面积大的情况下的间隙。这被认为是如下原因导致的。当组装液晶显示设备时，由于大气压等使衬底相互挤压，由此在柱形间隔物上施加了挤压力。并且如果接触面积小，那么柱形间隔物易于弹性形变，由此间隙易于收缩。相反，当接触面积大时，柱形间隔物不易于弹性形变，保持了大间隙。可以考虑能够在有源矩阵衬底上形成柱形间隔物；但是，从工艺方面难以实现。本发明的发明人根据前述认识，开发了保持接触面积不变的工艺，由此完成了本发明。

将参考附图如下描述本发明的实施例。图4是示出了根据本实施例的液晶显示设备的平面图，图5A是沿图4的线A-A′的截面图，图5B是沿图4的线C-C′的截面图。如图4、5A和5B所示，在根据本实施例的液晶显示设备1中，有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3彼此相对。该液晶显示设备1可以是IPS模式(平面内切换模式)液晶显示设备。图4是从彩色滤光器衬底3一侧看的液晶显示设备1的视图。该视图不包含除了黑色矩阵10、彩色滤光器11、在彩色滤光器衬底3中的柱形间隔物13a和13b以及在有源矩阵衬底2中的台阶膜7之外的组件。

有源矩阵衬底2具有玻璃衬底4，其是透明绝缘衬底。与彩色滤光器衬底3相对的玻璃衬底4的表面具有扫描线5。扫描线5被可具有500到600nm厚度的绝缘保护膜6覆盖。在保护膜6之上的扫描线5的正上方的每个区域中局部地形成膜。如下所述，该膜在有源矩阵衬底2的表面处形成产生台阶。该膜被称为台阶膜7。除了台阶膜7之外，在保护膜6上还形成信号线(未示出)、像素电极(未示出)、TFT(未示出)等。在该结构中，信号线连接到TFT的漏极、像素电极连接到TFT的源极、扫描线5连接到TFT的栅极。

通过在与信号线相同的步骤中同时构图来形成台阶膜7。因此，台阶膜7由与信号线相同的材料制成，诸如铬(Cr)，并且与信号线形成在相同的层中。台阶膜7可以为300nm厚。当从垂直于玻璃衬底4的表面的方向看(在下文中，称作在平面图中)看时，它们每个都是7μm长乘12μm宽的矩形。此外，形成绝缘保护膜8从而覆盖台阶膜7、信号线、像素电极等。保护膜8可以为300nm厚。结果，保护膜8的表面是凸凹不平的，这反映了台阶膜7的结构，从而台阶膜7正上方的区域在高度上高于其他区域。也就是说，台阶膜7使有源矩阵衬底2的表面产生台阶。

另一方面，彩色滤光器衬底3具有玻璃衬底9，其是透明绝缘衬底。与有源矩阵衬底2相对的玻璃衬底9的表面具有黑色矩阵(BM)10。该黑色矩阵10布置为象格子一样从而包括对应于有源矩阵衬底2的扫描线5的区域。换句话说，黑色矩阵10具有矩阵形式的矩形开口10a。带形彩色滤光器(CF)11形成为跨过黑色矩降10并且与多个对准开口10a相重叠。彩色滤光器11由三种颜色滤光器构成：红(R)、绿(G)和蓝(B)，它们重复布置。此外，形成的保护膜12覆盖彩色滤光器11。

在黑色矩阵10和彩色滤光器11在彩色滤光器衬底3的保护膜12上相互重叠的区域上，提供多个柱形间隔物13a和13b(可以被统称为柱形间隔物13)。每个柱状间隔物13可以由丙稀酸树脂制成，高度为2到5μm并且在平面图中是10μm长乘15μm宽的矩形，向有源矩阵衬底2延伸。在有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3之间填充液晶14，由此形成液晶层。

柱形间隔物13和台阶膜7之间的位置关系将详细描述如下。在如下区域上形成柱形间隔物13，该区域是在彩色滤光器衬底3上的黑色矩阵10的正上方并且在三种颜色之一例如蓝色的彩色滤光器11被暴露出来的开口10a之间的区域之内。例如，以在蓝色彩色滤光器11被暴露出来的开口10a之间的区域中的每四个区域有一个的比例来提供柱形间隔物13。

另一方面，在有源矩阵衬底2中，例如以与柱形间隔物13相对的区域中的每四个区域有一个的比例来形成台阶膜7。换句话说，以与在蓝色彩色滤光器11被暴露出来的开口10a之间的区域相对的区域中的每16个区域有一个的比例来提供台阶膜7。结果，如图5A所示，在4个柱形间隔物13中的1个柱形间隔物13a与在高度上高于有源矩阵衬底2中的台阶膜7的保护膜8的区域接触。如图5B所示，在4个柱形间隔物13中的3个柱形间隔物13b由于在相对位置中没有台阶膜7而与有源矩阵衬底2的保护膜8不接触。这样，柱形间隔物13b和保护膜8之间具有填充液晶14的空隙。

如上所述，每个柱形间隔物13在平面图中是10μm长乘15μm宽的矩形，每个台阶膜7在平面图中是7μm长乘12μm宽的矩形，并且保护膜8的升高的区域具有与台阶膜7几乎相同的形状。在平面图中，台阶膜7位于柱形间隔物13之内。因此，每个柱形间隔物13和有源矩阵衬底2的保护膜8之间的接触区域与每个台阶膜7的上表面几乎一致，并且是例如7μm长乘12μm宽的矩形。在有源矩阵衬底2的表面处的台阶与间隔物13a接触。在台阶和间隔物13a之间的接触区域布置在间隔物13的接触表面的周边之内。

下面说明制备柱形间隔物13和台阶膜7的方法。首先说明形成柱形间隔物13的方法。在形成彩色滤光器衬底3直到保护膜12之后，通过旋涂将由丙稀酸树脂制成的负光敏光刻胶应用到保护膜12上。接着，执行接近式曝光以硬化应用了光敏光刻胶的部分，该部分将是柱形间隔物13。此后，光敏光刻胶的未硬化的部分通过显影溶液被去除。结果，光敏光刻胶的硬化的部分被保留以形成柱形间隔物13。

下面将说明形成台阶膜7的方法。通过普通光刻工艺来形成台阶膜7。更具体地说，首先，在玻璃衬底4上形成扫描线5和保护膜6。然后，通过溅射在保护膜6的整个表面上形成由Cr制成的膜(未示出)以具有例如300nm的厚度。接着，应用用于TFT(未示出)的光刻胶并前烘。然后，通过透镜投影系统或反射镜投影系统将用于形成TFT的图形曝光从而使与光刻胶的区域相对应的部分硬化，该区域用于作为台阶膜7。接着，进行显影，并且光刻胶的未硬化的部分被去除以构图光刻胶。接着，通过使用构图的光刻胶作为掩模来进行蚀刻从而选择性地去除由Cr制成的膜，由此构图该膜。然后，去除光刻胶。结果，台阶膜7和TFT以及信号线一起形成。

在本实施例中，在平面图中，使台阶膜7的面积小于柱形间隔物13的面积，从而台阶膜7形成在柱形间隔物13之内。结果，柱形间隔物13和有源矩阵衬底2之间的接触面积可以由台阶膜7的尺寸来确定。可以通过半导体工艺来制作台阶膜7，由此使台阶膜7的图形精度高于柱形间隔物13。

下面将说明柱形间隔物13和台阶膜7的图形精度。如上所述，通过接近式系统曝光柱形间隔物13，通过例如透镜投影系统曝光台阶膜7。当用这些系统曝光用于TFT的光刻胶时，在接近式系统中线宽变化(3σ)是0.7μm，在透镜投影系统中是0.4μm。考虑到柱形间隔物的形成，在使用的材料不是用于TFT的光刻胶而是对于柱形间隔物是最佳的光刻胶材料并且通常设置在TFT的形成工艺中的显影溶液在柱形间隔物的形成工艺中循环使用的条件下，线宽变化进一步增加到2.0μm。另一方面，考虑到台阶膜的形成，在蚀刻工艺中线宽变化仅仅增加约0.1μm并且为0.5μm那样小。因此，在柱形间隔物的形成中的线宽变化是2.0μm，而在台阶膜的形成中的线宽变化如0.5μm那样小，由此使得台阶膜具有高于柱形间隔物的图形精度。

因此，可以以高精度控制柱形间隔物13和有源矩阵衬底2之间的接触面积从而使其均匀。这使得有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3之间的间隙均匀。这导致降低了亮度、色度和对比度的变化。

在本实施例中，使柱形间隔物13中的柱形间隔物13a与有源矩阵衬底2恒定接触，并且在柱形间隔物13b和保护膜8之间提供空隙。结果，当没有外力施加到液晶显示设备时，只有柱形间隔物13a与有源矩阵衬底2接触，从而在有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3之间的摩擦力低。因此，即使当由于外力的施加而在有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3之间有错位时，错位会随着外力的消失而消失。这防止了由于衬底之间的错位而发生显示不均匀。另一方面，当在使有源矩阵衬底2和彩色滤光器衬底3彼此接近的方向上施加外力时，挤压力施加在柱形间隔物13a上使其弹性形变，由此使柱形间隔物13b的顶部与彩色滤光器衬底3接触，并且最终通过柱形间隔物13a和13b保持了衬底之间的间隙。结果，柱形间隔物13a和13b防止了塑性形变从而防止了显示不均匀的发生。

此外，在本实施例中，可以在与TFT、信号线等相同的步骤中形成台阶膜7。这意味着提供台阶膜7并不会增加液晶显示设备的生产成本。此外，由于柱形间隔物13位于黑色矩阵10和彩色滤光器11相互重叠的区域中，所以柱形间隔物13不在开口10a之内，液晶显示设备的开口面积比没有降低。此外，通过将其贴装在黑色矩阵10和彩色滤光器11上能够抑制柱形间隔物13的高度。

在本实施例中，使每4个柱形间隔物中的1个与有源矩阵衬底相接触。但是，本发明并不限于该例子，并且还能够使所有的柱形间隔物与有源矩阵衬底相接触。在这种情况下，可以在与所有的柱形间隔物13相对应的位置设置台阶膜。这能够相对于柱形间隔物的数目最大化保持衬底之间的间隙的力。

尽管在本实施例中台阶膜7由Cr制成，但本发明不限于该例子，它们可以由诸如铝(Al)的其他金属或合金制成。还可以使台阶膜7从由多层金属或合金层构成的多层膜制成。但是台阶膜7优选地由与信号线相同的材料制成以便不增加额外的工艺。

Claims (6)

1.一种液晶显示设备，包括：

彩色滤光器衬底，所述彩色滤光器衬底包括：第一衬底；以及形成在所述第一衬底上的间隔物；

有源矩阵衬底，与其上形成所述间隔物的所述彩色滤光器衬底的表面相对，所述有源矩阵衬底包括：第二衬底；像素电路，其形成在与所述彩色滤光器衬底相对的所述第二衬底的表面上；以及膜，其局部地形成在与所述间隔物相对的所述第二衬底上的至少一些区域中，并且在所述有源矩阵衬底的表面处产生台阶，所述台阶与所述间隔物接触，并且所述台阶和所述间隔物之间的接触区域位于所述间隔物的接触表面的周边之内；以及

液晶层，其布置在所述彩色滤光器衬底和所述有源矩阵衬底之间。

2.根据权利要求1的液晶显示设备，其中所述像素电路包括：

扫描线；

信号线；以及

与所述扫描线和所述信号线连接的薄膜晶体管，并且

局部地形成的所述膜由与所述信号线相同的材料制成并且与所述信号线形成在相同的层上。

3.根据权利要求2所述的液晶显示设备，其中局部地形成的所述膜在与所述信号线相同的步骤中形成。

4.根据权利要求1到3中的任何一个的液晶显示设备，其中通过在所述第一衬底的表面上形成第一膜、用接近式系统曝光所述第一膜，并且显影用于构图的所述第一膜来制作所述间隔物，以及通过在所述第二衬底的表面上形成第二膜，在所述第二膜上形成光刻胶，用透镜投影系统或反射镜投影系统曝光所述光刻胶，显影用于构图的所述光刻胶，并使用所述构图的光刻胶作为掩模蚀刻所述第二膜来制作局部地形成的所述膜。

5.根据权利要求1-3中的任何一个的液晶显示设备，其中在与所述间隔物相对的所述第二衬底上的一些区域中只形成局部地形成的所述膜。

6.根据权利要求1-3中的任何一个的液晶显示设备，其中所述彩色滤光器衬底具有形成在所述第一衬底上的黑色矩阵和彩色滤光器，所述间隔物形成在所述黑色矩阵和所述彩色滤光器相互重叠的区域中，并且在所述扫描线上形成局部地形成的所述膜。

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