CN1703616A - 分析方法、分析装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及对试样液体中的特定成分浓度进行分析的技术,包含试样的分析方法。该分析方法包含以下步骤:从光源(50)对由试样液体及试剂所构成的反应体系照射光、将此时反应体系(56)中的响应状态作为第一检测结果而检测的第一检测步骤;对在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板(54)照射光、将此时基准板中的响应状态作为第二检测结果而检测的第二检测步骤;以及基于第一及第二检测结果计算试样液体中特定成分浓度的计算步骤。

Description

分析方法、分析装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及对试样液体中的特定成分浓度进行分析的技术。
背景技术
在对尿及血液等试样液体中的特定成分浓度进行定量分析的情况下,利用光学方法。在该方法中,对包含试样液体与显色物质的反应体系照射光,作为反射光、透过光、或散射光的光量而测定此时反应体系的响应状态。在此基础上,通过应用测定的光量与预先确定的标准曲线,从而计算特定成分的浓度。
在光学方法中,将试样液体中相互的特定成分浓度差作为比较大的测定光量的差来反映,必须确保高的分辨率。因此,作为应该对反应体系照射的光,应该选择反应体系(更正确地讲应该是特定成分与显色试剂的反应生成物)中光吸收量大的波长的光,必须照射该波长的光。例如,作为显色物质,可以使用p-硝基苯胺及p-硝基酚等,在使用这些显色物质的情况下,照射405nm的光,基于其响应状态,测定GGT(谷氨酰转肽酶)、ALP(碱性磷酸酶)、Amy(淀粉酶)的浓度。通过这样,采用从光源射出的光入射到波长选择过滤器,从该波长选择过滤器取出特定波长的光之后对反应体系照射光的方法。
作为波长选择过滤器,例如可以使用干涉过滤器。该干涉过滤器是利用由光的波长厚度的透明薄膜所产生的干涉,透过或反射作为目的的波长区域的光的装置。透明薄膜例如可以由蒸镀等方法进行成膜,即使是为了选择同一波长而制造,但由于每一个制品膜厚的偏差,也会在能够选择的波长范围内产生若干偏差。为了提高测定的精度,必须抑制干涉过滤器的波长选择性的偏差。因此不能使用误差大的干涉过滤器,否则会产生干涉过滤器制造时的成品率下降,成本增加的问题。
另一方面,作为光照射用的光源,虽然可以使用LED,但LED对于射出光的波长有温度的依存性。因此,由测定环境的气氛温度及驱动LED的情况下的LED自身温度的上升,射出光的波长发生变化。这样的射出光的波长的变化,以峰值波长为基准时,能够达到约±10nm。
这样的峰值波长的偏差及变化,反映于测定时从反应体系所得到的光量。例如如图9中模式地表示的GGT的例,即使是反应体系中吸光度相同,如果测定波长不同,作为计算结果而得到的值也有很大的差异。其结果是,由测定波长的不均匀引起测定精度的下降。这样的事实从图10所示模拟结果的图中也可以得到。
图10A~图10C是对于GGT、ALP、Amy,在设定测定波长为405nm的情况下,来自设定波长的偏差与测定误差之间的关系的模拟结果。从这些图可知,不论测定对象成分浓度高或低,来自设定波长的偏差越大,误差也越大。
发明内容
本发明要解决的问题是,在由光学方法对试样液体的特定成分进行定量分析的情况下,即使是照射到反应体系的光的波长从目的波长发生了偏差,也能够高精度地对特定成分进行定量分析。
由本发明的第一方面所提供的分析方法,包含以下步骤:对由试样液体及试剂所构成的反应体系照射光、将此时反应体系中的响应状态作为第一检测结果而检测的第一检测步骤;对在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板照射光、将此时所述基准板中的响应状态作为第二检测结果而检测的第二检测步骤;以及基于所述第一及第二检测结果而计算试样液体中特定成分浓度的计算步骤。
在计算步骤中,例如基于第二检测结果从预先准备的多个标准曲线中选择最佳的标准曲线,在此基础上基于该标准曲线及所述第一检测结果,进行特定成分的浓度的计算。可以是在计算步骤中,基于第二检测结果对第一检测结果进行补正,在此基础上,由该补正值与标准曲线进行计算,也可以是基于第一检测结果及标准曲线第一次计算特定成分浓度,在此基础上,补正该计算值,算出最终的计算值。
第一及第二检测步骤中至少一方的响应状态,是作为正反射光量、透过光量、或散射反射光量而检测。
在本发明的第二方面,提供包含以下装置的分析装置:光照射装置;对由试样液体及试剂所构成的反应体系,检测照射从所述光照射装置射出的光时的第一响应状态、以及对于在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板,检测照射从所述光照射装置射出的光时的第二响应状态检测装置;以及基于所述第一及第二检测结果而计算试样液体中特定成分浓度的运算装置。
本发明的分析装置,例如进而具有以下装置。存储有表示与所述第一响应状态相对应的第一检测结果与特定成分浓度的关系的多条标准曲线的存储装置;基于与所述第二响应状态相对应的所述第二检测结果从所述多个标准曲线中选择最适合于计算的标准曲线的选择装置。在这种情况下,所述运算装置具有基于由所述选择装置所选择的标准曲线及第一检测结果而计算特定浓度成分的结构。
运算装置可以是基于第二检测结果,补正第一检测结果,之后基于该补正值与标准曲线计算特定浓度成分的结构。运算装置也可以是基于第一检测结果与标准曲线第一次计算特定成分浓度,之后,补正该计算值,算出最终的计算值的结构。
本发明的分析装置,优选进而设置有控制在所述检测装置中检测所述第二响应状态的定时的控制装置。可以是控制装置控制检测装置中所述第二响应状态的检测,使其与所述第一响应状态的检测前后进行。当然也可以是控制装置控制为使第一响应状态的检测与第二响应状态的检测平行进行。还可以是控制装置控制所述检测装置中所述第二响应状态的检测,使其在装置启动时进行的结构。
光照射装置是作为具有光源的装置的结构,作为光源,例如可以使用LED及卤灯。优选光照射装置进而具有用于选择射出光波长的滤光器,例如干涉滤光器及色滤光器等。
第一及第二响应状态中至少一方,例如是作为正反射光量、透过光量、或散射反射光量而检测。
在本发明的第三方面,提供具有以下装置的分析装置的制造方法,对由试样液体及试剂所构成的反应体系照射光的光照射装置,检测光照射时所述反应体系中响应状态的检测装置,基于该检测装置的检测结果计算试样液体中特定成分浓度的运算装置,以及存储特定成分的计算中所必要的信息的存储装置的分析装置。包含以下步骤,对在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板从所述光照射装置照射光、从此时的所述基准板中的响应状态,检测从所述光照射装置射出的光的射出状态的检测步骤;以及作为能够在上述运算装置中的计算结果中反映的信息而将所述射出状态存储于所述存储装置的存储步骤。
所述制造方法进而包含基于所述检测步骤的检测结果,从表示所述检测装置的检测结果与特定成分的浓度的关系的多条标准曲线中,选择与所述射出状态相对应标准曲线的标准曲线选择步骤。在这种情况下,在存储步骤中,将在所述标准曲线选择步骤中所选择的标准曲线作为所述运算装置中计算用的标准曲线而存储于所述存储装置。
在检测步骤中,所述射出状态作为射出光的峰值波长而被把握。在将射出状态作为峰值波长而被把握的情况下,可以是在所述存储步骤中,将所述峰值波长存储于所述存储装置。在这种情况下,可以是在存储装置中预先存储多条标准曲线,在运算装置中执行计算时,参照存储装置中存储的峰值波长,选择最佳标准曲线的结构。运算装置还可以是基于峰值波长补正浓度计算结果,或者是在对检测装置的检测结果进行补正的基础上,基于该补正值进行浓度计算的结构。
检测步骤中所使用的基准板,可以是在分析装置中预先组装的基准板,也可以是为了进行检测步骤而另外准备的基准板。
附图说明
图1是本发明中分析装置的方框图。
图2是关于多个测定波长表示浓度与吸光度的关系的图。
图3是图1所示的分析装置中检测单元的模式图。
图4是模式地表示基准板中照射波长与反射率的关系的图。
图5是为了说明分析装置启动时测定波长确认动作的流程图。
图6是为了说明测定波长确认处理的流程图。
图7是为了说明分析装置中浓度测定动作的流程图。
图8A~图8C是为了说明分析装置中浓度测定动作的流程图。
图9是表示对于特定成分(GGT)关于多个浓度的测定波长与吸光度的关系的图。
图10A~图10C是表示测定波长与测定误差的关系的图。
具体实施方式
图1所表示的分析装置X设置有控制部1、存储部2、选择部3、运算部4、以及检测单元5。
控制部1是基于存储部2中所存储的控制用程序,对各部2~5的动作进行控制的部件。
存储部2除了存储有关于各种程序及对应于测定波长的多个标准曲线的信息之外,还根据需要存储有为了对测定值及计算值进行补正的必要的信息。如图2所示,标准曲线是表示吸光度与特定成分的关系的线。关于标准曲线的信息,是作为关系式及对应表而存储,但在本实施方式中,在存储部2中考虑了测定波长的偏差,存储有与该偏差量相对应的多条标准曲线。
图1所示的选择部3,是基于检测单元5的检测结果,从存储部2中所存储的多条标准曲线选择最适合于实际检测波长的标准曲线。
运算部4是基于检测单元5的检测结果与由选择部3所选择的标准曲线,进行试样液体中特定成分分析所必要的计算的部件。
如图3所示,检测单元5具有光源50、波长选择滤波器51、第一及第二受光元件52、53、基准板54、及检测运算部55,并具有能够安装供给试样液体的分析用具56的结构。
光源50是具有能够向图中A1及A2方向移动的结构,对基准板54及分析用具56照射光的光源。光源50例如可以由LED所构成。作为光源,还可以利用卤灯等其它发光介质。
波长选择滤波器51是从光源50所射出的光中取出特定波长光的元件,与光源50同时具有能够向图中A1及A2方向移动的结构。波长选择滤波器51例如可以由干涉滤光器及色滤光器等所构成。
在构成能够检查多个项目的分析装置X的情况下,可以准备多个波长选择特性不同的波长选择滤波器。光源及波长选择滤波器并非一定是要能够移动的结构,例如可以设置多组光源与一个或多个波长选择滤波器的组,也可以是使一组光源及一个或多个波长选择滤波器固定化,使用光纤将来自波长选择滤波器的光分为多个处所的结构。而且,在使用能够射出单色光的光源的情况下,也可以省略波长选择滤波器。
第一受光元件52是接受从基准板54所反射而来的光的元件,第二受光元件53是接受从分析用具56所反射而来的光的元件。这些受光元件52、53例如可以由光电二极管所构成。
如图4所示,基准板54例如可以是表面的反射率对于照射到其表面的光的波长具有依存性的结构。换言之,测定了对基准板54照射了光时的反射率,就能够测定照射到基准板54的光的波长。
图3所示的检测运算部55是基于第一受光元件52的受光量而计算基准板54的反射率乃至照射光的波长,同时基于第二受光元件53的受光量而计算分析用具56的吸光度的部件。但是,也可以省略检测运算部55,由运算部4担当检测运算部55的作用。
控制部1、存储部2、选择部3、运算部4及检测单元55例如可以是分别由CPU、ROM、RAM等单独或组合来构成,也可以是对于一个CPU连接有多个存储器而构成它们的全部。
接着,参照图1~图3、图5~图8所示的流程图,对分析装置X的动作加以说明。但是,测定波长的确认,本来可以是在电源ON(装置启动)时及浓度测定时中的一个定时下进行,但以下为了说明的方便,以电源ON及浓度测定时双方进行测定波长确认的情况为例进行说明。
如图5所示,分析装置X启动时,判断分析装置X中的电源开关是否为接通(S10)。电源为接通(S10:YES)的情况下,各种电气线路等启动,进行测定波长的确认(S11)。
测定波长的确认按照图6所示的顺序进行。首先,驱动光源50,将透过波长选择滤波器51的光照射到基准板54(S20)。从基准板54反射的光被第一受光元件52所接受,测定其光量(S21)。反射光的光量在检测运算部55被识别,在该检测运算部55中,基于反射光的量计算基准板54的反射率(S22)。
基准板54对于表面反射率具有波长依存性如上所述。所以,由检测运算部55从基准板54的反射率决定照射到基准板54的光的波长,乃至可能会照射到分析用具56的光的波长(测定波长)(S23)。测定波长是在例如在将反射率及波长预先存储于存储部2的基础上,由存储部2所存储的关系及测定的反射率所决定。在测定波长已决定的情况下(S23),如图5所示,分析装置X为待机状态(S12),装置的启动动作结束。
另一方面,分析装置X中的浓度测定处理,按照图7及图8A的顺序进行。
如图7所示,首先,接通、驱动光源50,使来自光源50的光透过波长选择滤波器51后照射到分析用具56(S30)。来自分析用具56的反射光被第二受光元件53所接受,测定反射光的光量(S31)。反射光的光量在检测运算部55被识别,在该检测运算部55中,基于反射光的光量,计算分析用具56的吸光度(S32)。
由检测单元5进而进行测定波长的确认(S33)。测定波长的确认参照图6由与前面说明同样的方法进行。测定波长的确认可以在吸光度的测定前面进行,也可以与吸光度的测定平行进行。
接着,如图8A所示,基于测定波长的确认结果,由选择部3从存储部2中所存储的多个标准曲线中选择最适合上述确认结果的标准曲线(S34)。在运算部4中,基于检测单元55中所计算的吸光度与由选择部3所选择的标准曲线,进行浓度计算(S35)。
在浓度测定处理中,还可以执行图8B所示的S44及S45与图8C所示的S54及S55,取代图8A所示的S34及S35。但是,在图8B及图8C所示的例中,是对于一个测定项目在存储部4中仅存储一个标准曲线的情况。
在图8B所示的例中,基于检测单元5中所确认的测定波长,对检测运算部55中计算的吸光度进行补正(S44),之后基于该补正值与存储部4中所存储的标准曲线进行浓度计算(S45)。另一方面,在图8C所示的例中,基于检测运算部55中计算的吸光度与存储部4中所存储的标准曲线进行浓度计算(S54),之后基于检测单元5中所确认的测定波长对该计算值进行补正(S55)。
在本实施形式中,分析装置X的启动时及浓度测定时中,至少在其中的一方进行测定波长的确认。因此实际的测定波长,即使是例如由波长选择滤光器及光源的恶化、制品误差等引起从作为目的的测定波长发生偏差的情况下,也能够将该影响修正,进行高精度的浓度测定。
在分析装置X的启动时确认测定波长的情况下,没有必要对于每一次浓度测定进行测定波长的确认,所以不会由测定波长的确认动作而使测定时间延长。另一方面,在浓度测定时进行测定波长确认的情况下,能够与由环境条件所引起的测定波长的变化及使用LED作为光源的情况下由LED自身的温度上升所引起的波长的变换相对应,进行更高精度的浓度测定。
在本实施形式中,是基于来自基准板的反射光而进行测定波长的确认,但也可以是基于基准板的散射光及透过光而进行测定波长的确认。对于浓度计算所必要的分析用具的吸光度,也可以基于散射光及透过光而进行计算。而且,在基于来自基准板的反射光而进行测定波长的确认的情况下,也并非一定是在计算反射率之后计算测定波长,可以是从反射光的光量直接确认测定波长。同样,在浓度计算中,也并非一定要计算吸光度,可以从来自分析用具进行的光的光量(响应状态)而进行浓度计算。
以上,是对分析装置中进行测定波长确认的情况进行的说明,但测定波长的确认也可以是在分析装置出厂之前进行。
出厂前的测定波长的确认,至少是在包含光源及受光元件的检测单元组装后进行。就是说,测定波长的确认可以是在分析装置的全体制造之后进行,也可以是在检测单元组装后的阶段中使用检测单元进行。测定波长的确认与前面说明的同样,使用基准板而进行,在该基准板构成为在出厂后进行分析装置的测定波长的确认的情况下,也可以是在检测单元中组装基准板,利用该基准板而进行。另一方面,在出厂后的分析装置中不进行测定波长的确认的情况下,另外准备基准板,使用该基准板进行测定波长的确认即可。
在确认了测定波长的情况下,也可以是从与各种测定波长相对应的多条标准曲线中选择最适合测定波长的标准曲线,将该标准曲线存储于分析装置的存储部。在这种情况下,多条标准曲线可以是预先存储于存储部的标准曲线,也可以是编入使用这种情况下选择的标准曲线而进行计算的程序。当然,也可以是在存储部仅存储所选择的标准曲线。在测定波长适合的标准曲线的选择中,也并非一定要计算测定波长,也可以根据来自基准板的反射光量等,直接选择标准曲线。
另一方面,还可以基于光照射时基准板的响应状态,在存储部中存储关于测定波长的信息。在这种情况下,分析装置是考虑了该信息而在运算部进行计算的结构。例如,分析装置是对检测单元中所得到的吸光度进行补正之后基于补正值进行浓度计算,或基于吸光度进行浓度计算之后补正该计算值的结构。
这样,在分析装置出厂前进行测定波长的确认,能够预先排除波长选择滤光器及光源的制品误差的影响,提供能够进行高精度的浓度测定的分析装置。

Claims (18)

1.一种分析方法,其特征在于:包含以下步骤:对由试样液体及试剂所构成的反应体系照射光、将此时反应体系中的响应状态作为第一检测结果而检测的第一检测步骤;对在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板照射光、将此时所述基准板中的响应状态作为第二检测结果而检测的第二检测步骤;以及基于所述第一及第二检测结果计算试样液体中特定成分浓度的计算步骤。
2.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:在所述计算步骤中,基于所述第二检测结果从预先准备的多个标准曲线中选择最佳的标准曲线,在此基础上基于该标准曲线及所述第一检测结果,进行特定成分的计算。
3.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:在所述计算步骤中,基于所述第二检测结果对所述第一检测结果进行补正,在此基础上,由该补正值与标准曲线进行特定成分的浓度的计算。
4.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:在所述的计算方法中,基于所述第一检测结果及标准曲线第一次计算特定成分浓度,在此基础上,补正该计算值,算出最终的计算值。
5.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于:所述第一及第二检测步骤中至少一方的响应状态,是作为正反射光量、透过光量、或散射反射光量而被检测。
6.一种分析装置,其特征在于,包含以下装置:光照射装置;对由试样液体及试剂所构成的反应体系,检测照射从所述光照射装置射出的光时的第一响应状态、以及对于在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板,检测照射从所述光照射装置射出的光时的第二响应状态检测装置;以及基于所述第一及第二检测结果计算试样液体中特定成分浓度的运算装置。
7.根据权利要求6所述的分析装置,其特征在于,进而具有以下装置:存储有表示与所述第一响应状态相对应的第一检测结果与特定成分浓度的关系的多条标准曲线的存储装置;基于与所述第二响应状态相对应的所述第二检测结果从所述多个标准曲线中选择最适合于计算的标准曲线的选择装置,所述运算装置具有基于由所述选择装置所选择的标准曲线及第一检测结果计算特定浓度成分的结构。
8.根据权利要求6所述的分析装置,其特征在于,所述运算装置构成为基于与所述第二响应状态相对应的第二检测结果,补正与所述第一响应状态相对应的第一检测结果,之后基于该补正值计算特定成分的浓度。
9.根据权利要求6所述的分析装置,其特征在于,所述运算装置构成为基于所述第一检测结果第一次计算特定成分浓度,之后,补正该第一计算值,算出最终的计算值。
10.根据权利要求6所述的分析装置,其特征在于,进而设置有控制在所述检测装置中检测所述第二响应状态的定时的控制装置。
11.根据权利要求10所述的分析装置,其特征在于,所述控制装置控制所述检测装置中所述第二响应状态的检测,使其与所述第一响应状态的检测前后进行,或与所述第一响应状态的检测平行进行。
12.根据权利要求10所述的分析装置,其特征在于,所述控制装置控制所述检测装置中所述第二响应状态的检测,使其在装置启动时进行。
13.根据权利要求6所述的分析装置,其特征在于,所述第一及第二检测步骤中至少一方的响应状态,是作为正反射光量、透过光量、或散射反射光量而被检测。
14.一种分析装置的制造方法,其特征在于,是设置有对由试样液体及试剂所构成的反应体系照射光的光照射装置,检测光照射时所述反应体系中响应状态的检测装置,基于该检测装置的检测结果计算试样液体中特定成分浓度的运算装置,以及存储特定成分的计算中所必要的信息的存储装置的分析装置的制造方法,包含以下步骤:对在光照射时的响应状态中有波长依存性的基准板照射来自所述光照射装置的光、从此时的所述基准板中的响应状态,检测从所述光照射装置射出的光的射出状态的检测步骤;以及作为能够在上述运算装置中的计算结果中反映的信息而将所述射出状态存储于所述存储装置的存储步骤。
15.根据权利要求14所述的分析装置的制造方法,其特征在于:进而包含基于所述检测步骤的检测结果,从表示所述检测装置的检测结果与特定成分的浓度的关系的多条标准曲线中,选择与所述射出状态相对应标准曲线的标准曲线选择步骤,在所述存储步骤中,将在所述标准曲线选择步骤中所选择的标准曲线作为所述运算装置中计算用的标准曲线而存储于所述存储装置。
16.根据权利要求14所述的分析装置的制造方法,其特征在于:在所述检测步骤中,所述射出状态作为射出光的峰值波长而被把握,在所述存储步骤中,将所述峰值波长存储于所述存储装置。
17.根据权利要求14所述的分析装置的制造方法,其特征在于:在所述检测步骤中,使用在分析装置中预先组装的基准板作为所述基准板。
18.根据权利要求14所述的分析装置的制造方法,其特征在于:在所述检测步骤中,为了该检测步骤使用与所述分析装置另行准备的基准板作为所述基准板。
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