CN1625310A - 表面处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备，至少包含一清洗单元、一疏水层形成单元以及一第一热处理单元，欲进行表面处理的待处理物依序被传送至清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元；清洗单元进行一清洗程序以清洁待处理物的表面，疏水层形成单元进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上，第一热处理单元干燥疏水层。

Description

表面处理设备

技术领域

本发明涉及一种表面处理设备，特别是一种用于形成一疏水层于待处理物的表面处理设备。

背景技术

一般而言，一平面显示器具有一盖板或保护层，以便保护平面显示器的内部结构不受外界因素的影响，进而延长产品的寿命。其中，有机发光显示器是一种利用有机官能性材料(organic functionalmaterials)的自发光的特性来达到显示效果的显示器，依照有机官能性材料的分子量不同，可分为小分子有机发光显示器(small moleculeOLED，SM-OLED)与高分子有机发光显示器(polymer light-emittingdevice，PLED)两大类。此外，依照有机发光显示器的驱动方式也可分为主动驱动有机发光显示器(AM-OLED)与被动驱动有机发光显示器(PM-OLED)。而此有机官能性材料对外界的水气特别敏感，所以有机发光显示器的盖板或保护层必须能够防止外界的水气进入其中。

如图1所示，现有的有机发光显示器1包括一基板11、一第一电极12、一有机官能层13、一第二电极14以及一盖板15。其中，基板11与第一电极12为透光材质，而第一电极12及第二电极14分别作为阳极与阴极；当施以一电流于有机发光显示器1时，电洞由第一电极12注入，同时电子由第二电极14注入，此时，由于外加电场所造成的电位差，使得载子在有机官能层13中移动、相遇而产生再结合，而由电子与电洞结合所产生的激子(exciton)能够激发有机官能层13中的发光分子，然后激发态的发光分子以光的形式释放出能量，最后，盖板15通过一封胶层151而黏设于基板11上，封胶层151通常为紫外光硬化胶，如环氧树脂(epoxy)。此时，基板11、盖板15及封胶层151形成一密闭空间(airtight space)，而第一电极12、有机官能层13及第二电极14设于密闭空间中。

然而，由于紫外光硬化胶中的主要成份环氧树脂的分子结构与玻璃基板有较大的差异，因此其接着度较差；另外，因为紫外光硬化胶材料本身的限制，使得封胶层与基板及盖板的接着度不佳，外界的水气还是会从其接合处进入有机发光显示器内，进而造成日后有机发光显示器的品质劣化。除此之外，若蒸镀设备中残余的水气蓄积在封胶层与盖板及基板间，则由于盖板和基板间的距离很小，因此水气会因毛细现象而蓄积于此一死角，不易去除。

另一方面，为了减少封装时平面显示面板的各元件上的污染物，盖板或基板于封装前需要经过一清洗程序，例如是利用具有清洁液的湿式清洗设备所进行的湿式清洗程序，或是利用电浆或是紫外线照射处理的干式清洗设备所进行的干式清洗程序。但是，无论干式或湿式清洁程序，盖板或基板表面皆会形成亲水性的表面，使得空气中的水气或是挥发性的污染物容易沾附在盖板或基板的表面上，进而影响封胶层于封装时的接着力。而由于封胶层与盖板的接着强度较差，因此水气便容易从此界面进入有机发光显示器中，造成显示器品质的劣化。上述的问题同样会存在如图2所示的另一种现有的有机发光显示器2，其包括一基板11、一第一电极12、一有机官能层13、一第二电极14以及一保护层25。其中，保护层25与基板11构成一密闭空间，且第一电极12、有机官能层13及第二电极14位于密闭空间中，此时，水气便容易从保护层25与基板11的接着界面进入有机发光显示器2中，并造成前述的问题。

为解决上述问题，经本发明表面处理后的平面显示面板，其具有一疏水层。例如但不限于，如图3所示，有机发光显示器3于盖板15上形成有疏水层16。承上所述，本发明将揭露一种形成一疏水层于待处理物的「表面处理设备」。

发明内容

有鉴于上述课题，本发明的目的在于克服现有技术的不足与缺陷，提供一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备。

为达上述目的，依本发明的表面处理设备至少包含一清洗单元、一疏水层形成单元、及一第一热处理单元。在本发明中，待处理物先被传送至清洗单元中，以进行一清洗程序来清洁待处理物的表面；接着，待处理物自清洗单元传送至疏水层形成单元，且在疏水层形成单元中进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上；最后，待处理物再自疏水层形成单元传送至第一热处理单元，以便干燥疏水层。上述的待处理物包含盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板。

本发明清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元可为一丛簇式(Cluster)配置或一直线式配置。

承上所述，因依本发明的表面处理设备是于现有的清洗单元之后再设置疏水层形成单元，所以，在进行清洗程序来处理待处理物的表面后，能够于待处理物的亲水性表面上形成一疏水层，以避免空气中的水气或是挥发性的污染物沾附在待处理物的表面上，进而改善封胶层或保护层于封装时的接着力，故能够降低水气从此界面进入平面显示面板的机会，以提升平面显示面板的品质。

附图说明

图1为一示意图，显示现有的有机发光显示器的结构；

图2为一示意图，显示另一现有的有机发光显示器的结构；

图3为一示意图，显示具有疏水层的有机发光显示器的结构；

图4A至4I为示意图，显示依本发明较佳实施例的表面处理设备的示意图，其为于待处理物上形成疏水层，其中待处理物为盖板、形成有发光区的基板或平面显示面板；

图5为一示意图，显示依本发明另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一干式清洗单元；

图6为一示意图，显示依本发明另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一湿式清洗单元；

图7为一示意图，显示依本发明另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一干式清洗单元，且更利用传送单元来传送储存有数个待处理物的储存盒；

图8为一示意图，显示依本发明另一较佳实施例的表面处理设备的示意图，其中清洗单元为一湿式清洗单元，且更利用传送单元来传送储存有数个待处理物的储存盒。

图中符号说明

1     有机发光显示器

11    基板

12    第一电极

13    有机官能层

14    第二电极

15    盖板

151   封胶层

16    疏水层

2     有机发光显示器

25    保护层

3     有机发光显示器

4     表面处理设备

41    清洗单元

411   干式清洗单元

413   湿式清洗单元

42    疏水层形成单元

43    第一热处理单元

44    第一装载单元

45    第一卸载单元

46    第二热处理单元

47    第二卸载单元

48    传送单元

49    第二装载单元

5     表面处理设备

6     表面处理设备

7     表面处理设备

8     表面处理设备

具体实施方式

以下将参照相关附图，说明依本发明较佳实施例的表面处理设备，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。

请参照图4A所示，依本发明较佳实施例的表面处理设备4包括一清洗单元41、一疏水层形成单元42以及一第一热处理单元43。在本实施例中，表面处理设备4用以形成一疏水层于平面显示器，其将待处理物依序经过清洗单元41、疏水层形成单元42及第一热处理单元43。如前所述，平面显示器依序包含一基板、至少一发光区以及一盖板，或是依序包含一基板、至少一发光区以及至少一保护层；本实施例的待处理物是一盖板15，其材质选自玻璃、塑料及金属至少其中之一。热处理单元用以使疏水层干燥、固化或交联(crosslinking)。

在清洗单元41中，进行一清洗程序以清洁盖板15的表面。在本实施例中，清洗单元41中所进行的清洗程序可以是干式清洗程序或是湿式清洗程序，例如，可以利用电浆或是紫外线照射处理的干式清洗单元来执行干式清洗程序，或是利用具有清洁液的湿式清洗单元来进行湿式清洗程序。一般而言，当利用湿式清洗程序来清洁盖板15的表面时，通常会接着先进行一次干燥程序以干燥盖板15，然后才会将干燥后的盖板15传送至疏水层形成单元42。

在疏水层形成单元42中，进行一疏水层形成程序以形成一疏水层16于盖板15上。在本实施例中，疏水层16可为一类钻石薄膜或氟硅烷醇化合物，其由氟硅烷化合物水解而得；此外，在疏水层形成单元42中，疏水层16可以是利用沉浸、涂布、表面处理或喷淋方式所形成，且其形成于盖板15的一表面上。另外，如图4B所示，疏水层16亦可以形成盖板15的局部。

接着，形成有疏水层16的盖板15自疏水层形成单元42传送至第一热处理单元43中，并且第一热处理单元43以干燥疏水层16。

此外，表面处理设备4除了可以将单一待处理物(如本实施例的盖板15)依序传送至清洗单元41、疏水层形成单元42及第一热处理单元43以外，其亦可以将一储存有数个待处理物的储存盒(cassette)依序传送至清洗单元41、疏水层形成单元42及第一热处理单元43，以便同时针对储存盒中的数个待处理物批处理，依序进行清洗程序、疏水层形成程序、及干燥疏水层的步骤。

需注意者，上述的待处理物亦可以是基板、形成有发光区的基板或整个平面显示面板。如图4C及4D所示，待处理物为形成有发光区的基板11，其中发光区包括一第一电极12、一有机官能层13以及一第二电极14，在本实施例中，疏水层16形成于基板11的局部(如图4C所示)、或是与基板11形成一密闭空间，且第一电极12、有机官能层13以及第二电极14位于此密闭空间中(如图4D所示)。

另外，如图4E至4I所示，待处理物为整个平面显示面板，其中图4E至4G所示的平面显示面板包含基板11、一发光区以及一盖板15，图4H及4I所示的平面显示面板包含基板11、一发光区以及一保护层25。

如图4E至4G所示，发光区包括一第一电极12、一有机官能层13以及一第二电极14，而盖板15通过一封胶层而黏设于基板11上。在本实施例中，疏水层16形成于平面显示面板的周围，其覆盖封胶层以及封胶层与基板11及盖板15的接合界面处(如图4E所示)；疏水层16亦可以仅形成于封胶层与基板11及盖板15的接合界面处(如图4F所示)；另外，疏水层16可以是包覆整个平面显示面板(如图4G所示)。

如图4H及4I所示，发光区包括一第一电极12、一有机官能层13以及一第二电极14，而保护层25与基板11构成一密闭空间，且第一电极12、有机官能层13及第二电极14位于密闭空间中。在本实施例中，疏水层16形成保护层25上，以便覆盖保护层25及其与基板11的接合界面处(如图4H所示)；另外，疏水层16可以是包覆整个平面显示面板(如图4I所示)。

在实际的应用上，本发明的表面处理设备可以有许多形式的实施例，以下将参照图5至图8说明之。

如图5所示，表面处理设备5包括一第一装载单元44、一干式清洗单元411、一疏水层形成单元42、一第一热处理单元43以及一第一卸载单元45。在本实施例中，先将一储存有数个未清洗的待处理物的储存盒传送至第一装载单元44，然后，利用机械手臂依序取出储存盒中的待处理物，并传送至干式清洗单元411以进行一干式清洗程序；接着，待处理物再被传送至疏水层形成单元42以进行疏水层形成程序，然后传送至第一热处理单元43以干燥疏水层；最后，再利用机械手臂将形成有疏水层的待处理物自第一热处理单元43移至第一卸载单元45，并将待处理物储存于另一储存盒中。在本实施例中，待处理物可以是盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板。

另外，表面处理设备5亦可以批次输送一批待处理物，以便同时在数个待处理物上形成疏水层。如前所述，表面处理设备5可以将储存有数个未清洗的待处理物的储存盒依序传送至第一装载单元44、干式清洗单元411、疏水层形成单元42、第一热处理单元43及第一卸载单元45，如此一来，便可以同时针对储存盒中的数个待处理物批处理，依序进行清洗程序、疏水层形成程序、及干燥疏水层的步骤。

请参考图6所示，依本发明另一较佳实施例的表面处理设备6包括一第一装载单元44、一湿式清洗单元413、一第二热处理单元46、一疏水层形成单元42、一第一热处理单元43以及一第一卸载单元45。在本实施例中，由于所使用的清洗单元为一湿式清洗单元，其进行一湿式清洗程序以清洁待处理物，所以必须接着将待处理物传送至第二热处理单元46，以干燥经过湿式清洗程序的待处理物。接着，待处理物再依序被传送至疏水层形成单元42及第一热处理单元43，最后，再利用机械手臂将形成有疏水层的待处理物自第一热处理单元43移至第一卸载单元45，并将待处理物储存于另一储存盒中。

如前所述，表面处理设备6亦可以传送储存有数个待处理物的储存盒，以便同时进行数个待处理物的湿式清洗程序、干燥待处理物的步骤、疏水层形成程序、及干燥疏水层的步骤。

如图7所示，依本发明另一较佳实施例的表面处理设备7包括一第一装载单元44、一干式清洗单元411、一第二卸载单元47、一传送单元48、一第二装载单元49、一疏水层形成单元42、一第一热处理单元43以及一第一卸载单元45。在本实施例中，先将一储存有数个未清洗的待处理物的储存盒传送至第一装载单元44，然后，利用机械手臂依序取出储存盒中的待处理物，并传送至干式清洗单元411以进行一干式清洗程序；其次，再利用机械手臂将经过干式清洗程序的待处理物自干式清洗单元411移至第二卸载单元47，并将待处理物储存于另一储存盒中；接着，传送单元48将另一储存盒连同其中的待处理物自第二卸载单元47传送至第二装载单元49；然后，再利用机械手臂自第二装载单元49依序取出储存盒中的待处理物，并传送至疏水层形成单元42以进行疏水层形成程序，再接着传送至第一热处理单元43以干燥疏水层；最后，再利用机械手臂将形成有疏水层的待处理物自第一热处理单元43移至第一卸载单元45，并将待处理物储存于又一储存盒中。

另外，表面处理设备7亦可以批次输送一批待处理物，以便同时在数个待处理物上形成疏水层。如前所述，表面处理设备7可以将储存有数个未清洗的待处理物的储存盒依序输送至第一装载单元44、干式清洗单元411、第二卸载单元47、传送单元48、第二装载单元49、疏水层形成单元42、第一热处理单元43及第一卸载单元45，如此一来，便可以同时针对储存盒中的数个待处理物依序进行清洗程序、疏水层形成程序、及干燥疏水层的步骤。

请参照图8所示，依本发明另一较佳实施例的表面处理设备8包括一第一装载单元44、一湿式清洗单元413、一第二热处理单元46、一第二卸载单元47、一传送单元48、一第二装载单元49、一疏水层形成单元42、一第一热处理单元43以及一第一卸载单元45。在本实施例中，由于所使用的清洗单元为一湿式清洗单元413，其进行一湿式清洗程序以清洁待处理物，所以必须接着将待处理物传送至第二热处理单元46，以干燥经过湿式清洗程序的待处理物。接着，再利用机械手臂将经过干燥的待处理物自第二热处理单元46传送至第二卸载单元47，并将待处理物储存于另一储存盒中；接着，传送单元48将此储存盒连同其中的待处理物自第二卸载单元47传送至第二装载单元49；然后，待处理物再依序被传送至疏水层形成单元42及第一热处理单元43。最后，再利用机械手臂将形成有疏水层的待处理物自第一热处理单元43移至第一卸载单元45，并将待处理物储存于另一储存盒中。

另外，表面处理设备8亦可以批次传送一批待处理物，以便同时在数个待处理物上形成疏水层。如前所述，表面处理设备8可以将储存有数个未清洗的待处理物的储存盒依序输送至第一装载单元44、湿式清洗单元413、第二热处理单元46、第二卸载单元47、传送单元48、第二装载单元49、疏水层形成单元42、第一热处理单元43及第一卸载单元45，如此一来，便可以同时针对储存盒中的数个待处理物批处理，依序进行清洗程序、疏水层形成程序、及干燥疏水层的步骤。

综上所述，由于依本发明的表面处理设备于现有的清洗单元之后再设置疏水层形成单元，所以，在进行清洗程序来处理待处理物的表面后，能够利用疏水层形成单元于待处理物的亲水性表面上形成一疏水层，以避免空气中的水气或是挥发性的污染物沾附在待处理物的表面上，进而改善封胶层或保护层于封装时的接着力，故能够降低水气从此界面进入平面显示面板的机会，以提升显示面板的品质。

以上所述仅为举例性，而非为限制性。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于权利要求书的范围中。

Claims (25)

1.一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备，其特征在于，至少包含：

一清洗单元，其进行一清洗程序以清洁一待处理物的表面；

一疏水层形成单元，其进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上；以及

一第一热处理单元。

2.如权利要求1所述的表面处理设备，其中，待处理物为盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板，其中平面显示面板依序包含一基板、至少一发光区以及一盖板，或是依序包含一基板、至少一发光区以及至少一保护层。

3.如权利要求1所述的表面处理设备，其中更包含：

一第一装载单元，其用以储存未清洗的待处理物，且待处理物自第一装载单元传送至清洗单元；以及

一第一卸载单元，其用以储存形成有疏水层的待处理物，且待处理物自第一热处理单元传送至第一卸载单元。

4.如权利要求3所述的表面处理设备，其中更包含：

一第二卸载单元，其用以储存经过清洗程序的待处理物；

一传送单元；以及

一第二装载单元，传送单元将待处理物自第二卸载单元传送至第二装载单元，而待处理物更自第二装载单元传送至疏水层形成单元。

5.如权利要求4所述的表面处理设备，其中，待处理物储存于一设置于第二卸载单元的储存盒中，而传送单元将储存盒自第二卸载单元传送至第二装载单元。

6.如权利要求1所述的表面处理设备，其中，于清洗单元与疏水层形成单元之间，更包含一第二热处理单元，其干燥经过清洗程序的待处理物。

7.如权利要求1所述的表面处理设备，其中，疏水层为一氟硅烷醇化合物或类钻石薄膜。

8.如权利要求1所述的表面处理设备，其中，疏水层形成程序是以沉浸、涂布、沉积、表面处理或喷淋方式形成疏水层。

9.如权利要求1所述的表面处理设备，其中，清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元为一丛簇式配置或一直线式配置。

10.一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备，其待处理物储存于一储存盒中，其特征在于，该表面处理设备至少包含：

一清洗单元，储存盒传送至清洗单元，清洗单元进行一清洗程序以清洁储存于储存盒中的待处理物的表面；

一疏水层形成单元，储存盒传送至疏水层形成单元，疏水层形成单元进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于储存盒中的待处理物之上；以及

一第一热处理单元，储存盒传送至第一热处理单元。

11.如权利要求10所述的表面处理设备，其中，待处理物为盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板，其中平面显示面板依序包含一基板、至少一发光区以及一盖板，或是依序包含一基板、至少一发光区以及至少一保护层。

12.如权利要求10所述的表面处理设备，其中更包含：

一第一装载单元，其用以储存未清洗的待处理物及储存有待处理物的储存盒，且储存盒自第一装载单元传送至清洗单元；以及

一第一卸载单元，其用以储存形成有疏水层的待处理物及储存有待处理物的储存盒，且储存盒自第一热处理单元传送至第一卸载单元。

13.如权利要求12所述的表面处理设备，其中更包含：

一第二卸载单元，其用以储存经过清洗程序的待处理物及储存有待处理物的储存盒；

一传送单元；以及

一第二装载单元，传送单元将储存盒自第二卸载单元传送至第二装载单元，而储存盒更自第二装载单元传送至疏水层形成单元。

14.如权利要求10所述的表面处理设备，其中，于清洗单元与疏水层形成单元之间，更包含一第二热处理单元，储存盒自清洗单元传送至第二热处理单元，第二热处理单元干燥经过清洗程序的待处理物。

15.如权利要求10所述的表面处理设备，其中，疏水层为一氟硅烷醇化合物或类钻石薄膜。

16.如权利要求10所述的表面处理设备，其中，疏水层形成程序以沉浸、涂布、沉积、表面处理或喷淋方式形成疏水层。

17.如权利要求10所述的表面处理设备，其中，清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元为一丛簇式配置或一直线式配置。

18.一种形成一疏水层于待处理物的表面处理设备，其特征在于，至少包含：

一第一装载单元，其用以储存未清洗的待处理物；

一清洗单元，其进行一清洗程序以清洁待处理物的表面；

一疏水层形成单元，其进行一疏水层形成程序以形成一疏水层于待处理物之上；

一第一热处理单元；以及

一第一卸载单元。

19.如权利要求18所述的表面处理设备，其中，待处理物为盖板、基板、形成有发光区的基板或平面显示面板，其中平面显示面板依序包含一基板、至少一发光区以及一盖板，或是依序包含一基板、至少一发光区以及至少一保护层。

20.如权利要求18所述的表面处理设备，其中更包含：

一第二卸载单元，其用以储存经过清洗程序的待处理物；

一传送单元；以及

一第二装载单元，传送单元将待处理物自第二卸载单元传送至第二装载单元，而待处理物更自第二装载单元传送至疏水层形成单元。

21.如权利要求20所述的表面处理设备，其中，待处理物储存于一设置于第二卸载单元的储存盒中，而传送单元将储存盒自第二卸载单元传送至第二装载单元。

22.如权利要求18所述的表面处理设备，其中，于清洗单元与疏水层形成单元之间，更包含一第二热处理单元，其干燥经过清洗程序的待处理物。

23.如权利要求18所述的表面处理设备，其中，疏水层为一氟硅烷醇化合物或类钻石薄膜。

24.如权利要求18所述的表面处理设备，其中，疏水层形成程序以沉浸、涂布、沉积、表面处理或喷淋方式形成疏水层。

25.如权利要求18所述的表面处理设备，其中，清洗单元、疏水层形成单元及第一热处理单元为一丛簇式配置或一直线式配置。

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