CN1615068A - 挠性电路板 - Google Patents
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Abstract
提供一种低成本的、低刚度的挠性电路板,而不会破坏挠性电路板的双面电路布线之间的导通可靠性。一种双面挠性电路板,利用粘接剂层(2)在具有挠性和绝缘性的基体材料(1)的两面敷设铜箔(3),在由该铜箔形成的电路布线之间形成了层间导电通路(4),其特征在于:上述电路板是利用厚度为0.3~9μm的粘接层(6)在热膨胀系数在5~27ppm/℃的范围内、厚度在25μm以下的挠性绝缘膜(5)上粘接铜箔(7),上述层间导电通路是利用面板电镀法形成的厚度在9μm以下的铜电镀层(8)。
Description
技术领域
本发明涉及挠性电路板,特别涉及具有很好的柔软性且制作成本低的挠性电路板。
背景技术
挠性电路板具有柔软和易弯曲的特性,大多使其侧面形状呈U字或α型弯曲,然后装入小型信息机器(便携式电话、数字照相机、数字摄像机、笔记本电脑、硬盘驱动器和光驱等)的可动部中,以便在弯曲的状态下向其供给信号或电源。
而且,伴随小型信息机器的轻薄短小,底板的安装空间变小,呈U字或α型弯曲后装入可动部的挠性电路板的弯曲半径亦随之减小。
另一方面,在小型信息机器中,作为具有挠性电路板的可动部的驱动源,大多具有电机,但为了实现轻薄短小,需要使电机进一步小型化。这样的小型电机虽然具有体积小、功耗低的效果,但驱动力矩也小。
加之,用于可动部的挠性电路板主要采用弯曲性好的单面布线结构,但因近年来,伴随小型信息机器的轻薄短小和高性能化,布线密度提高,所以,用于可动部的挠性电路板也要求采用双面布线结构。这会使挠性电路板的弯曲性能变差。
此外,在具有双面布线结构的双面挠性电路板中,为了使双面布线之间实现电连接,一般使用利用所谓面板电镀法连接形成层间导电通路的方法,即,利用NC钻头、冲孔、激光、等离子体蚀刻和化学蚀刻等方法对敷铜积层板进行穿孔,在其上形成通孔(through-hole)或过孔(blind·via-hole),在已开口的导通孔和敷铜积层板的整个表面形成电镀膜。
但是,因不仅层间导通部而且弯曲部的铜箔也变厚,故整个电路板的刚性提高了,使弯曲性能进一步恶化。即,对于用于小型信息机器的可动部的挠性电路板,存在这样的实际情况,因要求其曲率半径更小,故需要很大的驱动力,而电机的力矩则因小型化的结果而减小。
因此,在先有的挠性电路板中,存在柔软性不足、不能得到足够的弯曲性能的问题。
为了解决这一问题,若按照过去的方法,采用所谓部分电镀法,即如图2所示,对要求弯曲的电路部分不进行通孔电镀,只对通孔部进行15~20μm厚的电镀。在该图2中,1是挠性绝缘膜,2是粘接剂,3是铜箔,4是表示利用部分电镀法形成的层间导通电镀膜。
如图2所示,当使用部分电镀法时,制造成本上升。即,部分电镀法附加了很多工序,即,在利用印刷或层压的方法在铜箔上形成感光性的电镀保护层之后,进行电镀保护层的暴光工序、显像工序和固化工序,然后,形成铜导线图形,进而,进行电镀保护层的剥离工序等。因此,与通常的面板电镀法比较,增加了成本,使成本变得非常高。
另一方面,从市场的观点出发,对低刚度、低成本的挠性电路板的需求日益增强,必须有对应的策略。
发明内容
本发明是考虑上述各点而提出的,其目的在于提供一种低成本的、低刚度的挠性电路板,而不会破坏挠性电路板的双面电路布线之间的导通可靠性。
为了达到上述目的,本发明是一种双面挠性电路板,利用粘接剂层在具有挠性和绝缘性的基体材料的两面敷设铜箔,在由该铜箔形成的电路布线图形之间形成了层间导电通路,其特征在于:上述电路板是利用厚度为0.3~9μm的粘接层在热膨胀系数在5~27ppm/℃的范围内、厚度在25μm以下的挠性绝缘膜上粘接铜箔,上述层间导电通路是利用面板电镀法形成的厚度在9μm以下的铜电镀层。
本发明如上所述,因使用CTE20ppm/℃以下的挠性绝缘膜,且将使用的粘接剂的厚度、铜箔和电镀层的厚度抑制到一定值之下,故可以提供能满足小型信息机器要求的低刚度、低成本的挠性电路板。结果,可以实现信息机器的小型化、低功耗、高性能和低成本。
附图说明
图1是表示本发明的挠性电路板的截面结构的说明图。
图2是表示先有的挠性电路板的截面结构的说明图。
发明的具体实施方式
参照图1说明本发明的一实施例。图1示出本发明的挠性电路板的截面,在挠性绝缘膜1的两面敷设粘接剂层2,在其上敷设铜箔3,作为最外层,利用面板电镀形成电镀膜4。
构造上的特征
作为本发明使用的挠性绝缘膜,可以举出聚酰亚胺、聚酰胺、液晶聚合物等,作为粘接剂,是环氧树脂系、酚系、丙烯基系、亚胺系和氨基系等化合物,最好是环氧树脂系、亚胺系的化合物。
而且,为了减小尺寸变化的绝对值,作为挠性绝缘膜的热膨胀系数(CTE),选择5~27ppm/℃的范围,最好选择10~20ppm/℃的范围,而且将粘接剂层的厚度抑制在0.3~9μm。
因此,当首先加冷热负荷观测其尺寸变化时,发现可以减小厚度(挠性绝缘膜+粘接剂)尺寸变化的绝对值。而且,即使使通孔或过孔的电镀层的厚度比过去的电镀层的厚度薄,也可以确保和过去的电路板相同的导通可靠性。
进而,若使用热膨胀系数(CTE)在15~18ppm/℃范围内的绝缘膜,在当部件安装等时有温度变化的情况下,可以更好地抑制挠性电路板的尺寸变化。
此外,为了使挠性电路板满足低刚度的要求,最好使粘接剂层的厚度为3~7μm。
制造工序上的特征
作为敷铜积层板用的粘接剂,通过使用热硬化性粘接剂,可以不使用高温层压设备,而在较低的温度下进行处理。即,在制造能得到充分的耐热性、例如焊接耐热性或耐软溶性的敷铜积层板作为挠性电路板时,不需要能升温到当使用热可塑性的粘接剂时必需要的300℃以上的高温层压设备,可以在常温下涂敷粘接剂,再在100℃左右的低温下进行热滚动层压。
由此,可以减小层压时发生的绝缘膜和铜箔的尺寸变化的差,防止翘曲。加之,便宜的热硬化性粘接剂的产品比热可塑性的多,通过使用热硬化性粘接剂,可以进行批量热处理,所以,可以提高敷铜积层板、进而挠性电路板的生产效率和降低成本。
通过使铜箔的厚度在14μm以下,可以更加降低挠性电路板的刚度,进而,还可以提高NC钻孔加工或激光加工时的生产效率。
进而,使挠性绝缘膜或粘接剂的厚度变薄可以降低刚度,进而可以提高NC钻孔加工或激光加工时的生产效率。
因此,不仅能够代替为了实现低刚度而采用的成本高的部分电镀,而使用成本低的面板电镀,而且,因电镀层的厚度可以变薄故可以提高面板电镀的生产效率。
(实施例1)
构造
本发明的一实施例的结构如下。首先,在作为基体材料1的12.5μm厚的聚酰亚胺薄膜(热膨胀系数16ppm/℃、アピカルNPI)的两面,涂敷6μm厚的环氧树脂系粘接剂,干燥后,利用热滚压,在其两面层压12μm厚的铜箔,再利用烘箱进行粘接剂的固化,由此制造出敷铜积层板。利用NC钻头在该敷铜积层板上开0.3mm的孔,然后,作为通孔电镀,进行6μm厚的铜面板电镀。
与此对应,过去的挠性电路板的结构如下。在25μm厚的聚酰亚胺薄膜(热膨胀系数26ppm/℃、カプトンH)的两面,涂敷10μm厚的环氧树脂系粘接剂,干燥后,利用热滚压,在其两面层压18μm厚的铜箔,再利用烘箱进行粘接剂的固化,由此制造出敷铜积层板。利用NC钻头在该敷铜积层板上开0.3mm的孔,然后,作为通孔电镀,进行15μm厚的铜面板电镀。
试验结果
根据本发明,通过作为刚度指标之一的循环刚度试验得到的值,与过去的结构相比,是其1/4以下。
此外,为了确认利用本发明形成的通孔的可靠性,作为冷热冲击试验,在-65℃到125℃之间进行了100次循环。结果,电阻变化率在20%之内,具有和过去的电路板同等充分的连接可靠性。
Claims (4)
1.一种双面挠性电路板,利用粘接剂层在具有挠性和绝缘性的基体材料的两面敷设铜箔,在由该铜箔形成的电路布线图形之间形成了层间导电通路,其特征在于:
上述电路板是利用厚度为0.3~9μm的粘接层在热膨胀系数在5~27ppm/℃的范围内、厚度在25μm以下的挠性绝缘膜上粘接铜箔,
上述层间导电通路是利用面板电镀法形成的厚度在9μm以下的铜电镀层。
2.权利要求1记载的挠性电路板,其特征在于:上述挠性绝缘膜的热膨胀系数为10~20ppm/℃。
3.权利要求1记载的挠性电路板,其特征在于:上述粘接层的厚度为3~7μm。
4.权利要求1记载的挠性电路板,其特征在于:上述铜箔的厚度在14μm以下。
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