CN1612648A - 有机发光显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种有机发光显示面板,包含一基板、至少一有机发光区、至少一保护层以及至少一阻隔层,其中,有机发光区形成于基板之上,且有机发光区具有数个像素;保护层形成于基板与有机发光区之上;阻隔层形成于保护层之上。
Description
技术领域
本发明涉及一种显示面板,特别是一种有机发光显示面板。
背景技术
近年来平面显示器朝着高亮度、平面化、轻薄以及省能源的趋势发展,有鉴于此,有机发光(OEL)显示装置成为目前光电产业中极欲发展的方向之一。有机发光显示装置是一种利用有机官能性材料(organic functional materials)的自发光的特性来达到显示效果的装置,依照有机官能性材料的分子量不同,可分为小分子有机发光显示装置(small molecule OLED,SM-OLED)与高分子有机发光显示装置(polymer light-emitting display,PLED)两大类。
由于有机发光元件(有机官能性材料)对于水气与氧气非常敏感,与大气接触后容易产生暗点(Dark Spot),所以,为了确保有机发光元件的使用寿命,如图1所示,目前的封装方式是利用紫外光硬化树脂31将封装外壳32与有机发光装置3的基板33相互封合,使有机发光元件34位于一密闭空间中。然而,此种装置的体积较大,仍有改善空间,以符合轻、薄、短、小的趋势,而水气与氧气仍然可以经由紫外光硬化树脂31而入侵到装置内部,进而影响有机发光装置3的寿命。
反观另一种目前所使用的封装方式,是利用溅镀、电浆辅助化学气相沉积(PECVD)或是电子束等方式将无机膜(如SixOy)直接沉积在有机发光元件上。然而,由于有机发光元件的表面并不平坦,使得无机膜产生不连续的情形,更使得水气与氧气经由膜层的孔隙入侵到元件内部。为避免此一问题,如图2所示,第一种解决方式是沉积一层厚度非常厚(约0.1微米至10微米)的无机膜41来包覆整个有机发光元件42,然而过厚的无机膜41其膨胀或是收缩能力会受到限制,因而产生内应力,严重时更有可能造成无机膜41剥离脱膜的情况。另外,如图3所示,第二种解决方式是于无机膜41与有机发光元件42之间蒸镀或是涂布上一层有机层43当作缓冲层(buffer layer)使用,然而,有机层耐热能力较差,在高温环境下可能会龟裂而导致防水层失效,再者,若是用涂布的方式,未硬化前的有机层43中的溶剂以及水气有可能会侵蚀有机发光元件42,且硬化后的有机层43亦有可能发生outgassing的现象。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足与缺陷,提供一种阻止水气以及氧气入侵的有机发光显示面板。
为达上述目的,依据本发明的一种有机发光显示面板,包含一基板、至少一有机发光区、至少一保护层以及至少一阻隔层,其中,有机发光区形成于基板之上,且有机发光区具有数个像素;保护层系形成于基板与有机发光区之上;阻隔层形成于保护层之上。
为达上述目的,依据本发明的一种有机发光显示面板,包含一基板、至少一有机发光区、至少一保护层、数个突部以及至少一阻隔层,其中,有机发光区形成于基板之上,且有机发光区具有数个像素;保护层形成于基板与有机发光区之上;突部形成于保护层上;阻隔层形成于突部及/或保护层之上。
承上所述,于本发明的有机发光显示面板中,于保护层上形成有至少一层结构的阻隔层。与现有技术相比,本发明的阻隔层能够错开阻隔层之间孔隙的位置,有效地补偿膜层的缺陷。另外,至少一层结构更使得水气的穿透路径增长,进一步防止水气与氧气入侵到元件内部。又,本发明中的阻隔层更可由具有不同杨氏模数的阻隔层所组成,将具有较低杨氏模数的阻隔层夹置于具有较高杨氏模数的阻隔层之间以产生缓冲的作用,藉以降低阻隔层之间的应力。再者,利用数个突部使得阻隔层成波浪状,此举可以增加阻隔层与其它部分(保护层与突部)的接触面积与附着力,同时更可减少热涨冷缩时所产生的应力。另外,阻隔层可利用光化学气相沉积法形成,利用光化学气相沉积法不仅可以在低温(约300℃以下)下提供足够的成膜速率,又,由于低温所形成的膜层结构较为松散,可减低膜层的内应力,更可减少膜层剥落的可能性。
附图说明
图1为现有有机发光元件的封装方式的一实施示意图;
图2为现有有机发光元件的封装方式的另一实施示意图;
图3为现有有机发光元件的封装方式的再一实施示意图;
图4为本发明第一实施例中有机发光显示面板的一示意图;
图5为本发明第二实施例中有机发光显示面板的一示意图;
图6为本发明第二实施例中有机发光显示面板的另一示意图。
图中符号说明
1 有机发光显示面板
11 基板
12 有机发光区
121 像素
1211 第一电极
1212 有机官能层
1213 第二电极
13 保护层
14、141、142、143阻隔层
2 有机发光显示面板
21 基板
22 有机发光区
221 像素
2211 第一电极
2212 有机官能层
2213 第二电极
23 保护层
24 突部
25 阻隔层
3 有机发光装置
31 紫外光硬化树脂
32 封装外壳
33 基板
34 有机发光元件
41 无机膜
42 有机发光元件
43 有机层
具体实施方式
以下将参照相关附图,说明依据本发明较佳实施例的有机发光显示面板。为便于说明,相关附图仅以单一像素显示于后。
第一实施例
如图4所示,依据本发明第一实施例的有机发光显示面板1,包含一基板11、至少一有机发光区12、至少一保护层13以及至少一阻隔层14,其中,有机发光区12形成于基板11之上,且有机发光区12具有数个像素121;保护层13形成于基板11与有机发光区12之上;阻隔层14形成于保护层13之上。
于本实施例中,基板11可以是柔性(flexible)基板或是刚性(rigid)基板。另外,基板11亦可以是塑料(plastic)基板或是玻璃基板等等。其中,柔性基板与塑料基板可为聚碳酸酯(polycarbonate,PC)基板、聚酯(polyester,PET)基板、环烯共聚物(cyclic olefincopolymer,COC)基板或金属铬合物基材-环烯共聚物(metallocene-based cyclic olefin copolymer,mCOC)基板。当然,基板11亦可以是硅基板。
另外,再请参考图4,有机发光区12具有数个像素121,像素121依序包含一第一电极1211、至少一有机官能层1212及一第二电极1213,而第一电极1211位于基板11之上。
于本实施例中,第一电极121 1利用溅镀(sputtering)方式或是离子电镀(ion plating)方式形成于基板11上。在此,第一电极1211通常作为阳极且其材质通常为一透明的可导电的金属氧化物,例如氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AlZnO)或是氧化铟锌(IZO)。
另外,有机官能层1212通常包含一电洞注入层、一电洞传递层、一发光层、一电子传递层以及一电子注入层(图中未显示)。其中,有机官能层1212利用蒸镀(evaporation)、旋转涂布(spin coating)、喷墨印刷(ink jet printing)或是印刷(printing)等方式形成于第一电极1211上。此外,有机官能层1212所发射的光线可为蓝光、绿光、红光、白光、其它的单色光或单色光组合成的彩色光。
再请参考图4,第二电极1213位于有机官能层1212上。于此,第二电极1213使用蒸镀或是溅镀(sputtering)等方法形成于有机官能层1212上。另外,第二电极1213的材质可选自但不限定为铝(Al)、钙(Ca)、镁(Mg)、铟(In)、锡(Sn)、锰(Mn)、银(Ag)、金(Au)及含镁的合金(例如镁银(Mg:Ag)合金、镁铟(Mg:In)合金、镁锡(Mg:Sn)合金、镁锑(Mg:Sb)合金及镁碲(Mg:Te)合金)等。
接着,再请参考图4,保护层13形成于基板11与有机发光区12之上。于此,保护层13可利用光化学气相沉积法形成于基板11与有机发光区12之上。其中,光化学气相沉积法可以是真空紫外光(VacuumUltra-Violet,VUV)化学气相沉积法。
由于光化学气相沉积法利用光子来分解激发反应气体,所以反应得以在低温(约为300℃以下)环境进行。另外,于本实施例中,由于光化学气相沉积法所形成的保护层13结构较为松散,可降低膜层的内应力,所以能够避免保护层13剥离脱落。
再请参考图4,本实施例中的保护层13具有防水以及防氧的功能,可保护有机发光区12不受水气与氧气的影响。再者,保护层13亦用以包覆不平坦的有机发光区12,作为平坦化之用,使得后续形成于保护层13上的膜层(如图4中的阻隔层14)具有较佳的均匀性,而不会发生不连续的情形。同时,保护层13更可包覆制程中所存在的微粒子。
于本实施例中,保护层13为无机材质,且保护层13选自氧化硅(SiO2)、类钻石薄膜(Diamond Like Carbon,DLC)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)以及三氧化二铝(Al2O3)至少其中之一。
再请参照图4,本实施例的数个阻隔层14形成于保护层13之上。其中,阻隔层14中的至少一层可利用光化学气相沉积法形成。当然,阻隔层14中的至少一层亦可利用溅镀法形成。
如上所述,利用光化学气相沉积法所形成的阻隔层14结构较为松散,可降低膜层的内应力,所以能够避免阻隔层14剥离脱落。
于本实施例中,阻隔层14为无机材质,其中,阻隔层14选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝及金属(包括但不限于铝、铜、金以及银)至少其中之一。于此,阻隔层14具有防水性,可进一步提高有机发光显示面板1的可靠度。
再者,本实施例的阻隔层14亦可同时具有防水性以及缓冲功能。例如:如图4所示,阻隔层141、143(材质如氮化硅、氮氧化硅、类钻石薄膜、三氧化二铝及金属(例如、铝、铜、金以及银))具有极高的防水性,能够有效防止水气以及氧气的入侵;而夹置于阻隔层141、143之间的阻隔层142(材质如氧化硅)则具有较小的机械强度,使其具有缓冲功能,能够有效地降低阻隔层14的内应力。此种多层次结构能够错开阻隔层14之间孔隙的位置,有效地补偿膜层的缺陷,另外更使得水气的穿透路径增长,进一步加强防水的效果。
第二实施例
另外,如图5以及图6所示,本发明第二实施例的有机发光显示面板2,包含一基板21、至少一有机发光区22、至少一保护层23、数个突部24以及至少一阻隔层25,其中,有机发光区22形成于基板21之上,且有机发光区22具有数个像素221;保护层23形成于基板2 1与有机发光区22之上;突部24形成于保护层23上;阻隔层25形成于突部24及/或保护层23之上。
另外,像素221依序包含一第一电极2211、至少一有机官能层2212及一第二电极2213,而第一电极2211位于基板21之上。
于本实施例中,基板21、有机发光区22、像素221、第一电极2211、有机官能层2212、第二电极2213以及保护层23的特征与功能与第一实施例中的相同元件相同,在此不再赘述。
接着,再请参照图5以及图6,突部24形成于保护层23上。于本实施例中,突部24相互连接(如图5所示)。当然,突部24亦可以独立设置(如图6所示)。
于本实施例中,突部24的材质为防水性材料,例如但不限定为感光材料(例如光阻)或二氧化硅。
再者,本实施例的突部24的形状可以是点块状或是长条块状等等。另外,于本实施例中,如图6所示,突部24的侧面与保护层23之间的夹角θ约大于或等于90°,其为了避免后续所形成的阻隔层25发生不连续的情形,而使得水气与氧气经由孔隙进入。
另外,如图5与图6所示,由于阻隔层25形成于突部24及/或保护层23之上,使得阻隔层25呈现类似波浪状的结构,此种结构不仅增加了阻隔层25与其它部分(突部24与保护层23)之间的接触面积以及附着力,更可减少热涨冷缩的应力。
于本实施例中,除了形状之外,阻隔层25其余的特征与功能与第一实施例中的相同,在此亦不再赘述。
于本发明的有机发光显示面板中,是于保护层上形成有至少一层结构的阻隔层。与现有技术相比,本发明的阻隔层能够错开阻隔层之间孔隙的位置,有效地补偿膜层的缺陷。另外,至少一层结构更使得水气的穿透路径增长,进一步防止水气与氧气入侵到元件内部。又,本发明中的至少一层阻隔层更可由具有不同杨氏模数的阻隔层所组成,将具有较低杨氏模数的阻隔层夹置于具有较高杨氏模数的阻隔层之间以产生缓冲的作用,藉以降低阻隔层之间的应力。再者,利用数个突部使阻隔层成波浪状,此举可以增加阻隔层与其它部分(保护层与突部)的接触面积与附着力,同时更可减少热涨冷缩时所产生的应力。另外,阻隔层可利用光化学气相沉积法形成,利用光化学气相沉积法不仅可以在低温(约300℃)下提供足够的成膜速率,又,由于低温所形成的膜层结构较为松散,可减低膜层的内应力,更可减少膜层剥落的可能性。
以上所述仅为举例性,而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴,而对其进行的等效修改或变更,均应包含于权利要求书的范围中。
Claims (27)
1.一种有机发光显示面板,其特征在于,包含:
一基板;
至少一有机发光区,其形成于基板之上,且有机发光区具有数个像素;
至少一保护层,其形成于基板与有机发光区之上;以及
至少一阻隔层,其形成于保护层之上。
2.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,像素依序包含一第一电极、至少一有机官能层及一第二电极。
3.如权利要求2所述的有机发光显示面板,其中,第一电极的材质为导电的金属氧化物。
4.如权利要求2所述的有机发光显示面板,其中,第二电极的材质选自铝、钙、镁、铟、锡、锰、银、金及含镁的合金至少其中之一。
5.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,保护层为无机材质。
6.如权利要求5所述的有机发光显示面板,其中,保护层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二铝至少其中之一。
7.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,保护层以光化学气相沉积法形成。
8.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层为无机材质。
9.如权利要求8所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
10.如权利要求9所述的有机发光显示面板,其中,金属包括但不限定为铝、铜、金及银。
11.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层具有防水性。
12.如权利要求11所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层的至少一层具有缓冲性。
13.如权利要求1所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层中的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
14.一种有机发光显示面板,其特征在于,包含:
一基板;
至少一有机发光区,形成于基板之上,且有机发光区具有数个像素;
至少一保护层,形成于基板与有机发光区之上;
数个突部,形成于保护层上;以及
至少一阻隔层,其形成于突部及/或保护层之上。
15.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,像素依序包含一第一电极、至少一有机官能层及一第二电极。
16.如权利要求15所述的有机发光显示面板,其中,第一电极的材质为导电的金属氧化物。
17.如权利要求15所述的有机发光显示面板,其中,第二电极的材质选自铝、钙、镁、铟、锡、锰、银、金及含镁的合金至少其中之一。
18.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,保护层为无机材质。
19.如权利要求18所述的有机发光显示面板,其中,保护层选自氧化硅、类钻石薄膜、氮化硅、氮氧化硅以及三氧化二铝至少其中之一。
20.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,保护层以光化学气相沉积法形成。
21.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,突部的材质为防水性材料。
22.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层为无机材质。
23.如权利要求22所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层选自氧化硅、氮化硅、类钻石薄膜、氮氧化硅、三氧化二铝及金属至少其中之一。
24.如权利要求23所述的有机发光显示面板,其中,金属包括但不限定为铝、铜、金及银。
25.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层具有防水性。
26.如权利要求25所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层的至少一层具有缓冲性。
27.如权利要求14所述的有机发光显示面板,其中,阻隔层的至少一层以光化学气相沉积法或所以溅镀法形成。
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