CN1585068A - 一种放电灯腔体内壁的处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种放电灯壳体内壁的处理方法，它是采用化学气相沉积工艺(CVD工艺)，在灯的石英玻璃壳体内壁，沉积高纯的四氯化硅，或二氧化硅，形成—涂层，以提高灯的石英玻璃的耐温性和抗结晶性能，从而延长灯的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及一种放电灯腔体内壁的处理方法。
背景技术
现有的放电灯，例如金属卤化物灯和投影灯，广泛用于各种照明领域，其优点是发光效率高，光色好，灯启动时间短，发光体积小，是理想的点光源。但是，这两种灯的腔体石英玻璃耐高温性和抗析晶性较差，灯使用中内腔壁易石英化。方石英为SiO2晶体，当灯冷却时，晶型转化(β方石英转变为α方石英)属于急转变，转变时伴随体积变化，造成很多小裂纹，以至失透，降低光透过率，当析晶层达到一定厚度时，灯泡壳炸裂。
发明内容
本发明的目的是提供一种新的用于放电灯腔体内壁的处理方法，它可以提高石英玻璃的耐温性(从1000℃提高到1600℃)和抗结晶性能，从而延长灯的使用寿命。
本发明的目的是这样实现的：在制灯前或在制灯过程中，采用化学气相沉积工艺(CVD工艺)，在石英玻璃内壁和外壁，沉积氮化硅或超纯二氧化硅涂层，涂层厚度根据产品要求而定。采用原料为高纯氨和高纯氧、高纯四氯化硅。二氧化硅的金属杂质总量≤1PPM，羟基≤1PPM。
由于采用上述方案，不但可以克服放电灯壳体的石英玻璃耐温性和抗结晶性差的缺陷，而且最大限度地降低石英玻璃中的金属杂质含量，以达到延长灯的使用寿命之目的。
具体实施方式
在放电灯的低羟基石英玻璃壳体的内壁，采用化学气相沉积工艺(CVD工艺)，沉积高纯SiN4或高纯SiO2，以形成灯壳体内壁的石英玻璃涂层，涂层厚度根据产品要求而定。
Claims (1)
- 一种用于放电灯腔体内壁的处理方法，其特征是，在灯的低羟基石英玻璃壳体的内壁，采用化学气相沉积工艺，沉积高纯SiN4或高纯SiO2，以形成石英玻璃涂层，其厚度根据产品要求而定。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200410042633 CN1585068A (zh) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 一种放电灯腔体内壁的处理方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN 200410042633 CN1585068A (zh) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 一种放电灯腔体内壁的处理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1585068A true CN1585068A (zh) | 2005-02-23 |
Family
ID=34601635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN 200410042633 Pending CN1585068A (zh) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | 一种放电灯腔体内壁的处理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN1585068A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102976625A (zh) * | 2011-09-05 | 2013-03-20 | 华灯光电股份有限公司 | 玻璃管及其制造方法 |
| CN101188184B (zh) * | 2006-11-24 | 2013-08-07 | 优志旺电机株式会社 | 放电灯 |
-
2004
- 2004-05-28 CN CN 200410042633 patent/CN1585068A/zh active Pending
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| CN101188184B (zh) * | 2006-11-24 | 2013-08-07 | 优志旺电机株式会社 | 放电灯 |
| CN102976625A (zh) * | 2011-09-05 | 2013-03-20 | 华灯光电股份有限公司 | 玻璃管及其制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |