CN1579981A - 光触媒玻璃之制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光触媒玻璃之制造方法,为了克服现在所生产的所谓自洁玻璃之多样化生产存在灵活度不佳的缺点,从而增加库存压力且难以依据不同业主及建筑师的期望而调整生产条件。其乃是藉由真空溅镀之方法于玻璃之表面镀上二氧化钛之薄膜,其真空溅镀时之操作压力为1×10-3mb~3×10-3mb,通入之气体为280~350sccm之氩气、150~260sccm之氧气、5~20s ccm之氮气,所产生之膜厚为100~200nm,镀膜之辐射率为0.75~0.9。本发明方法可单片生产,亦可上线量产,并经由阴极功率、运输速度、气体含量、膜厚控制及光学数据之弹性调整,可确实满足客户不同需求。
Description
所属技术领域
本发明涉及一种光触媒玻璃之制造方法,尤其是一种可以产生自我清洁效果的光触媒玻璃之制造方法。
背景技术
玻璃为日常生活之中,经常使用到的物品之一,因为使用需求的不同,玻璃的制造及加工方式、特性、强度亦有所不同。传统玻璃在制造上,大部分的原板玻璃制程系将原料经由窑炉加以熔解后,经锡槽将玻璃拉制成所需厚度、宽度,经徐冷窑控制冷却、调整应力以制成原板玻璃。该原板玻璃最后再经由使用之需求进行裁切、加工等程序以提供使用者使用。
然而传统玻璃一旦与商品结合使用,多会在其表面吸附灰尘、污垢,因此使用者在经过一段时间之后,便必须利用玻璃清洁剂进行玻璃表面之清洁,如此不仅麻烦,且徜若该玻璃是使用于高空建筑物之外墙玻璃时,其清洁工程之进行不仅不易且危险,因此若该玻璃可进行自我清洁,则便可省去许多不必要的清洁工程及费用。
玻璃从事业者多已着手尝试开发可进行自我清洁之玻璃,然而由于技术与操作条件上之限制,所生产出来之所谓自洁玻璃之多样化生产之灵活度不佳,增加库存压力且难以依据不同业主及建筑师的期望而调整生产条件。
发明内容
为了克服上述缺陷,为此本发明提供一种可以进行自我清洁,又不必增加库存,且能依客户之设计而灵活生产之玻璃制法。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:这种光触媒玻璃之制造方法,藉由真空溅镀方法于原板玻璃之表面镀上二氧化钛薄膜,其真空溅镀时的操作压力为1×10-3mb~3×10-3mb,通入之气体为280~350sccm之氩气、150~260sccm之氧气、5~20sccm之氮气,所产生之膜厚为100~200nm,镀膜之辐射率为0.75~0.9。
其中原板玻璃在经由真空溅镀后,利用热处理以进行镀膜结晶组织的调整。
其中热处理之玻璃厚度为2~19mm,加热温度为640~740℃,加热时间为100~960秒。
本发明的有益效果是:经由本发明方法,则光触媒玻璃可以进行离线真空镀膜作业,而不同于国外生产自洁玻璃需采原板玻璃线上镀膜或涂抹(易产生膜厚不均)之方式,由于原板玻璃线上镀膜需要量产,且无法因应不同客户需求加以调整,而本发明方法可单片生产,亦可上线量产,并经由阴极功率、运输速度、气体含量、膜厚控制及光学数据之弹性调整,可确实满足客户不同需求。因此以本发明方法制造的自洁玻璃,不必增加库存,且能依客户之设计而灵活生产。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
图1为本发明进行真空溅镀时的离子移动状态示意图。
具体实施方式
实施例,本发明之光触媒玻璃之制造方法乃是在玻璃传统之生产法后,将制造完成之原板玻璃移至真空溅镀槽内进行二氧化钛薄膜之溅镀工程,其中原板玻璃于真空溅镀槽内之操作压力为1×10-3mb~3×10-3mb,通入之气体为280~350sccm之氩气、150~260sccm之氧气、5~20sccm之氮气,所产生之膜厚为100~200nm,镀膜之辐射率为0.75~0.9。
参见图1,本发明乃是将原板玻璃1置于真空溅镀槽之运送滚轮2上,经由运送滚轮2将原板玻璃1运送至溅镀阴极组3之下方,将钛钯6作成为阴极,利用气体供应装置7导入之氩气解离成为氩正离子8,加速撞击阴极之钛钯6表面,将钛原子4溅射到原板玻璃1表面前,其会与导入真空室中之氧气作用而形成二氧化钛原子,并在原板玻璃1表面堆积成为二氧化钛溅镀膜5。
另外,在形成有二氧化钛溅镀膜后之玻璃可依需要再将其移至强化炉中加以热处理,以进行镀膜结晶组织的调整,此项热处理之温度则是取决于光触媒溅镀之玻璃基材厚,其中:玻璃厚度是2~19mm,加热温度为640~740℃,加热时间为100~960秒。
经过热处理之玻璃则以徐冷、急冷或半急冷等不使玻璃破裂之降温法,使玻璃温度降到常温或40~80℃,增加玻璃强度及二氧化钛结晶组织调整。
经由本发明方法,则光触媒玻璃可以进行离线真空镀膜作业,而不同于国外生产白洁玻璃需采原板玻璃线上镀膜或涂抹(易产生膜厚不均)之方式,由于原板玻璃线上镀膜需要量产,且无法因应不同客户需求加以调整,而本发明方法可单片生产,亦可上线量产,并经由阴极功率、运输速度、气体含量、膜厚控制及光学数据之弹性调整,可确实满足客户不同需求。
下面对本发明所用计量单位说明:mb是指毫巴;Sccm是指毫升/每分钟(标准状态下);nm是指纳米(厚度);mm是指毫米。
Claims (3)
1.一种光触媒玻璃之制造方法,其特征是:藉由真空溅镀方法于原板玻璃之表面镀上二氧化钛薄膜,其真空溅镀时的操作压力为1×10-3mb~3×10-3mb,通入之气体为280~350sccm之氩气、150~260sccm之氧气、5~20sccm之氮气,所产生之膜厚为100~200nm,镀膜之辐射率为0.75~0.9。
2.根据权利要求1所述的光触媒玻璃之制造方法,其特征是:其中原板玻璃在经由真空溅镀后,利用热处理以进行镀膜结晶组织的调整。
3.根据权利要求2所述的光触媒玻璃之制造方法,其特征是:其中热处理之玻璃厚度为2~19mm,加热温度为640~740℃,加热时间为100~960秒。
Priority Applications (1)
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CN 03132335 CN1579981A (zh) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 光触媒玻璃之制造方法 |
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CN 03132335 CN1579981A (zh) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 光触媒玻璃之制造方法 |
Publications (1)
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CN1579981A true CN1579981A (zh) | 2005-02-16 |
Family
ID=34578979
Family Applications (1)
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CN 03132335 Pending CN1579981A (zh) | 2003-08-12 | 2003-08-12 | 光触媒玻璃之制造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1330598C (zh) * | 2005-08-22 | 2007-08-08 | 钱中良 | 用真空镀膜机制作镀膜装饰玻璃的方法 |
US8158546B2 (en) | 2007-11-12 | 2012-04-17 | Onid Technology (Shanghai) Corp. | Transparent aqua-based nano sol-gel composition and method of applying the same |
-
2003
- 2003-08-12 CN CN 03132335 patent/CN1579981A/zh active Pending
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US8158546B2 (en) | 2007-11-12 | 2012-04-17 | Onid Technology (Shanghai) Corp. | Transparent aqua-based nano sol-gel composition and method of applying the same |
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