CN1512266A - 光敏平版印刷版的自动处理方法及其自动处理装置 - Google Patents
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Abstract
一种通过用显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影的自动处理方法，该方法包含：如在其中所定义的预先计算步骤，测量步骤和补充步骤，其中在从自动处理装置操作开始后即刻直到测量的显影剂电导率值超过目标电导率值时这样一段时期内，对于显影剂补充剂的每次补充，使用由预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置操作开始后，在测量的显影剂的电导率值第一次超过目标电导率值之后，对显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值。
Description
技术领域
本发明涉及一种例如光敏平版印刷版的自动处理方法和自动处理装置，并且特别是，涉及一种使显影剂敏感度对显影处理条件变化的波动最小化的技术。
背景技术
一般而言，在光敏平版印刷版的自动处理装置中，作为管理显影剂敏感度的措施，采用一种根据时间的显影剂补充剂补充模式，其中在贮存补充剂的显影容器中根据时间补充显影剂补充剂，并且测量将要处理的平版印刷版的印刷版面积，由此以相当于测量值的量补充显影剂补充剂(以下称作“面积/消逝标准补充模式”)。
但是，在这种面积/消逝标准补充模式中，存在一个问题：在自动处理装置的显影处理部分中需要平版印刷版的版面积测量设备，导致结构复杂和成本高。此外，难以区别：平版印刷版的光敏表面是单面或是双面(以下称作“单面/双面”)和印刷版的种类(具有不同涂布量的光敏层等的印刷版)。由于那些原因，存在一个问题：即当根据需要的显影剂补充剂的补充量根据平版印刷版的版面积、单面/双面和印刷版种变的变化而改变时，难以正确地进行显影剂补充剂的补充。
因此，对于补充光敏平版印刷版用自动处理装置的显影剂补充剂的方法，至今已知一种如在例如日本专利2,516,022(JP-A-64-21451)中所述的模式，其中测量显影剂的电导率，将测量值与对于显示由预先实验确定的最佳敏感度的电导率值(以下称作“适宜的电导率值”)进行比较，并且当测量值低于适宜的电导率值时，补充显影剂补充剂(以下将此模式称作“电导率-标准补充模式”)。在这种电导率-标准补充模式中，即使当将要处理的平版印刷版的版面积、单面/双面和印刷版种类变化时，也可以进行补充适当量的显影剂补充剂，并且可以适宜地保持显影剂的敏感度。
但是，存在这样一个实验事实：只由二氧化碳气体随着时间引起疲劳的显影剂和只由印刷版处理引起疲劳的显影剂在适宜的电导率值时是相互不同的(硅酸盐基处理剂/消逝疲劳(由二氧化碳气体导致的疲劳)-补充恢复时间：65mS/cm，由处理所导致的疲劳-补充恢复时间：55mS/cm，非硅酸盐基处理剂/消逝疲劳-补充恢复时间：56mS/cm，由处理所导致的疲劳-补充恢复时间：39mS/cm)。由于此原因，在前面所述的电导率-标准补充模式中，对于其中处理频率，例如每天的处理量不同于预期值的情况，实际消逝补充量与处理补充量的比率也不同于预期值。因此，从各自适宜的电导率计算的显影剂的适宜的电导率值变化并且变得不同于由预先设置的适宜的电导率值，导致不能适宜地保持显影剂的敏感度这样一个问题。
另一方面，JP-A-9-96910建议了一种自动处理装置，其中测量补充时间间隔，确定被认为在时间间隔之内所必需的消逝补充量，将由单位时间的补充量减去此消逝补充量而得到的值作为处理补充量，由此分别确定处理补充量和消逝补充量，并且计算所得到的处理补充量和消逝补充量的比例，由此修正目标电导率值。根据此措施，即使当将要处理的平版印刷版的版面积、单面/双面和印刷版种类变化时，通过估计处理补充量和消逝补充量的比例，也可以精确地计算适宜的目标电导率值。
发明内容
发明概述
但是，根据前面所述其中由补充时间间隔确定处理补充量和消逝补充量的比例，由此修正目标电导率的模式，存在这样一个问题：不能发现自动处理装置的操作时间与停止时间之间的消逝补充量的区别。即，一般而言，在前面所述的消逝补充中，当自动处理装置处于操作状态时，将单位时间的消逝补充量设置得高，反之当自动处理装置处于停止状态时，将单位时间的消逝补充量设置得低。因而，消逝补充量根据自动处理装置在测量补充时间间隔之内处于操作状态或处于停止状态而变化。因此，在自动处理装置启动期间，不能由延伸到自动处理装置结束的补充时间间隔即从最近一次补充所经过的时间，来确定处理补充量和消逝补充量的精确比例，由此可以存在某些可能性：计算出一个不适宜的目标电导率值。
在这些情形下，本发明的一个目的是提供一种自动处理方法及其自动处理装置，其中在电导率-标准补充模式下，尽管自动处理装置的显影部分是一种简单和便宜的构造，但可以使在显影剂敏感度对于显影处理条件的变化方面的波动最小化。
可以通过下面的构造达到本发明上述目的。
(1)一种通过用显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影的光敏平版印刷版的自动处理方法，该方法包含：预先计算具有落入适宜范围的活度的显影剂的电导率值作为目标电导率值，对于根据预先确定的每一固定时期测量显影剂的电导率，并且在测量的电导率值低于目标电导率值的情况下，向显影剂中补充显影剂补充剂，其中：
在从自动处理装置操作开始后即刻直到测量的显影剂电导率值超过目标电导率值时这样一段时期，对于显影剂补充剂的每次补充，使用由预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置操作开始后，在测量的显影剂的电导率值第一次超过目标电导率值之后，对于显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值。
(2)如在(1)中陈述的光敏平版印刷版的自动处理方法，其中第一运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数来修正目标电导率值；并且第二运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数和根据测量的从最近一次的显影剂补充直到当前的显影剂补充所经过的时间来修正用于每一次显影剂补充剂的补充的目标电导率值。
(3)如在(1)中陈述的光敏平版印刷版的自动处理方法，其中在用显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影中，对于根据预先确定的每一固定时期测量显影剂的电导率，并且在测量的电导率值低于目标电导率值的情况下，以预先确定的定额向显影剂中补充显影剂补充剂。
(4)一种配备有补充设备的光敏平版印刷版的自动处理装置，该补充设备用于在显影槽中的显影剂的电导率值低于根据预先计算的目标电导率值时，补充显影剂补充剂，其中：
补充设备配备有：检测在显影槽中的显影剂的电导率值的电导率传感器，向显影槽供给显影剂补充剂的补充剂供给单元，测定在补充显影剂补充剂之后直到下次补充所经过时间的记时器，和控制单元，其设置目标电导率值作为补充显影剂补充剂的标准并且这样控制补充剂供给单元的行动，以便当在显影槽中的显影剂的电导率值低于设置的目标电导率值时，补充显影剂补充剂，和
该控制单元通过下面的方法修正目标电导率值：基于电导率传感器和记时器检测的值，从自动处理装置操作开始之后即刻直到测量的显影剂电导率值超过目标电导率值时这样一个时期，对于显影剂补充剂的每次补充，使用由预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置操作开始之后，在测量的显影剂的电导率值第一次超过目标电导率值之后，对于显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值。
(5)如在(4)中陈述的光敏平版印刷版的自动处理装置，其中第一运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数来修正目标电导率值；并且第二运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数和根据测量的从最近一次的显影剂补充直到当前的显影剂补充所经过的时间来修正用于每一次显影剂补充剂的补充的目标电导率值。
(6)如在(4)中陈述的光敏平版印刷版的自动处理装置，其配备有补充设备，该补充设备用于在显影槽中的显影剂的电导率值低于目标电导率值时，以预先确定的定额补充显影剂补充剂。
附图说明
[图1]
本发明第一实施方案的自动处理装置的构造图。
[图2]
所示为在自动处理装置启动后即刻测量的电导率值和目标电导率值方面变化行为图。
[图3]
所示为采用控制设备的控制模式流程图。
[图4]
所示为当自动处理装置启动后，测量的电导率值超过目标电导率值时的控制图。
[图5]
本发明第二实施方案的自动处理装置的构造图。
[参考数字和符号的描述]
2，100： 自动处理装置
4，112： PS板
6，122： 显影部分
20，118： 显影槽
50： 控制设备
51a： 控制ROM
51b： 控制RAM
52： 时间测量部分
53： 补充剂稀释液贮槽
55，266： 补充剂储备溶液贮槽
73，262： 电导率传感器
74，264： 补充剂储备溶液供给泵
76： 补充剂稀释液供给泵
90，91： 补充导管
发明详述
在本发明中，这里所称的“显影剂补充剂”是指为了保持固定水平下的显影性能，将要补充的处理液。一般而言，对于补充剂，列举的是通过用稀释溶液(例如，水)稀释补充剂贮备溶液而制备的一种溶液和没有被稀释的补充剂贮备溶液本身。但是，在本发明中，“显影剂补充剂”是指通过用稀释溶液稀释补充剂贮备溶液而制备的一种溶液。此外，补充方法的实例包括：一种方法，其中向显影剂中补充由预先通过稀释制备的补充剂，和一种方法，其中直接向显影剂个别地补充补充剂贮备溶液和稀释溶液。
此外，在本发明中，可以将已知的措施如交流电电导率分析器，交流电桥分析器和其它电导率分析器用作测量显影剂电导率值的电导率传感器。此外，对于测量设备的测量的电流值，振荡频率等，尽管最佳条件取决于显影剂的配方等变化，从设备方面考虑和为了防止水溶性显影剂的电解的发生，优选电流值低至某种程度。优选电流值为几百mA至几个μA。此外，从与在显影剂中的静电电容成份的关系方面考虑，优选频率为几百Hz至几百kHz。
含有电解质的显影剂的电导率值依赖于水溶液的温度，并且当液体温度增加时，电导率值降低。因此，优选使用配备有温度传感器和温度补偿电路的分析器来测量电导率值。此外，在用于控制补充的控制设备中，可以通过从实际测量的液体电阻值和液体温度而计算在预先确定温度下的电导率值的方法，对温度进行补偿。关于交流电电导率分析器、交流电桥分析器或其它电导率分析器的传感器所放置的位置，可以采用任何位置，只要它可以在测量期间浸渍于显影剂中，并且可以测量显影剂的交流电电导率值即可。例如，优选将位置定位于在自动处理装置的显影剂循环系统中，特别是在显影槽或循环管中。此外，在检测部分，可以使用已知的使用铂、不锈钢或类似物的测量元件作为电极。
接着，以下将描述可以用于本发明的显影剂和显影剂补充剂。
[显影剂和显影剂补充剂(碱性试剂)]
用于本发明的显影剂和显影剂补充剂是一种pH为9.0至13.5并且更优选为10.0至13.3的碱性水溶液。对于显影剂和显影剂补充剂，可以使用常规已知的碱性水溶液。其实例包括：无机碱试剂如硅酸钠、硅酸钾、磷酸三钠、磷酸三钾、磷酸三铵、磷酸二钠、磷酸二钾、磷酸二铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵、氢氧化钠、氢氧化铵、氢氧化钾和氢氧化锂。此外，其实例包括有机碱试剂如单甲胺、二甲胺、三甲胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正-丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、1，2-乙二胺和吡啶。
在这些碱性试剂中，优选硅酸钠、硅酸钾的硅酸盐水溶液。这是因为：认为可以根据作为硅酸盐成份的二氧化硅SiO2与碱金属氧化物M2O的比率(通常，由[SiO2]/[M2O]的摩尔比来表示此比率)来调节pH值和显影性能。例如，本发明优选使用包含具有SiO2/K2O的摩尔比为0.5至2.0(即[SiO2]/[K2O]为0.5至2.0)并且SiO2的含量为1至4重量％的硅酸钾水溶液的碱金属硅酸盐。
对于其它优选的碱性试剂，列举的是包含弱酸和强碱的缓冲剂。对于用于缓冲剂的弱酸，优选具有离解常数(pKa)为10.0至13.3并且特别是11.0至13.1的那些。此外，例如，对于磺基水杨酸的情况，其第三离解常数为11.7，并且可以适宜地将磺基水杨酸用于本发明。即，对于多元酸的情况，如果其至少一个酸离解常数落入前面所述的范围，则可以将它们用于本发明。
对于这种弱酸，选择在由Pergamon Press出版的IONISATIONCONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION等中所述的那些。其实例包括：醇如2，2，3，3-四氟丙醇-1(pKa：12.74)、三氟乙醇(pKa：12.37)和三氯乙醇(pKa：12.24)；醛如吡啶-2-醛(pKa：12.68)和吡啶-4-醛(pKa：12.05)；糖类如山梨糖醇(pKa：13.0)、蔗糖(pKa：12.7)、2-脱氧核糖(pKa：12.61)、2-脱氧葡萄糖(pKa：12.51)、葡萄糖(pKa：12.46)，半乳糖(pKa：12.35)、阿糖(pKa：12.34)、木糖(pKa：12.29)、果糖(frustose)(pKa：12.27)、核糖(pKa：12.22)、甘露糖(pKa：12.08)和L-抗坏血酸(pKa：11.34)；含有酚羟基的化合物如水杨酸(pKa：13.0)、3-羟基-2-萘甲酸(pKa：12.84)、儿茶酚(pKa：12.6)、五倍子酸(pKa：12.4)、磺基水杨酸(pKa：11.7)、3，4-二羟基苯磺酸(pKa：12.2)、3，4-二羟基苯甲酸(pKa：11.94)、1，2，4-三羟基苯(pKa：11.82)、氢醌(pKa：11.56)、连苯三酚(pKa：11.34)和间苯二酚(pKa：11.27)；肟如2-丁酮肟(pKa：12.45)、丙酮肟(pKa：12.42)、1，2-环庚二酮二肟(pKa：12.3)、2-羟基苯甲醛肟(pKa：12.10)、丁二酮肟(pKa：11.9)、乙烷二酰胺二肟(pKa：11.37)和苯乙酮肟(pKa：11.35)；氨基酸如2-喹诺酮(pKa：11.76)、2-吡啶酮(pKa：11.65)、4-喹诺酮(pKa：11.28)、4-吡啶酮(pKa：11.12)、5-氨基戊酸(pKa：10.77)、2-巯基喹啉(pKa：10.25)和3-氨基丙酸(pKa：10.24)；与核酸有关的物质如氟尿嘧啶(pKa：13.0)、鸟苷(pKa：12.6)、尿苷(pKa：12.6)、腺苷(pKa：12.56)、肌苷(pKa：12.5)、鸟嘌呤(pKa：12.3)、胞苷(pKa：12.2)、胞嘧啶(pKa：12.2)、次黄嘌呤(pKa：12.1)和黄嘌呤(pKa：11.9)；和其它弱酸如二乙基氨甲基膦酸(pKa：12.32)、1-氨基-3，3，3-三氟苯甲酸(pKa：12.29)、异亚丙基二膦酸(pKa：12.10)、1，1-亚乙基二膦酸(pKa：11.54)、1-羟基-1，1-亚乙基二膦酸(pKa：11.52)、苯并咪唑(pKa：12.86)、硫代苯甲酰胺(pKa：12.8)、甲基吡啶硫代酰胺(pKa：12.55)和坝巴酸(pKa：12.5)。
对于将与弱酸组合的强碱，氢氧化钠、氢氧化铵、氢氧化钾和氢氧化锂是有用的。可以单独使用这些碱性试剂或两种或多种组合使用。在这些碱性缓冲剂中，优选磺基水杨酸、水杨酸、蔗糖或山梨糖醇与氢氧化钠或氢氧化钾的组合。尤其是，优选山梨糖醇与氢氧化钾或氢氧化钠的组合。这样使用前面所述的各种碱性试剂，以使pH落入在根据浓度和组合的优选的范围内。
[表面活性剂]
如果需要促进显影性能、分散显影剂浮渣和增强印刷版的图像区域对油墨的亲合力，可以向用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中加入各种表面活性剂和各种有机溶剂。对于表面活性剂优选的实例，举出的是阴离子、阳离子、非离子和两性的表面活性剂。
表面活性剂的优选实例包括：非离子表面活性剂如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、脂肪酸甘油偏酯、脂肪酸脱水山梨醇偏酯、脂肪酸季戊四醇偏酯、单脂肪酸丙二醇酯、脂肪酸蔗糖偏酯、脂肪酸聚氧乙烯脱水山梨糖醇偏酯、脂肪酸聚氧乙烯山梨糖醇偏酯、脂肪酸聚乙二醇酯、脂肪酸聚丙三醇偏酯、聚氧乙烯蓖麻油、脂肪酸聚氧乙烯丙三醇偏酯、脂肪酸二乙醇酰胺、N，N-二-2-羟基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂肪酸酯和三烷基胺氧化物；阴离子表面活性剂如脂肪酸盐、枞酸盐、羟基链烷磺酸盐、链烷磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸酯盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚盐、N-甲基-油基牛磺酸钠盐、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠盐、石油磺酸盐、硫化的牛脂油、脂肪酸烷基酯的硫酸酯盐、烷基硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐、脂肪酸单甘油酯硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸酯盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯盐、部分皂化的苯乙烯-马来酸酐共聚物产品、部分皂化的烯烃-马来酸酐共聚物产品和萘磺酸盐福尔马林缩合物；阳离子表面活性剂如烷基胺盐、季铵盐如溴化四丁基铵、聚氧乙烯烷基胺盐和聚乙烯聚胺的衍生物；和两性表面活性剂如羧基甜菜碱、氨基羧酸、磺基三甲铵乙内酯、氨基硫酸酯和咪唑啉。在这些表面活性剂中，可以用聚氧化烯如聚甲醛、聚氧化丙烯和聚氧化丁烯更换术语“聚氧乙烯”，并且在此也包括这些表面活性剂。
进一步优选在分子中含有全氟烷基的氟基表面活性剂作为表面活性剂。这种氟基表面活性剂的实例包括：阴离子型如全氟烷基羧酸盐、全氟烷基磺酸盐和全氟烷基磷酸酯；两性型如全氟烷基甜菜碱；阳离子型如全氟烷基三甲基铵盐；和非离子型如全氟烷基胺氧化物、全氟烷基环氧乙烷加合物、含有全氟烷基和亲水基的低聚物、含有全氟烷基和亲油基的低聚物、含有全氟烷基、亲水基和亲油基的低聚物和含有全氟烷基和亲油基的氨基甲酸酯。
可以单独或两种或多种组合使用表面活性剂，并且优选在显影剂中以0.001至10重量％且更优选为0.01至5重量％的量加入。
[显影稳定剂]
在用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中，可以使用各种显影稳定剂。显影稳定剂的优选实例包括：在JP-A-6-282079中所述的那些，如糖醇的聚乙二醇加合物，四烷基铵盐如氢氧化四丁基铵，鏻盐如溴化四丁基鏻和碘鎓盐如氯化二苯基碘鎓。
此外，举出的是：在JP-A-50-51324中所述的阴离子表面活性剂和两性表面活性剂，在JP-A-55-95946中所述的水溶性阳离子聚合物和在JP-A-56-142528中所述的水溶性两性高分子电解质。
再有，举出的是：在JP-A-59-84241中所述的加入了烷撑二醇的有机硼化合物，在JP-A-60-111246中所述的聚氧乙烯/聚氧化丙烯嵌段共聚物的水溶性表面活性剂，在JP-A-60-129750中所述的由聚氧乙烯/聚氧丙烯取代所得到的烷撑二胺化合物，在JP-A-61-215554中所述的重均分子量为300或更高的聚乙二醇，在JP-A-63-175858中所述的含有阳离子基的含氟表面活性剂，在JP-A-2-39157中所述的通过向酸或醇中加入4摩尔或更多的环氧乙烷而得到的水溶性环氧乙烷加成化合物，和水溶性的聚亚烷基化合物。
[有机溶剂]
在用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中，如果需要可以再加入有机溶剂。对于有机溶剂，选择的是：在水中的溶解度不大于约10重量％并且优选不大于5重量％的那些。其实例包括：1-苯基乙醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇、4-苯基-1-丁醇、4-苯基-2-丁醇、2-苯基-1-丁醇、2-苯氧基乙醇、2-苄氧基乙醇、邻-甲氧苄醇、间-甲氧苄醇、对-甲氧苄醇、苄醇、环己醇、2-甲基环己醇、3-甲基环己醇、4-甲基环己醇、N-苯基乙醇胺和N-苯基二乙醇胺。基于将要使用的液体总重量，有机溶剂的含量为0.1至5重量％。将要使用的有机溶剂的量与将要使用的表面活性剂的量紧密联系，并且优选表面活性剂的量随着有机溶剂量增加而增加。这是因为当表面活性剂量少且有机溶剂量大时，不能完全溶解有机溶剂，因此不能期望保证满意的显影性能。
[还原剂]
在用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中，可以再加入还原剂。还原剂用于防止印刷版受到玷污并且对于显影含有光敏的重氮化合物的阴片光敏平版印刷版特别有效。对于有机还原剂，优选酚类化合物如硫代水杨酸、氢醌、米吐尔、甲氧基醌、间苯二酚和2-甲基间苯二酚；和胺类化合物如苯二胺和苯肼。此外，对于无机还原剂，举出的是：无机酸如亚硫酸、亚硫酸氢酸、亚磷酸、亚磷酸氢酸、亚磷酸二氢酸、硫代硫酸或连二亚硫酸的钠盐、钾盐和铵盐。在这些还原剂中，亚硫酸盐在污染控制作用方面特别优异。基于使用期间的显影剂，优选以0.05至5重量％的量含有还原剂。
[有机羧酸]
在用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中，可以再加入有机羧酸。对于有机羧酸，优选含有6至20个碳原子的脂族羧酸和芳族羧酸。脂族羧酸的具体实例包括：己酸、庚酸、辛酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕榈酸和硬脂酸。在这些当中，特别优选的是含有8至12个碳原子的链烷酸。此外，可以使用在其碳链上含有双键的不饱和脂肪酸和含有支化碳链的那些。
对于芳族羧酸，举出的化合物是：其中在苯环、萘环和蒽环等上羧基被取代的化合物。其具体实例包括：邻-氯苯甲酸、对-氯苯甲酸、邻-羟基苯甲酸、对-羟基苯甲酸、邻-氨基苯甲酸、对-氨基苯甲酸、2，4-二羟基苯甲酸、2，5-二羟基苯甲酸、2，6-二羟基苯甲酸、2，3-二羟基苯甲酸、3，5-二羟基苯甲酸、五倍子酸、1-羟基-2-萘甲酸、3-羟基-2-萘甲酸、2-羟基-1-萘甲酸、1-萘甲酸和2-萘甲酸。在这些当中，特别有效的是羟基萘甲酸。
为了增加脂族或芳族羧酸在水中的溶解度，优选将脂族或芳族羧酸作为钠盐、钾盐或铵盐使用。对用于本发明的显影剂中的有机酸的含量没有特别限制。但是，当有机羧酸的含量小于0.1重量％时，效果是不足够的。另一方面，即使其超过10重量％时，不仅未期望在效果上进一步提高，而且当组合使用其它添加剂时，可以妨碍其溶解。因此，基于使用期间的显影剂，优选有机酸的含量为0.1至10重量％，并且更优选为0.5至4重量％。
[防腐剂]
可以向显影剂，洗涤水和修整液中加入防腐剂。对于防腐剂，可以使用用于纤维、木材加工、食品、化妆品和杀虫剂领域中的已知防腐剂。其实例包含已知的防腐剂，其包含：季铵盐，一元酚衍生物，二元酚衍生物，多元酚衍生物，咪唑衍生物，吡唑嘧啶衍生物，一元萘酚，碳酸酯，砜衍生物，有机锡化合物，环戊烷衍生物，苯基衍生物，酚醚衍生物，酚酯衍生物，羟基胺衍生物，腈衍生物，萘，吡咯衍生物，喹啉衍生物，苯并噻唑衍生物，仲胺，1，3，5-三嗪衍生物，噻二唑衍生物，N-(某)酰苯胺衍生物，吡咯衍生物，卤素衍生物，二元醇衍生物，二硫酚，氰酸衍生物，硫脲衍生物，双胺衍生物，异噻唑衍生物，一元醇，饱和的醛，不饱和的一元羧酸，饱和的醚，不饱和的醚，内酯，氨基酸衍生物，乙内酰脲，氰脲酸衍生物，胍衍生物，吡啶衍生物，饱和的一元羧酸，苯羧酸衍生物，羟基羧酸衍生物，联苯，异羟肟酸衍生物，芳香醇，卤代苯酚衍生物，苯羧酸衍生物，巯基羧酸衍生物，季铵盐衍生物，三苯基甲烷衍生物，4-异丙基环庚二烯酚酮，呋喃衍生物，苯并呋喃衍生物，吖啶衍生物，异喹啉衍生物，胂衍生物，硫代氨基甲酸衍生物，磷酸酯，卤代苯衍生物，醌衍生物，苯磺酸衍生物，一元胺衍生物，有机磷酸酯，哌嗪衍生物，吩嗪衍生物，嘧啶衍生物，托布津(thiophanate)衍生物，咪唑啉衍生物，异噁唑衍生物和铵盐衍生物。对于防腐剂，特别优选吡啶硫羟-1-氧化物的盐，水杨酸及其盐，1，3，5-三羟乙基六氢化-S-三嗪，1，3，5-三羟甲基六氢化-S-三嗪，1，2-苯并异噻唑啉-3-酮，5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮，2-溴-2-硝基-1，3-丙二醇。优选的加入量是一种稳定地显示抗细菌、霉菌、酵母效率的量。尽管防腐剂的优选加入量根据细菌、霉菌、酵母等的种类而改变，但是基于将要使用的液体，优选其在0.01至4重量％范围内。此外，优选使用两种或多种防腐剂，以致于显示抗霉菌和细菌的功效。
[其它]
在用于本发明的显影剂和显影剂补充剂中，如果需要，还可以含有防沫剂和水软化剂。水软化剂的实例包括：聚磷酸及其钠盐、钾盐和铵盐；氨基多羧酸如乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、氨三乙酸、1，2-二氨基环己烷四乙酸和1，3-二氨基-2-丙醇四乙酸及它们的钠盐、钾盐和铵盐；和氨基三(亚甲基膦酸)，乙二胺四(亚甲基膦酸)，二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)，三亚乙基四胺六(亚甲基膦酸)，羟乙基乙二胺三(亚甲基膦酸)和1-羟乙烷-1，1-二膦酸及它们的钠盐、钾盐和铵盐。
对于将要使用的水软化剂的量，其最佳用量根据其螯合力和硬水的硬度和量而改变。但是，一般而言，基于使用时的显影剂，优选将要使用的水软化剂的量在0.01至5重量％，并且更优选为0.01至0.5重量％的范围内。当水软化剂的加入量小于此范围时，不能充分地达到理想的目的，反之当其超过此范围，在图像区域存在不利的作用如变色。
尽管显影剂和显影剂补充剂的剩余组分是水，但是如果需要，可以进一步含有在本领域已知的各种添加剂。以浓缩液形式形成本发明所用的显影剂和显影剂补充剂对于运输是有利的，该浓缩液的水含量低于使用时的水含量，并当使用时用水稀释它。在那种情况下，其浓缩度至这样的程度是适宜的，即各个组分不引起分离或沉淀的程度。优选显影剂的温度为15至40℃，并且更优选为20至35℃。优选显影时间为5至60秒，并且更优选为7至40秒。
除了前面所述的显影剂外，可以采用在EP0836120A1，EP0908785A，EP0908306A，EP0914941A1，JP-A-11-327163，JP-A-11-327160和日本专利申请2000-255670中所述的显影剂。
接着，以下将要描述用于本发明的光敏平版印刷版。对于可以通过红外激光器照射而记录的图像记录材料，JP-A-7-285275，JP-A-11-119419和日本专利申请11-182751公开了阳片图像记录材料，其含有粘合剂如甲酚树脂，一种吸收光产生热的物质，和一种可热分解的并且在未分解的状态明显降低粘合剂的溶解度的物质如醌二叠氮。在阳片图像记录材料中，在曝光区域，吸收光产生热的物质引起热量的生成，由此显示曝光区域的溶解度。
此外，JP-A-7-20625，JP-A-11-218903和日本专利申请11-308286和11-332936描述阴片图像记录材料，其含有通过光或热引起其分解生成酸的物质，由酸引起交联的交联剂，至少一种碱溶性树脂和红外光吸收剂。在阴片图像记录材料中，在曝光区域，吸收光产生热的物质引起热量的生成，由热引起分解生成酸的物质生成酸，促进了由酸引起交联的关联剂与碱溶性树脂之间的交联反应，由此进行图像记录。
可以前面所述的图像记录材料用作平版印刷版。在形成平版印刷版中，在通过红外激光器照射而在平版印刷版上记录图像后，如果出现需要，进行热处理，然后，进行显影处理。
此外，本发明也可应用于如在例如日本专利申请10-251521，JP-A-2000-39724和日本专利申请2000-276811所公开的使用可光聚合组合物的光敏平版印刷版的处理。使用可光聚合组合物的光敏平版印刷版在由铝板的亲水化得到的载体上具有可光聚合的光敏层，该光敏层含有可加聚的、含烯式双键的化合物和在其侧链中含有可交联基团的聚合物。也可以将本发明用于这样的处理，其中此平版印刷版被激光成影像地曝光，然后显影。
此外，可以将本发明用于如在例如JP-A-9-274324，JP-A-2000-231188和日本专利申请2000-13656中所述的迄今广泛采用的阳片光敏平版印刷版的处理。阳片光敏平版印刷版是一种其中在作为载体的铝板上提供包含邻-苯醌二叠氮化合物的光敏层的一种印刷版。已知：通过紫外光的照射邻-苯醌二叠氮化合物转变为羧酸。因而，当用碱性水溶液显影得到的印刷版时，只有光敏层曝光区域被除去，由此曝露载体的表面。由于铝表面的表面是亲水性的，载体通过显影曝露的区域(非图像区域)滴水不漏并且排斥油基油墨。另一方面，由于通过显影没有除去的光敏层的区域(图像区域)是亲油性的，所以它们排斥水并且接受油墨。对于这种阳片光敏平版印刷版的光敏层，通过将甲酚酚醛清漆树脂用作前面所述的邻-苯醌二叠氮化合物的粘合剂。此外，也可以将本发明用于在JP-A-7-295212和日本专利申请2000-103135所述的阴片光敏平版印刷版。
以下将参考举例说明的实施方案来描述本发明。图1是本发明第一实施方案自动处理装置的构造图。
如图1所示，自动处理装置2配备有：用于对光敏平版印刷版4(以下称作“PS板”)进行显影的显影部分6，用于在显影和涂布树胶液体之后洗掉粘附在PS板4上显影剂的具有两级结构的整理剂部分8，和用于在涂布树胶液体之后干燥PS板的干燥部分10。
此外，对于在进行显影处理之前需要对PS板进行加热处理的情况，可以提供预加热部分(在图1中没有示例)。预加热部分被安置在显影部分6输送方向的上游侧并且具有保持指定PS板表面温度指定长的时间同时输送PS板的作用。在加热时，将插入在预加热部分的PS板自动地输送至下一步骤。此外，可以提供预水洗部分(在图1中没有示例)。预水洗部分被安置在显影部分6输送方向的上游侧并且在预加热部分输送方向的下游侧，并且具有用清洗水清洗和冷却PS板表面同时输送PS板的作用。将插入在预水洗部分的PS板自动地输送至显影部分6作为下一步骤。
在自动处理装置2的侧板12中形成插入口14，并且由输送辊16将从插入口14插入的PS板4输送进入显影部分6。插入口14配备有橡胶刀18，并且当未将PS板插入时，由橡胶刀18关闭插入口14。
在显影部分6的显影槽中，按从输送方向上游侧的顺序提供输送辊22，刷辊24和挤压辊26，并且在这些辊中间适宜地提供支撑辊28。将PS板4浸渍于显影剂中并且进行显影，同时由输送辊22进行输送。
接着显影部分6的整理剂部分8是由第一整理剂部分8a和第二整理剂部分8b组成的。相应的整理剂部分8a、8b配备有用于输送PS板4的输送辊30a、30b和用于喷淋在整理剂槽32a、32b中的树胶液的喷射部件34a、34b。用来自于喷射部件34a、34b的树胶液喷淋显影后的PS板4，同时由输送辊30a、30b输送。顺便提及，尽管在位于下游侧的第二整理剂部分8b的整理剂槽32b中的树胶液是溢流进入位于上游侧的第一整理剂部分8a的整理剂槽32a中然后供给的，但是，也可以使用泵等代替这样结构供给树胶液。
此外，也可以采用这样的结构，其中将第一整理剂部分8a安排为用清洗水的水洗区，没有液体来自于第二整理剂部分8b，并且使用供给泵(未示例)将清洗水供给至第一整理剂部分8a的整理剂槽32a中。
接着整理剂部分8的干燥部分10按从输送方向上游侧的顺序配备有导辊36和一对串联辊38。此外，干燥部分10配备有干燥单元(未示例)如热风供给单元和热量产生单元。干燥部分10配备有排放口40，并且将由干燥单元干燥的PS板4从排放口40排放出来。此外，在干燥部分10和整理剂部分8之间的路径中提供有闸门44，并且当PS板4没有经过路径46时，由闸门44关闭路径46。
此外，通过泵77用在树胶液槽56中的树胶液补充第二整理剂槽32b，并且也通过补充剂稀释溶液供给泵78用在补充剂稀释溶液贮槽53中的稀释溶液57补充。在此，树胶液与稀释溶液的补充比率为例如1∶1。补充之后，在废液槽54中回收从第一整理剂槽32a溢流来的树胶废液，对显影剂废液也是如此。
显影槽20配备有与槽壁成为一体的箱子状防护盖60。以弧形连续地这样弯曲防护盖60的下壁，以使它不与输送辊22、刷辊24和支撑辊28的上外围接触，并且不妨碍这些辊等。
通过形成箱子状的防护盖60，在显影槽20的上面形成了密封的空间，由此使在显影部分6的空气量尽可能地少。此外，通过提供防护盖60，使显影剂与空气之间的接触面积尽可能地少。
在具有前面所述结构的自动处理装置2中，适宜地提供橡胶刀62，以与外面大气基本密封的状态构造从显影部分6直到第二整理剂部分8b的空间，外面的空气不能流入其中。此外，以基本密封的状态构造从显影部分6直到第一整理剂部分8a之间的空间，以便在第一整理剂部分8a内的空气不流入显影部分6。因而，尽管当PS板4经过显影部分6时，少量的空气流入那里，但显影部分6是基本上密封的，并且具有空气基本上不流入其中的密封结构。
接着，下面将详细描述显影部分6。将显影剂的循环导管80连接到显影槽20。循环导管80分别配备有用于循环显影剂的泵71，电导率传感器73和过滤器(未示例)。
用于循环显影剂的泵71从在显影槽20底部提供的进口将在显影槽20中的显影剂抽吸进入循环导管80中，并且在循环导管80中循环，然后将其再次排放进入显影槽20中。过滤器过滤在循环导管80中流动的显影剂。电导率传感器73测量在循环导管80中流动的显影剂的电导率。
此外，显影部分6配备有补充导管90、91，连接补充导管90的补充剂贮备溶液贮槽55，在补充导管90中插入的补充剂贮备溶液供给泵74，连接补充导管91的补充剂稀释溶液贮槽53，在补充导管91中插入的补充剂稀释溶液供给泵76，其每一个构成补充设备并且行使补充剂供给单元的作用。此外，在废液槽54中回收从显影槽20溢流的显影剂废液。
具体地，在显影槽20的附近提供一对显影剂补充剂的补充导管90、91，该显影剂补充剂是通过用补充稀释溶液57稀释显影剂补充剂贮备溶液58而得到的。在显影剂补充剂贮备溶液58的补充导管90中，将其另一端(图1的下端)连接至补充剂贮备溶液贮槽55，并且在该导管中提供补充剂贮备溶液供给泵74。补充剂贮备溶液供给泵74将显影剂补充剂贮备溶液58从显影剂补充剂贮备溶液贮槽55中供给进入显影槽20。
在补充剂稀释溶液57的补充导管90中，将其另一端(图1的下端)连接至补充剂稀释溶液贮槽53，并且在该导管中提供补充剂稀释溶液供给泵76。补充剂稀释溶液供给泵76将补充剂稀释溶液(水)57从补充剂稀释溶液贮槽53中供给进入显影槽20。即，稀释溶液补充设备由补充导管91，补充剂稀释溶液供给泵76和补充剂稀释溶液贮槽53构成。
通过控制设备(控制单元)50来控制补充剂贮备溶液供给泵74和补充剂稀释溶液供给泵76，该控制设备50配备有作为条件贮存单元的控制ROM 51a或控制RAM 51b，和基于来自电导率传感器73和时间测量部分52的信号的时间测量部分52。
即，控制设备50在基于来自印刷版检测传感器27的信号的正确的时间选择下驱动输送辊22，刷辊24，挤压辊26等并且输送PS板。
此外，对于由电导率传感器73测得的电导率值低于基于显影剂补充剂的代替程度等计算的适宜的电导率值的情况，控制设备50从补充剂贮备溶液贮槽55和补充剂稀释溶液贮槽53中、以预定的补充量和补充剂的稀释比率供给显影剂补充剂[(显影剂补充剂贮备溶液58)+(补充剂稀释溶液57)]。
并且控制设备50由时间测量部分52测量从最近一次补充直到当前一次补充所经过的时间，并且使用测量值修正和更新新的目标电导率值。
接着，以下将参考图2和3描述通过控制设备50的控制。
图2所示为在自动处理装置启动后即刻的测量的电导率值和目标电导率值方面的变化行为图；并且图3所示为通过控制设备50的控制模式流程图。
由图2示意性的表示了控制的内容。即，如图2所示，在自动处理装置启动后即刻，测量的电导率值由于在停止期间二氧化碳气体所导致的显影剂疲劳而较低。在从此状态直到由于二氧化碳气体所导致的疲劳而引起的电导率降低被恢复期间，使用未使用补充时间间隔值的第一运算表达式来修正目标电导率值，由此相对急剧地增加电导率。并且电导率值超过目标电导率值之后，使用用于修正目标电导率值的使用补充时间间隔值的第二运算表达式来更新目标电导率值，由此控制电导率值。
以下将使用图3的流程图来描述此控制。
在自动处理装置启动后即刻的步骤1(以下简称为“S1”)中，由电导率传感器73测量显影剂的电导率。并且在S2，将测量的电导率值与预先计算的目标电导率值进行比较，并且对于测量的电导率值小于目标电导率值的情况，系统转到S3，反之对于测量的电导率值超过目标电导率值的情况，系统转到S10。
在S3，基于预先确定的补充量和补充剂的稀释比率，将补充剂补充到显影剂中。此外，在随后的S4，修正和更新目标电导率值。此时，表达式是由下面的等式(1)表示的第一运算表达式：
dn＝C1×do+C2 (1)
do：补充前的目标电导率值(优选do的初始值为30至60mS/cm，并且更优选为43mS/cm。但该初始值并不局限于该优选范围。)
dn：更新的目标电导率值
C1、C2：根据实验预先确定的常数(优选C1为0.000至1.000，并且更优选为0.998。优选C2为0.000至3.000，并且更优选为0.125。但是，C1和C2并不局限于该优选范围。)
由前面的等式(1)表示的第一运算表达式是这样一种运算表达式，其用于设置目标电导率值，同时将直到显影剂的电导率值超过目标电导率值为止所补充的所有补充剂当作是消逝补充剂。
接着，在S5，在放置预定长的时间后，系统转到S6，并且当控制自动处理装置操作状态的开关处于“ON”状态时，操作返回S1。对于操作开关被关闭的情况，停止自动处理装置，由此结束控制。
在S10，在放置预定长的时间后，系统转到S11，并且当控制自动处理装置操作状态的开关处于“ON”状态时，系统返回S12。对于操作开关被关闭的情况，停止自动处理装置，由此结束控制。
在S12，与在S1中同样地测量电导率，然后系统转到S13。在S13，与在S2中一样，将由电导率传感器73测量的电导率值与目标电导率值进行比较。对于测量的电导率值小于目标电导率值的情况，系统转到S7，反之对于测量的电导率值超过目标电导率值的情况，系统转到S10。
在S7，用时间测量部分52测量从最近一次补充至当前的补充所经过的时间，即补充时间间隔(T)。在随后的S8，基于预先确定的补充量和补充剂的稀释比率，将补充剂补充到显影剂中。此外，在S9，修正和更新目标电导率值。此时，表达式是由下面的等式(2)表示的第二运算表达式：
dn＝C3×do+C4×T+C5 (2)
do：补充前的目标电导率值(优选do的初始值为30至60mS/cm，并且更优选为43mS/cm，但该初始值并不局限于该优选范围。)
dn：更新的目标电导率值
T：预先测量的补充时间间隔
C3、C4、C5：根据实验预先确定的常数(优选C3为0.000至1.000，并且更优选为0.998。优选C4为-3.0000至+3.0000，并且更优选为0.0274。优选C5为0.000至3.000，并且更优选为0.112。但是，C3、C4和C5并不局限于该优选范围。)
由前面的等式(2)表示的第二运算表达式是这样一种运算表达式，其用于在补充处理补充剂和消逝补充剂的混合物的情况下，使用补充时间间隔T来设置目标电导率值。
图4解释了S7及以下和S13及以下的控制。
即，图4所示为当自动处理装置启动后，测量的电导率值超过目标电导率值时的控制图。
对于那种情况，目标电导率值是在每次补充补充剂时设置的，而不是在固定的时间间隔设置的，并且因此，在补充时间间隔之内的每个目标电导率值为常数。
根据前面所述的自动处理装置的控制，使用不同的运算表达式来修正和更新自动处理装置启动后即刻和在随后的经常操作时间时的目标电导率值。因此，可以处理在自动处理装置停止期间的消逝补充量，其不同于操作期间的消逝补充量和处理补充量。然后，可以防止至今所担心的事情，即由于不能准确地确定消逝补充量和处理补充量的比率，目标电导率值从开始就成为不准确的。即，即使从自动处理装置启动后即刻，在此时目标电导率值容易变得不准确的，也可以准确地设置目标电导率值，由此防止了显影剂敏感度波动的产生，并且可以总在稳定的固定敏感度下进行显影。因而，在电导率-标准补充模式中，尽管自动处理装置的显影部分是简单和便宜的构造，可以使显影剂敏感度对显影处理条件变化的波动最小化。
此外，在自动处理装置启动后即刻直到电导率值超过目标电导率值，修正目标电导率值，同时单独地在自动处理装置的平常操作时间时，将所有将要补充的补充剂认作为消逝补充剂。因而，即使对于在自动处理装置停止期间的消逝补充量由于二氧化碳气体浓度的变化而波动的情况，或对于消逝补充量与自动处理装置的停止时间不相关的情况，也可以计算正确的目标电导率值并且在高度精确和于固定水平下保持显影剂的敏感度。
接着，以下将描述本发明的第二实施方案。图5是本发明第二实施方案自动处理装置的构造图。
如图5所示，在此实施方案的自动处理装置100中，由外盖板114罩住里面的处理部分。在外盖板114中，提供有：配备有用于对PS板112进行显影的显影槽118和用于回收从显影槽118溢流出来的显影剂的溢流管120的显影部分122，用水清洗粘附在PS板112上显影剂的水洗部分124，和通过在其上涂布树胶液而对水洗过的PS板112进行脱敏化处理的整理剂部分126。顺便提及，水洗部分124配备有水洗槽128，和整理剂部分126配备有树胶液槽130。
外盖板114配备有狭缝状的插入口202和排放口204。在外盖板114的上表面上在显影部分122和水洗部分124之间插入PS板112的再入口(子-插入口)250。此子-插入口250行使用于进行除了显影处理外的处理的PS板112的插入口的作用。
子-插入口250配备有刀片252。在刀片252中，其尖端部分与外盖板114直接接触作为子-插入口250的支撑导面，并且将其背部通过支架254固定于外盖板114的背面侧。为此原因，子-插入口250因刀片252处于关闭的状态。
在干燥部分(未示例)，在PS板112的两个表面上鼓入热空气，以干燥PS板112，同时输送通过若干辊(未示例)从整理剂部分126送来的PS板112。
在PS板112进入显影槽118的插入侧的显影部分122中提供一对输送辊132，以便将从插入口202来的PS板112插入在一对输送辊132之间。
在输送辊132下游侧的附近，安装了橡胶刀206。在刀206中，其尖端部分与显影部分122的显影槽118的侧壁接触，并且将其背部通过支架256安装在外盖板114中。支架256由固定部分256A和用蝶形螺母258安装在固定部分的滑动部分256B构成，并且刀片206固定于滑动部分256B。为此原因，这样构造刀片206，即通过松动蝶形螺母258并且滑动靠着固定部分256A的滑动部分256B，其尖端部分可以离开显影槽118的侧壁。
此外，在插入口202的附近，安装了可以检测PS板112存在与否并且测量输送版的版面积等的版检测传感器208。
向上打开显影槽118，并且其底部的中间部分为大致的倒V-型结构，以便将其设计向下。在显影槽118中提供泵260，由泵260抽吸在显影槽118中的显影剂，并且从由稍后描述的喷淋管144、272喷射。由此，使贮存在显影槽118内的显影剂循环。在循环期间显影剂经过测量显影剂电导率的电导率传感器262。此外，通过补充剂贮备溶液泵264将补充剂贮备溶液从补充剂贮备溶液槽266供给进入显影槽118中。此外，如稍后所述，通过泵286将稀释溶液从水洗槽128供给进入显影槽118中。
通过控制设备50来控制泵264和泵286，该控制设备50配备有作为条件贮存单元的控制ROM 51a或控制RAM 51b，和基于来自电导率传感器262和时间测量部分52的信号的时间测量部分52。顺便提及，由于控制设备50的其它作用和效果与第一实施方案中的相同，将省略其解释。
在显影槽118中，在上游侧提供导向板268，并且在下游侧提供若干导辊134和旋转刷辊270。在显影槽118的一对侧板之间以可旋转的方式平放导辊134和旋转刷辊270。
在导向板268之上提供具有相对大直径的导辊136，并且旋转刷辊138、270和导辊140分别在导辊134之上。此外，在显影槽118里面的中央部分提供一对挤压辊142，其具有挤压PS板112表面的作用。
在显影槽118的最下游侧提供溢流管120，并且当显影剂的液位超过预定的水平时，将显影剂引导进入废液槽284并且处置。
在显影槽118里面的显影剂表面上定位液位盖150。在液位盖150中，以大致弧形设计对应于邻近那里的旋转刷辊138和导辊140的部分。液位盖150与显影剂的液位密切接触，以便使显影剂的表面与空气的接触尽可能地少，并且将液位盖150在PS板112的输送方向的两端以可滑动的结构安装在侧板中(未示例)，以便它对应于显影剂的增加和减少而上升和下降。
刀片274的尖端与在输送方向中的液位盖150的下侧端接触。将刀片通过支架276固定于外盖板114。从在输送方向中的液位盖150的下侧端暴露的显影剂的液位被刀片274与液位盖150的上面部分分隔开，由此在插入口202的附近，液位盖150的上面部分通过刀片206(与显影槽118的侧壁处于接触状态)与外面的空气完全隔离。由此，可以阻止显影剂的蒸发。
在输送方向显影槽118的最下游侧，提供一对辊154，其将PS板112放置其间和输送它，并且从PS板112的表面挤压显影剂。
另一方面，自动处理装置100在显影部分122的下游侧配备有水洗部分124的水洗槽128。在水洗槽128的上面部分提供两对输送辊152、153。
在水洗槽128中贮存由洗掉从显影槽118送来的PS板112中的显影剂所导致的清洗水。在输送辊153的上游侧并且在输送路径的上面，提供喷淋管156，并且在喷淋管156的外围配备有多个与其里面相连接的排放孔。由泵280从清洗水槽278抽取的清洗水从喷淋管156滴在输送辊153的上侧辊上，当输送辊153旋转时，清洗水迅速地散布在PS板112的表面上，并且用清洗水清洗PS板112的表面。
此外，每个输送辊152、153的下侧辊的下面部分由底盘162接着。清洗水贮存于底盘162中并且由下侧辊所抽取，由此清洗PS板112的背面，并且防止上侧的输送辊152、153干燥。
此外，在宽度方向，扩散进入在PS板112表面的宽度方向的清洗水从PS板112的两个端部滴在下面的底盘162中，并且用从底盘162抽取的清洗水处理PS板112的背面。将从底盘162溢流的清洗水引导进入水洗槽128。水洗槽128配备有溢流管282，并且当清洗水超过预定液位时，在废液槽284中处置清洗水。
此外，水洗槽128和显影槽118通过泵286相互连接，并且通过驱动泵286将在水洗槽128中的清洗水引导进入显影槽118，由此在供给补充剂贮备溶液进入显影槽118期间，可以利用它作为稀释溶液。
在整理剂部分126的树胶液槽130的上面部分提供一对输送辊178。将由输送辊153送来的PS板112引导进入输送辊178。
此外，在输送辊178的上游侧，在输送路径的垂直方向提供喷淋管182、288。从喷淋管182、288排放由泵292从树胶液槽290抽取的树胶液并且供应给PS板112的正面和背面。
输送辊178将PS板112放置其间并且输送它，并且挤压由喷淋管182供给的树胶液，以对PS板112的表面进行脱敏化处理。将挤压自PS板112的表面的树胶液在树胶液槽130中回收。由泵294将在树胶液槽130之内的树胶液循环。此外，树胶液槽130配备有溢流管296，并且当树胶液超过预定的液位时，将树胶液引导进入废液槽284并且进行处置。
此外，将下侧输送辊178的下部浸渍在贮存于树胶液槽130中的树胶液中，并且当下侧输送辊178从树胶液槽130中汲取树胶液时，对PS板112的背面进行涂布处理。通过此处理，输送辊178携带树胶液并且对PS板112的背面进行脱敏化处理，并且防止上侧输送辊178干燥。因此，在输送辊178的表面沉积了处理液的组分。
其中在整理剂部分126的处理结束后的PS板112经过外壳200的排放口204并且被送至干燥部分(未示例)。
这里，排放口204配备有盖板210作为隔板。盖板210固定于转轴212上。由驱动单元(未示例)(如电磁线圈)使转轴212是可旋转的。
基于由在插入口202附近提供的印刷版检测传感器208对PS板112的检测，使转轴212转动。即，在通过印刷版检测传感器208检测PS板112期间和未检测PS板112(检测后端终端)之后直到经过预定时间的期间，将盖板210基本上保持水平状态(排放口204处于打开的状态)，但在其它时间将其保持垂直状态(排放口204处于关闭的状态)。
下面将描述此实施方案的作用。首先，通过外壳200如外盖板114和机身108将处理槽如显影槽118、水洗槽128和树胶液槽130盖住。此外，根据自动处理装置100，在未进行PS板112显影处理的状态下，由于刀片206与显影槽118的侧壁接触而将插入口202关闭。另一方面，由于PS板112未被印刷版检测传感器208检测到，也将排放口204关闭，并且盖板210处于垂直状态。此外，子-插入口250被刀片252关闭，并且显影部分122的液位盖150的上部被刀片206、122关闭。所以，在显影槽118之内的显影剂、在水洗部分124之内的清洗水和在整理剂部分126之内的树胶液未暴露于外面的空气中，并且因此基本上没有由CO2引起的疲劳。为此原因，由于可以防止由于消逝降低所导致的显影能力的降低，所以例如可以急剧地减少显影部分122中的补充剂贮备溶液的补充量。特别是，由于显影槽118显影剂的表面被液位盖150盖住，防止显影剂与外界空气接触的效果是很大的。
顺便提及，为了使显影剂与外界空气的接触尽可能地少，优选盖板210开启的时间尽可能地短。因而，优选这样的结构，其中只有当PS板112经过时才打开盖板210，而在其它时间处于关闭状态。
此外，由于通过控制设备50的控制与在第一个实施方案中描述的图3的显影剂补充剂补充方法的流程图的内容相同，将省略对它的解释。
具体实施方式
实施例
接着，对于采用在前面所述实施方案中的显影剂补充剂的补充方法和常规的显影剂补充剂的补充方法中的每一种，将实验确定显影剂敏感度的波动宽度。下面将描述用于实施例1至10和比较例1至10的显影剂A、B、C、D和E，补充剂A、B、C、D和E，和光敏材料A、B、C、D、E、F、G、H、I、J和K的制备方法。
[显影剂A]
将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂DP-7稀释至1/9，然后使用。
[显影剂B]
以相应于显影槽体积的量制备一升水溶液的混合物，其含有：5.0％的包含作为非还原糖和碱的组合的D-山梨糖醇/氧化钾K2O的钾盐，0.015％的OLFINE AK-02(由Nissin Chemical Industry Co.，Ltd.制备)，和0.010％的表面活性剂D-1105(由Takemoto Oil & Fat Co.制备)，向其中以0.01g的比例加入下面的化合物：
[显影剂C]
将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂DP-4稀释至1/8，然后使用。
[显影剂D]
将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂LP-D稀释至1/10，然后使用。
[显影剂E]
按下面的配方制备显影剂：
氢氧化钾：0.15g，聚氧乙烯苯基醚(n＝13)：5.0g，CHELEST 400(螯合剂)：0.1g，水：94.75g。
[补充剂A]
使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影补充剂DP-7RW。
[补充剂B]
按下面的配方制备补充剂：
即，以相应于显影槽体积的量制备一升的水溶液混合物，其含有：6.0％的包含作为非还原糖和碱的组合的D-山梨糖醇/氧化钾K2O的钾盐和0.015％的OLFINE AK-02(由Nissin Chemical Industry Co.，Ltd.制备)，向其中以0.01g的比例加入下面的化合物：
[补充剂C]
使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂补充剂DP-4R。
[补充剂D]
使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的显影剂补充剂LP-DR。
[补充剂E]
按下面的配方制备补充剂：
氢氧化钾：6.0g，NEWCOL B13：23.0g，CHELEST 400：1.0g，纯净水：70.0g。
接着，对于用于实施例3至10和比较例1至9的光敏版A至J，将描述其制备方法，显影预处理和曝光条件。
[光敏版A]
基于JP-A-2000-231188的实施例1制备光敏版。使用由美国NuArc制造的印刷机FT26V2UPNS(光源：2kW金属卤化物灯)，将得到的光敏版成影像地曝光1分钟。在前面所述的条件下，使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(阶梯间的密度差：0.15)曝光过的光敏版，评估显影剂的敏感度。
[光敏版B]
基于JP-A-7-29521的实施例1制备光敏版。使用由美国NuArc制造的印刷机FT26V2UPNS(光源：2kW金属卤化物灯)，以50次(counts)将得到的光敏版成影像地曝光。在前面所述的条件下，使用由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(阶梯间的密度差：0.15)曝光过的光敏版，评估显影剂的敏感度。
[光敏版C]
(合成实施例1)
用25.6g作为结构单元(1)的化合物(a)，26.4g作为结构单元(2)的化合物(b)，20.4g作为如结构单元(3)的甲基丙烯酸月桂基酯和160g二甲基乙酰胺装入500-ml的三颈烧瓶中，并且在氮气气流中，在搅拌下保持混合物于65℃。向混合物中加入2.30g的2，2′-偶氮二-(2，4-二甲基戊腈)，并且继续搅拌。4小时后，将温度升高至75℃并且保持1小时。反应完成后，将反应混合物冷却至室温，并且倾倒入400ml的水中。通过过滤收集沉淀的固体并且干燥。由此得到：含氟代脂肪基的化合物P-2，其产量为68.4g。作为GPC的结果，发现此固体是一种重均分子量为30,000的高分子化合物。
合成实施例1的化合物(a)
合成实施例1的化合物(b)
(合成实施例2)
除改变结构单元(1)、(2)和(3)外，以与合成实施例1相同的方法，得到一种含氟代脂脂肪基的化合物P-15(重均分子量：25,000)。使用根据JISA1050的厚度为0.24mm和宽度为1,030mm的铝板相继进行下面的处理。
(a)采用转辊状的尼龙刷，同时供应比重为1.12的研磨剂(浮石)和水的悬浮液作为研磨浆液，将铝板的表面机械粗糙化。研磨剂的平均颗粒尺寸为40至45μm，最大颗粒尺寸为200μm。尼龙刷由6/10尼龙制成的并且其填充长度为50mm，填充直径为0.3mm。通过向直径为300mm的不锈钢圆柱体上所做的孔中稠密地插入刚毛形成尼龙刷。使用三个转刷。在刷子下部的两个支持辊(直径：200mm)之间的距离为300mm。这样挤压刷辊，以便与挤压刷辊至铝板前的负载相比，旋转刷子的驱动马达的负载增加7kW。刷子的旋转方向和铝板的输送方向相同，并且其旋转次数为200rpm。
(b)通过下面的方法将铝板进行蚀刻处理：喷淋处于70℃的氢氧化钠浓度为2.6重量％且铝离子浓度为6.5重量％的蚀刻溶液，并且以13g/m2的量溶解。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。
(c)通过喷淋于30℃的硝酸浓度为1重量％的水溶液(含有0.5重量％的铝离子)，对铝板进行去污点处理。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。对于用于去污点处理的硝酸水溶液，使用的是使用交流电在硝酸水溶液中进行电化学粗糙步骤中的废液。
(d)使用60Hz交流电压连续进行电化学粗糙处理。此时，电解液是一种温度为50℃的1重量％的硝酸水溶液(含有0.5重量％的铝离子和0.007重量％的铵离子)。通过下面的方法进行电化学粗糙化处理：使用具有AC电源波的梯形方波形的交流电，其中当电流值从零达到峰值所需的时间(TP)为2毫秒和负载比为1∶1，同时使用碳电极为对电极。将铁氧体用作辅助阳极。此时，使用双电解槽。以电流峰值表示的电流密度为30A/dm2，并且根据对于铝板的电量总量的电量为180C/dm2，或在雾化时从电源流过来的电流的5％的电流被分流至辅助阳极。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。
(e)通过喷淋温度为70℃的氢氧化钠浓度为26重量％和铝离子浓度为6.5重量％的蚀刻溶液，对铝板进行蚀刻处理并且以1.3g/m2的量溶解。由此将通过使用第一部分交流电进行电化学粗糙处理而形成的主要由氢氧化铝组成的污点成分清除，并且溶解所形成的凹陷的边缘部分和使其光滑。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。
(f)用硫酸浓度为25重量％的水溶液(含有0.5重量％的铝离子)通过喷淋而将铝板进行去污点处理。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。
(g)在电解部分的硫酸浓度为100g/L(含0.5重量％的铝离子)、温度为50℃、比重为1.1和电导率为0.39S/cm下，使用两级供应电解的阳极氧化设备将铝板进行阳极氧化处理(第一和第二电解部分各自的长度：6m，第一供应部件长度：3m，第二供应部件长度：3m，第一和第二供应电极各自的长度：2.4m)。然后，通过喷淋用水清洗得到的铝板。最终氧化膜的量为2.4g/m2。
(h)在20℃的含有0.1重量％硅酸钠的水溶液中浸渍粗糙的、阳极氧化的基材10秒种，然后通过喷淋用水清洗，接着干燥。在相应的处理和水洗之后，用轧辊进行排水。
接着，使用绕线棒刮涂器，在基材的背面涂布下面的溶胶-凝胶反应混合物的稀释溶液，并且于100℃干燥1分钟，以提供干燥后的涂布量为60mg/m2的背涂层。
溶胶-凝胶反应混合物：
当搅拌50.0重量份的硅酸四乙酯，86.4重量份的水，10.8重量份的甲醇和0.08重量份的磷酸(85％)的混合物时，在过去约35分钟之后热量生成发生。继续进行搅拌40分钟以使混合物反应，并且将反应混合物进一步与下面的稀释溶液混合，以制备背涂层涂布溶液。
稀释溶液：
下列组分的混合物：15.0重量份的连苯三酚丙酮缩合树脂，5.0重量份的马来酸二丁酯，70.0重量份的甲醇二氧化硅溶胶(由Nissan ChemicalIndustries，Ltd制备)，0.1重量份的MEGAFACE F-177(由Dainippon Ink andChemicals，Incorporated制备)，650重量份的甲醇和200重量份的1-甲氧基-2-丙醇。
接着，使用绕线棒刮涂器，在提供底涂层的基材的表面涂布下面配方的有机夹层涂布溶液，并且于100℃干燥10秒钟，以提供干燥后的涂布量为7mg/m2的有机夹层。
有机夹层涂布溶液的配方：
下列组分的混合物：0.15重量份的化合物A(数均分子量：2,100)，0.02重量份的水杨酸，100.0重量份的甲醇和1.0重量份的水。
化合物A
数值：摩尔％
接着，使用绕线棒刮涂器，在提供有机夹层的基材的表面上(有机夹层上)涂布下面的光敏溶液，并且于100℃干燥60秒钟。干燥后的涂布量为1.15g/m2。
光敏溶液1：
下列组分的混合物：0.8重量份的1，2-重氮萘醌-5-磺酰氯和连苯三酚-丙酮树脂的酯化产品(在美国专利3,635,709实施例1中所述的一种)，1.2重量份的甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间/对比：6/4，重均分子量：8,000，数均分子量：2,700，残留的甲酚：0.8％)，0.5重量份的苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(重均分子量：10,000，数均分子量：1,400，残留的苯酚：0.8％)，0.5重量份除线型酚醛清漆树酯外的其它树脂(具有下面的结构式，重均分子量：50,000)，0.1重量份的萘醌-1，2-二叠氮基-4-磺酰氯，0.2重量份的四羟基邻苯二甲酸酐，0.1重量份的4-[对-N-(对-羟基苯甲酰基)氨基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三嗪，0.1重量份的维多利亚蓝BOH(由Hodogaya ChemicalCo.，Ltd制备的一种染料，其中用萘磺酸取代相反离子)，0.04重量份的由下面的通式(I)表示的染料，30.0重量份的甲基乙基酮，15.0重量份的1-甲氧基-2-丙醇，0.05重量份的含氟高分子化合物(a)，0.05重量份的含氟高分子化合物(b)和0.01重量份的含氟高分子化合物(c)。
除线型酚醛清漆树酯外的其它树脂
(注)Mw：50,000，数值：摩尔％
染料(I)
含氟高分子化合物：
Mw：40,000，数值：摩尔％
(c)
在由此提供的光敏层表面上喷淋下面的无光泽层形成树脂溶液，以形成无光泽层。对于无光泽层形成树脂，制备了：12％的甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯/丙烯酸(配料重量比率：65/20/15)共聚物的水溶液，其一部分用钠盐所取代(对此情况可以是钾盐或铵盐)。使用一种旋转的喷雾静电涂布机在下列条件下涂布水溶液：喷雾头的旋转次数为15,000rpm，树脂溶液的进料量为65mL/分钟，施加给喷雾头的电压为-75kV和涂布时的环境温度为25℃且相对湿度为50％。涂布后，在涂布的表面上喷淋蒸汽1.5秒钟并且弄湿表面，在弄湿3秒种后，将温度为60℃且湿度为10％的热风喷淋5秒钟以干燥涂布的树脂。无光泽层的涂布量为130mg/m2。
使用由美国NuArc制造的印刷机FT26V2UPNS(光源：2kW金属卤化物灯)，将得到的光敏版成影像地曝光1分钟。在前面所述的条件下，使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(阶梯间的密度差：0.15)曝光过的光敏版，评估显影剂的敏感度。
[光敏版D]
使用尼龙刷和400-目的浮石水悬浮液，将厚度为0.24mm的由1S材料制成的铝板表面进行喷砂处理，并且用水很好地清洗。通过于70℃的20％的氢氧化钠水溶液中浸渍60秒钟而蚀刻得到的铝板。用流动水清洗并且用20％的硝酸中和和清洗后，使用VA＝12.7V和VC＝9.1V的正弦波交流电流在阳极化电量为170C/dm2下，在1％的硝酸水溶液中将铝板进行电解粗糙化处理。通过于45℃的25％的氢氧化钠水溶液中浸渍15秒钟而将得到的铝板蚀刻，并且接着在55℃的30％的硫酸溶液中进行去污点处理2分钟，然后进行阳极氧化处理，以便在7％的硫酸水溶液中氧化铝的涂布量为1.8g/m2。然后，将铝板浸渍于70℃的3％的硅酸钠水溶液中1分钟，用水清洗，然后干燥，得到其表面进行过亲水化处理的铝板。
接着，使用涂布棒在得到的铝板上首先涂布下面的光敏溶液(A)，并且于80℃干燥30秒钟。得到的干燥重量为0.1g/m2。
光敏溶液(A)：
下列组分的混合物：1.0g的二苯基甲烷-4，4′-二异氰酸酯/1，6-己二异氰酸酯/2，2-二(羟甲基)-丙酸/四甘醇＝50/50/90/10(摩尔比率)的聚氨酯树脂(重均分子量：100,000)(以下称作“聚氨酯树脂a1”)，0.3g的4-重氮基-3-甲氧基二苯胺和十二烷基苯磺酯盐/苯氧基乙酸＝5/5(摩尔比率)的共缩合的重氮树脂(以下称作“重氮树脂b1”)，0.05g的MEGAFACE F-176(氟基表面活性剂，由Dainippon Ink and Chemicals，Incorporated制备)，50g的甲基乙基酮和50g的甲醇。
接着，使用涂布棒在得到的铝板上进一步涂布下面的光敏溶液(C)，并且于100℃干燥1秒钟。包括光敏溶液(A)涂层的总干燥重量为1.0g/m2。光敏溶液(C)：
下列组分的混合物：5.0g的N-[6-(甲基丙烯酰氧基)己基]-2，3-二甲基马来酰亚胺/甲基丙烯酸＝60/40(摩尔比率)的共聚物，0.3g具有下面结构式的敏化剂，0.3g的4-重氮基二苯胺和十二烷基苯磺酯盐/苯氧基乙酸＝5/5(摩尔比率)的共缩合的重氮树脂(以下称作“重氮树脂c1”)，0.2g的4-重氮基-3-甲氧基二苯胺的六氟磷酸盐，0.1g的维多利亚蓝BOH(由HodogayaChemical Co.，Ltd制备)，0.1g的MEGAFACE F-176(氟基表面活性剂，由Dainippon Ink and Chemicals，Incorporated制备)，50g的丙二醇单甲醚，50g的甲基乙基酮和20g的甲醇。
使用由美国NuArc制造的印刷机FT26V2UPNS(光源：2kW金属卤化物灯)，以200次(counts)将得到的光敏版成影像地曝光。在前面所述的条件下，使用由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔图像(阶梯间的密度差：0.15)曝光过的光敏版，评估显影剂的敏感度。
[光敏版E]
基于JP-A-11-119419的实施例1制备光敏版。使用印刷版给定装置(platesetter)LUXCEL PLATESETTER 9000CTP(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备)(输出：216kW，旋转次数：1,000rpm，分辨度：2,438dpi，图像面积比率：约20％)，将得到的光敏版成影像地曝光。对于以以每13.5mW(6.75mJ/cm2)的量将曝光量从27mW(13.5mJ/cm2)改变至270mW(135mJ/cm2)这样的方式曝光过的光敏版，使用LUXCEL PLATESETTER 9000CTP的原始图案，评估显影剂的敏感度。即，在将曝光量改变为印刷版表面能的最大值的10％，15％，...，90％，95％，100％时，逐渐进行曝光。为此，在邻近曝光区域之间的印刷版表面能的差别为5至50％。
[光敏版F]
基于JP-A-2000-284474的实施例1制备光敏版。
[光敏版G]
[载体的制备]
将含有99.5％或更高的铝，0.30％的Fe，0.10％的Si，0.02％的Ti和0.013％的Cu的JIS A1050合金的热熔体进行净化处理并且铸造。为了除去在热熔体中的不必要的气体如氢气而进行脱气处理，然后由陶瓷管进行过滤而进行净化处理。通过DC铸造方法进行铸造。以距表面10mm的深度将板厚度为500mm的固化的铸造块体进行饰面处理，然后于550℃进行匀化处理10小时，以便金属间化合物不变粗糙。接着，于400℃将得到的块体进行热轧处理，在一个连续的退火炉中于500℃进行中间褪火60秒钟，然后冷轧以形成板厚度为0.30mm的铝轧板。通过控制滚动的轧辊的粗糙度，将在冷轧后的中心线平均表面粗糙度Ra控制至0.2μm。因此，为了提高平直度，通过张力平整机处理得到的铝板。
接着，为了将铝板形成为平版印刷版用的基材，将其进行表面处理。首先，为了除去在铝板表面上的轧辊油，，于50℃用10％的铝酸钠水溶液对铝板进行脱脂处理30秒钟，然后于50℃用30％的硫酸水溶液进行中和和除去污点处理30秒钟。
接着，为了使载体与光敏层的粘附性能良好并且赋予非图像区域保水性，将载体表面进行所谓的喷砂处理以使其粗糙。即，将载体表面用下面的方法进行电解喷砂处理：在阳极侧施加240C/dm2的电量，使用采用间接电源馈电间隔的电流密度为20A/dm2且负载比率为1∶1的交流波形，同时使铝板经过含有1％的硝酸和0.5％的硝酸铝且保持于45℃的水溶液中。然后，于50℃用10％的铝酸钠水溶液将铝板进行蚀刻处理30秒，然后于50℃用30％的硫酸水溶液进行中和和除去污点处理30秒钟。
再有，为了增强耐磨性，耐化学性和保水性，通过阳极氧化在载体上形成氧化膜。即，在采用间接电源馈电间隔的14A/dm2的直流电下将载体进行电解处理，同时使用35℃的20％的硫酸水溶液液作为电解液，并且将铝板送入电解液中，以制备2.5g/m2的阳极氧化膜。然后，为了保证印刷版非图像区域的亲水性，将得到的铝板进行硅酸盐处理。即，用下面的方法进行处理：保持1.5％的3号硅酸钠水溶液于70℃，输送铝板以便接触时间为15秒钟，然后用水清洗。粘附的Si量为10mg/m2。由此制备的载体的Ra(中心线表面粗糙度)为0.25μm。
[底涂层]
接着，使用线棒在铝载体上涂布下面的底涂层溶液，并且使用热风干燥设备于90℃干燥30秒钟。干燥后的涂布量为10mg/m2。
<底涂层溶液>
下列组分的混合物：0.1g的丙烯酸乙酸和2-丙烯酰氨基-2-甲基-1-丙烷磺酸钠(摩尔比率：75/15)的共聚物，0.1g的2-氨乙基膦酸，50g的甲醇和50g的离子交换水。
[光敏层]
接着，制备下面的光敏层用涂布溶液[P]，并且使用线棒在前面的底涂过的铝板上涂布该溶液，并且使用热风干燥设备于115℃干燥45秒钟，以形成光敏层。由此得到光敏版。干燥后的涂布量落入在1.2至1.3g/m2的范围内。
<光敏层用涂布溶液[P]>
下列组分的混合物：0.08g的红外线吸收剂[IR-6]，0.30g的鎓盐[OI-6]，1.00g的六丙烯酸二季戊四醇酯，1.00g的丙烯酸烯丙酯和甲基丙烯酸(摩尔比率：80/20)的共聚物(重均分子量：120,000)，0.04g的维多利亚纯蓝的萘磺酸盐，0.01g的氟基表面活性剂(MEGAFACE F-176，由Dainippon Inkand Chemicals，Incorporated制备)，9.0g的甲基乙基酮，10.0g的甲醇和8.0g的1-甲氧基-2-丙醇。
使用安装有水冷却的40-W的红外线半导体激光器的Greo′sTRENDSETTER 3244VFS，在下面的条件下将得到的光敏版成影像地曝光：输出为9W，外鼓转数为210rpm，印刷版表面能为100mJ/cm2，并且分辨度为2,400dpi。
[光敏版H]
基于JP-A-2000-039724的实施例1制备光敏版。使用PlatesetteGUTENBERG(由Heidel制造)(扫描曝光角度：180°)，在印刷版表面上的光照量为0.2mJ/m2且分辨度为2,400dpi的条件下，将得到的光敏版成影像地曝光。曝光后，于100℃将光敏版进一步加热1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，其中将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔膜(阶梯间的密度差：0.15)粘在固体图像区域的位置并且曝光。
[光敏版I]
基于JP-A-11-352691的实施例15制备光敏版。
使用用水冷却的75mW Ar激光器的扫描曝光系统，在印刷版表面上以0.2mJ/m2的曝光量，将得到的光敏版成影像地曝光。曝光后，于100℃将光敏版进一步加热1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，其中将具有每级衰减1/1.4的光照量的阶式片(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备)粘附于印刷版上，并且于印刷版表面照度为0.0132mV/cm2下曝光30秒钟。
[光敏版J]
[载体]
(载体：阳极氧化的铝载体)
使用8号尼龙刷和800-目的浮石水悬浮液，将厚度为0.30mm的由1S材料制成的铝板表面进行喷砂处理，并且用水很好地清洗。通过于70℃的10％的氢氧化钠水溶液中浸渍60秒钟而蚀刻得到的铝板。用流动水清洗后，用20％的HNO3中和和清洗铝板，然后用水清洗。在VA＝12.7V、阳极化电量为300C/dm2的条件下，使用正弦交流波形电流在在1％的硫酸水溶液中将铝板进行电解粗糙化处理。测量表面粗糙度并且发现其为0.45μm(按照Ra)。接着，将得到的铝板浸渍于55℃的30％的H2SO4水溶液中并且进行去污点处理2分钟。然后，将阳极放置在喷砂处理过的表面上，在电流密度为5A/dm2下，于33℃的20％的H2SO4溶液中以厚度为2.7g/m2将铝板进行阳极氧化处理。然后，涂布下面的用于表面处理的底涂液体组合物，以便P量为约0.05g/m2，然后于100℃干燥1分钟。
<底涂液体组合物>
下列组分的混合物：2重量份的苯基膦酸，800重量份的甲醇和50重量份的水。
[光敏材料]
在前面所述的载体上涂布具有下面配方的可光聚合的组合物，以便干燥后的涂布重量为1.5g/m2，然后于100℃干燥1分钟以形成光敏层。接着，在光敏层上涂布3％重量份的聚乙烯醇(水解度：98摩尔％，聚合度：500)的水溶液，以便干燥后的涂布重量为2.5g/m2，然后于120℃干燥3分钟，得到光敏制版的印刷版(光敏材料)。
(光敏涂布溶液(可光聚合的组合物))
下列组分的混合物：1.7重量份的含烯式不饱和键的化合物(A)，1.9重量份的线性有机高分子聚合物(B)，0.15重量份的敏化剂(C)，0.30重量份的光引发剂(D)，0.50重量份的添加剂(S)，0.03重量份的的氟基表面活性剂(由Dainippon Ink and Chemicals，Incorporated制备的MEGAFACE F-177)，0.01重量份的热聚合引发剂(N-亚硝基羟胺基铵盐)，0.2重量份的ε-型铜酞菁分散体，30.0重量份的甲基乙基酮和30.0重量份的丙二醇单乙醚。
顺便提及，下面所示为：所有用于光敏层涂布溶液的含烯式不饱和键的化合物(A)，线性有机高分子聚合物(B)，敏化剂(C)，光引发剂(D)和添加剂(S)。
使用532nm和100mW的FD.YAG激光器(由CSI制造的PLATE JET 4)在分辨度为4,000dpi的条件下，将得到的光敏版成影像地曝光。曝光后，于100℃将光敏版进一步加热1分钟。使用光敏材料评估显影剂的敏感度，其中将由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制备的阶梯式光楔膜(阶梯间的密度差：0.15)粘在固体图像区域的位置并且曝光。
[光敏版K]
使用8号尼龙刷和800-目的浮石水悬浮液，将厚度为0.30mm的由1S材料制成的铝板表面进行喷砂处理，并且用水很好地清洗。通过于70℃的10％的氢氧化钠水溶液中浸渍60秒钟而蚀刻得到的铝板。用流动水清洗后，用20％的HNO3中和和清洗，然后用水清洗。在VA＝12.7V、阳极化电量为300C/dm2的条件下，使用正弦交流波形电流在1％的硫酸水溶液中将铝板进行电解粗糙化处理。测量表面粗糙度并且发现其为0.45μm(按照Ra)。接着，将得到的铝板浸渍于55℃的30％的H2SO4溶液中并且进行去污点处理2分钟。然后，在电流密度为5A/dm2下，于33℃的20％的H2SO4水溶液中以厚度为2.7g/m2将铝板进行阳极氧化处理。然后，涂布下面的底涂可高速光聚合的组合物1，以便干燥后的涂布重量为1.5g/m2，然后于100℃干燥1分钟，以形成光敏层。
(可光聚合的组合物1)
下列组分的混合物：1.5重量份的含烯式不饱和键的化合物(A1)，2.0重量份的线性有机高分子聚合物(B1)，0.15重量份的敏化剂(C1)，0.2重量份的光引发剂(D1)，0.02重量份的ε-酞菁(F1)分散体，0.03重量份的氟基非离子表面活性剂MEGAFACE F-177(由Dainippon Ink and Chemicals，Incorporated制备)，9.0重量份的甲基乙基酮，7.5重量份的丙二醇单甲醚乙酸酯和11.0重量份的甲苯。
[实施例1至2的处理]
如表1至6所示，使用本发明的补充方法进行连续处理，以评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7和8中。
表1
| 补充模式 | 光敏材料 | 显影剂 | 补充剂 | 处理条件 | |
| 实施例1 | 本发明模式 | 光敏材料E | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件4 |
| 实施例2 | 同上 | 光敏材料A光敏材料B | 显影剂A | 补充剂A | 处理条件1 |
| 实施例3 | 同上 | 光敏材料A光敏材料B光敏材料E | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件2 |
| 实施例4 | 同上 | 光敏材料C光敏材料D | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件3 |
| 实施例5 | 同上 | 光敏材料F | 显影剂C | 补充剂C | 处理条件4 |
| 实施例6 | 同上 | 光敏材料G | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件4 |
| 实施例7 | 同上 | 光敏材料K | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件5 |
| 实施例8 | 同上 | 光敏材料H | 显影剂D | 补充剂D | 处理条件6 |
| 实施例9 | 同上 | 光敏材料I | 显影剂D | 补充剂D | 处理条件7 |
| 补充模式 | 光敏材料 | 显影剂 | 补充剂 | 处理条件 | |
| 实施例10 | 同上 | 光敏材料J | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件8 |
| 比较例1 | 电导率标准补充模式 | 光敏材料E | 显影剂A | 补充剂A | 处理条件4 |
| 比较例2 | 同上 | 光敏材料A光敏材料B | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件1 |
| 比较例3 | 面积/消逝标准补充模式 | 光敏材料A光敏材料B光敏材料E | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件9 |
| 比较例4 | 同上 | 光敏材料C光敏材料D | 显影剂B | 补充剂B | 处理条件10 |
| 比较例5 | 同上 | 光敏材料F | 显影剂C | 补充剂C | 处理条件11 |
| 比较例6 | 同上 | 光敏材料G | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件12 |
| 比较例7 | 同上 | 光敏材料K | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件13 |
| 补充模式 | 光敏材料 | 显影剂 | 补充剂 | 处理条件 | |
| 比较例8 | 同上 | 光敏材料H | 显影剂D | 补充剂D | 处理条件14 |
| 比较例9 | 同上 | 光敏材料I | 显影剂D | 补充剂D | 处理条件15 |
| 比较例10 | 同上 | 光敏材料J | 显影剂E | 补充剂E | 处理条件16 |
表2
| 自动处理机 | 显影温度 | 显影时间 | 显影槽体积 | 输送速率 | 操作时消逝补充量 | 停止时消逝补充量 | 处理补充量 | 处理图案 | |
| 处理条件1 | 图3 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | - | - | - | 表4 |
| 处理条件2 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | - | - | - | 表5 |
| 处理条件3 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | - | - | - | 表6 |
| 处理条件4 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | 表3 | |||
| 处理条件5 | 图1 | 30℃ | 15秒 | 20,000cc | 1100mm/分 | - | - | - | 表3 |
| 处理条件6 | 图1 | 30℃ | 20秒 | 20,000cc | 800mm/分 | - | - | - | 表3 |
| 处理条件7 | 图1 | 25℃ | 20秒 | 20,000cc | 800mm/分 | - | - | - | 表3 |
| 自动处理机 | 显影温度 | 显影时间 | 显影槽体积 | 输送速率 | 操作时消逝补充量 | 停止时消逝补充量 | 处理补充量 | 处理图案 | |
| 处理条件8 | 图1 | 30℃ | 15秒 | 20,000cc | 1100mm/分 | - | - | - | 表3 |
| 处理条件9 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | 50cc/小时 | 15cc/小时 | 20cc/m2 | 表5 |
| 处理条件10 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | 50cc/小时 | 15cc/小时 | 20cc/m2 | 表6 |
| 处理条件11 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | 147cc/小时 | 74cc/小时 | 17cc/m2 | 表3 |
| 处理条件12 | 图1 | 30℃ | 12秒 | 20,000cc | 1400mm/分 | 70cc/小时 | 30cc/小时 | 100cc/m2 | 表3 |
| 处理条件13 | 图1 | 30℃ | 15秒 | 20,000cc | 1100mm/分 | 70cc/小时 | 30cc/小时 | 100cc/m2 | 表3 |
| 处理条件14 | 图1 | 30℃ | 20秒 | 20,000cc | 800mm/分 | 100cc/小时 | 75cc/小时 | 75cc/m2 | 表3 |
| 处理条件15 | 图1 | 25℃ | 20秒 | 20,000cc | 800mm/分 | 90cc/小时 | 40cc/小时 | 70cc/m2 | 表3 |
| 自动处理机 | 显影温度 | 显影时间 | 显影槽体积 | 输送速率 | 操作时消逝补充量 | 停止时消逝补充量 | 处理补充量 | 处理图案 | |
| 处理条件16 | 图1 | 30℃ | 15秒 | 20,000cc | 1100mm/分 | 70cc/小时 | 30cc/小时 | 100cc/m2 | 表3 |
表3
| 每天处理量 | |||||||||||
| 天 | 1 | 2 | 3 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 13 | 14 | |
| 星期几 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | |
| 光敏材料(m2×版) | 上午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×4 |
| 下午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×4 | |
| 总计(m2) | 21 | 21 | 21 | 67 | 11 | 11 | 11 | 11 | 11 | 6 | |
表4
| 每天处理量 | |||||||||||
| 天 | 1 | 2 | 3 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 13 | 14 | |
| 星期几 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | |
| 光敏材料A(m2×版) | 上午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0.8×4 |
| 下午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0.8×4 | |
| 光敏材料B(m2×版) | 上午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0 |
| 下午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0 | |
| 总计(m2) | 21 | 21 | 21 | 67 | 11 | 11 | 11 | 11 | 11 | 6 | |
表5
| 每天处理量 | |||||||||||
| 星期几 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | |
| 光敏材料E(m2×版) | 上午 | 0.8×6 | 0.8×6 | 0.8×6 | 0.8×22 | 0.8×3 | 0.5×3 | 0.8×3 | 0.5×3 | 0.8×3 | 0.8×2 |
| 下午 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×22 | 0.8×4 | 0.5×4 | 0.8×4 | 0.5×4 | 0.8×4 | 0.8×2 | |
| 光敏材料A(m2×版) | 上午 | 0.8×6 | 0.8×6 | 0.8×6 | 0.8×20 | 0.8×3 | 0 | 0.8×3 | 0 | 0.8×3 | 0 |
| 下午 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×7 | 0.8×20 | 0.8×4 | 0 | 0.8×4 | 0 | 0.8×4 | 0 | |
| 光敏材料B(m2×版) | 上午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×3 | 0 | 0.8×3 | 0 | 0 |
| 下午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×4 | 0 | 0.8×4 | 0 | 0 | |
| 总计(m2) | 21 | 21 | 21 | 67 | 11 | 9 | 11 | 9 | 11 | 3 | |
表6
| 每天处理量 | |||||||||||
| 天 | 1 | 2 | 3 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 13 | 14 | |
| 星期几 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | 星期1 | 星期2 | 星期3 | 星期4 | 星期5 | |
| 光敏材料C(m2×版) | 上午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0.8×4 |
| 下午 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×13 | 0.8×42 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0.8×4 | |
| 光敏材料D(m2×版) | 上午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0 |
| 下午 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0.8×7 | 0 | 0 | |
| 总计(m2) | 21 | 21 | 21 | 67 | 11 | 11 | 11 | 11 | 11 | 6 | |
表7
| 显影剂敏感度的稳定性 | |
| 实施例1 | ○ |
| 比较例1 | × |
| 实施例2 | ○ |
| 比较例2 | × |
| 实施例3 | ○ |
| 比较例3 | × |
| 实施例4 | ○ |
| 比较例4 | × |
| 实施例5 | ○ |
| 比较例5 | × |
| 实施例6 | ○ |
| 比较例6 | × |
| 实施例7 | ○ |
| 比较例7 | × |
| 实施例8 | ○ |
| 比较例8 | × |
| 实施例9 | ○ |
| 比较例9 | × |
| 实施例10 | 0 |
| 比较例10 | × |
[标准]
○：敏感度基本上与显影剂开始时的敏感度相同。
△：尽管敏感度从显影剂开始时的敏感度波动，但未发现图像的降级和玷污。
×：敏感度的波动超过了可以允许的范围，以致于不能复制点像的高亮度区域或发生非图像区域的玷污。
表8
| 显影敏感度波动的宽度 | 显影敏感度允许波动的范围 | |
| 实施例1 | -1.5％至+5.5％(曝光需要的印刷版表面能) | -10％至+10％ |
| 比较例1 | -16.0％至+15.5％(曝光需要的印刷版表面能) | -10％至+10％ |
| 实施例2 | -0.20％阶梯至+0.10％阶梯(阶梯式光楔阶梯数) | -0.5％阶梯至+0.5％阶梯 |
| 比较例2 | -0.55％阶梯至+0.55％阶梯(阶梯式光楔阶梯数) | -0.5％阶梯至+0.5％阶梯 |
[实施例3至10的处理]
如表1所示，使用本发明的补充方法进行连续处理，以评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7中。
[比较例1至2的处理]
如表1所示，使用作为常规模式的电导率-标准补充模式进行连续处理，以评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7和8中。
[比较例3至10的处理]
如表1所示，使用面积/消逝标准补充模式进行连续处理，以评估显影剂敏感度的稳定性。结果示于表7中。
从前面所述评估可以证实：与其中显影剂敏感度超过可以允许范围的比较例1至10相比较，在使用本发明模式的实施例1至10中，显影剂的敏感度落入在可以允许的范围内。
根据本发明，提供了一种通过用由含有电解质的水溶液制成的显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影的光敏平版印刷版自动处理的方法，该方法包含：对于预先确定的每一固定时期测量显影剂的电导率，并且在测量的电导率值低于待继续计算的目标电导率值的情况下，向显影剂中以预先确定的定额补充显影剂补充剂，其中，从自动处理装置启动直到测量的显影剂电导率值超过待继续计算的目标电导率值时这样一段时间内，对于显影剂补充剂的每次补充，使用根据预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置启动之后，在测量的显影剂电导率值第一次超过目标电导率值之后，对于显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值，该第二运算表达式使用从最近一次补充直到当前的显影剂补充所经过的时间。尽管本发明的自动处理装置是简单和便宜的构造，但它可以通过处理频率(处理补充量与消逝补充量的比例)来修正目标电导率值的变化，并且防止在计算目标电导率值中的错误，该错误是由在自动处理装置停止/操作时，相应需要的消逝补充量的差异所导致的，因此，可以实现具有在敏感度方面高稳定性的自动加工处理。
本申请是基于2002年12月27日提交的日本专利申请JP 2002-382581，在此引入其全部内容作为参考，如同列出其全文一样。
Claims (10)
1.一种通过用显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影的光敏平版印刷版的自动处理方法，该方法包含：
预先计算具有落入适宜范围的活度的显影剂的电导率值作为目标电导率值；
对于根据预先确定的每一固定时期测量显影剂的电导率；和
在测量的电导率值低于目标电导率值的情况下，向显影剂中补充显影剂补充剂，
其中：
在从自动处理装置操作开始后即刻直到测量的显影剂电导率值超过目标电导率值时这样一段时期内，对于显影剂补充剂的每次补充，使用由预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置操作开始后，在测量的显影剂的电导率值第一次超过目标电导率值之后，对于显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值。
2.根据权利要求1所述的自动处理方法，其中第一运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数来修正目标电导率值；并且第二运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数和根据测量的从最近一次的显影剂补充直到当前的显影剂补充所经过的时间来修正用于显影剂补充剂的每一次补充的目标电导率值。
3.根据权利要求1所述的自动处理方法，其中在用显影剂对多个曝光过的光敏平版印刷版进行显影中，对于根据预先确定的每一固定时期测量显影剂的电导率，并且在测量的电导率值低于目标电导率值的情况下，以预先确定的定额向显影剂中补充显影剂补充剂。
4.根据权利要求1所述的自动处理方法，其中第一运算表达式是由下面的等式(1)表示的：
dn＝C1×do+C2 (1)
其中do表示补充前的目标电导率值，dn表示更新的目标电导率值，且C1、C2各自表示根据实验预先确定的常数。
5.根据权利要求1所述的自动处理方法，其中第二运算表达式是由下面的等式(2)表示的：
dn＝C3×do+C4×T+C5 (2)
其中do表示补充前的目标电导率值，dn表示更新的目标电导率值，T表示预先测量的补充时间间隔，和C3、C4、C5各自表示根据实验预先确定的常数。
6.一种配备有补充设备的光敏平版印刷版的自动处理装置，当显影槽中的显影剂的电导率值低于根据预先计算的目标电导率值时，所述补充设备用于补充显影剂补充剂，其中：
补充设备配备有：用于检测在显影槽中的显影剂的电导率值的电导率传感器，用于向显影槽中供给显影剂补充剂的补充剂供给单元，用于测定在补充显影剂补充剂之后直到下次补充所经过时间的记时器，和控制单元，其设置目标电导率值作为补充显影剂补充剂的标准并且这样控制补充剂供给单元的行动，以便当在显影槽中的显影剂的电导率值低于设置的目标电导率值时，补充显影剂补充剂，和
该控制单元通过下面的方法修正目标电导率值：基于电导率传感器和记时器检测的值，从自动处理装置操作开始之后即刻直到测量的显影剂的电导率值超过目标电导率值时这样一个时期内，对于显影剂补充剂的每次补充，使用由预先确定的第一运算表达式来修正目标电导率值；并且在自动处理装置操作开始之后，在测量的显影剂的电导率值第一次超过目标电导率值之后，对于显影剂补充剂的每次补充，使用第二运算表达式来修正目标电导率值。
7.根据权利要求6所述的自动处理装置，其中第一运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数来修正目标电导率值；并且第二运算表达式是这样一种运算表达式，其适合于使用预先用实验方法确定的常数和根据测量的从最近一次的显影剂补充直到当前的显影剂补充所经过的时间来修正用于显影剂补充剂的每次补充的目标电导率值。
8.根据权利要求6所述的自动处理装置，其配备有补充设备，该补充设备用于在显影槽中的显影剂的电导率值低于目标电导率值时，以预先确定的定额补充显影剂补充剂。
9.根据权利要求6所述的自动处理装置，其中第一运算表达式是由下面的等式(1)表示的：
dn＝C1×do+C2 (1)
其中do表示补充前的目标电导率值，dn表示更新的目标电导率值，且C1和C2各自表示根据实验预先确定的常数。
10.根据权利要求6所述的自动处理装置，其中第二运算表达式是由下面的等式(2)表示的：
dn＝C3×do+C4×T+C5 (2)
其中do表示补充前的目标电导率值，dn表示更新的目标电导率值，T表示预先测量的补充时间间隔，和C3、C4、C5各自表示根据实验预先确定的常数。
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