CN1620485A - 用于处理金属的聚合物衍生物 - Google Patents

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H－U·耶格尔
P·诺伊曼
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Abstract

本发明涉及用于处理金属表面和用于使金属或金属合金在塑料表面上沉积的组合物，该组合物包含如下组分：a)作为组分A的至少一种聚合物，其由结构要素(1)和选自(2)、(3)、(4)和(5)中的至少三种结构要素构成；b)作为组分B的水或适于溶解、分散、悬浮或乳化聚合物的其它溶剂；c)任选的作为组分C的表面活性化合物、分散剂、悬浮剂和/或乳化剂。本发明还涉及处理金属表面和使金属或金属合金在塑料表面上沉积的方法，其中使金属表面或塑料表面与聚合物(组分A)接触。此外，本发明还公开了聚合物(组分A)在处理金属表面和使金属或金属合金在塑料表面上沉积中的用途，以及由特定组分A′a、A′b和A′c构成的聚合物。

Description

用于处理金属的聚合物衍生物
本发明涉及用于处理金属表面的组合物，防腐处理金属表面的方法和聚合物在处理金属表面中的用途。此外，本发明还涉及用于使金属或金属合金在塑料表面上沉积的组合物和方法。
金属腐蚀在含有金属的制品的制造、加工和使用过程中成为问题。保护膜和腐蚀抑制剂因此用于减缓或防止腐蚀。尽管保护膜可永久性地施用于金属，但优选将腐蚀抑制剂加入物质中，尤其加入液体混合物中，后者当与金属接触时会引起或加速腐蚀。保护膜和腐蚀抑制剂均可以包含聚合物，或以聚合物形式存在。尤其令人感兴趣的是其中不需要使用有毒的铬酸盐的组合物。这类组合物在现有技术中是已知的。
EP-A 0828 197涉及用于从半导体表面上去除光致抗蚀剂和刻蚀残留物的配制剂，该配制剂含有水、至少一种氨基化合物和腐蚀抑制剂。该腐蚀抑制剂选自季铵硅酸盐和邻苯二酚、醛或酮和视需要而定的酚类化合物的低聚缩合物，优选邻苯二酚/甲醛低聚物。
US 6,130,289涉及酚醛树脂水分散体，其中该酚醛树脂由酚醛树脂前体，优选甲阶酚醛树脂与具有离子基团，优选磺酸根和对该酚醛树脂前体具有反应性的基团，优选羟基或羟烷基的改性剂的反应获得。这些酚醛树脂分散体适于涂覆金属表面。
由于使用金属表面的腐蚀抑制剂和保护膜的重要性和广泛性，对于其性能的范围，如对金属表面的粘合、抑制效果和疏水特性满足处理金属表面必需符合的高要求的保护膜和腐蚀抑制剂存在着巨大需求。而且，保护膜或腐蚀抑制剂的各组分应该便于以大量获得，且应该非常便宜。
本发明的目的是提供获得对金属表面的下列改进中的至少一种的用于表面处理金属的组合物：改进的防腐，对于后续涂层(例如表面涂覆或金属沉积)的改进粘合、钝化和更平滑的表面(在抛光、酸洗、电抛光的情况下)。本发明的另一个目的是提供表面处理金属的方法以及适于作为本发明组合物的组分并满足上述要求的聚合物。此外，本发明意欲提供用于沉积金属的添加剂。此外，意欲提供用于使金属或金属合金在塑料表面上沉积的组合物和方法。
我们已经发现，所述目的通过用于处理金属表面的组合物得以实现，该组合物包含如下组分：
a)作为组分A的至少一种聚合物，其由结构要素(1)：
(1)
Figure A0282804400121
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
(3) 和/或
(4)
Figure A0282804400125
(5) 和/或 和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基；
b)作为组分B的水或适于溶解、分散、悬浮或乳化聚合物(组分A)的其它溶剂；
c)视需要而定的作为组分C的表面活性化合物、分散剂、悬浮介质和/或乳化剂。
本发明组合物可以用于所有金属处理方法中，尤其可以用于可能发生金属表面腐蚀的那些方法中。这些方法的实例是金属表面，优选无铬酸盐的金属表面的钝化，尤其磷酸盐化，金属表面的酸洗，金属表面的封闭，以及例如通过镀镍、镀锌、镀锡、镀铜或沉积合金而使金属在金属表面上的沉积。此外，这些组合物可以用于生产表面涂料或转化型带锈涂料(Rostumwandlern)。在所述方法中，尤其就金属表面的钝化和金属在金属表面上的沉积而言，包含根据本发明使用的聚合物(组分A)的组合物具有良好的抑制效果并保证保护膜或施涂于其上的涂层(例如表面涂层或化学或电化学沉积金属层)与金属表面的良好粘合。另外，本发明组合物可以用于使金属在塑料表面上沉积，例如在制造电路板中。
本发明组合物优选是抑制腐蚀的组合物，用于表面处理其中可能发生金属表面腐蚀的金属的方法中或用于防腐。
合适的金属表面一般是选自铝合金、镁合金、钢、铜、锌、锡、镍、铬和这些金属的普通工业合金中的普通工业材料。其它合适的金属表面是贵金属，尤其金、银及其合金。还合适的一般是可以用化学或电化学方法生产的普通工业金属涂料，其选自锌及其合金，优选金属锌，锌/铁，锌/镍，锌/锰或锌/钴合金，锡及其合金，优选金属锡，含Cu、Sb、Pb、Ag、Bi和Zn的锡的合金，特别优选在例如制造和加工电路板中用作焊剂的那些，以及铜，它们优选呈其在电路板和镀金属塑料部件上使用的形式。
在本发明组合物用于金属表面的酸洗或钝化，尤其磷酸盐化的情况下，含有锌、铝、镁和/或这些金属彼此的合金或与其它合金成分的合金的金属表面是优选的。在这些情况下，特别优选锌和铝以及这些金属与其它合金成分的合金。
在本发明组合物用于使金属在金属表面上沉积的情况下，当镀锌和沉积锌合金时以及当镀铜和镀镍时，优选钢表面，而当镀锡(包括Sn合金)时，优选铜和钢。
可以使用本发明组合物来处理未进行预处理的金属表面。然而，优选金属表面在用本发明组合物处理之前已至少进行过清洗。该清洗优选尤其包括将金属表面脱脂。合适的清洗和脱脂方法对于所属技术领域的熟练技术人员而言是已知的。还可以在金属表面上的酸洗操作或钝化操作之后的工艺步骤中，例如在涂覆步骤中使用本发明组合物。本发明组合物还可以作为包含所属技术领域的熟练技术人员已知的添加剂且可以用于相应方法中的清洗、酸洗和抛光配制剂使用。
本发明组合物还可以用于使金属或金属合金在塑料表面上沉积。本申请因此进一步涉及用于使金属在塑料表面上沉积的组合物，该组合物包含如下组分：
a)作为组分A的至少一种聚合物，其由结构要素(1)：
(1)
Figure A0282804400151
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
Figure A0282804400152
(3)
Figure A0282804400153
和/或
Figure A0282804400154
(4)
Figure A0282804400155
(5)
Figure A0282804400156
和/或
Figure A0282804400157
和/或
Figure A0282804400158
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、G1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基；
b)作为组分B的水或适于溶解、分散、悬浮或乳化聚合物(组分A)的其它溶剂；
c)视需要而定的作为组分C的表面活性化合物、分散剂、悬浮介质和/或乳化剂。
优选适于对塑料表面镀镍和镀铜，例如在制造电路板中镀铜的组合物。利用工业上常规的镀金属方法对塑料表面镀金属。本发明组合物用于对塑料镀金属，但视需要而定可以用于镀金属操作的预处理中。
在本申请上下文中，“组合物”不仅用来指即用组合物，还指浓缩物。下文对于各个组分所述的浓度以即用组合物为基准。然而，所属技术领域的熟练技术人员应该明白，在浓缩物中各组分的浓度相应地更高。
组分A
组分A是至少一种聚合物，其由结构要素(1)：
(1)
Figure A0282804400171
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
Figure A0282804400172
(3) 和/或
(4)
(5)
Figure A0282804400176
和/或 和/或
Figure A0282804400178
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；
R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。
根据本发明使用的聚合物的重均分子量一般＞500g/mol，优选1000-1500 000g/mol。
聚合物(组分A)优选具有如下元素组成：
C：20-82重量％，优选30-80重量％，特别优选40-70重量％，
H：2.3-12.5重量％，优选2.3-8重量％，特别优选2.5-5.5重量％，
N：1-61重量％，优选1-20重量％，特别优选1-15重量％，
O：2-50重量％，优选5-50重量％，特别优选20-45重量％，
S：0-18.5重量％，优选0.5-18.5重量％，特别优选5-15重量％，
X：0-46重量％，优选0-38重量％，特别优选1-13重量％，
其中X是任何所需的化学元素，优选是对于M所述的阳离子中的一种或多种。
组分A以任何所需的方式制备。合适的方法是所属技术领域的熟练技术人员已知的。在特别优选的实施方案中，组分A通过缩聚来制备。用于缩聚的合适工艺条件对于酚醛树脂、脲树脂和蜜胺树脂制备领域的熟练技术人员而言是已知的，例如公开在ULLMANN’s ENCYCLOPEDIA OFINDUSTRIAL CHEMISTRY(ULLMANN工业化学大全)，第6辑，2000电子版，“酚醛树脂”一章，第3和4段，以及US 4,252,938和US 4,677,159中。
为了通过缩聚制备聚合物(组分A)，通常而言使下列组分相互反应：
a)作为组分Aa的至少一种醛，
b)作为组分Ab的携带至少一个OM基团或一个磺基-SO2OM或这两个基团的至少一种芳族化合物，
c)视需要而定的作为组分Ac的选自具有邻位OM基团的二酚类或多酚类中的至少一种化合物，
视需要而定，其中相邻OH基团可以作为缩醛或缩酮被保护，
其中在组分Ab和Ac中，M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
d)视需要而定的作为组分Ad的至少一种氨基化合物，
其中使组分Ac和Ad中的至少一种在聚合物(组分A)的制备中反应。
缩聚可在催化剂的存在下进行。合适的催化剂是所属技术领域的熟练技术人员已知的。优选使用选自酸，优选无机酸和草酸，以及碱，优选碱金属或碱土金属氢氧化物，以及弱酸和碱的盐中的催化剂。
组分Aa
合适的醛类是通式R’CHO的醛类，其中R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基和/或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基、羧基或氨基取代，和/或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，和/或可以含有双键；R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。选自甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、香茅醛、苯甲醛、2-氯苯甲醛、2-羟基苯甲醛、2-丙烯醛、3，3-二甲基丙烯醛、4-甲基苯甲醛、4-(1，1-二甲基乙基)苯甲醛、茴香醛、4-氯苯甲醛、3-羟基-2，2-二甲基丙醛、7-羟基-3，7-二甲基辛醛、正己醛、2-糠醛、3-甲基-4-氧代-2-丁烯酸甲酯、3-甲基丁醛、2-乙基己醛、2-甲基丙醛、2-苯基丙醛、3，7-二甲基辛-2，6-二烯-1-醛、4-(1，1-二甲基乙基)-α-甲基苯丙醛、戊醛、2-甲基戊醛、2-甲基-2-戊烯醛、3-乙酰氧基-2-甲基丙醛、4-乙酰氧基-2-甲基-2-丁烯醛、3-甲酰基蒎烷、4-苄氧基苯甲醛、2-甲基-4，4-二乙酰氧基-2-丁烯醛、2-甲基-2-丙烯醛、对苯二甲醛、3-(4-甲基苯基)-2-甲基-2-丙烯醛、4-甲酰基苯甲酸、3-硝基苯甲醛、3-甲酰基-4-甲基四氢吡喃、2-甲基-3-甲基硫代丙醛、2-甲酰-2-甲基丙酸甲酯、邻苯二甲醛、视黄醛、3-(4-甲氧苯基)-2-甲基-2-丙烯醛、2，3-二苯基丙烯醛、3-甲酰基-2-甲基丙酸甲酯、肉桂醛、低聚甲醛、丁醛、水杨醛、丙烯醛、巴豆醛和乙二醛中的醛类是特别优选使用的。属于甲醛衍生物的六亚甲基四胺也可用作醛化合物。甲醛和低聚甲醛是特别优选使用的。
基于组分Aa、Ab、视需要而定的Ac和视需要而定的Ad的总量，醛一般以20-80摩尔％，优选40-60摩尔％的量使用。
组分Ab
合适的芳族化合物优选是具有芳族C6-14母体结构的化合物，它们除了至少一个OM基团或至少一个磺基-SO2OM，或这两个基团以外，还可以含有其它基团。优选的其它基团是烷基，优选C1-14烷基，它们是未取代的或被烷基和/或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基、羧基或氨基取代，和/或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，和/或可以含有双键和含杂原子的基团，如氯、羟基、羧基或氨基。其它基团的数目是可变的，并尤其取决于芳族化合物的环尺寸。除了OM基团或磺基-SO2OM以外的基团的数目优选是1-5，特别优选1-3，非常特别优选1或2个。这些基团可以位于OM基团或磺基-SO2OM的邻位、间位或对位。
选自苯酚，甲酚类，对烷基苯酚类和对位取代的苯酚类如4-叔丁基苯酚、4-异辛基苯酚、4-羟基联苯、4-壬基苯酚，异戊基苯酚，环己基苯酚，十二烷基苯酚，腰果油(含有在间位具有C14-链烯基取代基的苯酚)，2，2-双(4-羟苯基)丙烷(二羟苯基丙烷)，双酚A，间苯二酚，氢醌，苯酚醚，具有羧基取代基的苯酚类如苯氧基乙酸，4，4’-二羟基二苯基砜，萘磺酸(尤其2-萘磺酸)，萘酚，苯酚磺酸(尤其4-苯酚磺酸)，2-羟基苯胺，2-羟基-5-甲基苯胺，1-氨基-2-萘酚-4-磺酸和3-氨基-4-羟基苯基乙基砜中的芳族化合物是特别优选使用的。
选自苯酚、氢醌和间苯二酚中的至少一种化合物非常特别优选用作含有至少一个OM′基团的芳族化合物。选自苯酚磺酸和萘磺酸中的至少一种化合物非常特别优选用作含有至少一个磺基-SO2OM″″的芳族化合物。
除了上述磺酸类和苯酚类以外，它们的盐也可以使用。具有如下金属的阳离子的盐是优选的：碱金属，优选钠或钾，碱土金属，优选镁或钙，以及Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V，特别优选钠、钾、镁、钙、锌和锰。
当使用含有至少一个OM基团的芳族化合物时，基于组分Aa、Ab、视需要而定的Ac和视需要而定的Ad的总量，其一般以7-21摩尔％，优选10-15摩尔％的量使用。如果额外使用组分Ac，则所述量是组分Ac和含有至少一个OM基团的芳族化合物的量的总和。
当使用含有至少一个磺基-SO2OM的芳族化合物时，基于组分Aa、Ab、视需要而定的Ac和视需要而定的Ad的总量，其一般以10-30摩尔％，优选15-25摩尔％的量使用。
在优选实施方案中，使含有至少一个OM基团的至少一种芳族化合物和含有至少一个磺基-SO2OM的至少一种芳族化合物进行反应。
组分Ac
除了组分Aa和Ab以外，可以使用组分Ac。合适的具有邻位OM基团的二酚类或多酚类优先选自邻苯二酚、没食子酸丙酯、没食子酸正辛酯、没食子酸正十二烷基酯、肾上腺素、甲基多巴胺、3-甲基邻苯二酚、多巴胺、1，2-二羟基-4-叔丁基苯、4-(2-((3-(4-羟苯基)-1-甲基丙基)氨基)乙基)-1，2-二羟基苯、2-(3，4-二羟基苄基)-2-肼基丙酸、(3，4-二羟基苯基)乙酸、(3，4-二羟基苯基)乙腈、3，4，5-三羟基苯甲酸、3，4-二羟基苯甲酸、4，5-二羟基-1，3-苯二磺酸、2，3-二羟基喹喔啉、4，5-二羟基-2，7-萘二磺酸、2，3-二羟基萘-6-磺酸、ω-氯-3，4-二羟基乙酰苯和3，4-二羟基肉桂酸。
除了上述邻位二酚类或多酚类以外，它们的盐也可以使用。具有如下金属的阳离子的盐是优选的：碱金属，优选钠或钾，碱土金属，优选镁或钙，以及Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V，特别优选钠、钾、镁、钙、锌和锰。
合适的缩醛类或缩酮类优先选自1，3-苯并二氧杂戊环、2-甲基-1，3-苯并二氧杂戊环、1-(2-甲基-1，3-苯并二氧杂戊环-2-基)-2-丙酮、2-甲基-3，4-亚甲基二氧基氢化肉桂醛、3，4-亚甲基二氧基苯基乙醛、胡椒丁氧醚-(6-丙基胡椒基-丁基-二甘醇醚)、胡椒基醇、胡椒醛、胡椒基酸和2，2-二甲基-1，3-苯并间二氧杂环戊烯。
非常特别优选邻苯二酚。
此外，在T.S.Li等人，J.Chem.Soc.(化学会志)，PerkinTrans.1， 21(1998)，3561-3564中公开的化合物也适于作为组分Ac。
具有邻位OM基团-其中邻位OH基团视需要可作为缩醛或缩酮被保护-的二酚类或多酚类如果使用的话，它们以在组分Ab-含有至少一个OM′基团的芳族化合物-下所述的量使用。在一个实施方案中，组分Ac和含有至少一个OM基团且用作组分Ab的芳族化合物的量的总和如在组分Ab下所述。
组分Ad
合适的胺化合物优选是伯单胺R-NH2，其中R是烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。特别优选使用的伯单胺是伯烷基胺(R＝烷基)和伯链烷醇胺(R＝被至少一个羟基取代的烷基)。
然而，选自尿素及其衍生物、蜜胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、二乙醇胺和三乙醇胺中的具有多个氨基，优选2-5个氨基的化合物也适于作为胺化合物。此外，仲胺R2NH也可用作胺化合物，其中两个基团R彼此独立具有对于R所述的含义。特别优选的仲胺是仲烷基胺(R＝烷基)和仲链烷醇胺(至少一个R＝被至少一个羟基取代的烷基)。具有多个氨基的这些化合物或仲胺例如用来调节所需聚合物(组分A)的交联度和分子量。
此外，叔胺R3N也可以用作添加剂，其中三个基团R彼此独立具有对于R所述的含义。优选使用的叔胺是叔烷基胺(R＝烷基)和叔链烷醇胺(至少一个R＝被至少一个羟基取代的烷基)。
适于作为组分Ad的胺化合物例如选自尿素及其衍生物、蜜胺、(3-氨基丙基)氨基-2-乙醇、1-(1-萘基)乙基胺、1-(3-氨基丙基)咪唑、1-(4-甲氧基苯基)-2-(乙基氨基)丙烷、1-(4-甲氧基苯基)乙基胺、1-(4-甲基苯基)乙基胺、1，1-二甲基丙炔-2-基胺、1，1’-亚氨基双-2-丙醇、1，2-二氨基醌、1，2-乙二胺、1，2-丙二胺、1，3，5-三-(3-二甲氨基丙基)-对称-六氢三嗪、1，3-二甲氨基尿嘧啶、1，3-亚苯基双二氨基三嗪、1，3-丙二胺、1，4-二氨基-2，3-二氢蒽醌、1，4-二氨基蒽醌、1，5-二氨基蒽醌、1，6-己二胺、1，8-辛二胺、1-氨基-2-丙醇、1-氨基-4-苯甲酰基氨基、1-丁胺、1-环己基-2-甲基氨基丙烷、1-二甲基氨基-2-丙醇、1-己胺、1-甲基二亚丙基三胺、1-N-乙基-N-(2’-羟乙基)-氨基-3-甲基苯、1-辛基胺、1-苯乙基胺、1-苯丙基胺、1-哌嗪乙胺、1-丙胺、2-(2-(N，N-二甲基氨基)乙氧基)乙醇、2-(2-氨基乙基)氨基乙醇、2-(2-二甲氨基乙基)甲氨基乙醇、2-(3，4-二甲氧基苯基)乙基胺、2-(4-羟苯基)乙基胺、2-(二异丙基氨基)-乙醇、2-(二甲基氨基)-乙基-2-丙烯酯、2-(乙基氨基)乙醇、2-(乙基甲基氨基)-1-苯基-1-丙醇-盐酸盐、2-(乙基苯基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、2-(丙基氨基)乙醇、2，2’-(甲基亚氨基)双乙醇、2，2′，2″-三羟基三乙胺、2，2’-二乙基二己基胺、2，2’-二甲氧基二乙胺、2，2-二甲基-1，3-丙二胺、2，4，6-三氨基-s-三嗪、2，5，8-三甲基-2，5，8-三氮杂壬烷、2，6-二甲代苯胺、2，8-二甲基-2，8-二氮杂-5-氧杂壬烷、2-氨基-1-苯基-1-丙醇、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、2-氨基-3，5-二硝基噻吩、2-氨基-3，5-二硝基噻吩、2-氨基-3-乙酯基-5-硝基噻吩、2-氨基-3-羟基丁酸、2-氨基-5-硝基苯酚、2-氨基蒽醌、2-氨基苄腈、2-氨基乙基醇、2-氨基砜、2-丁胺、(dl)-2-丁基氨基乙醇、2-二丁基氨基乙醇、2-二乙基氨基乙基胺、2-乙氧基乙基胺、2-乙基氨基-4-甲酚、2-乙基-N，N-双(2-乙基己基)-1-己胺、2-甲氧基-1-乙胺、2-甲基-2-丙胺、2-甲基氨基-1-(2-甲氧基苯基)丙烷、2-甲基氨基-1-苯基-1-丙醇、2-苯基氨基乙醇、2-苯基乙胺、2-甲苯胺、3-(2-乙基己氧基)-1-丙胺、3-(2-羟乙基氨基)-1-丙醇、3-(2-甲氧基乙氧基)-1-丙胺、3-(环己基氨基)丙基胺、3-(二甲基氨基)丙基胺、3-(N-乙基-N-苯基)-氨基丙腈、3，2’-氨基乙基氨基丙基胺、3，3-二甲基-2-氨基丁烷、3，3-二甲基炔丙基胺、3，4-二羟苯基乙基胺、3’，6’-双(乙基氨基)-2’，7’-二甲基螺[异苯并呋喃-1(3h)，9’-[9h]-呫吨]-3-酮、3-氨基-1-丙醇、3-氨基苄基胺、3-氨基甲基-3，5，5-三甲基环己胺、3-氨基甲基庚烷、3-氨基甲基蒎烷、3-氨基萘-1，5-二磺酸、3-氨基丙酸及其盐、3-氮杂戊烷-1，5-二胺、3-二乙基氨基丙基胺、3-二甲基氨基-1-丙醇、3-二甲基氨基丙腈、3-乙氧基-1-丙基胺、3-乙氧基丙基胺、3-甲氧基-1-丙胺、3-甲基氨基丙胺、3-N-甲基氨基-1-(2-噻吩基)-1-丙醇、4-(2-(3-(4-羟苯基)-1-甲基丙基)氨基乙基)-1，2-二羟基苯、4-(3，4-二氯苯基)-1，2，3，4-四氢-N-甲基-1-萘胺、4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4’-二氨基二苯基甲烷、4，4’-亚甲基双-(2-甲基环己胺)、4，4’-亚甲基双苯胺、4，4’-亚甲基双环己基胺、4，4’-四甲基二氨基二环己基甲烷、4，6-二氨基-1，3-苯二磺酸、4，7，10-三氧杂十三烷-1，13-二胺、4，7-二氮杂癸烷-1，10-二胺、4，7-二氧杂癸烷-1，10-二胺、4，9-二氧杂十二烷-1，12-二胺、4-[[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基]羰基]苯胺、4-氨基-1-(二乙基氨基)戊烷、4-氨基-2-氯-6，7-二甲氧基喹唑啉、4-氨基二苯基胺-2-磺酸、4’-氨基苯磺酰苯胺(Aminosulfanilid)、4-氯苯基乙基胺、4-二乙基氨基水杨醛、4-二甲基氨基苯甲醛、4-甲氧基苯基乙基胺、1-(1-吗啉代)-2-乙基胺、4-N，N-二乙基氨基-2-丁炔-1-醇、4-硝基-2-氨基苯酚、4-叔丁基苯胺、4-甲苯胺、5-乙酰氨基-2-氨基苯磺酸、5-氨基-1-戊醇、5-氨基-3-氧杂戊醇、5-二乙氨基戊炔-2-醇、5-硝基-2-氨基苯酚、6，13-二氯-3，10-双[(3-氨基丙基)氨基]-三苯二噁嗪二磺酸、6-氨基-1-己醇、6-氯-2-甲苯胺、6-甲基氨基-2-甲基庚-2-烯、乙酰氨基苯、α-(1-(肉桂基甲基氨基)乙基)苄基醇、氨基苯甲酰亚胺、氨基溴醌、氨基氰基噻吩、氨基苯氧基丙基吡啶、氨荼碱、氨基丙基乙烯基醚、氨基酸(尤其精氨酸、天冬酰胺、天冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酰胺、组氨酸、赖氨酸、甲硫氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸)、苯胺、苄基胺、苄基氨基乙基茶碱、双(3-氨基丙基)聚四氢呋喃、双(二甲基氨基丙基)甲基胺、双氨基苄基苯胺、双二甲基氨基乙基醚、双六亚甲基三胺、丁基二甘醇胺、氯苯基乙基胺消旋体、纯环己基胺、环戊基胺、二乙醇胺、二异丙醇胺、二甲胺、二甲基氨基乙氧基乙醇、乙醇胺、乙胺、乙二胺、六亚甲基二胺、高藜芦胺、异丙醇胺、椰子脂肪胺及其乙氧基化产物、甲氧基异丙基胺、甲基(1-甲基-2-苯基乙基)-丙-2-炔基胺、单乙醇胺、单异丙醇胺、单异丙基胺、单甲胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺、N-(3-氨基丙基)-1，3-丙二胺、N’-(3-氨基丙基)-N，N-二甲基-1，3-丙二胺、N，N，N’N’-四甲基-1，3-二氨基丙烷、N，N，N’N’-四甲基六亚甲基二胺、N，N’-双(3-氨基丙基)乙二胺、N，N-二乙基-4-氨基-2-丁炔-1-醇、N，N-二乙基氨基甲酰氯、N，N-二乙基羟胺、N，N-二乙基-N’N’-二甲基-1，3-丙二胺、N，N-二甲基-1-丁胺、N，N-二甲基-2-(4-羟苯基)乙胺、N，N-二甲基-2-丙胺、N，N-二甲基-4-羟苯基乙胺、N，N-二甲基苄基胺、N，N-二甲基环己基胺、N，N-二甲基乙醇胺、N，N-二甲基乙胺、N，N-二甲基正丙基胺、萘基乙基己基胺、萘基十三烷基胺、N-丁基-1-丁胺、N-丁基二乙醇胺、N-环己基环己胺、N-乙基-1，2-二甲基丙胺、N-乙基环己基胺、N-乙基乙胺、N-己基-1-己胺、N-甲基-3-苯基-3-(三氟-对甲苯基氧基)丙基胺、N-甲基二乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-单甲基环己基胺、去甲肾上腺素、N-丙基-1-丙胺、N-磺基乙基乙二胺钠盐、N-十三烷基十三烷胺、支化或线性辛戊胺、油基胺及其乙氧基化产物、二甘醇对氨基苯甲酸甲酯、对氰基乙基甲基氨基苯甲醛、对二乙基氨基苯甲醛、对二异丙醇胺甲苯胺、对二甲基氨基苯甲醛、苯巴比妥-1-环己基-N-甲基-2-丙胺、苯基乙醇胺、聚(乙二醇/丙二醇)胺、聚(乙二醇)胺、聚(丙二醇)胺类、聚四氢呋喃胺、若丹明6G、硬脂基胺及其乙氧基化产物、牛油脂肪胺及其乙氧基化产物、四甲基二氨基二乙基醚、四甲基二亚丙基三胺、十三烷基胺、十三烷基胺异构体混合物、十三烷基二异丙醇胺、三乙醇胺、三亚乙基二胺、三异丙醇胺、三甲胺、三正丁基胺、三正己基胺、三丙胺、酪胺、乙二胺与氧化丙烯和氧化乙烯的反应产物(尤其N，N，N’，N’-四(2-羟丙基)乙二胺、N，N，N’-三(2-羟丙基)乙二胺、N，N’-双(2-羟丙基)乙二胺、N，N-双(2-羟丙基)乙二胺和N-(2-羟丙基)乙二胺)。
非常特别优选使用选自伯、仲和叔，优选伯烷基胺，伯、仲和叔，优选伯链烷醇胺，蜜胺和尿素中的至少一种胺化合物。
当使用胺化合物时，基于组分Aa、Ab、视需要而定的Ac和视需要而定的Ad的总量，胺化合物一般以10-30摩尔％，优选15-25摩尔％的量使用。
在本发明组合物中，优选使用的聚合物(组分A)是可通过使下列组分反应获得的那些：
a)作为组分Aa的20-80摩尔％，优选40-60摩尔％的至少一种醛，优选甲醛或低聚甲醛，
b)作为组分Ab的7-21摩尔％，优选10-15摩尔％的具有至少一个OM基团的至少一种芳族化合物，优选苯酚、间苯二酚或氢醌，其中所述量对应于该具有至少一个OM基团的芳族化合物和组分Ac的总和，
和/或
10-30摩尔％，优选15-25摩尔％的具有至少一个磺基-SO2OM的至少一种芳族化合物，优选苯酚磺酸或萘磺酸，
c)视需要而定的作为组分Ac的选自具有邻位OM基团的二酚类或多酚类中的至少一种化合物，其中该邻位OH基团可以作为缩醛或缩酮被保护，优选邻苯二酚，
其中在组分Ab和Ac中，M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
d)作为组分Ad的0-30摩尔％，优选10-30摩尔％，特别优选15-25摩尔％的至少一种氨基化合物，优选伯、仲或叔烷基胺，伯、仲或叔链烷醇胺，蜜胺或尿素，
其中组分Ac或Ad的至少一种在聚合物(组分A)的制备中反应。
是否实际选择由上述组分起始的合成路线，或是否在聚合物(组分A)中仅存在形式上由这些组分得到的链段均不重要。
在每种情况下基于1L组合物，组分A通常以0.01-400g/L，优选0.2-100g/L，特别优选1-50g/L的量用于本发明组合物中。组分A的确切量取决于处理金属表面的各种方法和各种金属表面。
组分B
组分B是水或适于溶解或分散，悬浮或乳化聚合物(组分A)的其它溶剂。除了水以外的其它合适溶剂是例如脂族或芳族溶剂如苯，甲苯和二甲苯，卤化溶剂如二氯甲烷和氯仿，醇类如甲醇和乙醇，醚类如二乙基醚和四氢呋喃，聚醚，尤其聚乙二醇，酮类如丙酮，以及这些溶剂彼此和/或与水的混合物。特别优选单独使用水作为溶剂。
pH由应用的类型决定。例如，酸洗和磷酸盐化浴通常是强酸性的，而电镀浴是碱性或酸性的，这取决于浴的类型。适于特定应用的pH值对于所属技术领域的熟练技术人员而言是已知的。
水或其它溶剂的量取决于本发明组合物是即用组合物还是浓缩物以及各自的意欲用途。原则上，该量随为即用组合物规定的各组分的浓度变化而改变。
组分C
视需要而定，本发明组合物可以额外包含表面活性化合物、乳化剂和/或分散剂。合适的表面活性化合物是表面活性剂，它们可以是阳离子的、阴离子的、两性离子的或非离子的。合适的表面活性剂例如是R-EOn/POm类型的烷基和链烯基烷氧基化物，其中R一般是线性或支化C6-C30烷基，优选C8-C20烷基，EO是氧化乙烯单元，PO是氧化丙烯单元，其中EO和PO以任意所需顺序排列，以及n和m彼此独立是＞1且＜100，优选＞3且＜50，实例是Emulan、Lutensol和Plurafac(来自BASF)；烷基苯酚乙氧基化物；EO/PO嵌段共聚物(Pluronic，来自BASF)；烷基醚硫酸盐；以及烷基铵盐，即季铵盐。
这些组分在本发明组合物中的量一般是0.01-100g/L，优选0.1-20g/L。
在优选实施方案中，本发明组合物用于处理金属表面，并且除了组分A、B和视需要而定的C以外进一步包含如下组分：
d)作为组分D的以过渡金属阳离子、过渡金属氧合阴离子、含氟金属酸根(Fluorometallaten)或镧系元素为基础的至少一种盐、酸或碱，
和/或
e)作为组分E的选自磷酸、硫酸、磺酸、硝酸、氢氟酸和盐酸中的至少一种酸，和/或
f)作为组分F的至少一种其它腐蚀抑制剂，和/或
g)作为组分G的Ce、Ni、Co、V、Fe、Zn、Zr、Ca、Mn、Mo、W、
Cr和/或Bi的化合物，和/或
h)作为组分H的其它助剂和添加剂。
这些组合物特别适于酸洗和钝化，尤其磷酸盐化，以及作为本申请中所述的金属表面的转化型带锈涂料。
组分D
以过渡金属阳离子、过渡金属氧合阴离子、含氟金属酸根或镧系元素为基础的盐、酸和碱适于用作组分D。合适的过渡金属阳离子尤其是Ti(IV)、Zr(IV)、Hf(IV)和/或Si(IV)的含氟金属酸根，尤其合适的镧系元素是Ce。还合适的是钨酸根和钼酸根。
包含组分D的本发明组合物特别适于在金属表面上沉积防腐层或适于增强已沉积在金属表面上的防腐层的防腐效果。在本发明组合物中，根据本发明使用的聚合物(组分A)具有优异的防腐效果。本发明组合物特别适于涂覆金属表面，在金属表面上形成了连续薄膜。金属表面用聚合物的浸涂是特别有利的，组分A的涂布量低于0.5mg/cm2。从而获得了优异的腐蚀抑制效果。
如果组分D存在于本发明组合物中，则组分D的量优选是0.02-20g/L。
组分E
除了组分D以外，或代替组分D，本发明组合物可以进一步包含选自磷酸，硫酸，磺酸类如甲磺酸、乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、间硝基苯磺酸、萘磺酸及其衍生物，硝酸，氢氟酸以及盐酸中的至少一种酸。所用酸的类型取决于处理金属表面的类型。因此，磷酸通常在用于钢表面磷酸盐化的磷酸盐化浴中使用。在该情况下，本发明组合物是磷酸盐化溶液。这里要与非成膜磷酸盐化溶液，即不含二价金属的溶液进行区分。这些非成膜磷酸盐化溶液例如呈磷酸铁溶液形式。若磷酸盐化溶液含有二价金属离子，例如锌和/或锰离子，则磷酸盐化溶液以成膜的磷酸盐化溶液存在。包含硝酸的本发明组合物特别适于表面处理锌及其合金，而包含氢氟酸的组合物特别适于表面处理铝及其合金。
酸的用量可因应用而异。一般而言，在组分E存在于本发明组合物中的情况下，它通常以0.2-200g/L，优选2-100g/L的量使用。
组分F
除了组分D和/或E以外，或代替组分D和/或E，本发明组合物可以包含至少一种另外的腐蚀抑制剂。合适的腐蚀抑制剂选自丁炔二醇，苯并三唑，醛类，胺羧化物，氨基苯酚和硝基苯酚，氨基醇，氨基苯并咪唑，氨基咪唑啉类，氨基三唑，苯并咪唑胺类，苯并噻唑类，苯并三唑衍生物，硼酸与各种链烷醇胺的酯类如硼酸二乙醇胺酯，羧酸及其酯，喹啉衍生物，二苄基亚砜，二羧酸及其酯，二异丁烯基丁二酸，二硫代膦酸，脂肪胺和脂肪酸酰胺，胍衍生物，尿素及其衍生物，氯化月桂基吡啶鎓，马来酰胺，巯基苯并咪唑，N-2-乙基己基-3-氨基磺基丙酸，鏻盐，邻苯二甲酰胺，烷基醇的胺-和钠中和的磷酸酯，以及这些磷酸酯本身，聚烷氧基化物、尤其聚乙二醇的磷酸酯，聚醚胺，锍盐，磺酸如甲磺酸，硫醚类，硫脲类，秋兰姆二硫化物(Thiuramdisulfiden)，肉桂酸及其衍生物，锌磷酸盐和锌硅酸盐，以及锆磷酸盐和锆硅酸盐。
作为其它腐蚀抑制剂，优选使用丁炔二醇和苯并三唑(尤其用于表面处理铜)。
如果要在组合物中使用，则腐蚀抑制剂以通常0.01-50g/L，优选0.1-20g/L，特别优选1-10g/L的量使用。
组分G
除了上述组分以外，或视需要代替上述组分，还可以使用Ce、Ni、Co、V、Fe、Zn、Zr、Ca、Mn、Mo、W、Cr和/或Bi的化合物。通常而言，根据本发明的组分A在组合物中的使用获得了良好的防腐性能，使得不需要添加上述化合物。优选本发明组合物不含Cr(VI)。然而，若使用上述化合物(组分G)，则优选使用选自Fe、Zn、Zr和Ca中的化合物。如果这些化合物存在于本发明组合物中，则它们的量通常是0.01-100g/L，优选0.1-50g/L，特别优选1-20g/L。
组分H
除了上述组分D-G中的一种或多种之外，本发明组合物还可以包含其它助剂和添加剂。合适的助剂和添加剂包括导电性颜料或导电性填料，例如磷化铁、碳化钒、氮化钛、炭黑、石墨、二硫化钼或掺杂锡或锑的硫酸钡，其中磷化铁是优选的。将这类导电性颜料或导电性填料加入本发明组合物中，是为了改进所要处理的金属表面的可焊性或为了改进用电泳涂料的后续涂覆。此外，还可以使用二氧化硅悬浮体，尤其当使用组合物来处理含有铝的表面时。
这些助剂或添加剂一般以细碎形式存在，换句话说，它们的平均粒径一般是0.005-5μm，优选0.05-2.5μm。基于本发明组合物的总质量，助剂和添加剂的量一般是0.1-50重量％，优选2-35重量％。
本发明组合物可以额外包含用于改进成型特性的添加剂，实例是以天然或合成蜡为基础的蜡基衍生物，例如以丙烯酸为基础的蜡，聚乙烯蜡，聚四氟乙烯(PTFE)蜡或蜡衍生物或石蜡以及它们的氧化产物。
取决于它们的应用，本发明组合物可以包含以苯乙烯、4-羟基苯乙烯、丁二烯、丙烯酸、丙烯酸酯、丙烯酰胺、丙烯酸盐、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸盐以及丙烯酰胺的衍生物为基础的聚合物分散体。还可行的是，本发明组合物包含聚氨酯分散体和聚酯型氨基甲酸酯分散体或聚脲分散体。
可以存在于本发明组合物中的另一组化合物包括聚乙二醇、聚丙二醇、氧化乙烯的共聚物和氧化丙烯的共聚物。
若本发明组合物作为粉末涂料使用，则它们可以额外包含环氧树脂和/或甲醛与苯酚、尿素、蜜胺、苯酚磺酸或萘磺酸的缩合树脂。
当本发明组合物用于转化型带锈涂料中时，它们可以额外包含聚乙烯醇缩丁醛。
取决于包含组分A的本发明组合物的确切组成，它们可以用于处理金属表面的全部应用中，尤其用于金属表面腐蚀可能是问题的那些应用中。这些应用例如是脱漆，金属酸洗，电抛光，化学去毛刺，化学和电化学金属沉积(尤其Cu、Ni、Pd、Zn、Co、Mn、Fe、Mg、Sn、Pb、Bi、Ag、Au及其合金的沉积)，转移层形成(尤其无冲洗转移层形成，即冲洗操作次数减少的方法，例如在镀锌钢和铝上的无冲洗转移层形成)，腐蚀抑制(尤其在铜-例如在制造电路板中-和钢上的腐蚀抑制)以及润滑和涂油(尤其在冷成型中)。施用类型对应于普通工业方法，额外注意的是，将本发明组合物与用于相应应用的工业上常用的其它组分一起使用，或使它们与金属在额外处理步骤中，例如在使用本发明的腐蚀抑制组合物的合适配制剂如溶液、乳液、分散体、悬浮体或气溶胶的喷涂、浸涂、涂覆或电泳涂覆中接触。
本申请进一步涉及除了组分A、B和视需要而定的C以外还包含如下组分的金属沉积用组合物：
i)作为组分I的至少一种金属氧化物和/或金属盐，
j)视需要而定的作为组分J的至少一种配合剂，
k)视需要而定的作为组分K的至少一种酸或相应酸的碱金属盐或碱土金属盐，和
1)视需要而定的作为组分L的其它添加剂。
本发明组合物特别适于使金属或金属合金在金属或塑料表面上沉积。上文已经说明了合适的金属表面。金属或金属合金在塑料表面上的沉积优选在制造电路板中进行。沉积优选以化学方法或电化学方法进行。
组分I
合适的金属氧化物或金属盐是选自Zn、Ni、Cu、Au、Pd、Sn、Co、Mn、Fe、Mg、Pb、Bi和Ag中金属的氧化物或盐。这些金属可以以所用金属的形式沉积，或当使用不同金属时以所述金属彼此或与其它金属的合金的形式沉积。优选的合金是CuZn、CuSn、CuNi、SnPb、SnAgBiCu、SnAgCu、SnBi、SnAg、SnCu、NiPd、ZnFe、ZnNi、ZnCo和ZnMn。上述合金的成分可以任何所需的浓度存在于合金中。特别优选沉积Zn、Cu和Ni，以及这些金属与其它金属或彼此的合金。在塑料表面上沉积金属或金属合金时，Ni和Cu是特别优选的。除了作为金属氧化物使用之外，这些金属可以作为选自相应的硫酸盐、磺酸盐、氯化物、碳酸盐、氨基磺酸盐、氟硼酸盐、氰化物和乙酸盐中的金属盐使用。
基于所用金属的量，金属离子在本发明组合物中的浓度通常是0.01-100g/L，优选0.1-50g/L，特别优选2-20g/L。
组分J
视需要而定，本发明组合物可以额外包含配合剂。合适的配合剂的实例包括乙二胺四乙酸(EDTA)、乙二胺(ED)、柠檬酸和所述化合物的盐。
组分K
视需要而定，本发明组合物可以进一步包含优先选自HNO3、H2SO4、H3PO4、甲酸和乙酸中的至少一种酸，或相应酸的一种碱金属盐或碱土金属盐。该酸通常以0.5-700g/L，优选5-200g/L的量使用。
组分L
除上述组分之外，本发明组合物还可以包含其它添加剂，并且因意欲用途、所要沉积的金属、目的和所用方法而异。合适的添加剂是1-(2-乙烯基吡啶鎓)-2-乙基磺基甜菜碱，1，1-二甲基-2-丙炔-1-基胺，1-吡啶鎓-2-乙基磺基甜菜碱，1-吡啶鎓-2-羟基-3-丙基磺基甜菜碱，1-吡啶鎓-3-丙基磺基甜菜碱，2，2’-二氯二乙基醚，2，5-二甲基-3-己炔-2，5-二醇，2-丁炔-1，4-二醇，2-丁炔-1，4-二醇乙氧基化物，2-丁炔-1，4-二醇丙氧基化物，3-(2-苯并噻唑基硫基)-1-丙磺酸钠，3，3’-二硫基双(1-丙磺酸)钠，3-[(氨基亚氨基甲基)硫基]-1-丙磺酸，3-[(二甲基氨基)硫代甲基]硫基-1-丙磺酸钠，3-[乙氧基硫代甲基]硫基-1-丙磺酸钾，3-氯-2-羟基-1-丙磺酸钠，3-己炔-2，5-二醇，3-巯基-1-丙磺酸钠，4，4-二羟基二苯基砜，4-甲氧基苯甲醛，醛类，烷基苯基聚氧化乙烯磺基丙基醚钾盐，烷基聚氧化乙烯磺基丙基醚钾盐如十三烷基/十五烷基聚氧化乙烯磺基丙基醚钾盐，烯丙基磺酸钠，氨基磺酸，烷基醇的胺-和钠中和的磷酸酯，胺羧化物，氨基苯酚类和硝基苯酚类，氨基醇类，氨基苯并咪唑，氨基咪唑啉类，氨基三唑，亚苄基乙酸甲酯，亚苄基丙酮，苯并咪唑胺类，苯并噻唑类，苯并三唑及其衍生物，吡啶-3-甲酸苄酯，双酚A，硼酸与各种链烷醇胺的酯如硼酸二乙醇胺酯，羧酸及其酯类，羧乙基异硫脲鎓甜菜碱，喹啉衍生物，乙烯和丙烯酸的共聚物，咪唑和表氯醇的共聚物，咪唑、吗啉和表氯醇的共聚物，N，N’-双[3-(二甲基氨基)丙基]脲和1，1’-氧基双[2-氯乙烷]的共聚物，丙烯酸正丁酯、丙烯酸和苯乙烯的共聚物，二苄基亚砜，二羧酸及其酯，二亚乙基三胺五乙酸及由其衍生的盐，二异丁烯基丁二酸，亚乙基双二硫代氨基甲酸二钠，二硫代膦酸，乙基氨基磺酸，乙二胺四乙酸和由其衍生的盐，乙基甘氨酸二乙酸和由其衍生的盐，乙基己醇乙氧基化物，脂肪胺类和脂肪酸酰胺，甲醛，甘油乙氧基化物，胍衍生物，尿素及其衍生物，羟乙基亚氢基二乙酸和由其衍生的盐，咪唑，异丙基氨基磺酸，异丙基氨基磺酰氯，甲基硫酸月桂基/肉豆蔻基三甲基铵，氯化月桂基吡啶鎓，马来酰胺类，巯基苯并咪唑，甲基氨基磺酸，N，N，N’，N’-四(2-羟丙基)乙二胺，N，N-二乙基-2-丙炔-1-基胺，N，N-二乙基-4-氨基-2-丁炔-1-基醇，N，N-二甲基-2-丙炔-1-基胺，N-2-乙基己基-3-氨基磺基丙酸，氯化N-烯丙基吡啶鎓，硫酸化烷基苯酚乙氧基化物的钠盐，2-乙基己基硫酸钠，烟酸，次氮基三乙酸和由其衍生的盐，硝基苯磺酸钠，氯化N-甲基烯丙基吡啶鎓，邻氯苯甲醛，鏻盐，邻苯二甲酰胺，吡啶甲酸，聚醚胺类，聚乙烯亚胺类，聚乙烯基咪唑，炔丙醇，炔丙醇乙氧基化物，炔丙醇丙氧基化物，丙炔磺酸钠，丙炔酸，丙二胺四乙酸和由其衍生的盐，吡咯，季化聚乙烯基咪唑，2-丁炔-1，4-二醇和表氯醇的反应产物，2-丁炔-1，4-二醇和丙磺酸内酯的反应产物，糖精和丙磺酸内酯的反应产物，烷基乙氧基化物/丙氧基化物与丙磺酸内酯的反应产物，聚乙烯亚胺与丙磺酸内酯的反应产物，β-萘酚乙氧基化物/丙氧基化物与丙磺酸内酯的反应产物，间苯二酚乙氧基化物，糖精，β-萘酚乙氧基化物，β-萘酚乙氧基化硫酸钠，锍盐，磺酸如甲磺酸，硫二甘醇，硫二甘醇乙氧基化物，硫醚，硫脲类，秋兰姆硫化物，乙烯基磺酸钠，肉桂酸及其衍生物，锌磷酸盐和锌硅酸盐，锆磷酸盐，锆硅酸盐，次磷酸盐(例如次磷酸钠)，NaBH4，二甲基氨基硼烷，二乙基氨基硼烷，肼，甲醛，乌洛托品，氯化钯，锡酸钠，HFxBF3，分子量为100-1 000 000g/mol的聚乙二醇，氧化乙烯和氧化丙烯的嵌段共聚物-实例是来自BASF Aktiengesellschaft，Ludwigshafen/Rh.的Pluronic品级，以及氧化乙烯和氧化丙烯的无规共聚物-尤其分子量为100-2000g/mol的那些。
使用根据该实施方案的本发明组合物，尤其可以通过电化学或化学方法获得金属沉积物。是进行化学还是电化学沉积取决于金属、金属表面和所需的结果。
处理金属或塑料表面的方法
本申请进一步涉及一种处理金属表面的方法，其中使金属表面与聚合物(组分A)接触，该聚合物由结构要素(1)：
(1)
Figure A0282804400341
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
(3)
Figure A0282804400343
和/或
Figure A0282804400344
(4)
(5) 和/或
Figure A0282804400347
和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；
R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。
在上文已经描述了该聚合物以及该聚合物的优选实施方案和合适的制备方法(参看组分A)。在以上同样描述了合适的金属表面以及金属表面的优选实施方案。
合适的方法包括例如脱漆、金属酸洗、电抛光、化学去毛刺、化学和电化学金属沉积、转移层形成(尤其无冲洗转移层形成)、腐蚀抑制(尤其在铜-例如在制造电路板中-和钢上的腐蚀抑制)、润滑和涂油(尤其在冷成型的情况下)。
在本发明方法中，聚合物可以作为溶液、乳液、悬浮体或气溶胶存在。优选的是，该聚合物(组分A)存在于本发明的上述组合物之一中。
应用的类型对应于普通工业方法，额外注意的是，将根据本发明使用的聚合物(组分A)与用于相应应用的工业上常用的其它组分一起使用，或使它们在额外处理步骤中，例如在使用这些聚合物的合适配制剂的喷涂、浸涂、涂覆或电泳涂覆中与金属接触。
在本发明方法的优选实施方案中，使金属表面与包含组分A、B和视需要而定的C的组合物接触，或与除包含组分A、B和视需要而定的C以外，还包含作为其它组分的组分D和/或E和/或F和/或G和/或H的组合物接触。上文已经提及了合适的组分B-H。在本发明方法的优选实施方案中，优选进行金属表面的酸洗或钝化，尤其磷酸盐化。用于金属表面的钝化，尤其磷酸盐化，或酸洗的合适工艺步骤和装置是所属技术领域的熟练技术人员已知的。
通常而言，金属表面处理，尤其钝化，特别优选磷酸盐化或酸洗处理通过将本发明组合物喷雾到金属表面上或通过将金属表面浸入本发明组合物中来进行，这取决于所要处理的零件的数目、尺寸和形状。
在将金属条磷酸盐化时，可以通过辊压(roll-on)或就地干燥或无冲洗方法来施用包含作为组分E的磷酸的本发明组合物，其中将本发明的磷酸盐化组合物施加于金属条上并在没有冲洗的情况下干燥，形成了聚合物膜。
本申请进一步提供一种包括如下步骤的方法：
a)视需要而定，清洗金属表面，以便去除油、油脂和灰尘，
b)视需要而定，用水洗涤，
c)视需要而定，在有或无根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下进行酸洗，以便去除锈或其它氧化物，
d)视需要而定，用水洗涤，
e)在根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下处理金属表面，
f)视需要而定，用水洗涤，
g)视需要而定，在有或无根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下进行后处理。
步骤e)中的金属表面的处理可以是通过所属技术领域的熟练技术人员已知的方法的钝化处理，尤其磷酸盐化。将保护层、膜或浸渍液施用于金属。若在步骤e)中进行磷酸盐化，则可以在步骤g)中用钝化添加剂后处理金属表面。
在各工艺步骤之间用水进行洗涤，以防止各后一步骤所需的溶液被前步骤中使用的溶液的组分污染。然而，本发明方法还可以作为无冲洗方法进行，即没有步骤b)、d)和f)。
清洗步骤(步骤a))和在根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下处理金属表面的步骤，优选钝化步骤(步骤e))还可以在一个步骤中进行，即，使用不仅包含常用清洁剂而且包含本发明组合物的配制剂。
在工艺步骤a)-g)之后，金属表面上可以被提供以表面涂料。涂覆同样根据所属技术领域的熟练技术人员已知的方法来进行。
本申请的另一个优选实施方案涉及一种使金属或金属合金在金属表面上沉积的方法，其中使该金属表面与包含组分A、B和视需要而定的C的组合物接触，或与除包含组分A、B和视需要而定的C以外，还包含作为其它组分的组分I，视需要而定的J，视需要而定的K和视需要而定的L的组合物接触。上文已经提及了合适的组分A、B、C、I、J、K和L。
本发明的又一个实施方案涉及一种使金属或金属合金在塑料表面上沉积的方法，其中使塑料表面与聚合物(组分A)接触，该聚合物由结构要素(1)：
(1)
Figure A0282804400371
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
(3) 和/或
Figure A0282804400374
(4)
(5)
Figure A0282804400382
和/或
Figure A0282804400383
和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；
R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。
在本发明方法中，优选使塑料表面与包含组分A、B和视需要而定的C的组合物接触，或与除包含组分A、B和视需要而定的C以外，还包含作为其它组分的组分I，视需要而定的J，视需要而定的K和视需要而定的L的组合物接触。上文已经提及了合适的组分A、B、C、I、J、K和L。
金属或金属合金在塑料表面上的沉积一般在塑料镀金属中，尤其在制造电路板中进行。
在本发明方法的特别优选的实施方案中，金属或金属合金在金属或塑料表面上的沉积各自以化学或电化学方法进行。这些方法对所属技术领域的熟练技术人员而言是已知的。在本发明方法中，特别优选进行化学或电化学沉积金、铜或镍，化学沉积钯，电化学沉积锌和/或电化学沉积锡。除了所述金属的沉积以外，所述方法还包括它们与其它元素的合金的沉积；特别优选CuZn、CuSn、CuNi、SnPb、SnAgBiCu、SnAgCu、SnBi、SnAg、SnCu、NiPd、ZnFe、ZnNi、ZnCo和ZnMn，其中所述合金的各成分以任何所需的浓度存在于合金中。本发明还包括沉积导电性聚合物的方法，其中这些聚合物在广义上被认为是金属。一种这样的导电性聚合物是聚吡咯。
本发明方法的其它实施方案是例如其中不仅使用组分A，同时还使用酸、氧化剂和腐蚀抑制剂以及溶解的金属盐的清洗、蚀刻、抛光和酸洗方法，以及其中包含组分A的组合物不仅可用于对电路板-包括存在于其中的孔-镀金属，而且用于电路板表面处理的制造电路板的方法。包含组分A的组合物一方面可以用于存在于电路板上的金属的表面处理中，以例如抑制腐蚀，或用于改进可焊性，以及用于在金属沉积过程中用根据本发明使用的且包含组分A的组合物处理绝缘表面的方法中，以例如为了对电路板进行通孔镀敷。
除了根据本发明使用的聚合物(组分A)在上述方法，尤其在金属表面的酸洗或钝化，尤其磷酸盐化或金属在金属表面或塑料表面上沉积中的用途以外，还可以将根据本发明使用的聚合物(组分A)加入需要抑制腐蚀的任何地方。
本申请进一步提供了聚合物(组分A)在处理金属中的用途，该聚合物由结构要素(1)：：
(1)
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
Figure A0282804400402
(3) 和/或
Figure A0282804400404
(4)
Figure A0282804400405
(5) 和/或 和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；
R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
聚合物(组分A)优选用于金属表面的腐蚀抑制。
上文已经提及了优选使用的聚合物以及合适的金属表面和合适的腐蚀抑制方法或所述聚合物可用于其中的方法。
另一优选的用途涉及聚合物在使金属或金属合金在塑料表面上沉积中的用途，该聚合物由结构要素(1)：：
(1)
和选自如下的至少三种结构要素构成：
(2)
(3)
Figure A0282804400421
和/或
(4)
Figure A0282804400423
(5)
Figure A0282804400424
和/或 和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔，或可以含有双键；
R’优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，优选彼此独立是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，特别优选氢或C1-6-烷基或C6-10-芳基，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，优选碱金属阳离子，特别优选钠或钾离子，或二价或更高价态的阳离子，优选碱土金属阳离子或Zn、Zr、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al、Ce或V离子，特别优选镁、钙、锌或锰离子，如果存在足以补偿的负电荷，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，优选被氯、羟基或氨基取代，或可以被杂原子间隔，优选被氮或氧间隔；R优选是氢或C1-6-烷基、C1-6-羟烷基、C1-6-氨基烷基或C6-10-芳基。
下列实施例进一步说明本发明。
实施例
聚合物P的制备
按照下述合成方案通过工业上常用的方法制备下列聚合物：
                                                                         表1：样品组合物(按mol计的量)
  聚合物编号   苯酚   96％H2SO4   乙醇胺   尿素   甲醛(37％)   NH3(25％)   苯酚   邻苯二酚   甲醛(37％)   NaOH(50％)pH8-8.2   甲酸   乙酸pH3.5-4   苯甲酸   额外添加的H2O   质量分数(w)   pH
  1   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.7   --   0.5   0.8   0.1   0.4   --   12.4   41.9   3.8
  2   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   --   0.7   0.5   0.9   0.1   1.0   --   12.4   42.5   4.0
  3   1.0   1.1   1.1   --   1.9   0.6   0.7   --   0.5   1.0   0.2   2.7   --   12.4   40.2   4.4
  4   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.4   0.4   0.5   0.9   0.2   0.4   --   12.9   43.0   3.9
  5   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.5   0.2   0.5   0.8   0.2   0.6   --   8.0   48.9   3.9
  6   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.7   --   0.5   0.8   --   1.1   --   7.4   48.6   3.9
  7   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.7   --   0.5   0.8   --   --   2.7   7.4   36.9   4.8
  8   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.7   --   0.5   0.7   --   --   --   12.9   43.3   7.2
  9   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   0.7   --   0.5   0.8   --   --   --   12.9   42.1   8.2
  10   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   --   0.7   0.5   0.7   --   --   --   12.9   45.4   7.0
  11   1.0   1.1   --   1.1   1.9   0.6   --   0.7   0.5   0.8   --   --   --   12.9   45.8   8.0
根据本发明使用的聚合物对钢的腐蚀抑制效果
试验方法
按质量损失计的腐蚀速度的重量测定法：电解质：在软化水中的0.03MNaCl，用KOH调至pH10，在具有2％活性物质的电解质中计量加入试验物质，在室温下测试，7天。标准：没有试验物质的腐蚀试验和具有KorantinPAT(1％)的腐蚀试验。
结果
所有试验物质均具有腐蚀抑制效果。关于腐蚀抑制效果，在含邻苯二酚和不含邻苯二酚的活性物质之间没有检测到明显差别(参看下表2)。
                                     表2：重量分析腐蚀试验
样品 抑制效力 质量损失/mg cm-2  电解质的pH
编号  AS1)含量 金属片1 金属片2 平均值 金属片1 金属片2  金属片1  金属片2
 之前  之后  之前  之后
1  42％ 56％ 54％ 1.09 1.13  4  4  4  4
2  43％ 57％ 1.06  4  4  4  4
3  40％ 6％ 14％ 2.320 2.130  4  4  4  4
4  43％ 21％ 27％ 1.96 1.81  4  4  4  4
5  49％ 33％ 33％ 1.650 1.650  4  4  4  4
6  49％ 68％ 88％ 0.79 0.29  4  4  4  4
7  37％ 82％ 82％ 0.43 0.45  4  4  4  4
8  43％ 78％ 79％ 0.54 0.52  4  7  4  7
9  42％ 24％ 21％ 0.51 0.53  8  7  8  7
10  45％ 24％ 26％ 0.51 0.50  7  5  7  5
11  46％ 15％ 20％ 0.57 0.53  8  7  8  7
标准物(Korantin PAT) 89％ 85％ 0.08 0.11  9  9  9  9
无AS1)的标准物(pH10) 0.71 0.72 0.71  10  7  10  7
无AS1)的标准物(pH7) 0.67 0.65 0.69  7  6  7  6
无AS1)的标准物(pH4) 2.47 2.54 2.40  4  6  4  6
计量加入具有2重量％AS的试验物质，计量加入Korantin PAT 1重量％抑制效力E＝1-(Δm样品/Δm0)；Δm0是不含活性物质的标准物在相同pH的电解质中的质量损失。
1)活性物质含量
将这些聚合物用于下列配制剂中，这些配制剂通过常规工业方法用于金属处理。
实施例B1-B4
将电镀法镀锌的钢板用下列配制剂通过在50℃下浸渍60秒钟而处理：
实施例B1 实施例B2  实施例B3 实施例B4
聚合物1 60 60
聚合物2  50
聚合物3 40
MgCl2 8.5
乙酸钠 45 8.5
甲酸钠 80 64
65％硝酸 40mL/L
H2SO4  5.5
H3PO4  16
NaNO3 50
甲酸 75
乙酸 16
除非另有规定，表中的数字表示按g/L计的各物质在水中的浓度。
实施例B5-B8
与B1-B4类似，但使用电镀法镀有ZnFe(含有10重量％Fe)的钢板。
实施例B9
将铝板于15A/dm2电流密度和100℃下在具有以下组成的溶液中进行阳极化处理：70重量％H3PO4，10重量％H2SO4，4重量％HNO3，0.5重量％硼酸，16重量％NH5F2和9.5重量％聚合物4。
实施例B10
将铸铁在含有10％H2SO4和30％聚合物5的溶液中在室温下浸渍15秒钟。
实施例B11
将100g聚合物分散体(30％固体含量，包含由如下组分构成的共聚物：47重量％丙烯酸正丁酯、50重量％苯乙烯和3重量％丙烯酸)与100g水和2g聚合物10混合，再用于涂覆用HNO3(0.05重量％)钝化的镀锌钢板。
实施例B12：锌合金的电化学沉积
对于在40℃和1.5A/dm2的电流密度下电化学沉积包含锌和其它金属M的合金层，使用具有以下组成的电镀浴：
10g/L      锌，按氧化锌计
2g/L       金属M，按硫酸盐计
100g/L     氢氧化钠
15g/L      羧甲基化聚乙烯亚胺钠盐，来自实施例1
5g/L       聚乙烯亚胺，Lugalvan G20，来自BASF Aktiengesellschaft，
           Ludwigshafen/Rh。
5g/L       聚合物7
1g/L       吡啶鎓丙基磺基甜菜碱
金属M任选是钴、铁、镍或锰。
应用试验B1-B11
对实施例B1-B11的产物进行盐喷试验，结果具有比没有使用根据本发明使用的聚合物的对比方法长5-30％的使用寿命。

Claims (13)

1、一种用于处理金属表面的组合物，包含如下组分：
a)作为组分A的至少一种聚合物，其由结构要素(1)：
和选自如下的至少三种结构要素构成：
Figure A028280440002C3
和/或
Figure A028280440002C5
和/或
Figure A028280440002C7
和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的
或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔；
b)作为组分B的水或适于溶解、分散、悬浮或乳化聚合物(组分A)的其它溶剂；
c)视需要而定的作为组分C的表面活性化合物、分散剂、悬浮介质和/或乳化剂。
2、一种用于使金属或金属合金在塑料表面上沉积的组合物，包含如下组分：
a)作为组分A的至少一种聚合物，其由结构要素(1)：
Figure A028280440003C1
和选自如下的至少三种结构要素构成：
和/或
和/或 和/或
Figure A028280440004C3
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔；
b)作为组分B的水或适于溶解、分散、悬浮或乳化聚合物(组分A)的其它溶剂；
c)视需要而定的作为组分C的表面活性化合物、分散剂、悬浮介质和/或乳化剂。
3、如权利要求1所要求的组合物，除了组分A、B和视需要而定的C以外额外包含如下组分：
d)作为组分D的以过渡金属阳离子、过渡金属氧合阴离子、含氟金属酸根或镧系元素为基础的至少一种盐、酸或碱，和/或
e)作为组分E的选自磷酸、硫酸、磺酸、硝酸、氢氟酸和盐酸中的至少一种酸，和/或
f)作为组分F的至少一种其它腐蚀抑制剂，和/或
g)作为组分G的Ce、Ni、Co、V、Fe、Zn、Zr、Ca、Mn、Mo、W、Cr
和/或Bi的化合物，和/或
h)作为组分H的其它助剂和添加剂。
4、如权利要求1或2所要求的组合物，除了组分A、B和视需要而定的C以外额外包含如下组分：
i)作为组分I的至少一种金属氧化物和/或金属盐，
j)视需要而定的作为组分J的至少一种配合剂，
k)视需要而定的作为组分K的至少一种酸或相应酸的碱金属盐或碱土金属盐，
l)视需要而定的作为组分L的其它添加剂。
5、一种处理金属表面的方法，其中使金属表面与聚合物(组分A)接触，
其中所述聚合物由结构要素(1)：
和选自如下的至少三种结构要素构成：
和/或
Figure A028280440005C4
Figure A028280440005C5
Figure A028280440005C6
和/或 和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔。
6、如权利要求5所要求的方法，其中使金属表面与如权利要求1或3所要求的组合物接触。
7、如权利要求6所要求的方法，包括如下步骤：
a)视需要而定，清洗金属表面，以便去除油、油脂和灰尘，
b)视需要而定，用水洗涤，
c)视需要而定，在有或无根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下进行酸洗，以便去除锈或其它氧化物，
d)视需要而定，用水洗涤，
e)在根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下处理金属表面，
f)视需要而定，用水洗涤，
g)视需要而定，在有或无根据本发明使用的聚合物(组分A)存在下进行后处理。
8、如权利要求5所要求的方法，其中使金属表面与如权利要求2或4所要求的组合物接触。
9、一种使金属或金属合金在塑料表面上沉积的方法，其中使塑料表面与聚合物(组分A)接触，其中所述聚合物由结构要素(1)：
和选自如下的至少三种结构要素构成：
Figure A028280440007C2
Figure A028280440007C3
和/或
Figure A028280440007C4
Figure A028280440007C5
和/或 和/或
Figure A028280440007C8
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔。
10、如权利要求9所要求的方法，其中使塑料表面与如权利要求2或4所要求的组合物接触。
11、如权利要求8或10所要求的方法，其中进行化学或电化学金属沉积。
12、聚合物在处理金属表面中的用途，其中所述聚合物由结构要素(1)：
Figure A028280440008C1
和选自如下的至少三种结构要素构成：
Figure A028280440008C3
和/或
和/或
Figure A028280440008C7
和/或
Figure A028280440008C8
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R”和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔。
13、聚合物在使金属或金属合金在塑料表面上沉积中的用途，其中所述聚合物由结构要素(1)：
和选自如下的至少三种结构要素构成：
Figure A028280440009C2
Figure A028280440009C3
和/或
和/或
Figure A028280440010C2
和/或
其中
在结构要素(1)中
R’是氢或少于31个碳原子的烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔，或可以含有双键；
在结构要素(3)中，
R和R是分子量＜200g/mol的任何所需的基团，
在结构要素(2)、(3)和(4)中，
M在每种情况下彼此独立是氢或阳离子，
以及
在结构要素(5)中，
R是氢或烷基、环烷基、芳基、芳烷基或烷芳基，它们可以是未取代的或被烷基或含杂原子的基团取代，或可以被杂原子间隔。
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