CN1480787A - 防振装置、平台装置及曝光装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种防振装置，具备有借由第一气体室(69)的内部气体的压力而使支持对象物(OB)的自重通过保持构件(62)被支持，基于第一气体室和第二气体室(79)的至少一方的状态变化，驱动使第二气体室的内容积变化并使第一气体室的内容积变化的可动装置(149)，调整保持构件的重力方向的位置的调整装置(74)，所以，当由于振动等而使保持构件在重力方向位移时，借由利用调整装置使可动装置被驱动，可使保持构件被维持于原来的位置，而且，借由使可动装置和支持对象物非接触，这就不会直接使支持对象物变形，只是由两气体室的内容积的变化而驱动支持对象物，所以即使第一气体室内的气体的刚性高也没有问题，使除振或制振效果提高，且谋求装置的小型化。

Description

防振装置、平台装置及曝光装置
技术领域
本发明关于一种防振装置、平台装置及曝光装置，更详细的说是关于一种在保持物体的同时抑制其振动的防振装置、具备该防振装置的平台装置及曝光装置。
背景技术
一直以来，在用于制造半导体组件、液晶显示组件的刻蚀工程中，主要采用将掩膜或光栅(以下统称「光栅」)上所形成的图案通过投影光学系统在涂敷有光刻胶等的晶片或玻璃板等基板(以下统称「晶片」)上进行转印的步进重复方式的缩小投影曝光装置(所谓步进移动式曝光装置)、在该步进移动式曝光装置上加以改良的步进扫描方式的扫描型投影曝光装置(所谓扫描步进移动式曝光装置)等步进移动式的投影曝光装置。
在该种曝光装置中，投影光学系统和晶片及光栅的位置关系是最重要的，成为决定曝光性能的主要因素。所以，无论是步进移动式曝光装置还是扫描步进移动式曝光装置，都要由光学位置传感器(例如干涉仪或同步检波式光学系统等)计测载置有投影光学系统和光栅的光栅平台、载置有晶片的晶片平台之间的位置关系，并根据该计测结果以高精度使光栅和晶片的位置吻合。
为了实现上述的高精度位置吻合，需要将被传达至投影光学系统、晶片平台、光栅平台的振动成分从振动源隔离。作为振动要因(振动源)，包括a.设置有曝光装置的净室地面的暗振动(微振动)；b.伴随曝光装置内的平台的驱动的反作用力被传达至地面，特别是在地面刚性弱的场合，其作用力使地面振动，该振动从地面返回曝光装置成为曝光装置的振动要因，即所谓的返回振动；c.在光栅平台或晶片平台的驱动时产生的反作用力使它们的平台的引导面所形成的定盘进行振动，该振动通过曝光装置的机身被传达至投影光学系统的振动以及来自平台所连接的电缆和配线等的振动等。
在曝光装置中，为了防止或抑制上述的各种振动被传达至投影光学系统、晶片平台及光栅平台，机身的各部借由防振装置而被支持。防振装置多以3至4点支持其支持对象物，在例如支持曝光装置自身之防振装置的场合，最好是对地面关于六个自由度方向(X、Y、Z、θz、θx、θy)发挥防振效果。其理由是，在将地面和装置自身作为非刚性的弹性体紧紧抓住的场合，即使振动方向为所定的方向，然而借由其振动模式，仍有变换为向各个方向的振动的可能性。
在图17(A)中，概略表示了习知的防振装置的一例。该图17(A)所示之防振装置931具备有支持对象物OB的气垫部951、使支持对象物OB在重力方向[图17(A)中的纸面内上下方向]可高应答性微小驱动的微小驱动部976。
前述气垫部951具备在上部有开口的罩壳961、以堵塞罩壳961的前述开口的状态被设置，支持前述支持对象物OB的保持构件962、连接于前述罩壳961和保持部件962，和这些罩壳961及保持构件962一起形成大致密封状态的气体室969的隔膜963、充填于前述气体室969的内部的气体，例如调整空气的压力的电磁调节器955。
而且，前述微小驱动部具备直接安装于支持对象物OB的可动组件974a、带有在与该可动组件974a间进行电磁相互作用，产生在重力方向驱动支持对象物OB的电磁力的固定组件974b的音圈电动机(voice coil motor)974、向该音圈电动机(voice coil motor)974供给驱动电流的电流供给源975。
在如上所构成的防振装置931中，当例如伴随配置于支持对象物OB上的平台的移动而产生偏负荷时，依据未图示的位移传感器(例如前述的光学位置传感器等)的输出，基于未图示的压力传感器的计测值使电磁调节器955被控制，进行气体室969内的气体例如空气的压力控制。但是，由于气体室内的气体的内压高，所以只能确保制动应答为20Hz左右，因此，在需要高应答的控制的场合，需要依据未图示的加速计等的输出而控制音圈电动机(voice coil motor)974。当然，地面振动等微振动借由气垫部951的空气弹簧而被除振。
图17(B)所示为在内部形成气体室的金属波纹管被用于气垫部951’的防振装置931’。即使在采用这种构成的场合，如构造物为较轻物质，可和图17(A)的防振装置931同样地使支持对象物OB的制振·除振有效进行。
然而，为了减少曝光装置的投影面积(foot print)或谋求成本的降低等，需要实现防振装置的小型化，特别是气垫部的小型化。但是，在图17(A)的装置的场合，例如图18(A)所示的防振装置931’，当借由利用与罩壳961相比高度低的罩壳961’而形成内部容积小的气体室969’时，虽然可得到简洁的防振装置，但是作为空气弹簧的刚性变高，所以来自地面的振动容易传达至支持对象物OB，使除振性能低下。另一方面，当如图18(B)所示的防振装置931”，采用与罩壳961相比宽度窄的罩壳961”时，除了气体室969”的内部容积变小，与上述同样地使作为空气弹簧的刚性变高之外，如不增高内压就难以控制。
而且，在防振装置931中，借由将罩壳961和保持部件962之间以隔膜进行连接，可一面维持气密性保持气体室969内的高内压，一面实现保持构件962的弹性移动，但是作为隔膜多采用例如橡胶制或具有与此同等弹力的其它原料，例如皮革等形成的材料。此时，借由隔膜自身的刚性而在罩壳上作用的例如地面振动等变得容易被传达至支持对象物OB。特别是在这种构造中，重力方向的刚性小而水平方向及扭转方向的刚性强，所以不能得到足够的地面振动衰减效果，即足够的除振效果。
在防振装置931中，借由使用音圈电动机(voice coil motor)974可实现高应答性的控制，但是当为保持曝光装置这种大型装置的防振装置时，为了以3处位置或4处位置支持质量10吨左右的重物，要每处位置支持与3吨左右的质量对应的重量，且必须上下动作，作为音圈电动机(voice coil motor)需要产生非常大的推力。所以会引起音圈电动机(voice coil motor)自身的大型化及消耗电力的增大化。
另外，由图17(A)、图17(B)可知，在习知的防振装置中，气垫部支持构造物的位置和借由音圈电动机(voice coil motor)的驱动力的作用点的位置是偏离的，所以在同时进行电磁调节器中的气压室内的内压控制和借由音圈电动机(voice coil motor)974的支持对象物OB的位置控制的场合，会使支持对象物OB产生变形，而这成为使曝光装置的各部的控制精度恶化的原因。
发明内容
本发明正是在这样的事情下而形成的，其第一目的是提供一种除振乃至制振性能良好的新型防振装置。
本发明的第二目的是提供一种振动的发生被极力抑制的平台装置。
本发明的第三目的是提供一种可实现高精度曝光的曝光装置。
本发明提供一种防振装置，其特征是具备有保持物体(OB)的保持构件(62)、借由内部气体的压力而在重力方向支持前述保持构件的第一气体室(69)、在与前述第一气体室连通的同时具有较前述第一气体室小的内容积的第二气体室(79)、变化前述第二气体室的内容积而使前述第一气体室的内容积变化的可动装置(149)、根据前述第一气体室和前述第二气体室至少一方的状态变化，驱动前述可动装置而调整前述保持构件的前述重力方向的位置的调整装置(74)。
这里所谓的“第一气体室和第二气体室至少一方的状态变化”，包括各气体室的内容积的变化和保持构件的重力方向位置的变化等，意味着起因于从物体侧或外部被传达至防振装置的振动的各气体室的状态的变化。在本说明书中，以这种意思作为使用「状态变化」的用语的情况。
借此，由第一气体室的内部气体(更正确地说，是第一气体室及与此连通的第二气体室内所充填的气体)的压力而使保持物体的保持构件在重力方向被支持。即，借由前述内部气体的压力而使物体的自重通过保持构件被支持。而且，具备有根据第一气体室和第二气体室至少一方的状态变化，驱动既使第二气体室的内容积变化又使前述第一气体室的内容积变化的可动装置而调整保持构件的前述重力方向的位置的调整装置。所以，例如当由于振动等而使保持构件(及物体)在重力方向位移时，借由使调整装置根据此时的第一气体室的状态变化而调整可动装置，可使保持构件的重力方向位置维持在原位置。即，作用于保持构件(及物体)的振动被迅速制振。
而且，可动装置不具有和物体的接触部，所以即使驱动可动装置，这也不会直接地使物体产生变形等，只是借由第二及第一气体室的内容积的变化而在重力方向驱动物体。因此，既可采用第一气体室内的气体的刚性变高的构造，也可使第一气体室的容积与习知相比变小。
第二气体室的内容积与第一气体室相比要小，所以借由以可动装置的驱动力的小的力量使第二气体室的内容积变化，可使第一气体室的内容积变化，在重力方向驱动保持构件，而且第一气体室内的气体的刚性设定为高值，所以借由驱动可动装置，能够以高应答性控制物体的重力方向位置。而且，由于可将第一气体室内的气体的刚性设定为高值，作为气垫(空气弹簧)的地面振动等的高频振动的衰减效果变得良好。
因此，如利用本发明，可实现除振乃至制振效果良好且小型轻量的防振装置。
在该场合，在所述的防振装置中，前述调整装置可具有驱动前述可动装置的电磁调节器(74)。
在上述各防振装置中，其中前述可动装置可具有较前述物体轻的重力部件(73)。
在上述各防振装置中，其中前述第二气体室可借由圆柱形的第一汽缸(71)、沿该第一汽缸的内周面移动的前述可动装置而形成。
在该场合，在所述的防振装置中，前述调整装置可具有借由前述第二气体室内的气体的压力而驱动前述可动装置的气压驱动装置(153，155)。
在该场合，在所述的防振装置中，前述可动装置可在沿前述第一汽缸的内周面移动的部分的相反一侧的末端具有活塞部(172)，前述气压驱动装置可具有供前述活塞部沿内周面移动的第二汽缸(171)、把气体供给至由前述活塞部和前述第二汽缸所形成的气体室内的气体供给装置(155)。
在该场合，在所述的防振装置中，前述第二汽缸可连接于前述第一汽缸。
在上述的各防振装置中，前述可动装置可通过气体静压轴承进行移动。
在上述的各防振装置中，前述第一气体室的构成可包括：安装于基底构件，可将支点向中心倾倒的筒状体(111A)，以及前述保持构件(111B)，由通过所定的间隙配置于该筒状体的内面侧及外面侧，可沿前述筒状体滑动设置，且内部底面被作为承受前述气体压力的受压面的筒状体所构成。前述保持构件可对前述物体以容许起伏方向的转动的状态被连结。
在该场合，在所述的防振装置中，可在位于前述筒状体及前述保持构件中的内周侧的筒状体的周壁，沿周方向以所定间隔形成有复数个从前述第一气体室到前述空隙的微小开口。
在上述的各防振装置中，其中前述第一气体室可借由上面开口的罩壳(61)、通过第一弹性构件(63)连接于该罩壳的开口末端的前述保持构件而被区隔出。
在该场合，在所述的防振装置中，前述罩壳的底壁的构成可包括通过所定的间隙呈对向的第一底壁构件(81A)和第二底壁构件(81B)、将这两底壁构件相互间进行连接，并维持前述间隙的环状的弹性构件(82)；在所述的防振装置中，前述罩壳的底壁的构成可包括在中央部有开口的框形构件(181A)、在该框形构件的底面侧通过所定的间隙对向配置的板状构件(181B)、设于前述框形构件和前述板状构件之间，维持前述所定的间隙的气体静压轴承装置。
在上述的各防振装置中，前述保持构件的构成可包括通过前述第一弹性构件以悬挂支持状态被支持在前述罩壳的前述开口末端的阶梯筒状的第一构件(93)、通过环状的第二弹性构件(63b)连接于该第一构件的底部开口部，且下端具有承受前述第一气体室内的内部气体的压力的受压部(62c)的第二构件(162)。前述第二构件可具有以前述罩壳的外部保持前述物体的保持部(62a)、前述受压部、插入连接该受压部和前述保持部的前述第一构件的内部的沿上下方向延伸的轴部(62b)。
在该场合，在所述的防振装置中，前述第一构件可由一个第一筒状构件及一个第二筒状构件而构成。其中第一筒状构件(93b)是通过前述第二弹性构件被连接在前述受压部，并和前述受压部一起利用前述气体的压力被浮起支持。第二筒状构件(93a)具有通过所定的间隙与该第一筒状构件的上端面呈对向的下端面，且该第二筒状构件的上端部是通过前述第一弹性构件被连接于前述罩壳的前述开口末端。在所述的防振装置中，前述第一构件可由一个第一筒状构件及一个第二筒状构件而构成。其中第一筒状构件是通过前述第二弹性构件被连接在前述受压部，并和前述受压部一起利用前述气体的压力被浮起支持。第二筒状构件是通过所定的间隙与该第一筒状构件的内周面及外周面的任意一部分呈对向，且第二筒状构件的上端部是通过前述第一弹性构件被连接于前述罩壳的前述开口末端。
在后者的场合，在所述的防振装置中，在位于前述第一筒状构件及前述第二筒状构件中的外周侧的一个筒状构件上，能够在与另一个筒状构件对向的位置以使壁面贯通的状态形成有微小开口(193)。而且，也可将前述第一筒状构件和前述第二筒状构件之间作为空气轴承的送风口。
本发明提供一种防振装置，其特征是具备有上面开口的罩壳(61)；在前述罩壳的前述开口末端，在通过环状的第一弹性构件(63a)被支持的上下方向延伸的第一筒状体(93a)；通过所定的空隙被配置于前述第一筒状体的内侧及外侧之一，可对前述第一筒状体相对滑动的第二筒状体(93b)；以及一个摇动构件(62)，通过环状的第二弹性构件被连接于前述第二筒状体的下端，在摇动构件的下端具有和前述罩壳、前述第一弹性构件、前述第一筒状体及前述第二弹性构件一起区隔出气体室的受压部，借由作用于前述受压部的底面的前述气体室内的气体压力被浮起支持，且该摇动构件的上端部是前述罩壳的外部，作为从下方支持前述物体的支持部。
借此，沿上下方向延伸的第一筒状体可在上面开口的罩壳的开口末端通过环状的第一弹性构件而被支持；第二筒状体可通过所定的空隙配置于第一筒状体的内侧及外侧的任意一处，对第一筒状体可相对滑动。而且，上端部被作为在罩壳外部从下方支持物体的支持部的摇动构件，其下端的受压部通过环状的第二弹性构件被连接于第二筒状体的下端，借由在和罩壳、第一弹性构件、第一筒状体及第二弹性构件一起区隔出气体室的受压部的底面作用的气体室内的气体压力而被浮起支持。
即，从下方支持物体的摇动构件使其下端的受压部通过第二弹性构件被连接于第二筒状体的下端，所以倾斜方向的自由度高。因此，当物体在水平方向(横方向)位移时，依据该位移摇动构件容易进行倾斜。当设此时的倾斜角为θ且θ为微小角时，从几何学的关系来看，摇动构件的上端的支持部(该支持部上的物体)的横位移量(水平方向的位移量)Δ为Δ＝(摇动构件的高度方向的尺寸(支持部和受压部之间的距离))L×(倾斜角度)θ。而且，当倾斜角度θ超过所定角度(借由前述第二弹性构件的刚性所被容许的角度)时，和摇动构件一起，第一筒状体及第二筒状体一起倾斜，且依据前述物体的横位移量使第二筒状体对第一筒状体进行滑动。所以，物体可在水平面内不改变其高度而沿横方向移动。而且，摇动构件的上下方向的移动可借由第二筒状体对第一筒状体进行滑动而轻松实现。因此，关于Z、X、Y、θx、θy、θz的6自由度方向成为低刚性的防振装置。
换句话说，对任一方向的振动都可借由摇动构件的位置姿式变化而使其振动衰减，进行物体的有效制振及除振。
在该场合，在所述的防振装置中，在位于前述第一及第二筒状体中的外周侧的筒状体上，可沿周方向以所定间隔形成有连通前述气体室和前述空隙的微小开口(193)。
在所述的防振装置中，上述第一、第二筒状体都由圆筒构件形成，可还具备有一个第一支持装置以及一个第二支持装置。其中第一支持装置(211A)包括有架设于前述第一筒状体的上端的一侧和另一侧的第一支持构件(101)、架设于前述罩壳的开口末端的一侧和另一侧，具有从下方支持前述支持构件的支持点的支持臂(102)、在前述支持点与前述第一支持构件成一体以只容许前述第一筒状体旋转的状态对前述支持臂进行连结的连结装置(103)。第二支持装置(211B)包括有架设于前述第二筒状体的内部的第二支持构件(104)、在该第二支持构件的中央的连结点以只容许前述摇动构件的受压部旋转的状态与前述第二支持构件进行连结的连结装置(105)。
在该场合，在所述的防振装置中，前述的连结点可被设定于与前述第二弹性构件的旋转中心一致的位置。
在该场合，在所述的防振装置中，可在前述支持臂和前述第一支持构件之间，设置往对前述支持臂的前述第一筒状体的旋转的抑制方向推动前述支持臂的弹性推动构件(195)。
在上述的各防振装置中，还可具备有调整装置(74)，包括与前述气体室连通且具有较前述气体室小的内容积的别室(79)，借由构成该别室一部分的可动装置的位移而使前述内容积可变，借由依据前述可动装置的位移的前述别室及与此连通的前述气体室的内容积的位移，调整前述摇动构件的重力方向的位置。在这样的场合，借由与前述的防振装置同样的理由，防振装置也可小型、轻量化。
在该场合，在所述的防振装置中，前述别室可借由圆柱形的汽缸(71)、沿该汽缸的内周面移动的前述可动装置而形成。
在上述的各防振装置中，前述可动装置可具有较前述物体轻的重力构件(73)。
在上述的各防振装置中，前述调整装置可具有驱动前述可动装置的电磁调节器(74)。
本发明提供一种平台装置，其特征是具备有可在所定方向移动的平台(14)、配置于前述平台的上方的工作台(TB)、含有至少3个在前述平台上保持前述工作台的防振装置。
借此，至少含有3个防振装置，在可沿所定方向移动的平台上保持工作台，所以能够极力抑制伴随平台的移动的工作台的振动。
在该场合，在所述的平台装置中，前述各防振装置可为上述的防振装置的任意一个。
在上述平台装置中，可还具备有使前述工作台在水平面内微小驱动的第一微小驱动装置(48X1，48X2，48Y)、使上述工作台向与前述水平面直交的方向及对水平面的倾斜方向微小驱动的第二微小驱动装置(92A～92C)。
本发明提供一种曝光装置，借由能量波束(IL)使感光物体(W)曝光并在前述感光物体上形成所定的图案，其特征是包括有将构成进行前述曝光的曝光装置主体的至少一部分的构成部分，以及至少在3点进行保持的上述的至少3个防振装置。
借此，借由包括任何上述的振动抑制效果高的至少3个防振装置，可使构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分被保持，所以使曝光装置主体的振动被有效地抑制，由此可高精度地维持曝光精度。
在该场合，在所述的曝光装置中，前述曝光装置主体具有保持形成有前述图案的掩膜(R)的掩膜平台(RST)、载置前述感光物体的物体平台(WST)，以及形成有前述掩膜平台的移动面的掩膜平台基座(33)并形成有前述掩膜平台的移动面的物体平台基座(29)的机身(50)。前述机身的一部分或全体可借由前述防振装置而被保持。
在上述的各曝光装置中，前述曝光装置主体具有将通过前述掩膜的前述能量波束投射于前述感光物体上的投影光学系统(PL)，该投影光学系统可借由前述防振装置而被保持。
在上述的各曝光装置中，前述掩膜平台和物体平台的至少一方可借由前述的任意一个平台装置而构成。
附图说明
图1是第一实施形态的曝光装置的概略表示。
图2是表示图1的光栅平台的平面图。
图3(A)是图1的晶片平台WST的平面图，图3(B)是图3(A)的A-A线断面图。
图4所示为用于机身的支持的防振装置的断面。
图5是表示构造物借由防振装置被3点支持的状态的平面图。
图6(A)是表示用于晶片平台的防振装置的构成的断面图，图6(B)所示为晶片工作台在纸面右侧移动时的防振装置的状态。
图7(A)、图7(B)所示为用于晶片平台的防振装置的变形例。
图8所示为用于机身的支持的防振装置的变形例(其1)。
图9所示为用于机身的支持的防振装置的变形例(其2)。
图10(A)、图10(B)所示为用于机身的支持的防振装置的变形例(其3、其4)。
图11所示为用于机身的支持的防振装置的变形例(其5)。
图12是表示关于第二实施形态的防振装置的构成的断面图。
图13是表示关于第三实施形态的防振装置的构成的断面图。
图14是表示关于第四实施形态的防振装置的构成的断面图。
图15是表示关于第五实施形态的防振装置的构成的断面图。
图16是表示关于第五实施形态的防振装置的变形例。
图17是用于说明习知的防振装置的(其1)。
图18是用于说明习知的防振装置的(其2)。
符号说明
2                          照明系统罩壳
14                         XY平台(基座构件、平台)
21                         基板
23                         支柱
24A                        光栅扫描平台
24B                        光栅微动平台
25                         镜筒定盘
29                         晶片平台定盘(物体平台基座)
30X                        X轴移动镜
30y1、30y2              Y轴移动镜
31、431、531、631、731                 防振装置
33                         光栅平台定盘(掩膜平台基座)
34                              移动镜
47                              铁板
48X1、48X2、48Y               EI磁心(第一微小驱动机构)
49A、49B                        电磁石
50                              主体立柱(column)(机身)
51、51’、451、551、651、751               气体支架
55                              电磁调节器
61、461                         罩壳
62                              保持构件
62a                             保持部
62c                             受压部
62b、62b’                                               轴部
63、63a                         隔膜(第一弹性构件)
63b                             隔膜(第二弹性构件)
64                              制动器
69、469                         第一气体室
71                              汽缸(第一汽缸)
72                              活塞构件(可动装置的一部分)
73                              重力构件(可动装置的一部分)
74                         圈电动机(voice coil motor)
                           (调整装置、电磁调节器)
74a                        电枢单元
79                         第二气体室(别室)
80、80’                                         横刚性减震装置
81A                        板构件(第一底壁构件)
81B                        板构件(第二底壁构件)
81d                        开口
82                         隔膜(弹性构件)
91A～91C                   防振装置
92A～92C                   音圈电动机(voice coil motor)
                           (第二微小驱动装置)
93                         筒构件(第一构件)
93a                        上部筒构件(第二筒状构件)
93b                        下部筒构件(第一筒状构件)
100                        曝光装置
101                        被支承物(第一支持构件)
102                        支承物(支持臂)
103、105                   球形接头(连结装置)
104                        被支承物(第二支持构件)
111A                         第一筒状体(筒状体)
111B                         第二筒状体(保持构件)
113                          活塞装置
113’                                                   调整装置
114                          气体支架部
115                          活塞构件
116                          汽缸
117                          伸缩管
118A、119A、125A、126A               可动组件
118B、119B、125B、126B               固定组件
122、124、127、128           音圈电动机(voice coil motor)
123                          配管
131                          防振装置
138、139                     反射镜
149                          可动装置
150                          气体静压轴承
151                          通气孔
153、153’                                        气压驱动装置(气压驱动装置
                             的一部分)
155                          电磁调节器(气压驱动装置的
                               一部分、气体供给装置)
162、162’、162”、262         保持构件(第二构件、摇动构件)
171                            汽缸(第二汽缸)
171’                                                       汽缸
172                            活塞构件(活塞部)
181A                           底壁(框形构件)
181B                           板状构件
192B                           可动组件
193                            微小开口
195                            压缩螺旋弹簧(弹性推动构件)
211A                           第一支持装置
211B                           第二支持装置
231、431                       防振装置
CL                             立柱(column)
FLG                            凸缘部
IL                             照明光(能量波束)
ILU                            照明单元
LRy1、LRy2                   干涉仪波束
Mr、Mw                         固定镜
OB                             构造物(物体)
OP1、OP2                       贯通孔
Pb                                配管
PL                                投影光学系统
PS                                压力传感器
R                                 光栅(掩膜)
RIFx                              光栅X轴干涉仪
RST                               光栅平台(掩膜平台)
TB                                晶片工作台(工作台)
W                                 晶片(感光物体)
WIF                               晶片干涉仪
WIX、WIY                          测定波束
WST                               晶片平台(物体平台)
具体实施方式
《第一实施形态》
以下，根据图1～图7(B)说明本发明的第一实施形态。图1所概略表示的是本第一实施形态的曝光装置100的全体的构成。该曝光装置100是一面将作为掩膜的光栅R和作为感光物体的晶片W在一维方向上同步移动，一面将形成于光栅R的电路图案通过投影光学系统PL转印于晶片W上的各拍摄区域的步进扫描方式的扫描型曝光装置，即所谓的扫描步进移动式曝光装置。
该曝光装置100具备有借由作为能量波束的曝光用照明光(以下简称为「照明光」)将光栅R上的长方形缝隙状的照明区域以统一的照度进行照明的照明单元ILU、作为保持光栅R的掩膜平台的光栅平台RST、将从光栅R所射出的照明光IL投射于晶片W上的投影光学系统PL、作为保持晶片W可在XY平面内自如移动的物体平台的晶片平台WST、光栅平台RST、搭载有投影光学系统PL及晶片平台WST等的机身50等。
前述照明单元ILU通过未图示的送光光学系统连接于未图示的光源上。作为光源，可采用例如ArF激态复合物激光(输出波长193nm)、KrF激态复合物激光(输出波长248nm)等远紫外线光源或F2激光(输出波长157nm)等真空紫外线光源等。
照明单元ILU具备有照明系统罩壳2、由在该照明系统罩壳2的内部以所定的位置关系配置的例如含有光积分仪的照度均匀化光学系统，中继透镜，可变ND滤光器，可变视野光阑(也称作光栅遮帘或掩蔽板)，分色镜等(全都未图示)所构成的照明光学系统。这里，作为光积分仪使用复眼透镜、内面反射型积分仪(棒形积分仪等)或衍射光学组件等。
该照明单元ILU，在描绘有电路图案等的光栅R上，借由照明光IL将由光栅遮帘所规定的缝隙状的照明区域(在X轴方向的细长的长方形照明区域)部分以大致均匀的照度进行照明。
前述光栅平台RST配置于构成后述第二立柱(column)的顶板部的光栅平台定盘33的上方。该光栅平台RST如图1所示，具备有可沿光栅平台定盘33的上面以所定行程(至少使掩膜R的全面能够横切照明光IL的行程)在所定的扫描方向(此处为图1的纸面正交方向即Y轴方向)上移动的光栅扫描平台24A、配置于该光栅扫描平台24A上，可保持光栅R在XY面内微小驱动的光栅微动平台24B。
更具体地说，光栅扫描平台24A借由未图示的非接触轴承例如气体静压轴承，在光栅平台定盘33的上面的上方通过例如数μm左右的间隙被浮起支持。该光栅扫描平台24A借由未图示的线性电动机而在Y轴方向被驱动。
在前述光栅微动平台24B的X轴方向一侧(+X侧)和另一侧(-X侧)，如图2的平面图所示，分别设置有音圈电动机(voice coilmotor)122、124。其中之一的音圈电动机(voice coil motor)122具有设于光栅微动平台24B的+X侧的侧面的可动组件118A、与此对向而固定于光栅扫描平台24A的上面的固定组件118B。另一个音圈电动机(voice coil motor)124具有设于光栅微动平台24B的-X侧的侧面的可动组件119A、与此对向而固定于光栅扫描平台24A的上面的固定组件119B。
而且，在光栅微动平台24B的Y轴方向一侧(-Y侧)和另一侧(+Y侧)，分别设置有音圈电动机(voice coil motor)127、128。其中之一的音圈电动机(voice coil motor)127具有设于光栅微动平台24B的-Y侧的侧面的可动组件125A、与此对向而固定于光栅扫描平台24A的上面的固定组件125B。另一个音圈电动机(voice coilmotor)128具有设于光栅微动平台24B的+Y侧的侧面的可动组件126A、与此对向而固定于光栅扫描平台24A的上面的固定组件126B。
此时，光栅微动平台24b借由音圈电动机(voice coil motor)122、124而在光栅扫描平台24A上沿Y轴方向被微小驱动，同时借由音圈电动机(voice coil motor)127、128而在光栅扫描平台24A上沿X轴方向被微小驱动。而且，例如借由使音圈电动机(voice coilmotor)127、128产生的推力微小地不同，可使光栅微动平台24B在θz方向(与XY平面正交的Z轴周围的旋转方向)进行微小旋转。在光栅微动平台24B上，光栅R借由真空吸附等而被保持。
在光栅微动平台24B上面的-X侧的末端，如图2所示，由具有与X轴垂直的反射面的平面镜构成的X轴移动镜30X在Y轴方向延伸设置。该移动镜30X被从光栅X轴干涉仪RIFx发出的与X轴平行的测长轴的干涉仪波束(测定波束)照射。成为该光栅X轴干涉仪RIFx的位置计测的基准的固定镜(参照镜)被设于投影光学系统PL的镜筒的侧面；光栅X轴干涉仪RIFx接受从移动镜30X发出的反射光，并将固定镜作为基准以例如0.5～1nm左右的分解能而持续检测移动镜30X的X轴方向的位置，即光栅R的X轴方向的位置。
而且，在光栅微动平台24B的-Y侧的侧面，如图2所示，固定有由直角棱镜型的反射构件(例如中空反射镜retro-reflector)构成的一对Y轴移动镜30y1、30y2，这些移动镜30y1、30y2被从未图示的光栅Y轴干涉仪发出的分别与轴平行的测长轴的干涉仪波束LRy1、LRy2照射。由移动镜30y1、30y2被反射的干涉仪波束LRy1、LRy2借由固定于光栅平台定盘33上的反射镜138、139被反射，返回未图示的光栅Y轴干涉仪，光栅Y轴干涉仪与光栅X轴干涉仪RIFx同样，将设于投影光学系统PL的镜筒的侧面之固定镜作为基准，独立地以例如0.5～1nm左右的分解能而持续检测各个干涉仪波束LRy1、LRy2的照射位置的光栅微动平台24B的Y轴方向的坐标位置。这里，作为光栅Y轴干涉仪采用内外卡钳干涉仪，在构成上不会借由光栅微动平台24B的旋转的影响而产生计测误差。
光栅X干涉仪RIFx、光栅Y轴干涉仪的计测值被供给未图示的平台控制装置。平台控制装置根据借由例如使用干涉仪波束LRx的光栅X轴干涉仪30X所计测的坐标值x，检测光栅微动平台24B的X轴方向的位置信息。而且，平台控制装置根据借由使用干涉仪波束LRy1、LRy2的一对Y轴干涉仪所计测的坐标值y1及y2的平均值(y1+y2)/2，检测光栅微动平台24B的Y轴方向的位置信息。平台控制装置根据例如坐标值y1和y2的差分，算出光栅微动平台24B的旋转方向(θz)的位置信息。由平台控制装置所检测的光栅微动平台24B的X、Y、θz方向的位置信息，被输出到主控制装置。
如上所述，在光栅微动平台24B上设有X轴移动镜30X、Y轴移动镜30y1、30y2，共计3个，与此对应还设有复数个固定镜及激光干涉仪，但是在图1中这些分别是以移动镜30、固定镜Mr及激光干涉仪RIF而代表性地表示。另外，也可将光栅微动平台24B的端面分别进行镜面加工而形成激光干涉仪用的反射面(相当于前述的移动镜30X、30y1、30y2的反射面)。
投影光学系统PL被从上方插入在构成后述第一立柱(column)的镜筒定盘25的中央部上所形成的开口25a的内部。在该投影光学系统PL的镜筒部的高度方向中央稍下方的位置设有凸缘部FLG，借由通过该凸缘部FLG配置于镜筒定盘25上的3个防振装置31C1～31C3(但是，在图1的纸面内侧的防振装置31C3未图示)，投影光学系统PL被3点支持。关于防振装置31C1～31C3的构成将在后面说明。
作为投影光学系统PL，为例如两侧远心的缩小系统，使用由具有Z轴方向的共同的光轴AX的复数枚透镜组件构成的折射光学系统。该投影光学系统PL的投影倍率为例如1/4、1/5或1/6。所以，当借由来自照明单元ILU的照明光IL使光栅R上的前述照明区域被照明时，通过投影光学系统PL，光栅R的照明区域内的电路图案的缩小像(部分倒立像)被形成于与表面涂敷有光刻胶的晶片W上的前述照明区域共轭的缝隙状的投影区域，即曝光区域。
前述晶片平台WST如图1所示，被配置于在投影光学系统定盘23的下方配置的晶片平台定盘29的上方。晶片平台WST保持晶片W在XY平面内移动。
晶片平台WST具备有作为借由例如气体上浮型或磁上浮型的二维直线运动促动器等所构成的晶片平台驱动部而被在XY面内自如驱动的平台的XY平台14、作为在该XY平台14上所搭载的工作台的晶片工作台TB。在前述晶片工作台TB上，未图示的晶片支架借由真空吸附被固定，在该晶片支架上通过未图示的真空卡盘、静电卡盘等使晶片W被吸附固定。
图3(A)所示为构成晶片平台WST的晶片工作台TB部分的概略平面图，图3(B)是图3(A)的A-A线断面图的部分省略表示。
综合这些图3(A)、图3(B)可知，在XY平台14和晶片工作台TB之间，设有在Y轴方向相距所定间隔配置的3个EI磁心48X1、48Y、48X2。其中，两端的EI磁心48X1、48X2是X轴方向驱动用，中央的EI磁心48Y是Y轴方向驱动用。
前述EI磁心48X1如图3(B)所示，具有在晶片工作台TB的底面下向下方凸设的铁板47、通过该铁板以相互对向的状态配设，固定于XY平台14上的一对电磁石49A，49B。依据供给电流(驱动电流)，借由对应电磁石49A，49B分别产生的磁吸引力的差的大小及方向的驱动力，通过铁板47使晶片工作台TB在X轴方向被驱动。EI磁心48X2与EI磁心48X1采用同样的构成，同样地产生在X轴方向驱动晶片工作台TB的驱动力。
剩下的EI磁心48Y配置于EI磁心48X1、48X2的大致中央的位置，采用与EI磁心48X1同样的构成。但是，该EI磁心48Y是依据向一对电磁石所提供的驱动电流而产生在Y轴方向驱动晶片工作台TB的驱动力。
在本实施形态中，未图示的平台控制装置根据主控制装置的指示，借由个别控制对EI磁心48X1、48X2的驱动电流，可控制晶片工作台TB的X轴方向的驱动量，同时借由使EI磁心48X1、48X2产生的X轴方向的驱动力不同，也可进行晶片工作台TB的θz旋转的控制。而且，未图示的平台控制装置根据主控制装置的指示，借由控制对EI铁心48Y的驱动电流而在Y轴方向微小驱动晶片工作台TB。
而且，综合图3(A)、图3(B)可知，在XY平台14和晶片工作台TB之间，俯视(从上方看)直角三角形的各顶点的位置，分别配置有作为第二微小驱动装置的3个音圈电动机(voice coil motor)92A～92C。音圈电动机(voice coil motor)92A如图3(B)所示，具备有固定于晶片工作台TB的底面的由例如磁极单元构成的可动组件192B、与该可动组件192B对应固定于XY平台14的上面，略U字形的由例如电枢组件构成的固定组件。该音圈电动机(voice coilmotor)92A依据供给电枢单元的驱动电流而产生在Z轴方向驱动可动组件192B的驱动力(电磁力)。剩下的音圈电动机(voice coilmotor)92B、92C也和音圈电动机(voice coil motor)92A具有同样的构成，产生在Z轴方向驱动各个可动组件的驱动力。在本实施形态中，未图示的平台控制装置根据主控制装置的指示，借由独立控制供给音圈电动机(voice coil motor)92A～92C的电枢单元的驱动电流，使晶片工作台TB在Z轴方向及对XY面的倾斜方向(X轴周围的旋转方向(θx)及Y轴周围的旋转方向(θy)被微小驱动。
另外，综合图3(A)、图3(B)可知，在XY平台14和晶片工作台TB之间，在音圈电动机(voice coil motor)92A～92C每一个的附近3个防振装置91A～91C被分别配置，借由这些防振装置91A～91C，晶片工作台TB在XY平台14上被3点支持。关于这些防振装置91A～91C的详细构成，将在后面进行说明。
在晶片工作台TB上面的-X侧的末端，如图3(A)所示，移动镜34X在Y轴方向延伸设置，在-Y侧的末端，移动镜34Y在X轴方向延伸设置。这些移动镜34X、34Y分别被由投影光学系统PL的凸缘所悬挂支持的晶片干涉仪WIF(参照图1)发出的测定波束WIX、WIY照射。另外，实际上晶片干涉仪设有X方向位置计测用的晶片X轴干涉仪和Y方向位置计测用的晶片Y轴干涉仪，与此对应，在晶片平台WST上设有移动镜34X、34Y，另外与此对应地在投影光学系统PL的镜筒部设有晶片X轴固定镜和晶片Y轴固定镜，但是在图1中这些分别以晶片干涉仪WIF、移动镜34、固定镜Mw作代表性的表示。
借由晶片干涉仪WIF，晶片工作台TB的X轴方向及Y轴方向的位置信息，将前述的固定镜作为基准以例如0.5～1nm左右的分解能被持续检测。另外，晶片X轴干涉仪及晶片Y轴干涉仪由具有复数个测长轴的多轴干涉仪分别构成，除了晶片工作台TB的X、Y位置以外，也可计测旋转[偏转(Z轴周围的旋转即θz旋转)、振动(X轴周围的旋转即θx旋转)、滚动(Y轴周围的旋转即θy旋转)]。也可将晶片工作台TB的端面进行镜面加工而形成反射面(相当于移动镜34X、34Y的反射面)。
借由晶片干涉仪WIF被计测的晶片平台WST的位置信息(或速度信息)通过未图示的平台控制装置及此被送往主控制装置。平台控制装置基本上使从晶片干涉仪WIF输出的位置信息(或速度信息)与主控制装置所发出的指令值(目标位置、目标速度)一致，根据晶片干涉仪WIF的输出通过前述的晶片平台驱动部控制晶片平台WST的XY面内的移动。
前述主体立柱(column)50如图1所示，具备有通过三个防振装置31A1～31A3(但是，在图1中纸面内侧的防振装置31A3未图示)被水平支持在地面F的上方的基板21、配置于基板21上的第一立柱(column)CL1、配置于该第一立柱(column)CL1上的第二立柱(column)CL1、借由三个防振装置31B1～31B3(但是，在图1中纸面内侧的防振装置31B3未图示)被水平支持在基板21上的作为物体平台基座的前述晶片平台定盘29等。
前述第一立柱(column)CL1具有借由三条支柱23(但是，在图1中纸面内侧的支柱未图示)被支持配置于基板21上方的前述的镜筒定盘(主框架)25。
前述第二立柱(column)CL2具有在镜筒定盘25的上面以包围投影光学系统PL的状态配置的三条支柱27(但是，在图1中纸面内侧的支柱未图示)、在各支柱27的上面分别通过防振装置31D1～31D3被大致水平支持的作为掩膜平台基座的前述光栅平台定盘33。
另外，虽然省略了图示，但是在曝光装置100中，设有检测晶片W表面的前述曝光区域内部分及其附近区域的Z轴方向(光轴AX方向)的位置的，例如日本专利公开平6-283403号公报中所宣布的斜入射式的多点聚焦位置检测系统，在后述的扫描曝光等时，借由未图示的主控制装置而进行晶片W的聚焦调平控制。
接着，关于在曝光装置100的各处所设置的防振装置，有代表性地取出支持晶片平台定盘29的三个防振装置31B1～31B3中的一个即防振装置31B1，根据图4及图5进行详细说明。
图4所示为防振装置31B2的构成的断面图。该防振装置31B2具有从下方支持作为物体的支持对象物OB(支持对象物OB在该场合为晶片平台定盘29，在带有搭载物的场合，则相当于晶片平台定盘29和搭载物的全体)的气体支架部51、活塞装置53，以及调整在第一气体室69及第二气体室79内所充填的气体例如空气的压力的电磁调节器55。其中活塞装置53是与该气体支架部51邻接设置，且具有作为别室的第二气体室79，此别室是通过配管Pb连通至形成于气体支架部51内部的第一气体室69、。此时，支持对象物OB如图5所示，作为一例借由三个防振装置31B1～31B3在大致正三角形的顶点位置，从下方被支持。
前述气体支架51具有只在上面开口的圆柱形的罩壳61、通过作为第一弹性构件的隔膜63连接于该罩壳61的上部开口，并位于上部开口的内部的保持构件62。隔膜63具有将由断面为圆形的管状构件构成的、整体呈圆环状(环形)的例如橡胶制或与此有同程度弹性力的其它原料形成的构件，以使上述管状构件的断面成半圆状，沿与圆环的中心轴正交的断面一分为二的形状。该隔膜63，其外周缘连接于罩壳61的上部开口的周缘，且内周缘连接于构成保持构件62的下端部的圆板状的受压部62c的外周缘。此时，借由罩壳61、隔膜63、保持构件，在罩壳61的内部形成由大致密闭空间构成的第一气体室69。保持构件62借由第一气体室69内部的空气等气体的压力(以下记述为「第一气体室69的内部气体的压力」或「第一气体室69的内压」)在所定位置被支持。
隔膜63具有Z轴方向及倾斜方向(θx及θy方向)的刚性低、向水平方向(主要为X及Y方向)的刚性高的性质。借此，保持构件62能够以第一气体室被维持密封的状态，在Z轴方向及倾斜方向灵活地移动。
在前述罩壳61的内周面的高度方向(Z轴方向)大致中央，即使在例如维护等时而使第一气体室69内的气体的压力几乎为零的状态，也可用于防止保持构件61接触罩壳61的内部底面(保持构件62完全落入罩壳61的内部)的制动器64于复数个位置被突出设置。而且，在罩壳61的内部底面设置有用于计测第一气体室69的内部气体压力的压力传感器PS。
前述保持构件62具有前述圆板状的受压部62c、下端固定于受压部62c的上面的轴部62b、其下面固定于该轴部62b的上端的与前述受压部62c同样的圆板状的保持部62a。在保持部62a的上面载置有支持对象物OB。
前述活塞装置53具备有上面开口底面闭塞，由沿上下方向延伸的圆柱形构件构成的作为第一汽缸的汽缸71、可沿汽缸71的内周面在重力方向滑行移动的可动装置149。
在汽缸71的周壁的一部分形成有开口，在该开口上连接有配管Pb的一端。配管Pb的另一端连接于前述的罩壳61。前述可动装置149具有被插入汽缸71的内部的圆柱形的活塞构件72、固定于该活塞构件72的上面的重力构件73、内藏有固定于该重力构件73的上面的电枢线圈的电枢单元74a。
该电枢单元74a是构成电磁调节器的一种即音圈电动机(voicecoil motor)74的可动组件的单元，以下也将电枢单元74a记述为可动组件74a。
由和电枢单元74a一起构成音圈电动机(voice coil motor)74的磁极单元所形成的固定组件74b，通过一对支持构件76被固定于汽缸71的上端面。
在前述活塞构件72的外周面的复数个位置设有气体静压轴承(由于采用例如空气轴承，所以以下称作「空气轴承」)150。当利用这些空气轴承时，借由从各空气轴承150喷出加压空气，使汽缸71和活塞构件72之间的间隙(空隙)在全周几乎都被维持在均一的尺寸，同时使汽缸71内部的空间(第二气体室)被维持在大致密封的程度。
前述重力构件73具有只和防振装置31B2的气体支架部51所担负的支持对象物总质量的1/3大致相称的质量。关于这一点，后面还要进行详细说明。
在前述音圈电动机(voice coil motor)74的可动组件74a上连接有未图示的电流供给源，依据从电流供给源向可动组件74a供给的电流，含有可动组件74a的可动装置149在Z轴方向被驱动。可动装置149的高度方向位置借由线性编码器等所构成的活塞位置计测传感器而被计测。在本实施形态中，未图示的平台控制装置根据活塞位置计测传感器的计测值，控制从电流供给源向可动组件74a供给的电流。
前述电磁调节器55根据前述的压力传感器PS的计测结果，在未图示的主控制装置的指示之下，借由平台控制装置被控制，调整供给空气量(及其压力)以使第一气体室69及与此连通的第二气体室79内部的空气压力被维持在所定的压力值。
剩下的防振装置31B1、31B3与防振装置31B2采用同样的构成。
在借由如此构成之防振装置31B1～31B3所支持的支持对象物OB即晶片平台定盘29上，设有加速计等振动传感器。另外，晶片平台定盘29和基板21的间隔最好利用未图示的位移传感器进行计测。
此时，例如来自地面F侧的高频振动即微振动(暗振动)，借由分别构成防振装置31B1～31B3的第一气体室69内的空气的衰减力(由气体支架部51构成的空气弹簧的弹性力)而在例如微G级被绝缘。
而且，当借由例如因晶片平台WST的移动而在晶片平台定盘29上产生的偏负重，在防振装置31B1～31B3的任意一个上产生大的作用力或产生低频的振动时，平台控制装置根据前述的位移传感器或振动传感器的计测值，控制音圈电动机(voice coil motor)74在Z轴方向驱动可动装置149，变更第二气体室79的内容积。借此，第一气体室69的内容积变化，保持构件62在上下方向进行位移，使借由前述的偏负重的影响或低频振动被除去。
另外，当由于晶片平台WST的加减速时的反作用力，在晶片平台定盘29上产生较前述的暗振动低、较上述的低频振动高的中间频率的振动时，平台控制装置根据振动传感器的计测值，借由通过高速控制音圈电动机(voice coil motor)74使第二气体室79的内容积增减变化，而使第一气体室69的内容积与此对应地进行增减变化，保持构件62在上下方向振动地进行变化，前述的振动得以迅速衰减。
这样，防振装置31B1～31B3借由利用音圈电动机(voice coilmotor)74沿上下方向驱动可动装置149，能够以非常高的应答性进行保持构件62的重力方向的位置控制。
如上所述，防振装置31B1～31B3采用使第一气体室69、第二气体室79、使这两者连通的配管Pb的内部空间所构成的一系列空间内的气体(空气)的压力被维持在一定水平，且不伴随其空气的压力变化，而借由可动装置149的位置变化来控制保持构件62及其所保持的支持对象物OB的重力方向的位置的构成。所以，并不需要使第一气体室69的内容积过分增大，即可轻松地实现防振装置的小型、轻量化。这是因为，作为空气弹簧，即使变为高刚性，保持构件62自身仍可在Z轴方向及倾斜方向实现非常低的刚性构造，以及将来自地面的振动等以高刚性传达至活塞装置53侧，可将该振动借由活塞装置53的可动装置149的上下动作而效率良好地进行控制。为了能够如上所述通过配管Pb使第一气体室69和第二气体室79的压力被维持在一定水平，最好使配管Pb的断面积尽可能得大。当配管Pb的断面积小时，会在两气体室69、79产生压力差，使音圈电动机(voice coil motor)74的高速控制性恶化。另外，采用使两气体室为共同空间的构造(即不通过配管Pb的构造)是最好的方法，此时在两气体室不会产生压力差。
从该意图出发，由于隔膜63自身的刚性，可预先计测从地面等向支持对象物OB传达的振动，关于这一点也可借由音圈电动机(voice coil motor)74而进行积极地控制。这样一来，就能够防止几乎所有的振动向支持对象物OB的传达。
另外，如图5所示，活塞装置53含有支持对象物OB的外部，可配置于任意的位置，所以在配置的自由度提高的同时可进行空间的有效利用，进而也有助于装置的投影面积(foot print)的缩减。
而且，音圈电动机(voice coil motor)74并不是直接驱动支持对象物OB的，而采用借由音圈电动机(voice coil motor)74的驱动使气体支架51部的保持构件62的位置移动的构成，即使音圈电动机(voice coil motor)74和气体支架部51串联连接。换句话说，对支持对象物的力的作用点变为只有一处。所以，与前述的习知的防振装置不同，只借由利用音圈电动机(voice coil motor)74的驱动力的作用，不会在支持对象物OB上产生变形。
另外，在活塞装置53中，从设有空气轴承的部分漏出的气体被设定得足够小，但是也可重新加进漏出气体的量，通过电磁调节器55控制由防振装置31的第一气体室69、第二气体室79、使这两者连通的配管Pb的内部空间构成的一系列空间内的气体的压力。
在活塞装置53中，由于在活塞构件72中第二气体室79的内部气体的压力主要在Z轴方向进行作用，所以汽缸71和活塞构件72之间的空气轴承可不必为那幺高的刚性，具有能够在由于压力中心的偏心而在活塞上作用有倾斜方向的力时防止活塞构件72和汽缸构件71的冲突的刚性就足够了。
其它的防振装置31A1～31A3、31C1～31C3及31D1～31D3，除了支持对象物OB不同这一点外，与上述防振装置31B1～31B3为同样的构成。
例如，在支持机身50及其搭载物的全体的防振装置31A1～31A3的场合，需要如图5所示将总质量10吨＝10000kg左右的支持对象OB以3点进行支持。因此，防振装置31A1～31A3的担负质量约为3.3吨。
当使构成防振装置31A1～31A3各个的气体支架部51的保持构件62的受压部62c的底面(受压面)的直径约为300mm，构成活塞装置53的活塞构件72的底面的直径约为30mm时，借由将3.3吨的1/100即约33kg的质量的重力构件73在活塞构件72上进行固定，可取得气体支架部51和活塞装置53的均衡。
此时，在借由载置有防振装置的地面的振动等而使支持对象物OB在Z轴方向位移例如1μm的场合，借由利用音圈电动机(voicecoil motor)74在抵消其位移的方向将可动装置149驱动100μm，以维持第一气体室69及第二气体室79的内部气体的压力的状态，可控制来自地面的振动不传达到支持对象物OB。另外，借由预先在地面设置未图示的加速传感器，并根据该加速传感器的计测值控制音圈电动机(voice coil motor)74，可有效防止上述地面的振动向支持对象物即机身50及其搭载物的全体传达。
而且，当利用防振装置31C1～31C3时，与前述的防振装置31B1～31B3同样，可有效地防止来自地面F侧的微振动(包括返回振动)、起因于借由晶片平台WST的驱动的反作用力的振动、起因于借由光栅平台RST的驱动的反作用力的振动通过机身50的各部被向作为支持对象物OB的投影光学系统PL传达。
当利用防振装置31D1～31D3时，与前述的防振装置31B1～31B3同样，可有效地防止来自地面F侧的微振动(包括返回振动)、起因于借由晶片平台WST的驱动的反作用力的振动通过机身50的各部被向作为支持对象物OB的光栅平台定盘33传达，同时也可有效地防止起因于借由光栅平台RST的驱动的反作用力通过机身50的各部被向投影光学系统PL传达。
接着，关于在前述的XY平台14上支持晶片工作台TB的防振装置91A～91C，根据图6(A)及图6(B)，取一个防振装置91A为代表进行说明。
如图6(A)所示，防振装置91A具备有包括由通过球形接合(球形接头)使其下端连结于XY平台14的上面而上端部开口的圆柱形构件构成的作为筒状体的第一筒状体111A、由通过球形接头110B使其上端连结于晶片平台TB的下面，同时从上方被插入第一筒状体内部的下端开口的圆柱形构件构成的第二筒状体111B的气体支架部51；设于第一筒状体111A的外周部的活塞装置113。
前述第一筒状体111A借由连接于球形接头11OA的下端部的外形为圆锥形且该圆锥部的上方部分为圆筒部的圆筒形构件以被形成。前述第二筒状体111B借由连接于球形接头110B的上端部的外形为圆锥形而其下方部分为圆筒部的圆筒形构件以被形成。而且，使第二筒状体111B插入第一筒状体111A的内部，在这两者间形成充填有气体例如空气的第一气体室112。
前述活塞装置113具备有由与第一筒状体111A的外周部相接固定的上端面开口的二重圆柱形构件构成的汽缸116、由通过该汽缸116的上部开口而从上方插入其内部空间的圆筒构件构成的活塞构件115。
前述汽缸116的内部空间被作为通过通气信道与气体室12连通的第二气体室。
另外，在活塞构件115上也可与前述的防振装置31A1～31D3同样地设置重力构件，但是，此处应使活塞构件115由比较重的构件构成，借由其重量而取得晶片工作台TB及其搭载物的均衡。
在前述第一气体室112内充填有气体例如空气，该气体的压力即第一气体室112的内压借由通过配管123连接于第一筒状体111A的电磁调节器255而被设定在所定的水平。这里所说的所定的压力，被设定为可借由三个防振装置91A～91C而支持晶片工作台TB的程度的压力。
而且，该防振装置91A在第二筒状体111B的周壁沿全周以所定间隔形成有复数个通气孔151。通过这些通气孔151，来自第一气体室112的高压的内部气体在第二筒状体111B和第一筒状体111A的间隙流出，借此使第二筒状体111B作为一种气体静压轴承(空气轴承)发挥作用。有鉴于此，以下也将通气孔151记述为气体静压轴承151。
而且，在该防振装置91A中，在第一筒状体111A的周壁内面的复数个位置设有制动器152。在该防振装置91A中，第二筒状体111B也兼作保持构件。
借由如此构成的防振装置91A～91C，晶片工作台TB在XY平台14上被3点支持，所以晶片工作台TB关于X、Y、Z、θx、θy、θz的6自由度方向的任一方向，都能以抵抗力几乎为零的状态被驱动。
更具体地说，在晶片工作台TB向例如图6(B)中的纸面右方向移动的场合，如同图6(B)所示，第二筒状体111B在纸面内上侧移动，并成气体支架部114的全长伸开的状态，第一气体室112的容积增大。与此对应，在活塞装置113中，活塞构件115向使第二气体室的内容积缩小的方向移动。因此，可使防振装置91A(及91B、91C)的横方向(X、Y、θz)的刚性减小(几乎为0)。此时，向横方向的晶片工作台TB的移动的控制可借由前述的EI磁心48X1、48X2、48Y而进行，所以，可借此防止气体支架部114在横方向完全倾倒的问题。
关于防振装置91A(及91B、91C)的Z、θx、θy方向也可使刚性变小(几乎为0)，这一点从上下的球形接头及气体支架部114可伸缩的构造上的特征可清楚知道，无需特别说明。
另外，在此场合，晶片工作台TB在6自由度方向以高应答性借由球形接头92A～92C、EI磁心48X1、48X2、48Y而被控制，所以防振装置91A～91C只支持晶片工作台TB的自重即可，且防振装置91A～91C自身最好为低刚性。
而且，在防振装置91A～91C中，使由第一筒状体111A及第二筒状体111B组成的气体支架部114的中心轴、活塞装置113的中心轴一致，借此实现空间效率良好的防振装置。
可是，说明是前后颠倒的，而在本实施形态中，将晶片W被晶片工作台TB上的晶片支架吸附保持的状态作为基准状态，以在此基准状态下使晶片工作台TB被保持于所定的Z位置为目的，依据第二筒状体118的内部底面和活塞构件115的端面(受压面)的面积比，设定活塞构件115自身的质量(或固定于活塞构件115的重力构件的质量)。
在该场合，关于起因于制造阶段的质量误差的负重变动、起因于配线·配管等的拉曳的负重变动或起因于在晶片工作台TB上所载置的未图示的晶片支架及晶片被拆除时的质量变化的负重变动，可借由控制音圈电动机(voice coil motor)92A～92C以抵消其负重的变化，使其负重变化被抵消，从而控制活塞构件115的上下动作不达到界限。
而且，关于从地面侧传达的振动，即使在不进行借由音圈电动机(voice coil motor)92A～92C的控制的场合，各个振动也是被分散传达至活塞构件115(或设于活塞构件115之重力构件)和晶片工作台TB，所以与使用通常的气体波纹管防振装置的场合相比，振动的衰减率高。借由利用音圈电动机(voice coil motor)92A～92C进行控制，可期待高应答性的控制。
如上述构成的本实施形态的曝光装置100，象下面这样进行曝光动作。
首先在主控制装置的管理下，借由未图示的光栅加载器、晶片加载器，进行光栅加载、晶片加载，而且，利用未图示的光栅调正显微镜、形成有用于计测从晶片平台WST上的未图示的离轴方式的调正检测系统的检测中心到投影光学系统PL的光轴的距离的基线计测等的各种基准标志的未图示的基准标志板、未图示的调正检测系统，以所定的程序进行光栅调正、基线计测等准备作业。
随后，借由主控制装置，利用未图示的调正检测系统实行EGA(增强·整体·调正)等调正计测。在这种动作中，当需要晶片W的移动时，主控制装置通过平台控制系统使保持晶片W的晶片平台WST向所定的方向移动。当这种调正计测结束时，进行如下所示的步进扫描方式的曝光动作。
在该曝光动作中，首先移动晶片平台WST以使晶片W的XY位置成为用于晶片W上的最初的拍摄区域(初次拍摄)的曝光的扫描开始位置(加速开始位置)。同时移动光栅平台RST以使光栅R的XY位置成为扫描开始位置(加速开始位置)。然后，根据主控制装置发出的指示，借由使平台控制系统根据利用掩膜干涉仪RIF所计测的光栅R的XY位置信息、利用晶片干涉仪WIF所计测的晶片W的YX位置信息同步移动光栅R和晶片W，进行扫描曝光。
这样，当对一个拍摄区域的光栅图案的转印结束后，晶片平台WST只步进一个拍摄区域，进行对拍摄区域的扫描曝光。这样，步进和扫描曝光依次反复进行，使必要的拍摄数的图案被转印至晶片W上。
主控制装置在上述扫描曝光等时，借由根据多点聚焦检测系统发出的焦点偏离信号(非聚焦信号)例如S曲线信号，通过平台控制装置控制晶片W的对Z位置及XY面的倾斜以使焦点偏离为零，而实行自动聚焦(自动焦点对合)及自动调整。
如以上的详细说明，当利用本实施形态的防振装置时，借由气体支架部51的气体室69的内部气体(更正确地说，是在该气体室69及与此连通的气体室79内所充填的气体)的压力，使保持支持对象物OB的保持构件62在重力方向被支持。即，借由内部气体的压力使支持对象物OB的自重通过保持构件62被支持。而且，具备有根据气体室69和气体室79的至少一方的状态变化，驱动使气体室79的内容积变化并使前述气体室69的内容积变化的可动装置149，调整保持构件62的重力方向的位置的音圈电动机(voice coil motor)74。所以，例如当由于振动等而使保持构件(及支持对象物OB)在重力方向位移时，借由根据此时的气体室69的状态变化(这里说的是包括各气体室69、79的内容积的变化和保持构件62的重力方向位置的变化等，起因于从支持对象物OB侧或外部向防振装置所传达的振动的各气体室的状态的变化)使音圈电动机(voice coil motor)74驱动可动装置149，而使保持构件62的重力方向位置被维持在原位置。即，作用于保持构件62(及支持对象物OB)的振动被迅速制振。而且，可动装置149不具有与支持对象物OB的接触部，所以即使驱动可动装置149，这也不会直接地使支持对象物OB产生变形等，只是借由各气体室69、79的内容积的变化而在重力方向驱动支持对象物OB。因此，可采用气体室69内的气体的刚性变高的构造，从而可使气体室69的容积比习知小。由于气体室79的内容积比气体室69小，所以借由以驱动可动装置149的小的力量使气体室79的内容积变化，可使气体室69的内容积变化并在重力方向驱动保持构件62，且能够将气体室69内的气体的刚性设定为高值，因此借由驱动可动装置149，能够以高应答性控制支持对象物OB的重力方向位置。由于将气体室69内的气体的刚性设定为高值，所以作为气垫(空气弹簧)的地面振动等的高频振动的衰减效果变得良好。即，当利用本实施形态的防振装置时，可实现除振或制振效果良好、小型轻量的防振装置。
而且，在本实施形态中，借由设定活塞构件72的底面积小于保持构件62的底面积，可采用较支持对象物OB轻量的压铁，使气体支架部51的内部空间69和活塞装置53的内部空间79在所定的状态达到平衡，谋求防振装置的轻量化进而为曝光装置全体的轻量化成为可能。
在本实施形态中，调整装置借由电磁调节器[音圈电动机(voicecoil motor)]被构成，所以能够以非常高的应答性控制保持构件62的高度方向位置。因此，可非常有效地抑制振动的传达。
在本实施形态中，可动部分(构成可动装置149的一部分的活塞构件72)通过气体静压轴承150进行移动，所以活塞构件72和汽缸71之间被非接触维持，而且可抑制从活塞装置53的内部空间79的气体的流出。
而且，当利用设于晶片平台WST的防振装置91A～91C时，第一筒状体114A以使支点可向中心倾倒的被安装于XY平台14上，以内部底面为受压面的有底的第二筒状体114B通过所定的空隙配置于第一筒状体114A的内面侧，可自如滑动。借此，第二筒状体114B完成保持晶片工作台TB的保持构件的任务，而且第二筒状体对晶片工作台TB以容许起伏方向的转动的状态被连结，从而可使晶片工作台TB的XY面内的刚性几乎为0，并可有效地抑制振动。
在位于第一筒状体114A及第二筒状体114B中的内周侧的第一筒状的周壁，沿周方向以所定间隔形成有复数个从内部空间112至空隙的微小开口151，所以即使不另外设置真空预压型气体静压轴承等空气轴承装置，也可得到同样的效果，能够谋求防振装置的小型化及轻量化。
当利用本实施形态的平台装置时，借由上述防振装置，使工作台被保持在可沿所定方向移动的平台上，所以工作台的振动即晶片的振动的发生被极力抑制。
而且，当利用本实施形态的曝光装置时，借由本发明的振动的抑制效果高的防振装置，使构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分被保持，所以曝光装置主体的振动被有效地抑制，借由可实现高精度的曝光。
另外，在上述实施形态的曝光装置中，作为保持晶片工作台TB的防振装置，可采用如图7(A)所示的构成的防振装置。该图7(A)所示的防振装置的特征在于不是将调整装置一体性地设置在气体支架部114上，而是通过由变形·伸缩自如的波纹管等构成的伸缩管117将调整装置113’与气体支架部114分别设置。
即使在采用这种构成的场合，也可得到和图6(A)的防振装置同样的效果
另外，如果能够在XY平台14上确保空间，当然也可以和上述主体立柱50侧的防振装置所说明的同样，在活塞构件上直接连接音圈电动机(voice coil motor)的可动组件而构成可动装置，并借由音圈电动机(voice coil motor)驱动可动装置，积极地控制气体支架部及活塞装置内部的气体室的内容积。
在上述实施形态中，关于借由防振装置91A～91D支持晶片平台WST的晶片工作台TB的场合进行了说明，但并不局限于此，可用与防振装置91A～91D同样的防振装置支持构成光栅平台RST的微动平台24B。
而且，在上述实施形态的曝光装置中，作为防振装置，也可采用图8所示的防振装置131，代替防振装置31A1～31A3(以下统称「防振装置31A」)、31B1～31B3(以下统称「防振装置31B」)、31C1～31C3(以下统称「防振装置31C」)及31D1～31D3(以下统称「防振装置31D」)。
图8所示的防振装置131的特征在于活塞装置53除了前述的活塞装置的构成以外，还具有气压驱动装置153。
即，在构成活塞装置53的活塞构件72的上部，通过与前述的可动组件同样的可动组件74a连接有作为活塞部的活塞构件172。该活塞构件172被插入下面开口的圆柱形的汽缸171中，在活塞构件172的外周面，与活塞构件72同样地设有未图示的气体静压轴承例如空气轴承。借此，在汽缸171和活塞构件172之间构成大致密封状态的气体室89。在汽缸171上连接有电磁调节器155，借由该电磁调节器155，在未图示的主控制装置的指示下，利用平台控制装置使气体室89内部的气体(与前述的第二气体室79内的气体既可为同一种类也可为不同种类)的压力被控制。即，借由汽缸171、活塞构件172、气体室89及电磁调节器155，构成气压驱动装置153。
借由如此设置气压驱动装置153可得到如下效果。
例如，在支持对象物0B的上面载置有晶片平台WST等移动体的场合，当移动该移动体时，支承支持对象物OB的三个防振装置131所承担的负重(重量)也分别变化。此时通常是控制连接于构成气体支架部51的罩壳61侧的电磁调节器55而调整第一气体室69的内压，使负重和第一气体室69的内压取得平衡。但是，当只借由电磁调节器要提高第一气体室69的内压时，因帕斯卡原理使第二气体室79的内压也上升，由于和大气压的差而使活塞构件72向上升方向移动，反之当要降低内压时，活塞构件72会向下降方向移动。该活塞构件72的上下动作成为保持构件62的上下动作的原因，所以需要产生阻止该保持构件62在上下方向移动的力。
在该场合，图8的防振装置131不利用音圈电动机(voice coilmotor)74产生固定不变的力，可借由调整气压驱动装置153的内部压力而产生固定不变的力。借此，可抑制活塞构件72的移动。因此，与利用音圈电动机(voice coil motor)74产生固定不变的力的场合相比，使来自音圈电动机(voice coil motor)74的发热被抑制，可有效地抑制音圈电动机(voice coil motor)74周边的温度变化。
另外，也可采用在图8所示的防振装置131上再加以变更的如图9所示构成的防振装置231。该图9所示的防振装置231的特征在于设置气压驱动装置153’，代替构成图8的防振装置131的气压驱动装置153。
在该气压驱动装置153’中，汽缸171’与汽缸71成密封性连结状态。借由采用该种气压驱动装置153’，从活塞构件72外周部的设置有空气轴承的部分(活塞构件72和汽缸71之间的间隙)漏出的气体(例如空气)向气压驱动装置153’侧浸入，所以气体的供给借由气体支架部51侧的电磁调节器55而进行，并由活塞装置53侧的电磁调节器155排出气体，从而可使气体的供给及排气路径为一个系统。借此，即使在从汽缸71侧的气体的漏出量多的场合，也可将第一气体室69及第二气体室79的内压维持得足够高。
另外，水平方向的刚性(横刚性)由于隔膜63的刚性的贡献大，所以不能得到足够的横方向的防振效果(即，难以抑制横方向的地面振动向支持对象物OB的传达)，因此在利用上述图4～图9进行说明的在纵方向的刚性上具有效果的防振装置31B2、131、231中，也可设置如图10(A)所示的横刚性减震装置80。
如该图10(A)所示，横刚性减轻装置80具备有作为第一底壁构件的板构件81A及作为第二底壁构件的板构件81B、借由该板构件81A，81B所夹持的作为弹性构件的隔膜82。该隔膜82为断面C字形(半圆形)，整体上看呈环形形状。
而且，在位于上侧的板构件81A及构成气体支架部51的罩壳61上，分别形成有用于进行第一气体室69内的气体和板构件81A的下面侧的气体的流通的贯通孔OP1、OP2。
借由采用该种横刚性减轻装置80可降低防振装置的横刚性，所以可借此抑制来自地面侧的横振动向支持对象物OB传达。
而且。也可如图10(B)所示将分别构成气体支架部51和活塞装置53的罩壳61、71的底壁拆下，用横刚性减轻装置80的上侧的板构件81A代替罩壳61、71的底壁。借此可谋求防振装置的小型化及轻量化。
另外，作为横刚性减轻装置也可采用应用空气轴承的构成，以替代应用上述隔膜的。作为空气轴承装置，当然可为在两片板构件间设置通常所用的空气轴承，但是也可采用如图11所示的构成。
该图11所示的横刚性减轻装置80’使用作为气体支架部51’的、形成有开口81d的框形构件，在由该框形构件形成的底壁181A的下侧设有板状构件181B。借此使气体支架部51’的罩壳61’内为高压，所以借由要从底壁181A和板状构件181B间的空隙漏出的气体例如空气的静压，以在板状构件181B的上方维持数μm程度以下的间隙的状态，使上侧的部分由底壁181A被浮起支持，当在底壁181A的下面设置空气轴承时可得到同样的效果。
借由采用这种横刚性减轻装置80’，可使气体支架部51’和地面侧的构件(板状构件181B)在X、Y、θz方向为非接触，能够抑制来自地面的振动向支持对象物OB传达。
另外，在上述实施形态中，关于可动装置完成活塞的任务的场合进行了说明，但是并不限定于此，作为可动装置，如果能够使借由内部气体的压力通过保持构件支承支持对象物的自重的第一气体室所连通的第二气体室的容积变化，则采用什么样的构成都可以，例如可采用应用隔膜和弹簧等弹性构件的构成。
《第二实施形态》
接着，根据图12说明本发明的第二实施形态。关于该第二实施形态的曝光装置的特征在于，作为防振装置使用图12所示的防振装置431，代替在前述的第一实施形态的曝光装置100的机身的各部所设置的防振装置31A、31B、31C及31D的任意一个；其它部分的构成等与第一实施形态相同。因此，以下从回避重复说明的观点出发，在以防振装置431为中心进行说明的同时，关于同一构成部分使用同一符号。
本第二实施形态的防振装置431如图12所示，具备有从下方支承支持对象物OB(支持对象物OB与前述第一实施形态同样)的气体支架部451、与该气体支架部451邻接设置，具有通过配管Pb与形成于气体支架部451内部的第一气体室469连通的第二气体室79的活塞装置53、调整在第一气体室469及第二气体室79内所充填的气体例如空气的压力的电磁调节器55。
前述气体支架451具有由底板部461A和概略圆柱形的侧壁部461B构成的罩壳461、通过作为第一弹性构件的隔膜63a连接于该罩壳461的上部开口，并位于上部开口的内部的保持构件162。隔膜63a由断面为圆形的管状构件构成的、整体呈圆环状(环形)的例如橡胶制或与此有同程度弹性力的其它原料而形成，具有为了使上述管状构件的断面成半圆状而沿与圆环的中心轴正交的断面一分为二的形状。该隔膜63，其外周缘连接于罩壳61的上部开口的周缘，且内周缘连接于构成保持构件62的下端部的阶梯筒构件93的上端部的外周缘。此时，借由罩壳461、隔膜63a、保持构件162，在罩壳461的内部形成由大致密闭空间构成的第一气体室469。保持构件162借由第一气体室469内部的空气等气体的压力(以下记述为「第一气体室469的内部气体的压力」或「第一气体室469的内压」)在所定位置被支持。
隔膜63a具有Z轴方向及倾斜方向(θx及θy方向)的刚性低、向水平方向(主要为X及Y方向)的刚性高的性质。借此，保持构件162能够以第一气体室被维持密封的状态，在Z轴方向及倾斜方向灵活地移动。
前述保持构件162具有圆板状的受压部62c、下端固定于受压部62c的上面的轴部62b、其下面固定于该轴部62b的上端的与前述受压部62c同样的圆板状的保持部62a、通过作为第二弹性构件的隔膜63b与前述受压部62c相连接的阶梯筒状构件93。隔膜63b具有与前述隔膜63a同样的形状及性质，其外周缘连接于阶梯筒状构件93的下部开口的周缘，且内周缘连接于构成受压部62c的阶梯筒状构件93的下端部的外周缘。由图12可知，形成受压部62c全体和轴部62b的大半被插入阶梯筒状构件93的内部空间的状态。另外，前述轴部62b与构成上述第一实施形态的防振装置的轴部62相比，其全长被设定得较长。
前述活塞装置53与构成前述第一实施形态的防振装置的活塞装置采用同样的构成。
在如上构成的防振装置431中，和上述第一实施形态一样，来自例如地面F侧的高频振动即微振动(暗振动)，借由分别构成防振装置431的第一气体室69内的空气的衰减力(由气体支架部451构成的空气弹簧的弹性力)而在例如微G级被绝缘。
而且，当借由例如因晶片平台WST的移动而在晶片平台定盘29上产生的偏负重，在防振装置上产生大的作用力或产生低频的振动时，平台控制装置根据前述的位移传感器或振动传感器的计测值，控制音圈电动机(voice coil motor)在Z轴方向驱动可动装置149，变更第二气体室79的内容积。借此，第一气体室469的内容积变化，保持构件162在上下方向进行位移，使借由前述的偏负重的影响或低频振动被除去。
另外，当由于晶片平台WST的加减速时的反作用力，在晶片平台定盘上产生较前述的暗振动低、较上述的低频振动高的中间频率的振动时，平台控制装置根据振动传感器的计测值，借由通过高速控制音圈电动机(voice coil motor)74使第二气体室79的内容积增减变化，而使第一气体室469的内容积与此对应地进行增减变化，保持构件162在上下方向振动地进行变化，前述的振动得以迅速衰减。
这样，在防振装置431中，借由利用音圈电动机(voice coilmotor)74沿上下方向驱动可动装置149，能够以非常高的应答性进行保持构件62的重力方向的位置控制。
而且，本第二实施形态的防振装置431的轴部被设定得长于构成前述第一实施形态的防振装置的保持构件的轴部，所以当在其下侧(受压部)借由气体支架63b进行支持时，如上所述，气体支架63b具有Z轴方向及倾斜方向(θx及θy方向)的刚性低、向水平方向(主要为X及Y方向)的刚性高的性质，因此如设支持部62a和受压部62c的距离为L、倾斜角为θ(微小角)，则保持构件62的上端部的横位移量(水平面内的位移量)Δ从几何学的关系出发可表示为
        Δ＝L×          …                    (1)因此，借由如本第二实施形态将轴部62b设定得较长，可增大横位移量，由此能够极力缩小横方向的刚性。即，由于可将X、Y、θz方向的刚性设定得几乎为0，所以即使在地面进行横振动等场合，该振动几乎也不会被传达到支持对象物OB。
如以上所说明的，当利用本第二实施形态时，除了能够得到与第一实施形态同样的防振效果之外，可降低水平方向的刚性，所以即使对水平方向也可实现低刚性的防振装置。换句话说，借由利用本实施形态的防振装置而支承支持对象物，能够进行支持对象物的有效的制振及除振。
而且，当利用本实施形态的曝光装置时，借由制振及防振效果高的防振装置，可保持构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分，所以可有效抑制曝光装置主体的振动，借此实现高精度的曝光。
另外，在图12的防振装置431中，与气体支架部451连接的活塞装置53具有音圈电动机(voice coil motor)74，并关于借由该音圈电动机(voice coil motor)74而驱动可动装置149的场合进行了说明，但并不局限于此，也可采用在上述第一实施形态的变形例中说明的各种汽缸装置(其它具有汽缸机构者等)。
《第三实施形态》
接着，根据图13说明本发明的第三实施形态。关于该第三实施形态的曝光装置的特征在于，作为防振装置使用图13所示的防振装置531，代替在前述的第一实施形态的曝光装置100的机身的各部所设置的防振装置31A、31B、31C及31D的任意一个；其它部分的构成等与第一实施形态相同。因此，以下从回避重复说明的观点出发，在以防振装置531为中心进行说明的同时，关于同一构成部分使用同一符号。
本第三实施形态的防振装置531如图13所示，具备有从下方支承支持对象物OB的气体支架部551、与该气体支架部551邻接设置，具有通过配管Pb与形成于气体支架部551内部的第一气体室469连通的第二气体室79的活塞装置53、调整在第一气体室469及第二气体室79内所充填的气体例如空气的压力的电磁调节器55。
前述气体支架551具有罩壳461、通过作为第一弹性构件的隔膜63a连接于该罩壳461的上部开口，并位于上部开口的内部的保持构件162’。
前述保持构件162’具备有圆板状的受压部62c、下端固定于受压部62c的上面的轴部62b、其下面固定于该轴部62b的上端的与前述受压部62c同样的圆板状的保持部62a、通过隔膜63b与前述受压部62c相连接的概略筒状的下部筒状体93b、在该下部筒状体93b的上方以所定间隔配置，以其上端部与罩壳461的上部开口的内周缘通过隔膜63a相连接的上部筒状体93a。
在前述下部筒状体93b和前述上部筒状体93a之间，设有未图示的空气轴承装置，在两筒状体之间维持所定间隔。此时，上部筒状体93a由非常轻的构件构成。而且，下部筒状体93b一方具有较上部筒状体93大一圈的直径，下部筒状体93b的上面及下面的露出部分(承受第一气体室469的内压的部分(图13中的双影线部))的面积被设定得相同，所以支持下部筒状体93b的隔膜63b如能具有可支持下部筒状体93b的自重的程度的支持力即可。
在如此构成的本第三实施形态的防振装置中，与支持对象物OB直接连接的部分(支持部62a、轴部62b、受压部62c、下部筒状体93b)和与地面侧的构件直接连接的部分，在6自由度方向完全成非接触状态。
如以上所说明的，当利用本第三实施形态时，与上述第一、第二实施形态同样，也可将高频及低频的任一振动制振及除振，另外在6自由度方向为完全非接触，所以关于任一方向都可实现刚性几乎为0的防振装置。因此，即使有来自设置有防振装置的地面的振动，由于连接于地面侧的构件的部分和支承支持对象物的部分为完全非接触，所以振动几乎不能传达到支持对象物。
换句话说，借由利用本实施形态的防振装置而支承支持对象物，能够进行支持对象物的有效的制振及除振。
而且，当利用本第三实施形态的曝光装置时，借由制振及防振效果高的防振装置，可保持构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分，所以可有效抑制曝光装置主体的振动，借此实现高精度的曝光。
另外，在图13的防振装置531中，与气体支架部551连接的活塞装置53具有音圈电动机(voice coil motor)74，并关于借由该音圈电动机(voice coil motor)74而驱动可动装置149的场合进行了说明，但并不局限于此，也可采用在上述第一实施形态的变形例中说明的各种汽缸装置(其它具有汽缸机构者等)。
在上述第三实施形态中，将构成防振装置的气体支架部551的下部筒状体93b的上面、下面的受压面积设定得相同，但是并不限定于此，假如将下面的受压面积设定得大于上面的受压面积，借由下面所承受的力和上面所承受的力的差分支持下部筒状体93b的自重，则下部筒状体93b利用空气弹簧可进行大的位置移位，所以只要将下部筒状体93b设计得不与其它部分产生冲突，就可实现6自由度方向的刚性低的防振装置。
《第四实施形态》
接着，根据图14说明本发明的第四实施形态。关于该第四实施形态的曝光装置的特征在于，作为防振装置使用图14所示的防振装置631，代替在前述的第一实施形态的曝光装置100的机身的各部所设置的防振装置31A、31B、31C及31D的任一个；其它部分的构成等与第一实施形态相同。因此，以下从回避重复说明的观点出发，在以防振装置631为中心进行说明的同时，关于同一构成部分使用同一符号。
本第四实施形态的防振装置631如图14所示，具备有从下方支承支持对象物OB的气体支架部651、与该气体支架部651邻接设置，具有通过配管Pb与形成于气体支架部651内部的第一气体室469连通的第二气体室79的活塞装置53、调整在第一气体室469及第二气体室79内所充填的气体例如空气的压力的电磁调节器55。
前述气体支架651具有罩壳461、通过作为第一弹性构件的隔膜63a连接于该罩壳461的上部开口，并位于上部开口的内部的保持构件162”。
前述保持构件162”具备有圆板状的受压部62c、下端固定于受压部62c的上面的轴部62b、其下面固定于该轴部62b的上端的与前述受压部62c同样的圆板状的保持部62a、通过隔膜63b与前述受压部62c相连接的筒状的下部筒状体93c、在该下部筒状体93c的内侧通过所定的间隙配置，以其上端部与罩壳461的上部开口的内周缘通过隔膜63a相连接的上部筒状体93a。
在前述下部筒状体93c的周壁，在其全周以所定间隔形成有复数个通气孔193。通过这些通气孔193，来自第一气体室469的高压的内部气体在上部筒状体93a和下部筒状体93c的间隙流出，借此使下部筒状体93c作为一种气体静压轴承(空气轴承)发挥作用。有鉴于此，以下也将通气孔193记述为气体静压轴承193。借由气体静压轴承193，可在下部筒状体93c和上部筒状体93a之间维持所定间隔。而且，上部筒状体93a由能利用隔膜63a以所定的状态被保持的程度的轻量的构件形成。
如此构成的本第四实施形态的防振装置除了可有效地进行前面说明的高频及低频的任一个振动的除振以外，具有如下的效果。即，沿上下方向延伸的上部筒状体93a，在上面开口的罩壳461的开口端部通过环状的隔膜63a被支持，下部筒状体93c在上部筒状体93a的内侧通过所定的间隙被配置，对上部筒状体93a可相对滑动。而且，上端部于罩壳外部从下方支承支持对象物OB的摇动构件(由支持部62a、轴部62b、受压部62c形成的构造物)，其下端的受压部62c通过环状的隔膜63b连接于下部筒状体93c的下端，借由在和罩壳461、隔膜63a、上部筒状体93a及隔膜63b一起区隔出第一气体室469的受压部62c的底面作用的第一气体室469内的气体压力而被浮起支持。即，从下方支承支持对象物OB的摇动构件使其下端62c通过隔膜63b连接于下部筒状体93c的下端，所以倾斜方向的自由度高。所以，当支持对象物OB在水平方向(横方向)位移时，摇动构件容易依据该位移而进行倾斜。而且，当倾斜角度超过所定角度(由隔膜63b的刚性所容许的角度)时，和摇动构件一起，上部筒状体93a及下部筒状体93c一起倾斜，且依据下部筒状体93c的横位移量，下部筒状体93c对上部筒状体93a进行滑动。所以，支持对象物OB可在水平面内不改变其高度的在横方向进行移动。而且，摇动构件的上下方向的移动借由下部筒状体93c对上部筒状体93a进行滑动而容易被实现。因此，关于Z、X、Y、θx、θy、θz的6自由度方向能够实现低刚性的防振装置。
换句话说，对任一方向的振动都可借由摇动构件的位置姿式变化而使其振动被衰减，能够进行支持对象物的有效的制振及除振。
而且，当利用本第四实施形态的曝光装置时，借由制振及防振效果高的防振装置，可保持构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分，所以可有效抑制曝光装置主体的振动，借此实现高精度的曝光。
另外，在上述第四实施形态中，关于上部筒状体93a配置于下部筒状体93c的内侧的场合进行了说明，但是并不限定于此，也可采用使上部筒状体93a配置于下部筒状体93c的外侧的构成。此时，可在上部筒状体93a侧形成气体静压轴承。借此，可借由第一气体室469内的气压而支承上部筒状体93a的自重，所以作为上部筒状体93a也可不使用那么轻量的构件。
在上述第四实施形态中，作为气体静压轴承可采用在下部筒状体93c的全周范围内形成的复数个微小开口193，但是并不限定于此，也可将空气轴承装置设置于下部筒状体93c的内周面或上部筒状体93a的外周面。
另外，在上述第四实施形态中也和前面一样，作为连接于气体支架部651的活塞装置，可采用第一实施形态所说明的种种构成。
《第五实施形态》
接着，根据图15说明本发明的第五实施形态。关于该第五实施形态的曝光装置的特征在于，作为防振装置使用图15所示的防振装置731，代替在前述的第一实施形态的曝光装置100的机身的各部所设置的防振装置31A、31B、31C及31D的任一个；其它部分的构成等与第一实施形态相同。因此，以下从回避重复说明的观点出发，在以防振装置731为中心进行说明的同时，关于同一构成部分使用同一符号。
本第五实施形态的防振装置731如图15所示，具备有从下方支承支持对象物OB的气体支架部751、与该气体支架部751邻接设置，具有通过配管Pb与形成于气体支架部751内部的第一气体室469连通的第二气体室79的活塞装置53、调整在第一气体室469及第二气体室79内所充填的气体例如空气的压力的电磁调节器55。
前述气体支架751具有罩壳461、通过作为第一弹性构件的隔膜63a连接于该罩壳461的上部开口，并位于上部开口的内部的保持构件262。
前述保持构件262具备有圆板状的受压部62c、下端固定于受压部62c的上面的4条轴部62b’、其下面固定于该轴部62b’的上端的与前述受压部62c同样的圆板状的保持部62a、通过隔膜63b与前述受压部62c相连接的筒状的下部筒状体93c、在该下部筒状体93c的内侧通过所定的间隙配置，以其上端部与罩壳461的上部开口的内周缘通过隔膜63a相连接的上部筒状体93a。此时，上部筒状体93a除了隔膜63a以外，还通过第一支持装置211A与罩壳461连接。而且，下部筒状体93c除了隔膜63b以外，还通过第二支持装置211B与受压部62c连接。
前述第一支持装置211A具备有架设于上部筒状体93a的上端部，例如作为板状的第一支持构件的被支承物101、架设于罩壳61的上部开口部分，作为在与上部筒状体93a的中心轴一致的位置从下侧支持被支承物101的支持臂的支承物102。支承物102和被支承物101之间借由球形接合(球形接头)103被连结。
而且，前述第二支持装置211B由设置于下部筒状体93c的下端部附近的例如作为板状的第二支持构件的被支承物104构成，借由该被支承物104，通过设置于其中央部的球形接合(球形接头)105而使受压部62c和下部筒状体93c被连结。
其它的构成与前面所说明的防振装置相同。
当借由如此构成的防振装置731时，借由第一支持装置211A及第二支持装置211B而使上部筒状体93a及下部筒状体93c以只容许旋转方向的状态被支持，在Z、X、Y方向的自由度被约束，所以可抑制防振装置的举动的错乱。
另外，也可如图16所示，使借由构成第一支持装置211A的支承物102的被支承物101的支持点(设有球形接头的点)和隔膜63a的旋转中心一致，并使借由构成第二支持装置211B的支承物104的受压部62c的支持点(设有球形接头的点)和隔膜63a的旋转中心一致，在构成第一支持装置211A的支承物102和被支承物101间设置用于抑制以球形接头为中心的被支承物的旋转的弹性构件(压缩线圈弹簧)。借此，可发挥更加安定的防振装置的性能。
作为在构成第一支持装置211A的支承物102和被支承物101间设置弹性构件(压缩线圈弹簧)的替代措施，也可借由提高球形接头的旋转方向的刚性和隔膜的刚性而提高上部筒状体93a的旋转方向的刚性。
如以上所说明的，当利用本第五实施形态的防振装置时，与前面所说明的各实施形态同样，除了能够将高频及低频的振动有效地制振及除振以外，能够借由各种状态的位置姿式变化而有效抑制无法恢复原状的事态的发生。因此，能够安定地发挥防振装置的机能。
换句话说，能够安定地对任何方向的振动都借由摇动构件的位置姿势变化而衰减其振动，进行支持对象物的有效的制振及除振。
而且，当利用本第五实施形态的曝光装置时，借由制振及防振效果高、发挥安定性能的防振装置，可保持构成曝光装置主体的至少一部分的构成部分，所以可有效抑制曝光装置主体的振动，借此实现高精度的曝光。
另外，在上述第五实施形态的第一支持装置和上部筒状体93a的连结部分、及第二支持装置和下部筒状体93c的连结部分采用了球形接合(球形接头)，但是并不限定于此，如为制动器等只在旋转方向具有自由度的连结装置，则可采用其它各种各样的装置。
在上述第五实施形态中也可与前面一样，作为连接于气体支架部651的活塞装置，可采用第一实施形态所说明的种种构成。
在上述各实施形态中，关于本发明适用于单晶片平台类型的步进扫描方式的投影曝光装置的场合进行了说明，但是并不限定于此，双晶片平台类型的步进扫描方式的投影曝光装置当然不用说，还可适用于步进重复型的投影曝光装置或最贴近方式的曝光装置等其它的曝光装置。
另外，借由在将由复数个透镜构成的照明光学系统、投影光学系统装入曝光装置主体并进行光学调整的同时，将由多个机械构件形成的光栅平台和晶片平台安装于曝光装置主体并连接配线和配管，再进行综合调整(电气调整、动作确认等)，可制造上述实施形态的曝光装置。曝光装置的制造最好在温度及洁净度等受控制的净室中进行。
而且，本发明不仅适用于半导体制造用的曝光装置，也可适用于在角型的玻璃板上转印液晶显示组件图案的液晶用的曝光装置，用于制造等离子体显示器和有机EL等显示装置、薄膜磁头、摄像组件(CCD等)、微型机器、DNA芯片等的曝光装置。
不只是半导体组件等微型组件，在为了制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的光栅或掩膜而将电路图案向玻璃基板或硅片等进行转印的曝光装置中也可应用本发明。这里，在使用DUV(远紫外线)光和VUV(真空紫外线)光等曝光装置中一般使用透过型光栅，作为光栅基板使用石英玻璃、掺杂有氟的石英玻璃、萤石、氟化镁或水晶等。而且，最贴近方式的X线曝光装置或电子束曝光装置等使用透过型掩膜(模板掩膜、膜片掩膜)，作为掩膜基板使用硅片等。
半导体组件经过进行组件的机能·性能设计的步骤、制作基于该设计步骤的光栅的步骤、由硅材料制作晶片的步骤、借由前述实施形态的曝光装置将光栅的图案向晶片上转写的步骤、组件组装步骤(包括切割工程、焊接工程、封装工程)、检查步骤等被制造。
如以上所说明的，当利用本发明时，具有能够提供除振或制振性能良好的新型防振装置的效果。
当利用本发明的平台装置时，具有能够极力抑制振动的发生的效果。
当利用本发明的曝光装置时，具有能够实现高精度的曝光的效果。

Claims (33)

1.一种防振装置，其特征在于包括：
保持物体的保持构件；
借由一个内部气体的压力而在重力方向支持前述保持构件的第一气体室；
在与前述第一气体室连通，且具有较前述第一气体室小的内容积的第二气体室；
变化前述第二气体室的内容积而使前述第一气体室的内容积变化的可动装置；以及
根据前述第一气体室和前述第二气体室至少一方的状态变化，驱动前述可动装置而调整前述保持构件的前述重力方向的位置的调整装置。
2.如权利要求1所述的防振装置，其特征在于前述调整装置具有驱动前述可动装置的电磁调节器。
3.如权利要求1或2所述的防振装置，其特征在于前述可动装置具有较前述物体轻的重力部件。
4.如权利要求1所述的防振装置，其特征在于前述第二气体室是借由圆柱形的第一汽缸以及沿该第一汽缸的内周面移动的前述可动装置而形成。
5.如权利要求4所述的防振装置，其特征在于前述调整装置具有的气压驱动装置，借由抵抗前述第二气体室内的前述内部气体的压力的气体的压力而驱动前述可动装置。
6.如权利要求5所述的防振装置，其特征在于：
前述可动装置在沿前述第一汽缸的内周面移动的部分的相反一侧的末端具有活塞部；且
前述气压驱动装置具有供前述活塞部沿内周面移动的第二汽缸、把气体供给至由前述活塞部和前述第二汽缸所形成的气体室内的气体供给装置。
7.如权利要求6所述的防振装置，其特征在于前述第二汽缸连接于前述第一汽缸。
8.如权利要求1所述的防振装置，其特征在于前述可动装置是通过气体静压轴承而移动。
9.如权利要求1所述的防振装置，其特征在于前述第一气体室的构成包括：
安装于基底构件，可将支点向中心倾倒的筒状体；以及
前述保持构件，由通过所定的间隙配置于该筒状体的内面侧及外面侧的任一侧，可沿前述筒状体滑动设置，且内部底面被作为承受前述气体压力的受压面的筒状体所构成；
其中前述保持构件是对于前述物体以容许起伏方向的转动的状态被连结。
10.如权利要求9所述的防振装置，其特征在于在前述筒状体及前述保持构件中的内周侧的筒状体的周壁上，沿周方向以所定间隔形成有复数个从前述第一气体室到达前述空隙的微小开口。
11.如权利要求1所述的防振装置，其特征在于前述第一气体室借由上面开口的罩壳，以及通过第一弹性构件连接于该罩壳的开口末端的前述保持构件而被区隔出。
12.如权利要求11所述的防振装置，其特征在于前述罩壳的底壁的构成包括：
通过所定的间隙呈对向的第一底壁构件和第二底壁构件；以及
将这两底壁构件相互连接，并维持前述间隙的环状的弹性构件。
13.如权利要求11所述的防振装置，其特征在于前述罩壳的底壁的构成包括：
在中央部有开口的框形构件；
在该框形构件的底面侧通过所定的间隙对向配置的板状构件；以及
设于前述框形构件和前述板状构件之间，维持前述所定的间隙的气体静压轴承装置。
14.如权利要求11所述的防振装置，其特征在于前述保持构件的构成包括：
通过前述第一弹性构件以悬挂支持状态被支持在前述罩壳的前述开口末端的阶梯筒状的第一构件；以及
通过环状的第二弹性构件连接于该第一构件的底部开口部，且下端具有承受前述第一气体室内的内部气体的压力的受压部的第二构件；
其中前述第二构件具有以前述罩壳的外部保持前述物体的保持部、前述受压部，以及插入连接该受压部和前述保持部的前述第一构件的内部的沿上下方向延伸的轴部。
15.如权利要求14所述的防振装置，其特征在于前述第一构件由一个第一筒状构件及一个第二筒状构件而构成；
其中该第一筒状构件是通过前述第二弹性构件被连接在前述受压部，并和前述受压部一起利用前述气体的压力被浮起支持；且
该第二筒状构件具有通过所定的间隙与该第一筒状构件的上端面呈对向的下端面，且该第二筒状构件的上端部是通过前述第一弹性构件被连接于前述罩壳的前述开口末端。
16.如权利要求14所述的防振装置，其特征在于前述第一构件由一个第一筒状构件及一个第二筒状构件而构成；
其中该第一筒状构件是通过前述第二弹性构件被连接在前述受压部，并和前述受压部一起利用前述气体的压力被浮起支持；且
该第二筒状构件是通过所定的间隙与该第一筒状构件的内周面及外周面的任一部分呈对向，且该第二筒状构件的上端部是通过前述第一弹性构件被连接于前述罩壳的前述开口末端。
17.如权利要求16所述的防振装置，其特征在于在前述第一筒状构件及前述第二筒状构件中的外周侧的一个筒状构件上，在与另一筒状构件对向的位置处形成有微小开口以使壁面呈贯通的状态。
18.一种防振装置，其特征在于包括：
上面开口的罩壳；
在前述罩壳的前述开口末端，在通过环状的第一弹性构件被支持的上下方向延伸的第一筒状体；
通过所定的空隙被配置于前述第一筒状体的内侧及外侧之一，且可对前述第一筒状体相对滑动的第二筒状体；以及
一个摇动构件，通过环状的第二弹性构件被连接于前述第二筒状体的下端，在该摇动构件的下端具有与前述罩壳、前述第一弹性构件、前述第一筒状体及前述第二弹性构件一起区隔出气体室的受压部，借由作用于前述受压部的底面的前述气体室内的气体压力被浮起支持，且该摇动构件的上端部是前述罩壳的外部，作为从下方支持前述物体的支持部。
19.如权利要求18所述的防振装置，其特征在于，在前述第一及第二筒状体中的外周侧的筒状体上，沿周方向以所定间隔形成有连通前述气体室和前述空隙的微小开口。
20.如权利要求18或19所述的防振装置，其特征在于前述第一、第二筒状体都由圆筒构件形成，更包括：
一个第一支持装置，包括：
架设于前述第一筒状体的上端的一侧和另一侧的第一支持构件，
一个支持臂，架设于前述罩壳的开口末端的一侧和另一侧，并具有从下方支持前述支持构件的中央的支持点；以及
一个连结装置，在前述支持点与前述第一支持构件成一体以只容许前述第一筒状体旋转的状态对前述支持臂进行连结；以及
一个第二支持装置，包括：
架设于前述第二筒状体的内部的第二支持构件；
一个连结装置，在该第二支持构件的中央的连结点以只容许前述摇动构件的受压部旋转的状态与前述第二支持构件进行连结。
21.如权利要求20所述的防振装置，其特征在于，前述的连结点被设定于与前述第二弹性构件的旋转中心一致的位置。
22.如权利要求21所述的防振装置，其特征在于，在前述支持臂和前述第一支持构件之间，设置一个弹性推动构件，往对前述支持臂的前述第一筒状体的旋转的抑制方向推动前述支持臂。
23.如权利要求18所述的防振装置，其特征在于更具备有一个调整装置，包括一个别室与前述气体室连通并具有较前述气体室小的内容积，借由构成该别室一部分的可动装置的位移而使前述内容积可变，借由依据前述可动装置的位移的前述别室及与此连通的前述气体室的内容积的位移，调整前述摇动构件的重力方向的位置。
24.如权利要求23所述的防振装置，其特征在于，前述别室借由圆柱形的汽缸、沿该汽缸的内周面移动的前述可动装置而形成。
25.如权利要求23所述的防振装置，其特征在于前述可动装置具有较前述物体轻的重力构件。
26.如权利要求23所述的防振装置，其特征在于前述调整装置具有驱动前述可动装置的电磁调节器。
27.一种平台装置，其特征在于包括：
可在所定方向移动的平台；
配置于前述平台的上方的工作台；
含有在前述平台上保持前述工作台的至少3个如权利要求9或10所述的防振装置。
28.如权利要求27所述的平台装置，其特征在于前述各防振装置为权利要求9或10所述的防振装置的任意一个。
29.如权利要求27所述的平台装置，其特征在于还包括：
使前述工作台在水平面内微小驱动的第一微小驱动装置；
使上述工作台向与前述水平面直交的方向及对水平面的倾斜方向微小驱动的第二微小驱动装置。
30.一种曝光装置，借由能量波束使感光物体曝光并在前述感光物体上形成所定的图案，其特征在于包括：
将构成进行前述曝光的曝光装置主体的至少一部分的构成部分，至少在三点进行保持的至少三个如权利要求1～8、11～26中任意一项所述的防振装置。
31.如权利要求30所述的曝光装置，其特征在于前述曝光装置主体具有：
保持形成有前述图案的掩膜的掩膜平台；
载置前述感光物体的物体平台；以及
包含形成有前述掩膜平台的移动面的掩膜平台基座，及形成有前述掩膜平台的移动面的物体平台基座的机身；
其中前述机身的一部分或全体借由前述防振装置而被保持。
32.如权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，前述曝光装置主体具有将通过前述掩膜的前述能量波束投射于前述感光物体上的投影光学系统，该投影光学系统可借由前述防振装置而被保持。
33.如权利要求30所述的曝光装置，其特征在于，前述掩膜平台和物体平台的至少一方是由权利要求27～29中任意一项所述的平台装置而构成。
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