CN1379250A - 带有弱反射色的抗反射基片 - Google Patents

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Abstract

本文提供了一种抗反射基片,该抗反射基片具有一个基部;包括高折射率层(具有从1.6到1.8范围内的折射率)和低折射率层(具有从1.3到1.5范围内的折射率)的抗反射层,这两个折射率层都按这一顺序被放在基部的一个侧表面上;和包括放在基部的另一个侧表面上的低折射率层(具有从1.4到1.5范围内的折射率)的抗反射层。该抗反射基片表现出了极好的抗反射性能,具有反射光的弱干扰色,并能够提供几乎没有杂色图案的屏幕图象。

Description

带有弱反射色的抗反射基片
技术领域
本发明涉及抗反射基片。更为具体的说，本发明涉及带有弱反射干涉色的抗反射基片。
背景技术
将抗反射层放置在其基部上的抗反射基片已经被广泛用作光学部件。例如，一种已知的包括其基部和抗反射层的抗反射基片，其中该抗反射层包括放置在基部表面上的低折射率层和抗反射基片，该抗反射基片包括其基部和抗反射层，其中该抗反射层又包括高折射率层和低折射率层，这两个层均按这一顺序被叠置在基部的表面上。本文所使用的高折射率层是一个折射率比基部的折射率高的层，低折射率层是一个折射率比高折射率层的折射率低的层。包括两个层，即高和低折射率层的抗反射层在独立单元中起抗反射作用。高和低折射率层的厚度通常可被分别调整，从而通过将折射率(n)乘以厚度(d)得到的这些层的光学膜的厚度(n×d)约为可见光波长(λ)的1/4倍(λ/4)或1/2倍(λ/2)。
现在已经知道包括两个高和低折射率层的抗反射层有问题，因为该抗反射层在具有良好抗反射性能的同时具有强反射干涉色。也就是说，当处于某一波长(λ)可见光的反射率随着两个层之间的折射率差别的增加而降低时，具有的波长不是波长(λ)的可见光的反射率同时增加，这导致这样的问题，即反射光干涉并且抗反射层在蓝色或紫色中被浓厚着色，从而使屏幕图象等看起来与原有图象具有不同的颜色。此外，如此强的反射干涉色还导致另一个问题，也就是即使这些层的厚度只有微小变化，反射干涉色也会从红色变到紫色，或者进一步变到蓝色。由于这样一种干涉色的变化，屏幕图象等看起来为带有不规则色的杂色图案且具有不好的外观。另一方面，虽然包括单一低折射率层的抗反射层具有带半色调的弱反射干涉色，但抗反射层还是具有较差的抗反射性能。
发明内容
本发明的发明者对不仅表现出良好抗反射性能的而且也具有降低的干涉色的抗反射基片进行了研究。其结果是，本发明的发明者发现包括基部、具有低折射率层的抗反射层和具有高和低折射率层的抗反射层的抗反射基片能够使具有良好抗反射性能的抗反射基片带有弱干涉色。本发明是在上述发现的基础上完成的。
本发明提供了一种抗反射基片，该基片包括：
基部；
抗反射层，该抗反射层包括具有从1.6到1.8范围内的折射率的高折射率层和具有从1.3到1.5范围内的折射率的低折射率层，其中高和低折射率层按这一顺序被放置在基部的一个侧表面上；和
抗反射层，该抗反射层包括低折射率层，其中该低折射率层具有从1.4到1.5范围内的折射率并被放置在基部的另一个侧表面上。
附图说明
图1是本发明抗反射基片的一个实例的剖视简图。
图2是本发明整个抗反射基片的反射光谱(见例1)。
图3是包括高和低折射率层的抗反射层的反射光谱，其中该抗反射层设置在本发明的抗反射基片上(见例1)。
图4是包括低折射率层的抗反射层的反射光谱，其中该抗反射层设置在本发明的抗反射基片上(见例1)。
图5是在其表面两侧都具有高和低折射率层的整个抗反射基片的反射光谱(见比较例1)。
图6是具有高和低折射率层的抗反射层的反射光谱，其中该抗反射层设置在抗反射基片上(见比较例1)。
图7是在其表面两侧都具有高和低折射率层的整个抗反射基片的反射光谱(见比较例2)。
图8是具有低折射率层的抗反射层的反射光谱，其中该抗反射层设置在抗反射基片上(见比较例2)。
具体实施方式
本发明的抗反射基片包括：
基部；
抗反射层，该抗反射层包括高折射率层和低折射率层，其中这两个折射率层都按这一顺序被放置在基部的一个侧表面上；和
抗反射层，该抗反射层包括低折射率层，并被放置在基部的另一个侧表面上。
如上所述，本文所用的高折射率层是一个具有比将与该高反射率层一同使用的基部的折射率高的折射率的层，本文所用的低折射率层是一个具有比将与该低反射率层一同使用的高折射率层的折射率低的折射率的层。
本发明中所用的基部可以是任何一种传统的基部，同时该基部的材料不受限制。例如，该基部可以是例如由玻璃制成的无机基部，或者是例如由树脂制成的有机基部。用于有机基部的树脂的实例包括聚酯树脂，例如，丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂/苯乙烯-丙烯酸共聚物树脂、聚碳酸酯树脂和聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂以及纤维素树脂，例如三乙酰纤维素。该基部可以是透明的和/或可以用例如色素和染料的着色剂着色。此外，该基部可以包含添加剂，例如，防氧化剂和紫外线吸收剂。该基部的形状不受限制，可以是一种板状的或是膜状的基部。该基部可以具有一个平的表面；带有可由压纹抛光加工而成的凹陷和突起的表面；或者例如凹透镜或凸透镜表面的凹面或凸面。该基部的厚度不受限制，可以在大约0.5mm到20mm的范围内(对于板状基部)或者在大约0.01mm到0.8mm的范围内(对于膜状基部)。
用于本发明的抗反射层(将在下文进行说明)可以被直接设置在这样的基部上。或者，可以将该抗反射层设置在具有至少一个层的基部上，而不是设置在它们之间的抗反射层上。例如，硬涂层(或抗破坏层)被设置在基部的至少一个表面上，然后用于本发明的抗反射层被设置在硬涂层上。硬涂层的放置提高了设置在其上的抗反射层的粘结，从而防止抗反射层从基部上剥落，同时也提高了抗反射层的耐磨性。硬涂层的厚度可以在大约1μm到大约50μm的范围内。当硬涂层的厚度太小时，硬涂层的性能，例如，表面硬度的改善可能会不足，并且生成的抗反射基片的反射率可能远离设计的反射率。另一方面，当硬涂层的厚度太大时，容易在硬涂层中产生例如破裂或裂纹这样的缺陷。
用于本发明的硬涂层可以包含各种添加剂，例如抗氧化剂、稳定剂、着色剂、聚合引发剂和均化剂。还有，硬涂层可包含有传导性的细颗料和/或表面活性剂以提供抗静电性能。此外，硬涂层还可以包含其它各种添加剂和细颗粒等以提高各种物理性能。
用于本发明的硬涂层可以由已知的方式得到。例如，将包括可凝固的化合物和溶剂的硬涂料涂在基部的表面上以在其上形成一个层，然后该层被干燥和凝固以形成硬涂层。
本发明的抗反射基片包括直接或间接设置在带有至少一个层(例如硬涂层)的基部上，而不是设置在它们之间的抗反射层上的抗反射层。这两个抗反射层中的一个层包括至少一个层并被设置在基部一个侧表面上。另一个抗反射层包括具有彼此不同折射率的数个层并被设置在基部另一个侧表面上。
在本发明中，至少两个层，即高折射率层和低折射率层都按这一顺序被设置在基部将放有抗反射层的一个侧表面上。高折射率层可以具有1.6到1.8范围内且包括这两个限值的折射率。高折射率层可以通过这样一种方法被设置在基部上，即在该方法中包含可凝固化合物和溶剂的溶液被涂在基部上，然后干燥以去除溶剂，然后再凝固以制备最终的层。用于制备高折射率层的溶液可以是包含溶剂和可聚合化合物的溶液，该溶液能够提供其折射率在1.6到1.8上部范围内的层；具有1.6或更高折射率的包含溶剂、可聚合化合物和微粒的溶液；或这些溶液的混合液。
能够提供其折射率在1.6到1.8上范围内的层的可聚合化合物的实例包括具有芳环、硫原子、溴原子等的可聚合有机化合物。具体而言，可聚合化合物的实例可以是三溴苯异丁烯酸酯、(4-甲基丙烯酰基丙硫基)二硫化物等。可聚合化合物可以被单独使用，或者作为混合物使用。此外，可聚合化合物可以与具有比可聚合化合物折射率低的折射率且具有高交联性的化合物一起使用，目的是为了增强生成层和/或调节以得到理想的折射率。这种具有相对低折射率的可交联化合物的实例可以包括具有至少两个可聚合官能团的化合物。具体而言，这种可交联化合物的实例可以是至少带有两个可聚合碳-碳双键连接的化合物，例如，带有至少从丙烯酸基和丙烯酸酯基中选出的两个官能团的多官能丙烯酸酯(或偏丙烯酸酯)官能化合物；和有机硅化合物，例如，烷氧基硅烷化合物、卤硅烷化合物、酰氧基硅烷化合物和硅氮烷化合物。
具有1.6或更高折射率的微粒的实例包括无机微粒，例如，氧化钛微粒、氧化锡微粒、氧化锑微粒、氧化铟微粒、氧化锆微粒、氧化锌微粒等。这些微粒可以被单独使用或作为混合物使用。这些微粒最好具有1.8或更低的折射率。如上所述，这些微粒可以与可聚合化合物和任意的交联化合物一起使用，以提供一种用于高折射率层的溶液，该溶液被涂在基部上/上面，然后被干燥和凝固。
可以根据其上涂有溶剂的基部的特性以及生成层的凝固条件来选择包含在用于高折射率层的溶液中的溶剂。高折射率层的厚度最好在大约0.01μm到0.5μm的范围内，同时也包括这两个限值。当厚度太小或太大时，对于高折射率层而言，将倾向于难以得到好的抗反射性。
本发明的抗反射基片具有至少两个低折射率层。这两个低折射率层中的一个层被设置在已经放有上述高折射率层的基部的一个侧表面，其中该低折射率层具1.3到1.5范围(包括这两个限值)内的折射率。另一个低折射率层被放在基部的另一个侧表面，其中该低折射率层具1.4到1.5范围(包括这两个限值)内的折射率。上述硬涂层可以被放在低折射率层和基部之间。这两个被分别放在基部相反侧的低折射率层可以由相同的或不同的材料制成，只要这两个层分别具有上述的折射率，即1.3到1.5范围的折射率和1.4到1.5范围的折射率。这两个低折射率层最好都具有1.45或更低的折射率。
可以用这样的方法来放置这些低折射率层，即在该方法中，将膜片连接在基部上/上面，其中该膜片包括分别具有1.3到1.5范围的折射率和1.4到1.5范围的折射率的树脂，或者用这样的方法来放置这些低折射率层，即，将包括这种树脂的涂层溶液涂在基部上/上面，然后再干燥。树脂的实例包括在其单体单元中具有氟原子的树脂。具体而言，树脂的实施例包括聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-乙烯共聚物、全氟聚醚等。
或者，可以用这样的方法来放置这些低折射率层，即在该方法中，将包括可聚合或可凝固化合物及溶剂的溶液涂在基部上/上面，干燥后去除溶剂，然后凝固以制备生成层。用于低折射率层的溶液可以是包含溶剂和能够提供其折射率在1.3到1.5范围内或1.4到1.5范围内的层上的可聚合或可凝固的化合物的溶液；包含溶剂、可聚合或可凝固的化合物和能够具有1.5或更低的折射率的微粒(这些微粒最好具有1.3到1.4且包括这两个限值的折射率)的溶液；或溶液的混合液。
能够提供其折射率在1.3到1.5范围内或1.4到1.5范围内的层上的可聚合或可凝固的化合物的实例包括有机硅化合物和具有可聚合官能团及氟原子的有机化合物。具有可聚合官能团及氟原子的有机化合物的实例包括2-(全氟丁基)丙烯酸乙酯、2-(全氟辛基)丙烯酸乙酯、2-(全氟丁基)异丁烯酸乙酯、2-(全氟辛基)异丁烯酸乙酯、2-(全氟辛基)乙基三甲氧基硅烷、2-(全氟丙基)乙基三甲氧基硅烷等。有机硅化合物的实例包括烷氧基硅烷化合物、酰氧基硅烷化合物、卤硅烷化合物和硅氮烷化合物等。有机硅化合物可以具有取代基，例如，烷基、芳基、乙烯基、烯丙基、含氧丙烯酰基、偏含氧丙烯酰基和环氧基、氨基以及巯基。可凝固有机硅化合物的实例包括烷氧基硅烷，例如，四甲氧基硅、四乙氧基甲硅烷、甲基三甲氧基硅烷、苯甲基三甲氧基硅烷、甲基四乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-异丁烯酸氧丙基三甲氧基硅烷、γ-异丁烯酸氧丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷和γ-环氧丙氧丙基甲基二甲氧基硅烷；卤硅烷化合物，例如，四氯化硅和甲基三氯化硅；硅氮烷化合物，例如，六甲基二硅氮烷；等。
可聚合或可凝固化合物可以单独使用或作为混合物使用。此外，可聚合或可凝固化合物可以与具有比可聚合或可凝固化合物折射率高的折射率且具有高交联性的化合物一起使用，以制备低折射率层，目的是为了增强生成层和/或调节以得到理想的折射率。这种具有高折射率的可交联化合物的实例可以包括具有至少两个可聚合官能团的化合物，这些化合物可与用于制备高折射率层的化合物相同。
具有1.5或更低折射率的微粒的实例包括氧化硅微粒、氟化镁微粒等。这些微粒可以单独使用，或作为混合物使用。如上所述，这样的微粒可以与可聚合和/或可交联的化合物一起使用以制造用于低折射率层的溶液，该溶液被施加在适当的表面上，然后干燥和凝固。
可以根据其上将涂有溶剂的基部的特性以及生成层的凝固条件选择用于低折射率层的溶剂。这两个低折射率层(其中一个层可以被与高折射率层一同放在基部的相同表面侧，另一层可以被放在与高折射率层相对的基部的表面侧)的厚度最好在大约0.01μm到大约0.5μm的范围内，同时也包括这两个限值。当厚度太小或太大时，对于低折射率层而言，将倾向于难以得到好的抗反射性。
应该指出的是，可以从体现独立放置的相应的层的最低反射率的波长测量每一个层的厚度，例如硬涂层的厚度、高折射率层的厚度、放在高折射率层上/上面的低折射率层的厚度和放在基部上与有高折射率层的一侧的相反的表面侧上的低折射率层的厚度，或者，也可以从处于某个波长范围内，例如400nm到800nm范围内的每一个层的反射光谱测量厚度。
如上所述，本发明中的抗反射基片在基部的一个表面上具有一个抗反射层，该抗反射层包括高折射率层和低折射率层，按这一顺序构成，即将选择层例如硬涂层放在基部和高折射率层之间，而在基部的另一个表面上具有一个抗反射层，该抗反射层包括中间夹有选择层例如硬涂层的低折射率层。特别是在包括高折射率层和低折射率层的抗反射层在高和低折射率层的折射率之间具有大的差值时，本发明具有优势。例如，人们已经知道当抗反射基片在高和低折射率层的折射率之间具有大的差值时，在具有包括高和低折射率层的抗反射层和低折射率层的抗反射基片之间具有反射干涉光的变色现象，从而使屏幕图象看起来象带有不规则颜色的杂色图案。然而，即使抗反射基片具有包括高和低折射率层的抗反射层，本发明中的抗反射基片也只有小的反射干涉光变色现象，并防止屏幕图象成为带有不规则颜色的杂色图案。具体而言，当高和低折射率层之间的折射率差值为0.25或更高时，这些优点将更为有效，在折射率差值为0.26或更高时，这些优点将最为有效。
当放在基部上/上面的一个低折射率层和放在(基部的表面)上与前述层相反的侧面上的另一个低折射率层可由相同材料制成，可以用这样的方法放置这两个低折射率层，即在该方法中，将高折射率层放在基部一个侧表面上之后，用于制备低折射率层的溶液被涂在基部的两个表面侧上，继而干燥和凝固。当这两个低折射率层由不同的材料制成时，可以用这样的方法放置这两个低折射率层，即在该方法中，将高折射率层放在基部一个侧表面上之后，不同种类的用于制备低折射率层的溶液分别被涂在基部的每一个表面侧上，继而干燥和凝固。或者，如上所述，一个或两个低折射率层可由树脂膜等制备。
可以用这样一种已知的方法，例如，微印刷涂法、辊涂法、浸涂法、旋涂法、脱模剂涂法、喷涂法和浇涂法将用于制备硬涂层、高折射率层和低折射率层的溶液涂在基部上面。当使用包括可聚合化合物和/或可凝固化合物制造高折射率层和低折射率层时，这些层通过在涂完溶液之后被完全干燥和凝固。可以根据用于制备高和低折射率层的溶液种类来选择凝固方法。凝固方法的实例包括伴有可见光、紫外线、电子束等的辐射法和加热法。可以在将用于低折射率层的溶液涂在其上并干燥之前进行高折射率层的凝固，或者在用于高折射率层的溶液被涂抹并干燥之后与低折射率层的凝固同时进行，然后再涂抹用于低折射率层的溶液并进行干燥。
现在参见图1对本发明抗反射基片的实例进行如下说明，该实例不能被认作是本发明范围的限定。图1是本发明抗反射基片的实例的剖视简图。在该实例中，高折射率层21和低折射率层22按这一顺序被粘在基部11的一个侧表面上以制备抗反射层20，而低折射率层25单独放在基部11的另一个侧表面上以制备另一个抗反射层。基部11可以是玻璃板或树脂板。在基部11的两个表面都放有硬涂层12、12。硬涂层12、12最好被分别放在基部11的两个表面上，当然这也不是必需的。在基部11的两个表面可以都没有硬涂层12，或者只在基部11的一个表面放有硬涂层12。高折射率层21具有1.6到1.8的折射率，低折射率层22具有1.3到1.5的折射率，低折射率层25具有1.4到1.5的折射率。
如上所述，本发明的抗反射基片表现出极好的抗反射性，并具有反射光的弱干涉色且能够提供一种几乎不带反射光的杂色图案的屏幕图象。因此，该抗反射基片适用于显示的应用场合，例如，投影电视的前面板、等离子显示器的前面板、液晶显示器最外前面板的一个元件；光学部件，例如，光学镜头、柔性焦距透镜和光导向板；橱窗玻璃等。
本文并入2001年3月29日提交的日本专利申请No.2001-96094全部公开部分中的说明书、权利要求书及摘要作为一个整体进行参考。
显而易见，可以对所述的本发明进行各种变型。但这样的变型都被考虑在本发明的思想和范围之内，同时，对于本领域的一个技术人员而言，所有的变型都将包含在后附的权利要求书中。
现在结合下文的实例对本发明进行更为详细的说明，这些实例不应当被认作是对本发明范围的限定。
应该指出的是，除非特殊说明，实例和比较实例中的材料的量用重量百分比表示。按如下方法测量实例和比较实例中得到的抗反射基片的反射光谱和放置在这些抗反射基片中的抗反射层的反射光谱：
对抗反射基片的后表面，即与(抗反射基片)的表面相反的表面进行后表面处理，将被测量的抗反射层被放在该表面上。在后表面处理之后，通过使用紫外线-可见光分光光度计“UV-3100”(Shimadzu公司制造)以5°的入射角测量抗反射层的绝对镜面反射光谱。以这样的方法，即用钢丝绒磨粗糙抗反射基片(将被处理)的表面，然后在其上涂以黑色涂料，继而干燥该带有涂料的粗糙表面，进行上述后表面处理。另一方面，在不进行后表面处理的情况下，使用上述分光光度计以5°的入射角测量包括放在抗反射基片两侧表面的抗反射层的整个抗反射基片的绝对镜面反射光谱。因此，在实例和比较实例中，得到的绝对镜面反射光谱被用作抗反射基片和抗反射层的反射光谱。
实例1
(1)硬涂层的放置
在包括传导性微粒的重量百分比为53.6的硬涂层剂(SumitomoOsaka Cement k.k.制造的“Sumicefine R-311”)中加入和混合重量百分比为6.9的二季戊四醇六丙烯酸酯(Shin-Nakamura Kagaku k.k.制造的“NK Ester A9530”)、重量百分比为10.8的甲基乙基酮和重量百分比为24.2的二丙酮以制成硬涂层剂。因此，因此将该制备的硬涂层剂按浸涂法以50cm/min的拉动速度涂在厚度为2mm的(Sumitomo化学有限公司制造的“Sumipecks E”)丙烯酸树脂板上，并在40℃的温度下干燥10分钟同时接受紫外光线的照射，以放置硬涂层。
(2)高折射率层的放置
在其表面的两侧都具有硬涂层的(由上述步骤(1)制备的)丙烯酸树脂板的一个侧表面上连接有保护膜(Sekisui化学有限公司制造的“保护带#622B”)，从而不至于形成涂在膜盒上的涂料组分膜。
通过混合重量百分比为0.58的季戊四醇三丙烯酸酯、重量百分比为0.09的四乙氧基甲硅烷、重量百分比为1.01的主要微粒平均直径为0.01μm的氧化锆微粒、重量百分比为0.12的1-羟基环己基苯酮(作为聚合引发剂)和重量百分比为98.2的异丁基乙醇(作为溶剂)制备用于高折射率层的涂料组分。将该涂料组分按浸涂法以50cm/min的拉动速度涂在(其上带有硬涂层和保护膜的)丙烯酸树脂板上，并在40℃的温度下干燥10分钟，随后接受紫外光线的照射，从而在(丙烯酸树脂板)没有保护膜的一个侧表面上形成高折射率层。该高折射率层的折射率为1.73。
(3)低折射率层的放置
通过混合重量百分比为2的四乙氧基甲硅烷、重量百分比为96的乙醇(作为溶剂)和重量百分比为2的0.1N酯酸溶液(即每1000cm3的水溶液中包含0.1摩尔的HCL)制备用于低折射率层的涂料组分。在从(由上述步骤(2)制备的)丙烯酸树脂板的表面上将保护膜剥掉以后，将用于低折射率层的涂料组分按浸涂法以50cm/min的拉动速度涂在丙烯酸树脂板上，在室温下干燥5分钟，并在80℃的温度下加热20分钟，从而在丙烯酸树脂板的两侧表面上都形成低折射率层。该低折射率层的折射率为1.44。
通过步骤(1)-(3)得到抗反射基片，该基片包括丙烯酸树脂板、硬涂层、高折射率层和低折射率层，其中硬涂层被放在丙烯酸树脂板的表面两侧上，按这一顺序粘接高折射率层和低折射率层在丙烯酸树脂板的一个侧表面上形成折射率层，粘接低折射率层在丙烯酸树脂板的另一个侧表面上形成另一个折射率层。
在图2中示出了被测量的整个抗反射基片的反射光谱。同样，在图3和4中分别示出了被测量的抗反射层，即包括高和低折射率层的抗反射层和包括低折射率层的抗反射层的反射光谱。得到的抗反射基片在其整个表面上具有接近半色调的蓝紫色的弱反射干扰色。由于该干扰色，所以很少看到或看不到杂色图案。
比较实例1
按与实例1相同的方法得到抗反射基片，只是在步骤(2)中，在丙烯酸树脂板的一个侧面上的硬涂层上涂上用于高折射率层的涂料组分以前没连接保护膜，从而在丙烯酸树脂板的两个侧面上都形成高折射率层。该得到的抗反射基片具有数个抗反射层，在丙烯酸树脂板的表面两侧上的每一个抗反射层都包括高和低折射率层及硬涂层。
在图5中示出了被测量的整个抗反射基片的反射光谱。在图6中示出了被测量的放在丙烯酸树脂板的一个侧表面上的抗反射层的反射光谱。该得到的抗反射基片在其整个表面都具有蓝紫色的强干扰色。由于该干扰色，所以看到非常明显的杂色图案。
比较实例2
执行实例1中的步骤(1)和(3)得到抗反射基片，该抗反射基片在没有高折射率层的丙烯酸树脂板的表面两侧上的硬涂层上具有低折射率层。
在图7中示出了被测量的整个抗反射基片的反射光谱。同样，在图8中示出了被测量的放在丙烯酸树脂板的一个侧表面上的抗反射层的反射光谱。得到的抗反射基片在其整个表面上具有几乎无色的蓝紫色的弱干扰色。由于该干扰色，所以很少看到或看不到杂色图案。然而，在抗反射基片表面上的反射率却很大，故基片周围事物的图象由此被反射在该抗反射基片上。该抗反射基片表现出不好的抗反射性能。

Claims (2)

1.一种抗反射基片，其包括：
基部；
抗反射层，其包括折射率在1.6到1.8范围内的高折射率层和折射率在1.3到1.5范围内的低折射率层，该高和低折射率层按这一顺序放置在基部的一个侧表面上；和
抗反射层，其包括低折射率层，该低折射率层具有在1.4到1.5范围内的折射率，并放置在基部的另一个侧表面上。
2.如权利要求1所述的抗反射基片，其特征在于，其在基部的至少一个侧表面上还包括至少一个硬涂层，该硬涂层放在基部和任何一个抗反射层之间。
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