JP6035871B2 - 反射防止積層体、その製造方法、及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は反射防止積層体、その製造方法、及び画像表示装置に関する。
アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂は工業用資材、建築用資材等の各種資材として広く使用されている。特に近年では、その透明性と耐衝撃性の観点から、ＣＲＴ、液晶テレビ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイの前面板等として使用されている。
近年、前面板においては各種機能の付与が求められている。その要求機能の一つとして反射防止機能が挙げられる。反射防止機能は、前面板に写る室内の蛍光灯等の反射光を低減し、画像をより鮮明に表示するための機能である。
反射防止機能の付与方法としては、例えば、特許文献１には、膜厚０．０１μｍ〜０．５μｍ、屈折率１．３〜１．５の低屈折率層、及び、膜厚０．０１μｍ〜０．５μｍ、屈折率１．６〜１．８の高屈折率層を積層した２層型の反射防止層が提案されている。しかしながら、この２層型の反射防止層は最低反射率を低くできる利点はあるものの、反射率曲線がＶ字型であって反射色が強いという問題があった。また、低屈折率層及び高屈折率層が非常に薄いため表面硬度が不足するという問題があった。
このような状況において、例えば、特許文献２には、１μｍ以上のハードコート層の上に、膜厚０．１μｍ程度、かつ屈折率１．２８〜１．４５の低屈折率層を１層積層した単層型の反射防止積層体が提案されている。この単層型の反射防止積層体は、反射率曲線がフラットであり反射色を薄くすることは可能であるが、最低反射率が高く、映りこみ抑制効果が少ないという問題があった。
一方、柔軟性の乏しい基材へ反射防止層を形成する手法として、一般的には特許文献１に記載されているようなディッピング方式が挙げられる。しかしながら、このディッピング方式にて表裏非対称な構成の反射防止積層体を形成しようとすると、表裏を別工程で処理する必要があり作業工程が増加してコストが高くなるという問題があった。
本発明の目的は、表層の耐擦傷性が良好で、反射色が薄く、映りこみが十分抑制された反射防止性能を有する反射防止積層体、及び、この反射防止積層体が取り付けられた画像表示装置を提供することである。また、本発明の目的は、表裏非対称構成の反射防止積層体の連続的製造方法を提供することである。
前記課題は以下の本発明〔１〕〜〔４〕によって解決される。
〔１〕 基材の表面及び裏面にそれぞれ前面反射防止層及び後面反射防止層が積層された反射防止積層体であって、前記前面反射防止層は高屈折率膜（１Ｈ）と低屈折率膜（１Ｌ）とを含む積層体であり、前記後面反射防止層は高屈折率膜（２Ｈ）と低屈折率膜（２Ｌ）とを含む積層体であり、前記高屈折率膜（１Ｈ）が、基材の表面へ積層されており、又前記高屈折率膜（２Ｈ）が、基材の裏面へ積層されており、これらの膜の厚みと屈折率が下記の式（１）〜（８）で示される条件を満たす反射防止積層体。
但し、Ｔ1H、Ｔ1L、Ｔ2H、及びＴ2Lは、それぞれ、高屈折率膜（１Ｈ）、低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）及び低屈折率膜（２Ｌ）の厚みであり、Ｎ1H、Ｎ1L、Ｎ2H、及びＮ2Lは、それぞれ、高屈折率膜（１Ｈ）、低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）及び低屈折率膜（２Ｌ）の屈折率である。
〔２〕 走行する基材の表面及び裏面に反射防止層を積層する反射防止積層体の製造方法であって、反射防止層を含む転写フィルムを用いた転写法によって、基材に対して前面反射防止層と後面反射防止層を積層する、前記〔１〕に記載の反射防止積層体の製造方法。
〔３〕 走行する基材の表面及び裏面に反射防止層を積層する反射防止積層体の製造方法であって、剥離用フィルム（１Ｐ）、低屈折率膜（１Ｌ）及び高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（１Ｔ）の前記高屈折率膜（１Ｈ）と、基材とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（１Ｔ）から剥離用フィルム（１Ｐ）を剥がして前面反射防止層と基材との積層体を形成する第１の工程と、剥離用フィルム（２Ｐ）、低屈折率膜（２Ｌ）及び高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（２Ｔ）の前記高屈折率膜（２Ｈ）と、前記積層体中の基材の裏面とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（２Ｔ）から剥離用フィルム（２Ｐ）を剥がして、後面反射防止層と前記積層体との積層体を形成する第２の工程を含む、前記〔１〕に記載の反射防止積層体の製造方法。
〔４〕 前記〔１〕に記載の反射防止積層体を有する画像表示装置であって、前面反射防止層が最表層に配置された画像表示装置。
本発明により、表層の耐擦傷性が良好で、反射色が薄く、映りこみが十分抑制された反射防止性能を有する反射防止積層体が提供される。この反射防止積層体は耐擦傷性、反射防止性が要求される画像表示装置の前面板等の用途に好適である。また、本発明により、表裏非対称構成の反射防止積層体を低コストで製造することが可能である。
〔反射防止積層体〕
本発明の反射防止積層体は、基材の表面に前面反射防止層が積層され、基材の裏面に後面反射防止層が積層されたものである。
本発明の反射防止積層体は、基材の表面に前面反射防止層が積層され、基材の裏面に後面反射防止層が積層されたものである。
［前面反射防止層］
前面反射防止層は、基材の表面に対して、高屈折率膜（１Ｈ）及び低屈折率膜（１Ｌ）がこの順で積層されたものである。高屈折率膜（１Ｈ）と基材との間に、接着層を設けることが好ましい。また、高屈折率膜（１Ｈ）と接着層又は基材との屈折率差が大きいと、これらの界面で光が反射して干渉模様が顕著に見えることから、高屈折率膜（１Ｈ）と接着層又は基材との間に中屈折率膜（１Ｍ）を配置することがより好ましい。その場合、中屈折率膜の屈折率Ｎ1Mは、Ｎ1Lより大きくＮ1Hより小さいことが好ましい。
前面反射防止層は、基材の表面に対して、高屈折率膜（１Ｈ）及び低屈折率膜（１Ｌ）がこの順で積層されたものである。高屈折率膜（１Ｈ）と基材との間に、接着層を設けることが好ましい。また、高屈折率膜（１Ｈ）と接着層又は基材との屈折率差が大きいと、これらの界面で光が反射して干渉模様が顕著に見えることから、高屈折率膜（１Ｈ）と接着層又は基材との間に中屈折率膜（１Ｍ）を配置することがより好ましい。その場合、中屈折率膜の屈折率Ｎ1Mは、Ｎ1Lより大きくＮ1Hより小さいことが好ましい。
高屈折率膜（１Ｈ）の膜厚（Ｔ1H）は、式（１）を満たすものである。この範囲内の膜厚とすることで、耐擦傷性が良好となり、画像表示装置の最表層に好適である。耐擦傷性評価の具体的手法としては、＃００００のスチールウールを装着した直径２５．４ｍｍの円形パッドを反射防止積層体の表面上に置き、２．０ｋｇの荷重下で、２０ｍｍの距離を２０回往復擦傷し、この擦傷によるヘイズ値の増分を測定する方法が挙げられる。本発明の反射防止積層体は、耐擦傷性評価における、ヘイズ値の増分が０．３％以下であることが好ましい。
低屈折率膜（１Ｌ）の膜厚（Ｔ1L）は、式（２）を満たすものである。高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率（Ｎ1H）は、式（５）を満たすものである。高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率（Ｎ1H）としては、中屈折率膜を積層する場合、中屈折率膜の屈折率（Ｎ1M）及び接着層の屈折率（ｎ1A）より高く、且つ式（５）及び式（９）を満たすことが干渉模様を抑制する観点から好ましい。低屈折率膜（１）の屈折率（Ｎ1L）は、式（６）を満たすものである。
中屈折率膜の膜厚（Ｔ1M）としては、反射防止積層体の表面の干渉模様を抑制する点で、式（１０）を満たすことが好ましい。この膜厚（Ｔ1M）は、３０ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がより好ましい。また、９０ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましい。
中屈折率膜の屈折率（Ｎ1M）は、式（９）を満たすことが、反射防止積層体の表面の干渉模様を抑制する点で好ましい。また、中屈折率膜の屈折率（Ｎ1M）は、好ましくは１．５以上１．６５以下である。
前面反射防止層が上記条件を満たすことで、後面反射防止層と組み合わせた際に、反射防止積層体として、反射色が薄く、映りこみが十分抑制される。
［後面反射防止層］
後面反射防止層は、基材の表面に対して、高屈折率膜（２Ｈ）及び低屈折率膜（２Ｌ）がこの順で積層されたものである。高屈折率膜（２Ｈ）と基材との間に、接着層を設けることが好ましい。高屈折率膜（２）の膜厚（Ｔ2H）は、式（３）を満たすものである。低屈折率膜（２）の膜厚（Ｔ2L）は、式（４）を満たすものである。高屈折率膜（２）の屈折率（Ｎ2H）は、式（７）を満たすものである。低屈折率膜（２）の屈折率（Ｎ2L）は、式（８）を満たすものである。
後面反射防止層は、基材の表面に対して、高屈折率膜（２Ｈ）及び低屈折率膜（２Ｌ）がこの順で積層されたものである。高屈折率膜（２Ｈ）と基材との間に、接着層を設けることが好ましい。高屈折率膜（２）の膜厚（Ｔ2H）は、式（３）を満たすものである。低屈折率膜（２）の膜厚（Ｔ2L）は、式（４）を満たすものである。高屈折率膜（２）の屈折率（Ｎ2H）は、式（７）を満たすものである。低屈折率膜（２）の屈折率（Ｎ2L）は、式（８）を満たすものである。
後面反射防止層が上記条件を満たすことで、前面反射防止層と組み合わせた際に、反射防止積層体として、反射色が薄く、映りこみが十分抑制される。
前述の前面反射防止層と後面反射防止層とを表裏に積層することで反射防止積層体は、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲でＪＩＳ Ｒ３１０６に示される測定法に準拠して測定される反射率曲線において、波長５００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲に最小反射率が存在し、且つこの最小反射率の値が１％〜３％となり、映りこみが十分抑制されかつ、反射色が薄い反射防止積層体を得ることが可能である。
反射色は背面に白板を設置してＪＩＳ Ｚ ８７２２に準拠して測定した際、反射色を抑制する観点で、「ａ＊」の値が−１．８〜―３．０が好ましく、「ｂ＊」の値が３．９〜５．５であることが好ましい。なお、白板は、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に記載の常用標準白色面を有するものである。また、暗室で測定を行うことが好ましい。
反射防止積層体の厚みとしては、機械的強度の点で、０．２ｍｍ以上が好ましく、生産性の点で、１０ｍｍ以下が好ましい。
本発明においては、反射防止積層体としては、低屈折率膜（１Ｌ）の表面の水接触角を９０度以上とし、トリオレイン接触角を５５度以上とする低屈折率膜（１Ｌ）で積層されたものが好ましい。上記の低屈折率膜（１Ｌ）とすることにより、指紋、皮脂、ファンデーション等の汚れが目立たない反射防止積層体を得ることができる傾向にある。
また、汚れ付着時の、反射色の際立った変色及び画像表示部材の視認性低下が抑制された反射防止積層体を得る観点から、反射防止積層体の表面の水接触角を９５度以上とし、トリオレイン接触角を６０度以上とすることが好ましい。
また、低屈折率膜（２Ｌ）の表面の水接触角は８０度以下、より好ましくは７０度以下、トリオレインの接触角は、４０度以下、より好ましくは２５度以下が、好ましい。後面反射防止層は画像表示装置の画像表示装置側に設置され、印刷などが施される。従って、前述の接触角とすることで、印刷時のインクのハジキなどがなく印刷性が良好である。
以下、本発明の反射防止積層体を構成する反射防止層及びそれらの製造方法等を詳細に説明する。尚、本発明において、「（メタ）アクリル」は「アクリル」及び「メタクリル」の少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」及び「メタクリレート」の少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル」及び「メタクリロイル」の少なくとも一方を意味する。また、各組成物中の固形分とは組成物中の希釈溶媒を除く成分をいう。
〔低屈折率膜（１Ｌ）〕
本発明において、低屈折率膜（１Ｌ）は反射防止積層体の表面に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。低屈折率膜（１Ｌ）の厚みは９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、屈折率は１．３５以上１．４５以下である。低屈折率膜（１Ｌ）としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマー（Ａ）単位を有する有機重合体と無機微粒子（Ｂ）を含有する材料から形成される膜が挙げられる。
本発明において、低屈折率膜（１Ｌ）は反射防止積層体の表面に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。低屈折率膜（１Ｌ）の厚みは９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、屈折率は１．３５以上１．４５以下である。低屈折率膜（１Ｌ）としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマー（Ａ）単位を有する有機重合体と無機微粒子（Ｂ）を含有する材料から形成される膜が挙げられる。
低屈折率膜（１Ｌ）を製造するための組成物としては、例えば、熱硬化性組成物及び活性エネルギー線硬化性組成物から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。低屈折率膜（１Ｌ）の屈折率が前記条件を満たすために、これらの組成物はフッ素原子含有硬化性モノマーを含有することが好ましい。
［モノマー（Ａ）］
モノマー（Ａ）としては、例えば、ジイソシアネートを３量体化させたトリイソシアネート（ｃ）（以下、「トリイソシアネート（ｃ）」という。）と活性水素含有化合物（ｄ）とを反応させることにより得られるパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマー（Ａ−１）（以下、「モノマー（Ａ−１）」という。）が挙げられる。
モノマー（Ａ）としては、例えば、ジイソシアネートを３量体化させたトリイソシアネート（ｃ）（以下、「トリイソシアネート（ｃ）」という。）と活性水素含有化合物（ｄ）とを反応させることにより得られるパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマー（Ａ−１）（以下、「モノマー（Ａ−１）」という。）が挙げられる。
トリイソシアネート（ｃ）を得るために使用されるジイソシアネートとしては、例えば以下のものが挙げられる。イソシアネート基が脂肪族骨格に結合したジイソシアネート（例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等）、及び、イソシアネート基が芳香族骨格に結合したジイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等）等。
活性水素含有化合物（ｄ）としては、例えば、水酸基等の活性水素を含む化合物が挙げられる。活性水素含有化合物（ｄ）の具体例としては、１つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル（ｄ−１）及び活性水素と炭素−炭素二重結合を有するモノマー（ｄ−２）が挙げられる。パーフルオロポリエーテル（ｄ−１）としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基及び１つの分子末端に１つの水酸基を有する化合物が挙げられる。パーフルオロポリエーテル（ｄ−１）の具体例としては、以下の化学式（１）に示される化合物が挙げられる。
但し、化学式（１）中、Ｘはフッ素原子、Ｙ及びＺはそれぞれフッ素原子又はトリフルオロメチル基を示す。ａは１〜１６の整数、ｃは０〜５の整数、ｂ、ｄ、ｅ、ｆ及びｇは０〜２００の整数、並びにｈは０〜１６の整数である。
化学式（１）において、ａ〜ｈの数値が小さいほど分子量が小さくなり、希釈溶媒等への溶解性が良好となる傾向がある。一方、前記数値が大きいほど反射防止積層体の防汚性が良好となる傾向がある。モノマー（ｄ−２）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
モノマー（Ａ−１）の合成は、例えば、トリイソシアネート（ｃ）の一つのイソシアネート基にパーフルオロポリエーテル（ｄ−１）を反応させ、残りの二つのイソシアネート基にモノマー（ｄ−２）を反応させることにより行うことができる。反応方法としては、トリイソシアネート（ｃ）に対して、パーフルオロポリエーテル（ｄ−１）及びモノマー（ｄ−２）を同時に反応させてもよいし、順次反応させてもよい。
モノマー（Ａ−１）の具体例としては、以下の化学式（２）に示される化合物が挙げられる。この化合物は撥水性及び撥油性が良好である観点から好ましい。
但し、化学式（２）中、Ｘはパーフルオロポリエーテル基を表す。
モノマー（Ａ）の他の例としては、イソシアネート基と１個又は２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｅ）と、分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル（ｆ）とを反応させて得られるモノマー（Ａ−２）が挙げられる。パーフルオロポリエーテル（ｆ）としては、例えば、以下の市販品を用いることができる。ソルベイソレクシス社製のＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｄ１０Ｈ、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｄ、ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ Ｄ４０００（いずれも商品名）等のパーフルオロポリエーテルジオール。化合物（ｅ）としては、例えば、以下の市販品を用いることができる。昭和電工（株）製のカレンズＢＥＩ（１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート）、カレンズＡＯＩ（２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート）及びカレンズＭＯＩ（２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）（いずれも商品名）。
化合物（Ａ−２）としては、例えば、化合物（ｅ）のイソシアネート基とパーフルオロポリエーテル（ｆ）の水酸基とが結合して得られる、一分子内に一つのパーフルオロポリエーテル基と一つ又は二つの（好ましくは二つの）ビニル基（又は（メタ）アクリロイルオキシ基）を独立に有する化合物が挙げられる。ここで「独立に」とは、パーフルオロポリエーテル基と（メタ）アクリロイルオキシ基が直接結合していないことを意味する。
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中に含まれるモノマー（Ａ）の含有量としては、希釈溶媒を除く全成分１００質量部中に１０質量部以上が好ましく、１２質量部以上がより好ましい。また、モノマー（Ａ）の含有量としては、５０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。上記の範囲内であれば、反射防止積層体の表面の撥水性、撥油性及び硬度が良好となる傾向にある。即ち、反射防止積層体の表面に存在する低屈折率膜（１Ｌ）の水接触角が９０度以上でトリオレイン接触角が５５度以上となる傾向にある。
［無機微粒子（Ｂ）］
本発明の低屈折率膜（１Ｌ）は、反射防止積層体の表面の撥水性、撥油性及び硬度が良好となる点並びに良好な反射防止性能を得る点で、無機微粒子（Ｂ）を含有することが好ましい。低屈折率膜（１）１００質量部中の無機微粒子（Ｂ）の含有量としては、２５〜９０質量部が好ましい。尚、無機微粒子（Ｂ）の「微粒子」とは、平均粒子径が１〜２００ｎｍの粒子を示す。平均粒子径は粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７１００（島津製作所（株）製）を用いて測定することができる。
本発明の低屈折率膜（１Ｌ）は、反射防止積層体の表面の撥水性、撥油性及び硬度が良好となる点並びに良好な反射防止性能を得る点で、無機微粒子（Ｂ）を含有することが好ましい。低屈折率膜（１）１００質量部中の無機微粒子（Ｂ）の含有量としては、２５〜９０質量部が好ましい。尚、無機微粒子（Ｂ）の「微粒子」とは、平均粒子径が１〜２００ｎｍの粒子を示す。平均粒子径は粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７１００（島津製作所（株）製）を用いて測定することができる。
無機微粒子（Ｂ）の具体例としては、コロイダルシリカ、多孔質シリカ、中空シリカ、フッ化マグネシウム、氷晶石等の低屈折率微粒子が挙げられる。これらの無機微粒子の屈折率は１．５以下であることが好ましい。また、後述するように、無機微粒子（Ｂ）の表面の加水分解処理が容易に行える点でシリカ微粒子が好ましく、屈折率が低く、反射率を低下させやすい点、さらには、反射防止積層体の表面の撥水性、撥油性が良好となる観点から、中空シリカがより好ましい。中空シリカの屈折率は１．２０〜１．４０であり、通常のシリカの屈折率１．４５〜１．４７に比較して低い。従って、本発明において低屈折率膜（１Ｌ）の屈折率を低下させるためには、中空シリカを使用することが好ましい。尚、屈折率はプリズムカプラー（メトリコン（株）製、モデル２０１０）を用いて５９４ｎｍレーザーにより測定することができる。
無機微粒子（Ｂ）としては、反射防止積層体の表面の撥水性及び撥油性が良好となる点、並びに低屈折率膜（１Ｌ）の強度を向上できる点で、粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で個別に処理したものが好ましい。「個別に処理」とは、無機微粒子（Ｂ）と、加水分解性シラン化合物などの表面処理剤のみで反応させることを意味し、酸、塩基などの加水分解、縮合反応に寄与する触媒以外の化合物を含んでいない状態で無機微粒子（Ｂ）の表面を処理することを意味する。
無機微粒子（Ｂ）の表面を加水分解性シラン化合物で処理する際のこれらの材料の使用比率としては、両材料の合計量を基準として無機微粒子が３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましい。また、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましい。この範囲内であれば、低屈折率膜（１Ｌ）の表面の撥水性、撥油性、耐擦傷性及び耐汗性が良好である。
加水分解性シラン化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及び３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン。
表面処理剤としては、加水分解性シラン化合物以外の他の化合物も併用できる。例えば、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等の公知の界面活性剤が挙げられる。不飽和結合を有する加水分解性シラン化合物を使用した場合、反射防止積層体の表面の低屈折率膜（１Ｌ）の撥水性及び撥油性が良好となるので、不飽和結合を有する加水分解性シラン化合物が好ましい。低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中には、必要に応じて分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を添加してもよい。
［架橋成分］
反射防止積層体の表面の耐擦傷性を良好にする観点から、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分１００質量部中に占める架橋成分の含有量は０〜３０質量部が好ましい。架橋成分としては、例えば、１モルの多価アルコールと２モル以上の（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体とから得られるエステル化物、及び、多価カルボン酸もしくはその無水物と多価アルコールと（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。
反射防止積層体の表面の耐擦傷性を良好にする観点から、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分１００質量部中に占める架橋成分の含有量は０〜３０質量部が好ましい。架橋成分としては、例えば、１モルの多価アルコールと２モル以上の（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体とから得られるエステル化物、及び、多価カルボン酸もしくはその無水物と多価アルコールと（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。
１モルの多価アルコールと２モル以上の（メタ）アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物の具体例としては、以下のものが挙げられる。ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキルジオールジ（メタ）アクリレート；並びに、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート等の３官能以上のポリオールポリ（メタ）アクリレート。
多価カルボン酸もしくはその無水物と多価アルコールと（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体とから得られるエステル化物において、多価カルボン酸もしくはその無水物と多価アルコールと（メタ）アクリル酸の組合せ（多価カルボン酸もしくはその無水物／多価アルコール／（メタ）アクリル酸）としては、例えば、以下のものが挙げられる。マロン酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、マロン酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、マロン酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、マロン酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、コハク酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、コハク酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、コハク酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、コハク酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、アジピン酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、アジピン酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、アジピン酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、アジピン酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、グルタル酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、グルタル酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、グルタル酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、グルタル酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、セバシン酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、セバシン酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、セバシン酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、セバシン酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、フマル酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、フマル酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、フマル酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、フマル酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、イタコン酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、イタコン酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、イタコン酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸、イタコン酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸／トリメチロールエタン／（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸／トリメチロールプロパン／（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸／グリセリン／（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸／ペンタエリスリトール／（メタ）アクリル酸。
架橋成分のその他の例としては、以下のものが挙げられる。ジイソシアネート（例えば、トリメチロールプロパントルイレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）の３量化により得られるポリイソシアネート１モルに対して活性水素を有するアクリル系モノマー（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、１５，３−プロパントリオール−１，３−ジ（メタ）アクリレート、３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等）３モル以上を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のジ（メタ）アクリレート又はトリ（メタ）アクリレート等のポリ［（メタ）アクリロイルオキシエチレン］イソシアヌレート；エポキシポリ（メタ）アクリレート；及びウレタンポリ（メタ）アクリレート。これらの架橋成分は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用できる。
［光開始剤］
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中には光開始剤を配合することができる。光開始剤としては、例えば以下のものが挙げられる。ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；並びに、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン化合物。
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中には光開始剤を配合することができる。光開始剤としては、例えば以下のものが挙げられる。ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；並びに、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン化合物。
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の紫外線照射による硬化性を良好にする観点から、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分１００質量部中に占める光開始剤の配合量は０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、１質量部以上が更に好ましい。また、低屈折率膜（１Ｌ）の色調を良好とする観点から、光開始剤の配合量は１０質量部以下が好ましく、７質量部以下がより好ましい。
［熱硬化剤］
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物が熱硬化性組成物である場合、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中には熱硬化剤を配合することができる。熱硬化剤としては、例えば以下のものが挙げられる。２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系重合開始剤；並びに、ラウロイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート等の有機過酸化物系重合開始剤。これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて使用できる。
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物が熱硬化性組成物である場合、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物中には熱硬化剤を配合することができる。熱硬化剤としては、例えば以下のものが挙げられる。２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系重合開始剤；並びに、ラウロイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート等の有機過酸化物系重合開始剤。これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて使用できる。
［各種添加剤］
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、ＨＡＬＳ等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。低屈折率膜（１Ｌ）の透明性を良好とする観点から、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の固形分１００質量部中に占める添加剤の配合量は１０質量部以下が好ましい。
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、ＨＡＬＳ等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。低屈折率膜（１Ｌ）の透明性を良好とする観点から、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の固形分１００質量部中に占める添加剤の配合量は１０質量部以下が好ましい。
［希釈溶媒］
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分濃度を調整するために、この組成物中に希釈溶媒を添加することができる。希釈溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、及び、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールが挙げられる。
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分濃度を調整するために、この組成物中に希釈溶媒を添加することができる。希釈溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、及び、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールが挙げられる。
低屈折率膜（１Ｌ）用の組成物の固形分濃度としては０．１〜２０質量％が好ましい。固形分濃度をこの範囲内とすることにより、組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、低屈折率膜（１Ｌ）の膜厚を所望の値にコントロールし易くなる傾向にある。
［低屈折率膜（１Ｌ）の形成方法］
低屈折率膜（１Ｌ）の形成方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。まず、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に塗付した後に乾燥して塗膜を形成する。次いで、得られた塗膜を硬化させて低屈折率膜（１Ｌ）を得る。
低屈折率膜（１Ｌ）の形成方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。まず、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に塗付した後に乾燥して塗膜を形成する。次いで、得られた塗膜を硬化させて低屈折率膜（１Ｌ）を得る。
低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に塗付する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。流延法、グラビアコート法、リバースグラビアコート法、バキュームスロットダイコート法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、フィルムカバー法、及び、ディッピング法。
低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。低屈折率膜（１Ｌ）用組成物が、熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。活性エネルギー線としては、例えば、電子線、放射線、及び紫外線が挙げられる。
活性エネルギー線として紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で紫外線照射することが、表面硬化性が向上し工程通過性が向上することから好ましい。酸素濃度としては１，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましく、３００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。また、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を硬化するための活性エネルギー線の照射条件としては、例えば、ピーク照度１００〜１，２００ｍＷ／ｃｍ2及び積算光量１００〜１，２００ｍＪ／ｃｍ2が挙げられる。この範囲内であれば、反射防止性能と耐擦傷性のバランスが良好となる傾向にある。
本発明においては、剥離用フィルムの表面に低屈折率膜（１Ｌ）を形成した後に後述する高屈折率膜（１Ｈ）が形成されるが、高屈折率膜（１Ｈ）が形成される時点の低屈折率膜（１Ｌ）は低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の完全硬化物であることが好ましいが、必要に応じてこの組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。
〔高屈折率膜（１Ｈ）〕
本発明において、高屈折率膜（１Ｈ）は、低屈折率膜（１Ｌ）との積層体として、前面反射防止層を構成するものである。高屈折率膜（１Ｈ）の厚みは６００ｎｍ以上であり、屈折率は１．５５以上１．６８以下である。高屈折率膜（１Ｈ）としては、例えば、多官能（メタ）アクリレートとアミノシランとの反応生成物である有機重合体と高屈折率金属酸化物微粒子を含有する材料から形成される膜が挙げられる。また、光開始剤の反応物なども含まれる。高屈折率金属酸化物微粒子の代わりに高屈折率有機化合物を用いることもできる。レベリング剤、着色剤などの添加剤を用いることもできる。
本発明において、高屈折率膜（１Ｈ）は、低屈折率膜（１Ｌ）との積層体として、前面反射防止層を構成するものである。高屈折率膜（１Ｈ）の厚みは６００ｎｍ以上であり、屈折率は１．５５以上１．６８以下である。高屈折率膜（１Ｈ）としては、例えば、多官能（メタ）アクリレートとアミノシランとの反応生成物である有機重合体と高屈折率金属酸化物微粒子を含有する材料から形成される膜が挙げられる。また、光開始剤の反応物なども含まれる。高屈折率金属酸化物微粒子の代わりに高屈折率有機化合物を用いることもできる。レベリング剤、着色剤などの添加剤を用いることもできる。
高屈折率膜（１Ｈ）を製造するための組成物としては、例えば、熱硬化性組成物及び活性エネルギー線硬化性組成物から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得るため、高屈折率膜（１Ｈ）用の組成物として、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノマー、アミノシラン、高屈折率金属酸化物微粒子、光開始剤及び希釈溶媒を含有する組成物が好ましい。高屈折率膜用の架橋成分としては低屈折率膜用の架橋成分と同様のものが挙げられる。
［アミノシラン］
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物は、耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得るために、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシランを含有することが好ましい。
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物は、耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得るために、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシランを含有することが好ましい。
反射防止積層体に良好な耐擦傷性を付与する観点から、高屈折率膜（１Ｈ）用の組成物の固形分１００質量部中に占めるアミノシランの含有量は、１質量部以上が好ましい。また、良好な反射防止機能を得るために、この含有量は、３０質量部以下が好ましい。
［高屈折率金属酸化物微粒子］
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物は、高屈折率膜（１Ｈ）の強度を向上させるため及び高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率を高めるために、高屈折率金属酸化物微粒子を含有することができる。高屈折率金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．５５〜２．０程度のものが好ましく、例えば以下のものが挙げられる。酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等。屈折率が高く透明性が良好な観点から、酸化ジルコニウムがより好ましい。
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物は、高屈折率膜（１Ｈ）の強度を向上させるため及び高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率を高めるために、高屈折率金属酸化物微粒子を含有することができる。高屈折率金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．５５〜２．０程度のものが好ましく、例えば以下のものが挙げられる。酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等。屈折率が高く透明性が良好な観点から、酸化ジルコニウムがより好ましい。
反射防止積層体に良好な耐擦傷性や反射防止機能を付与する観点から、高屈折率膜（１Ｈ）用の組成物の固形分１００質量部中に占める高屈折率金属酸化物微粒子の含有量は２０質量部以上が好ましい。また、反射防止積層体に良好な反射防止機能を付与する観点から、この含有量は８０質量部以下が好ましい。
また、高屈折率金属酸化物微粒子については、前記の無機微粒子（Ｂ）の表面を処理する際に使用される加水分解性シラン化合物と同様の化合物で表面処理することが好ましい。反射防止積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、表面処理の際の高屈折率金属酸化物微粒子と加水分解性シラン化合物の合計量中に占める高屈折率金属酸化物微粒子の使用量は２０〜８０質量％が好ましい。
高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率を調整する手法としては、例えば、架橋成分と高屈折率金属酸化物微粒子の含有比率を変化させる方法が挙げられる。即ち、高屈折率金属酸化物微粒子の含有量が多くなれば、高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率が上昇し、一方で、高屈折率金属酸化物微粒子の含有量が少なくなれば、高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率が低下する。
［高屈折率有機化合物］
また、高屈折率金属酸化物微粒子の代わりに、「高屈折率有機化合物」を添加して高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率を所望の値に調節しても良い。高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格、又はフルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。
また、高屈折率金属酸化物微粒子の代わりに、「高屈折率有機化合物」を添加して高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率を所望の値に調節しても良い。高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格、又はフルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。
フルオレン骨格を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル（株）製のオグソールＥＡ２００、ＥＡ１０００、ＥＡ−Ｆ５００３、ＥＡ−Ｆ５５０３及びＥＡ−Ｆ５５１０（いずれも商品名）が挙げられる。芳香族骨格を有する化合物としては、例えば、新中村化学工業（株）製のＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０及びＮＫエステルＡＢＥ−３００（いずれも商品名）が挙げられる。
［添加剤］
本発明においては、必要に応じて高屈折率膜（１Ｈ）用組成物に帯電防止成分を添加して高屈折率膜（１Ｈ）に帯電防止機能を付与することができる。その場合、反射防止積層体の表層の表面抵抗値は１０10Ω／□以下が好ましく、１０8Ω／□以下がより好ましい。
本発明においては、必要に応じて高屈折率膜（１Ｈ）用組成物に帯電防止成分を添加して高屈折率膜（１Ｈ）に帯電防止機能を付与することができる。その場合、反射防止積層体の表層の表面抵抗値は１０10Ω／□以下が好ましく、１０8Ω／□以下がより好ましい。
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物中には光開始剤を配合することができる。光開始剤の種類及び配合量については低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に配合する場合と同様の化合物及び配合量とすることができる。
また、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物が熱硬化性組成物である場合、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物中には熱硬化剤を配合することができる。熱硬化剤の種類及び配合量については低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に配合する場合と同様の化合物及び配合量とすることができる。
本発明においては、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、ＨＡＬＳ等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。高屈折率膜（１Ｈ）の透明性を良好にする観点から、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の固形分１００質量部中に占める添加剤の配合量は１０質量部以下が好ましい。
［希釈溶媒］
本発明においては、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の固形分濃度を調整するために、希釈溶媒を添加することができる。希釈溶媒は単独でも良いし、複数組み合わせても良い。高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の貯蔵安定性を良好とする観点から、希釈溶媒の２５℃における誘電率は１０．０以下であることが好ましい。誘電率を１０．０以下とすることで、室温で長時間放置（例えば２４時間以上）した高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を用いても、耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得ることが可能となる傾向にある。
本発明においては、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の固形分濃度を調整するために、希釈溶媒を添加することができる。希釈溶媒は単独でも良いし、複数組み合わせても良い。高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の貯蔵安定性を良好とする観点から、希釈溶媒の２５℃における誘電率は１０．０以下であることが好ましい。誘電率を１０．０以下とすることで、室温で長時間放置（例えば２４時間以上）した高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を用いても、耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得ることが可能となる傾向にある。
希釈溶媒の誘電率を１０．０以下とするためには、単独の希釈溶媒で誘電率１０．０以下としても良いし、複数の希釈溶媒を混合して誘電率１０．０以下としても良い。単独で誘電率が１０．０以下の希釈溶媒としては、例えば、トルエン（２．３８）、キシレン（２．４１）、酢酸ブチル（５．０２）及びクロロフォルム（４．９）が挙げられる。また、誘電率が１０．０以下の希釈溶媒と１０．０以上の希釈溶媒を組み合わせて混合希釈溶媒としたときの希釈溶媒の誘電率が１０．０以下となる例として、トルエンの含有量が４５質量％以上のトルエンとｉ−プロパノールの混合溶媒が挙げられる。
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の固形分濃度としては１〜５０質量％が好ましい。固形分濃度をこの範囲内とすることにより、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、高屈折率膜（１Ｈ）の厚みを所望の値にコントロールし易くなる傾向にある。
［高屈折率膜（１Ｈ）の形成方法］
高屈折率膜（１Ｈ）の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、高屈折率膜（１Ｈ）用の組成物を、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に積層された低屈折率膜（１Ｌ）の表面に塗付して高屈折率組成物の塗膜を形成する。高屈折率膜（１Ｈ）用組成物中に希釈溶媒が含有されている場合には希釈溶媒を揮発させて高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の塗膜を形成することができる。次いで、得られた塗膜を硬化させて高屈折率膜（１Ｈ）を得る。
高屈折率膜（１Ｈ）の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、高屈折率膜（１Ｈ）用の組成物を、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に積層された低屈折率膜（１Ｌ）の表面に塗付して高屈折率組成物の塗膜を形成する。高屈折率膜（１Ｈ）用組成物中に希釈溶媒が含有されている場合には希釈溶媒を揮発させて高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の塗膜を形成することができる。次いで、得られた塗膜を硬化させて高屈折率膜（１Ｈ）を得る。
高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を低屈折率膜（１Ｌ）の表面に塗付する方法としては、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を塗付する方法の場合と同様の方法が挙げられる。
塗膜を硬化させる方法としては、例えば、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物が熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。活性エネルギー線としては、紫外線が挙げられる。紫外線源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。活性エネルギー線の照射条件としては、例えば、空気存在下で、ピーク照度２００〜１，０００ｍＷ／ｃｍ2及び積算光量４００〜１，２００ｍＪ／ｃｍ2が挙げられる。この範囲内であれば、密着性、耐擦傷性及び耐湿試験後の外観のバランスが良好となる。高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を硬化する際の活性エネルギー線のエネルギーが低すぎると、高温多湿な環境、例えば、温度８０℃、相対湿度８５％の環境下で２４時間以上放置するような耐湿試験を実施すると、反射防止積層体の表面に粉噴きのような白いブリード物が発生し、外観が悪化することがある。
本発明においては、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の部分硬化物を併せて硬化させることができる。本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）の表面に高屈折率膜（１Ｈ）を形成した後に、任意選択で、後述する中屈折率膜が形成されるが、中屈折率膜が形成される時点において、高屈折率膜（１Ｈ）用の塗膜は完全硬化されていることが好ましいが、部分硬化物であってもよい。
［表面処理］
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）の表面に高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の塗膜を形成する際に、低屈折率膜（１Ｌ）と高屈折率膜（１Ｈ）との界面強度を向上させ、かつ、反射防止積層体の耐擦傷性を良好とするために、低屈折率膜（１Ｌ）の表面を紫外線照射、電子線照射、加熱処理、酸化材塗布、コロナ放電処理、プラズマ処理などの親水化処理を行ってから高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を塗布して塗膜を形成することが好ましい。親水化処理としては、反射防止積層体の耐擦傷性が良好となる観点から、コロナ放電処理や、プラズマ処理がより好ましい。
本発明においては、低屈折率膜（１Ｌ）の表面に高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の塗膜を形成する際に、低屈折率膜（１Ｌ）と高屈折率膜（１Ｈ）との界面強度を向上させ、かつ、反射防止積層体の耐擦傷性を良好とするために、低屈折率膜（１Ｌ）の表面を紫外線照射、電子線照射、加熱処理、酸化材塗布、コロナ放電処理、プラズマ処理などの親水化処理を行ってから高屈折率膜（１Ｈ）用組成物を塗布して塗膜を形成することが好ましい。親水化処理としては、反射防止積層体の耐擦傷性が良好となる観点から、コロナ放電処理や、プラズマ処理がより好ましい。
コロナ放電処理の方法としては、例えば、通常のコロナ放電処理装置を使用して処理する方法が挙げられる。コロナ放電処理の一例を以下に示す。電気絶縁されたベルトとベルト上方に近接させて配置した電極からなるコロナ放電処理装置を用い、低屈折率膜（１Ｌ）が形成された剥離用フィルムを、低屈折率膜（１Ｌ）面を上面としてベルト上に配置する。この状態でベルトを走行させて剥離用フィルムを電極下を通すことにより低屈折率膜（１Ｌ）面にコロナ放電処理を施す。
この時の低屈折率膜（１Ｌ）が形成された剥離用フィルムに対する照射エネルギーは１０〜２００Ｗ・分／ｍが好ましい。照射エネルギーを１０Ｗ・分／ｍ以上とすることにより低屈折率膜（１Ｌ）と高屈折率膜（１Ｈ）の接着性を良好とすることができる傾向にある。また、照射エネルギーを２００Ｗ・分／ｍ以下とすることにより低屈折率膜（１Ｌ）の外観を良好とすることができる傾向にある。また、低屈折率膜（１Ｌ）が形成された剥離用フィルムと電極とのクリアランスはコロナ放電を安定に発生させるために５ｍｍ以下が好ましい。
プラズマ処理は通常のプラズマ処理装置を使用して行うことができるが、大気圧プラズマ処理装置が操作上、簡便であることから好ましい。プラズマ処理法としては、例えば、リモート法及びダイレクト法が挙げられるが、均一な処理が得られる点でダイレクト法が好ましい。大気圧プラズマ処理装置の一例としては、処理用のチャンバー内に上部電極と下部電極からなる一対の対向電極を備え、少なくとも一方の電極の対向面が誘電体で被覆されたものが挙げられる。
上記の装置において、プラズマが発生する部位は、対向電極のいずれか一方のみに誘電体が被覆された場合には誘電体と電極の間であり、対向電極の両方に誘電体が被覆された場合には誘電体間である。このようなプラズマ処理装置の対向電極間に低屈折率膜（１Ｌ）が形成されたフィルムを配置し、電源部に高周波電力を印加して対向電極間にプラズマを発生させ、低屈折率膜（１Ｌ）の表面をプラズマ処理する。
対向電極の対向面間の距離（最短距離）は、処理される低屈折率膜（１Ｌ）が積層された剥離用フィルム（１Ｐ）の厚さ、被覆された誘電体の厚さ、印加される電圧の大きさ等を考慮して決定されるが、対向電極の一方のみに誘電体が被覆された場合又は対向電極の両方に誘電体が被覆された場合のいずれにおいても、５０ｍｍ以下であることが好ましい。最短距離が５０ｍｍ以下であると、均一な放電プラズマを発生させることができる傾向にある。
対向電極間に印加する高周波電力の周波数は、１ｋＨｚ以上が好ましい。また、この周波数は、１０ＭＨｚ以下が好ましく、５００ｋＨｚ以下がより好ましい。電力面密度としては２．０〜３０．０Ｗ／ｃｍ2が好ましい。周波数が１〜５００ｋＨｚの範囲内であれば、低屈折率膜（１Ｌ）が積層された剥離用フィルムのプラズマ処理時の変形や劣化が抑制される傾向にある。また、電力面密度が３０．０Ｗ／ｃｍ2以下であれば、低屈折率膜が積層された剥離用フィルムのプラズマ照射熱による変形を抑制することができる傾向にある。尚、電力面密度とは、一対の対向電極間に投入する電力をプラズマと接している一方の電極の表面積で割った値をいう。
〔中屈折率膜〕
本発明において、中屈折率膜（１Ｍ）は、基材と高屈折率膜（１Ｈ）との間において、任意選択で配置されるものであって、反射防止積層体の使用に際して干渉模様の発生を抑制する役割を有するものである。中屈折率膜の屈折率（Ｎ1M）は１．５〜１．６５が好ましい。
本発明において、中屈折率膜（１Ｍ）は、基材と高屈折率膜（１Ｈ）との間において、任意選択で配置されるものであって、反射防止積層体の使用に際して干渉模様の発生を抑制する役割を有するものである。中屈折率膜の屈折率（Ｎ1M）は１．５〜１．６５が好ましい。
中屈折率膜の原料となる組成物としては、例えば、熱硬化性組成物及び活性エネルギー線硬化性組成物から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。中屈折率膜用組成物の具体例としては、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有する組成物が挙げられる。架橋成分としては低屈折率（１Ｌ）用の架橋成分と同様のものが挙げられる。中屈折率膜用の組成物中には、中屈折率膜の強度を向上させるため及び中屈折率膜の屈折率を調整するために金属酸化物微粒子を添加することができる。金属酸化物微粒子としては、高屈折率膜（１Ｈ）用組成物中に含有される金属酸化物微粒子と同様のものが挙げられる。
中屈折率膜の屈折率が前記の式（９）を満たす範囲内において、中屈折率膜用組成物の固形分１００質量部中に占める金属酸化物微粒子の含有量は１５質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。また、良好な透明性を有する反射防止積層体を得る観点から、金属酸化物微粒子の含有量は６０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましい。
また、この金属酸化物微粒子は、前述の無機微粒子（Ｂ）の表面処理に使用される加水分解性シラン化合物と同様の化合物を用いて表面処理することが好ましい。反射防止積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能を良好にする観点から、さらには、中屈折率膜中に膜表層領域（ｓ１）、膜中央領域及び膜表層領域（ｓ２）を有する偏在層構造を形成する観点から、表面処理の際の加水分解性シラン化合物と中屈折率用金属酸化物微粒子の合計量中に占める金属酸化物微粒子の含有量は５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。また、良好な透明性を有する反射防止積層体を得る観点から、金属酸化物微粒子の含有量は８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。
中屈折率膜の屈折率を調整する手法としては、前述の高屈折率膜（１Ｈ）の屈折率の調整手法と同様の方法が挙げられる。即ち、必要に応じて前述の「高屈折率有機化合物」を添加して中屈折率膜の屈折率を所望の値に調節することができる。
中屈折率膜用組成物の製膜性を良好とする観点から、高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格又はフルオレン骨格を有する化合物が好ましい。フルオレン骨格等を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル（株）製のオグソールＥＡ２００、ＥＡ１０００、ＥＡ−Ｆ５００３、ＥＡ−Ｆ５５０３及びＥＡ−Ｆ５５１０（いずれも商品名）が挙げられる。
中屈折率膜の屈折率が前式（９）を満たす範囲内において、中屈折率膜用組成物の固形分１００質量部に占める高屈折率有機化合物の含有量は３０質量部以上が好ましく、４０質量部以上がより好ましい。また、良好な透明性を有する反射防止積層体を得る観点から、高屈折率有機化合物の含有量は８０質量部以下が好ましく、７０質量部以下がより好ましい。
中屈折率膜用組成物として、高屈折率有機化合物を用いて屈折率を調整する場合、ハジキ欠陥を抑制する観点から、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、アクリル系のレベリング剤が挙げられるが、後に形成される接着層をハジキなく製膜できる観点から、アクリル系のレベリング剤が好ましい。アクリル系のレベリング剤としては、例えば、ＢＹＫ（株）製のＢＹＫ３６１Ｎ、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３５２、ＢＹＫ３５４、ＢＹＫ３５５、ＢＹＫ３５６、ＢＹＫ３５８Ｎ、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ３８１、ＢＹＫ３９２及びＢＹＫ３９４が挙げられる。
本発明においては、必要に応じて中屈折率膜用組成物に帯電防止成分を添加して中屈折率膜に帯電防止機能を付与することができる。この場合、反射防止積層体の表層の表面抵抗値は１０10Ω／□以下が好ましく、１０8Ω／□以下がより好ましい。
中屈折率膜用組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、中屈折率膜用組成物中には光開始剤を配合することができる。光開始剤の種類及び配合量については低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に添加する光開始剤と同様の化合物及び配合量とすることができる。また、中屈折率膜用組成物が熱硬化性組成物である場合、中屈折率膜用組成物中には熱硬化剤を配合することができる。熱硬化剤の種類及び配合量については低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に配合する熱硬化剤と同様の化合物及び配合量とすることができる。
本発明においては、中屈折率膜用組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、ＨＡＬＳ等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。中屈折率膜の透明性を良好にする観点から、中屈折率組成物の固形分１００質量部に占める添加剤の配合量は１０質量部以下が好ましい。中屈折率膜用組成物には、耐擦傷性に優れた反射防止積層体を得る観点から、必要に応じて高屈折率膜（１Ｈ）用組成物に添加することができるアミノシランと同様の化合物を添加しても良い。
中屈折率膜用組成物の固形分濃度を調整するために、中屈折率膜用組成物中に希釈溶媒を添加することができる。希釈溶媒としては、中屈折率膜用組成物に金属酸化物微粒子を用いた場合、例えば、トルエン（揮発速度：２４０）、酢酸ブチル（揮発速度：１００）、メチルイソブチルケトン（揮発速度：１６５）、１−メトキシ−２−プロパノール（揮発速度：６６）及びイソプロパノール（揮発速度：１５０）が挙げられる。中屈折率膜中に膜表層領域（ｓ１）、膜中央領域（ｍ３）及び膜表層領域（ｓ２）を有する偏在層構造を形成する観点から、希釈溶媒全体中に占める揮発速度１００以下の希釈溶媒は、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。また、短時間で乾燥するために、即ち、生産効率を上げる観点から、この含有量は９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましい。尚、揮発速度は、酢酸ブチルを１００とした場合の常温での相対蒸発速度である。
中屈折率膜用組成物の固形分濃度は０．４〜２質量％が好ましい。中屈折率膜用組成物の固形分濃度をこの範囲内とすることにより、中屈折率膜用組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、中屈折率膜の厚みを所望の値にコントロールし易くなる傾向にある。
［金属酸化物微粒子含有膜］
中屈折率膜としては、例えば、金属酸化物微粒子が存在する２つの膜表層領域（ｓ１）及び（ｓ２）、並びに金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域（ｍ３）が形成されている金属酸化物微粒子含有膜が挙げられる。反射防止積層体の干渉模様の発生を抑制させる観点から、金属酸化物微粒子含有膜としては、図１に示すように、膜中央領域（ｍ３）の厚み（Ｔｂｉ及びＴｃｉ）並びに膜表層領域（ｓ１）の厚み（Ｔａｉ）及び膜表層領域（ｓ２）の厚み（Ｔｄｉ）が下記の式（１１）〜（１４）を満足し、且つ、膜厚方向に直交する方向１２００ｎｍの長さ当たりの膜中央領域の長さ（Ｌｉ）の合計の長さ（Ｌ）が２４０ｎｍ以上、好ましくは４８０ｎｍ以上であるものが好ましい。
中屈折率膜としては、例えば、金属酸化物微粒子が存在する２つの膜表層領域（ｓ１）及び（ｓ２）、並びに金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域（ｍ３）が形成されている金属酸化物微粒子含有膜が挙げられる。反射防止積層体の干渉模様の発生を抑制させる観点から、金属酸化物微粒子含有膜としては、図１に示すように、膜中央領域（ｍ３）の厚み（Ｔｂｉ及びＴｃｉ）並びに膜表層領域（ｓ１）の厚み（Ｔａｉ）及び膜表層領域（ｓ２）の厚み（Ｔｄｉ）が下記の式（１１）〜（１４）を満足し、且つ、膜厚方向に直交する方向１２００ｎｍの長さ当たりの膜中央領域の長さ（Ｌｉ）の合計の長さ（Ｌ）が２４０ｎｍ以上、好ましくは４８０ｎｍ以上であるものが好ましい。
尚、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向断面の構造は、反射防止積層体の厚み方向断面を無作為に切り出して得られる断面について透過型電子顕微鏡を用いて観察することができる。この写真に写っている膜の厚み方向に直交する任意の方向の長さ１２００ｎｍの部分について金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の合計の長さを算出することができる。また、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向の中心から、膜表層領域（ｓ１）及び膜表層領域（ｓ２）と膜中央領域（ｍ３）との界面までの距離（Ｔｂｉ及びＴｃｉ）並びに膜表層領域（ｓ１）の厚み（Ｔａｉ）及び膜表層領域（ｓ２）の厚み（Ｔｄｉ）の範囲を測定することができる。
［金属酸化物微粒子］
金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛及び五酸化アンチモンが挙げられる。また、金属酸化物微粒子については、無機微粒子（Ｂ）の場合と同様にして、目的に応じて粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で「個別に処理」したものを使用することができる。金属酸化物微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際のこれらの材料の使用比率としては、反射防止積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能を良好にする観点から、金属酸化物微粒子と加水分解性シラン化合物の合計１００質量部中に占める金属酸化物微粒子の含有量は２０〜８０質量部が好ましい。
金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛及び五酸化アンチモンが挙げられる。また、金属酸化物微粒子については、無機微粒子（Ｂ）の場合と同様にして、目的に応じて粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で「個別に処理」したものを使用することができる。金属酸化物微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際のこれらの材料の使用比率としては、反射防止積層体の表面の耐擦傷性や反射防止性能を良好にする観点から、金属酸化物微粒子と加水分解性シラン化合物の合計１００質量部中に占める金属酸化物微粒子の含有量は２０〜８０質量部が好ましい。
［膜表層領域（ｓ１）及び膜表層領域（ｓ２）］
膜表層領域（ｓ１）及び膜表層領域（ｓ２）は、膜中央領域（ｍ３）の両側に形成されている領域で、金属酸化物微粒子が存在する領域である。
膜表層領域（ｓ１）及び膜表層領域（ｓ２）は、膜中央領域（ｍ３）の両側に形成されている領域で、金属酸化物微粒子が存在する領域である。
膜表層領域（ｓ１）としては、図１におけるＴａ１、Ｔａ２で示される領域のように粒子が密に充填されている状態、及び、Ｔａｉで示される領域のように粒子が充填されていない空間を有する状態が挙げられる。同様に、膜表層領域（ｓ２）としては、図１におけるＴｄ１、Ｔｄｉで示される領域のように粒子が密に充填されている状態、及び、Ｔｄ２で示される領域のように粒子が充填されていない空間を有する状態が挙げられる。尚、Ｔａｉ（Ｔａ１、Ｔａ２、・・・）は、膜表層領域（ｓ１）の厚みを示し、Ｔｄｉ（Ｔｄ１、Ｔｄ２、・・・）は、膜表層領域（ｓ２）の厚みを示す。
［膜中央領域（ｍ３）］
膜中央領域は、図１に示すように、金属酸化物微粒子が存在しない領域であって、ＴｂｉとＴｃｉを併せた領域である。尚、Ｔｂｉ（Ｔｂ１、Ｔｂ２、・・・）は、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向の中心から膜表層領域（ｓ１）と膜中央領域（ｍ３）との界面までの膜中央領域の厚みを示す。また、Ｔｃｉ（Ｔｃ１、Ｔｃ２、・・・）は、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向の中心から膜表層領域（ｓ２）と膜中央領域（ｍ３）との界面までの膜中央領域の厚みを示す。
膜中央領域は、図１に示すように、金属酸化物微粒子が存在しない領域であって、ＴｂｉとＴｃｉを併せた領域である。尚、Ｔｂｉ（Ｔｂ１、Ｔｂ２、・・・）は、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向の中心から膜表層領域（ｓ１）と膜中央領域（ｍ３）との界面までの膜中央領域の厚みを示す。また、Ｔｃｉ（Ｔｃ１、Ｔｃ２、・・・）は、金属酸化物微粒子含有膜の厚み方向の中心から膜表層領域（ｓ２）と膜中央領域（ｍ３）との界面までの膜中央領域の厚みを示す。
［中屈折率膜の形成方法］
中屈折率膜（１Ｍ）の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に積層された高屈折率膜（１Ｈ）の表面に、中屈折率膜用組成物を塗付して塗膜を形成する。また、中屈折率膜用組成物中に希釈溶媒が含有されている場合には希釈溶媒を揮発させて塗膜を形成することができる。希釈溶媒を乾燥させる温度としては、中屈折率膜中に膜表層領域（ｓ１）、膜中央領域（ｍ３）、及び膜表層領域（ｓ２）を有する偏在層構造を形成させる観点から、５０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましい。また、希釈溶媒を乾燥させる温度としては１４０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。希釈溶媒を乾燥させる時間としては、中屈折率膜中に偏在層構造を形成し、残存希釈溶媒を除去する観点から、３０秒間以上が好ましく、１分間以上がより好ましく、１分３０秒間以上がさらに好ましい。また、希釈溶媒を乾燥させる時間としては、転写フィルムの生産性の観点から、５分間以下が好ましく、３分間以下がより好ましい。次いで、中屈折率膜用組成物の塗膜を硬化させて中屈折率膜を得ることによって、転写フィルム（１Ｐ）が製造される。
中屈折率膜（１Ｍ）の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。まず、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に積層された高屈折率膜（１Ｈ）の表面に、中屈折率膜用組成物を塗付して塗膜を形成する。また、中屈折率膜用組成物中に希釈溶媒が含有されている場合には希釈溶媒を揮発させて塗膜を形成することができる。希釈溶媒を乾燥させる温度としては、中屈折率膜中に膜表層領域（ｓ１）、膜中央領域（ｍ３）、及び膜表層領域（ｓ２）を有する偏在層構造を形成させる観点から、５０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましい。また、希釈溶媒を乾燥させる温度としては１４０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。希釈溶媒を乾燥させる時間としては、中屈折率膜中に偏在層構造を形成し、残存希釈溶媒を除去する観点から、３０秒間以上が好ましく、１分間以上がより好ましく、１分３０秒間以上がさらに好ましい。また、希釈溶媒を乾燥させる時間としては、転写フィルムの生産性の観点から、５分間以下が好ましく、３分間以下がより好ましい。次いで、中屈折率膜用組成物の塗膜を硬化させて中屈折率膜を得ることによって、転写フィルム（１Ｐ）が製造される。
本発明においては、高屈折率膜（１Ｈ）の表面に中屈折率膜（１Ｍ）用組成物の塗膜を形成する際に、高屈折率膜（１Ｈ）と中屈折率膜（１Ｍ）との界面強度を向上させ、反射防止積層体の耐擦傷性を良好とするために、高屈折率膜（１Ｈ）の表面をコロナ放電処理、プラズマ処理等の放電処理を実施することができる。これらのコロナ放電処理、プラズマ処理の方法及び条件としては、前述の低屈折率膜（１Ｌ）の表面処理（親水化処理）の場合と同様の方法及び条件が挙げられる。
中屈折率膜用組成物を高屈折率膜（１Ｈ）の表面に塗付する方法としては、剥離用フィルム（１Ｐ）の表面に低屈折率膜（１Ｌ）用組成物を塗付する方法と同様の方法が挙げられる。
中屈折率膜用組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、中屈折率膜用組成物が熱硬化性組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、中屈折率膜用組成物が活性エネルギー線硬化性組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。活性エネルギー線硬化の方法及び硬化条件としては高屈折率膜（１Ｈ）用組成物の活性エネルギー線による硬化の方法及び硬化条件と同様の方法及び条件が挙げられる。中屈折率膜用組成物の塗膜を硬化させる際に、剥離用フィルムの表面に形成された低屈折率膜（１Ｌ）用の塗膜及びまたは高屈折率膜（１Ｈ）用の塗膜が部分硬化物である場合、これらの塗膜を併せて硬化させることができる。
本発明においては、転写フィルム（１Ｔ）の高屈折率膜（１Ｈ）の表面に中屈折率膜（１Ｍ）を形成した後に、必要に応じて、後述する接着層が形成されるが、中屈折率膜の表面に接着層が形成される際、中屈折率膜は中屈折率膜用組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じて中屈折率膜用組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。
〔低屈折率膜（２Ｌ）〕
本発明において、低屈折率膜（２Ｌ）は反射防止積層体の裏面の最表層に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。
本発明において、低屈折率膜（２Ｌ）は反射防止積層体の裏面の最表層に形成されている層であり、反射防止機能を発現させるためのものである。
低屈折率膜（２Ｌ）の形成方法は、低屈折率膜（１Ｌ）の場合と同様の手法が挙げられる。低屈折率膜（２Ｌ）を形成するための、低屈折率膜（２Ｌ）用組成物としては、低屈折率膜（１Ｌ）用の架橋成分と無機微粒子（Ｂ）を含有するものが挙げられる。低屈折率膜（２Ｌ）の表面の水接触角を８０度以下、トリオレインの接触角を４０度以下とするため、低屈折率膜（２Ｌ）用組成物は、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物に使用されるモノマー（Ａ）やシリコーン化合物を、含有しないことが好ましい。
〔高屈折率膜（２Ｈ）〕
本発明において、高屈折率膜（２Ｈ）を構成する材料としては、例えば、高屈折率膜（１Ｈ）を構成する材料と同様のものが挙げられる。また、高屈折率膜（２Ｈ）は高屈折率膜（１Ｈ）の場合と同様の方法で製造することができる。
本発明において、高屈折率膜（２Ｈ）を構成する材料としては、例えば、高屈折率膜（１Ｈ）を構成する材料と同様のものが挙げられる。また、高屈折率膜（２Ｈ）は高屈折率膜（１Ｈ）の場合と同様の方法で製造することができる。
〔基材〕
本発明で使用される基材としては、例えば、有機樹脂基材及び無機基材が挙げられる。有機樹脂基材の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、メタクリル酸アルキル単位を主構成成分とする共重合体等のメタクリル樹脂；ポリスチレン、スチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂；環状ポリオレフィン等のオレフィン樹脂；ポリカーボネート等のポリカーボネート樹脂（以下、「ＰＣ樹脂」という）；並びに、ＰＣ樹脂とメタクリル樹脂、スチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂、水素添加されたスチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂との複層材；が挙げられる。無機基材の具体例としては、ガラスが挙げられる。
本発明で使用される基材としては、例えば、有機樹脂基材及び無機基材が挙げられる。有機樹脂基材の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、メタクリル酸アルキル単位を主構成成分とする共重合体等のメタクリル樹脂；ポリスチレン、スチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂；環状ポリオレフィン等のオレフィン樹脂；ポリカーボネート等のポリカーボネート樹脂（以下、「ＰＣ樹脂」という）；並びに、ＰＣ樹脂とメタクリル樹脂、スチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂、水素添加されたスチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂との複層材；が挙げられる。無機基材の具体例としては、ガラスが挙げられる。
基材には、必要に応じて着色剤、光拡散剤等の添加剤を含有することができる。また、基材は透明でも不透明でも良いが、基材側から紫外線照射を行える観点で透明であることが好ましい。基材の厚みは、特に限定されず、例えば０．２〜２０ｍｍである。目的に応じた厚みのフィルム状物又はシート状物を選択することができる。
〔転写フィルム〕
転写フィルム（１Ｔ）は、剥離用フィルムの少なくとも片面に低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された積層フィルムであり、高屈折率膜（１Ｈ）の上に中屈折率膜（１Ｍ）が積層されている構成であっても良い。転写フィルム（２Ｔ）は、剥離用フィルムの少なくとも片面に低屈折率膜（２Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された積層フィルムであり、高屈折率膜（２Ｈ）の上に中屈折率膜（２Ｍ）が積層されている構成であっても良い。転写フィルムの剥離用フィルムと接していない面には、必要に応じて公知の保護フィルムを積層することができる。
転写フィルム（１Ｔ）は、剥離用フィルムの少なくとも片面に低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された積層フィルムであり、高屈折率膜（１Ｈ）の上に中屈折率膜（１Ｍ）が積層されている構成であっても良い。転写フィルム（２Ｔ）は、剥離用フィルムの少なくとも片面に低屈折率膜（２Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された積層フィルムであり、高屈折率膜（２Ｈ）の上に中屈折率膜（２Ｍ）が積層されている構成であっても良い。転写フィルムの剥離用フィルムと接していない面には、必要に応じて公知の保護フィルムを積層することができる。
転写フィルムの製造方法としては、例えば、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜及び高屈折率膜、または更に中屈折率膜をこの順に積層する方法が挙げられる。中屈折率膜を含む転写フィルムの製造方法の例として、剥離用フィルムの片面に低屈折率膜を積層した後に高屈折率膜を積層し、次いで高屈折率膜の表面に、金属酸化物微粒子及び揮発速度が１００以下の溶媒を２０質量％以上含む溶媒を含有する組成物を塗布した後に１４０℃以下の温度で溶媒を乾燥させる方法が挙げられる。
本発明においては、転写フィルム（１Ｔ）中の高屈折率膜（１Ｈ）の厚み（Ｔ1H）、中屈折率膜の厚み（Ｔ1M）、及び接着層の屈折率（ｎ1A）は、前述の式（１）、式（９）及び式（１０）を満たすことが好ましい。これらの条件を満たすことにより、干渉模様が抑制され、表面が耐擦傷性に優れた反射防止積層体とすることができる。
［剥離用フィルム］
本発明で使用される剥離用フィルムは、転写フィルムを基材の表面に積層した後に剥離して除去されるものであって、従来より転写用剥離フィルムとして使用されているもの、例えば、活性エネルギー線透過性フィルムを使用することができる。
本発明で使用される剥離用フィルムは、転写フィルムを基材の表面に積層した後に剥離して除去されるものであって、従来より転写用剥離フィルムとして使用されているもの、例えば、活性エネルギー線透過性フィルムを使用することができる。
剥離用フィルムとしては、剥離用フィルム又は剥離層の表面の臨界表面張力が４０ｍＮ／ｍ以上である活性エネルギー線透過性フィルムが好ましい。この特性を備えたフィルムであれば、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物または低屈折率膜（２Ｌ）用組成物を剥離用フィルムの上に塗付して低屈折率膜（１Ｌ）または低屈折率膜（２Ｌ）を形成する際にハジキ欠陥（塗膜の一部に下地が露出する現象）等がなく、良好な製膜性が得られる。またこの特性を備えたフィルムであれば、剥離用フィルムの表面に沸点が２００℃以下の有機溶媒を塗布する際にハジキ欠陥等がなく、良好な製膜性が得られる。
尚、本発明において、臨界表面張力は以下のＺｉｓｍａｎプロットにより算出することができる。即ち、表面張力が異なる数種の標準液を調製し、これらの標準液をフィルムの表面に滴下して標準液とフィルム表面との接触角（θ）を測定する。得られた接触角（θ）からｃｏｓθ値を算出し、ｃｏｓθ値と表面張力をＸＹ座標とするグラフ上に、このｃｏｓθ値と標準液の表面張力の値とをプロットする。得られたプロット（Ｚｉｓｍａｎプロット）を結ぶ直線とｃｏｓθ＝１で示される直線との交点における表面張力の値を臨界表面張力とする。
剥離用フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等の合成樹脂フィルム、これらの複合フィルム状物又は複合シート状物及びそれらに剥離層を積層したものが挙げられる。
これらの中で、ＰＥＴフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム（以下、「ＰＥＮフィルム」という。）、ポリブチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＢＴフィルム」という。）、ポリブチレンナフタレート（以下、「ＰＢＮフィルム」という。）、ポリトリメチレンテレフタレート（以下、「ＰＴＴフィルム」という。）等で代表される芳香族ポリエステルフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム及びＰＥＮフィルムがより好ましい。これらの剥離用フィルムの表面に直接、低屈折率膜（１Ｌ）を形成することにより、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物としてモノマー（Ａ）の含有量が少ないものを使用しても、剥離用フィルムの剥離後に露出する低屈折率膜（１Ｌ）の表面の水接触角やトリオレイン接触角を高くすることが可能である。その結果、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に耐擦傷性を向上させる成分を多量に添加でき、前面反射防止層の耐擦傷性を良好とすることができる。
剥離用フィルムの厚みは、特に制限されないが、しわ、亀裂等のない転写フィルムを製造する観点から、４μｍ以上が好ましく、１２μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が更に好ましい。また、剥離用フィルムの厚みは、コストや紫外線透過率の点で５００μｍ以下が好ましく、１５０μｍ以下がより好ましく、１２０μｍ以下が更に好ましい。
剥離用フィルムと低屈折率膜（１Ｌ）、低屈折率膜（２Ｌ）との間の剥離性が低い場合には、剥離用フィルムの表面に剥離層を設けても良い。特に、低屈折率膜（２Ｌ）を形成する面には、剥離層を設けることが好ましい。剥離用フィルムの表面に形成される剥離層用の材料としては、公知の剥離層形成用のポリマーやワックス等を使用できる。
剥離層の形成方法としては、例えば、メラミン系、尿素系、尿素−メラミン系、ベンゾグアナミン系等の樹脂及び界面活性剤を有機希釈溶媒又は水に溶解させた塗料を、グラビア印刷法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法等の公知の印刷法で剥離用フィルムの表面に塗付し、次いで乾燥又は硬化させる方法が挙げられる。
剥離層の厚みは、通常０．１〜３μｍ程度である。剥離層が適度の厚みを有する場合は、剥離用フィルムを低屈折率膜から剥離し易くなる傾向にある。剥離層が薄い場合は、転写前に剥離用フィルムから低屈折率膜（１Ｌ）、低屈折率膜（２Ｌ）が脱離しにくい傾向にある。
低屈折率膜（１Ｌ）を形成する前に、剥離用フィルムの表面を親水化処理することで、転写後の反射防止積層体の外観が良好となる。親水化処理としては、前述した低屈折率膜（１Ｌ）の表面に対する親水化処理の場合と同様の手法が挙げられるが、外観をより良好とする観点で、コロナ放電処理や、紫外線照射処理が好ましい。また、これらの処理を組み合わせてもよい。
また、低屈折率膜（１Ｌ）を形成する前に、剥離用フィルム表面へ沸点が２００℃以下の有機溶媒を塗布して乾燥させる工程を経ることで、転写後の反射防止積層体の外観が良好となる。親水化処理と、沸点が２００℃以下の有機溶媒を塗布して乾燥させる工程とを組み合わせても良い。即ち、親水化処理工程の後に、沸点が２００℃以下の有機溶媒を塗布して乾燥させる工程を経ても良いし、沸点が２００℃以下の有機溶媒を塗布して乾燥させる工程を経た後、親水化処理を行っても良い。
沸点が２００℃以下の有機溶媒としては、１−メトキシ−２−プロパノール、トルエン、キシレン、酢酸ブチル、クロロフォルム、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノールなどが挙げられる。１−メトキシ−２−プロパノール、トルエン、キシレンが濡れ性が良好である観点から好ましい。
沸点が２００℃以下の有機溶媒の塗布方法としては、前述した低屈折率膜（１Ｌ）用組成物の剥離用フィルムへの塗布方法と同様の方法などが挙げられる。沸点が２００℃以下の有機溶媒の乾燥温度は、８０℃〜１３０℃が好ましい。この温度範囲内であれば、十分乾燥が行われかつ乾燥に伴うフィルム皺の発生も少ない。
〔基材と転写フィルムの積層体〕
前面反射防止層と基材との積層体（１）、または、後面反射防止層と基材との積層体（２）は、基材と転写フィルム（１Ｔ）または転写フィルム（２Ｔ）とを積層することによって得ることができる。また、積層体（１）と後面反射防止層との積層体は、積層体（１）の基材と転写フィルム（２Ｔ）とを積層することによって得ることができる。同様に、積層体（２）と前面反射防止層との積層体は、積層体（２）の基材と転写フィルム（１Ｔ）とを積層することによって得ることができる。
前面反射防止層と基材との積層体（１）、または、後面反射防止層と基材との積層体（２）は、基材と転写フィルム（１Ｔ）または転写フィルム（２Ｔ）とを積層することによって得ることができる。また、積層体（１）と後面反射防止層との積層体は、積層体（１）の基材と転写フィルム（２Ｔ）とを積層することによって得ることができる。同様に、積層体（２）と前面反射防止層との積層体は、積層体（２）の基材と転写フィルム（１Ｔ）とを積層することによって得ることができる。
基材に対する転写フィルムの積層の順序は特に限定されない。基材と転写フィルム（１）を先に積層しても良く、基材と転写フィルム（２）を先に積層しても良く、また、基材に対して転写フィルム（１）と転写フィルム（２）を同時に積層しても良い。
基材と転写フィルムとの積層は、例えば、接着用の塗膜を介して行うことができる。即ち、接着用の塗膜を、基材と転写フィルムの少なくとも一方の表面上に形成し、この塗膜を介して基材と転写フィルムを貼り合せ、塗膜を硬化させて接着層を形成することによって、基材と転写フィルムとの積層体を製造することができる。尚、基材と転写フィルムとを貼り合せる際の空気の巻き込みを防ぐために、過剰量の塗膜形成材料を使用して塗膜を形成することが好ましい。
［積層方法］
基材の表面及び裏面への反射防止層の積層は、例えば、走行する基材に対して反射防止層を含む転写フィルムを、転写法によって積層することによって行うことができる。具体的には、基材を走行させつつ、下記の第１の工程と第２の工程を順次、連続的に行うことができる。
基材の表面及び裏面への反射防止層の積層は、例えば、走行する基材に対して反射防止層を含む転写フィルムを、転写法によって積層することによって行うことができる。具体的には、基材を走行させつつ、下記の第１の工程と第２の工程を順次、連続的に行うことができる。
第１の工程：
剥離用フィルム（１Ｐ）、低屈折率膜（１Ｌ）及び高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（１Ｔ）の前記高屈折率膜（１Ｈ）と、基材とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（１Ｔ）から剥離用フィルム（１Ｐ）を剥がして前面反射防止層と基材との積層体を形成する工程である。
剥離用フィルム（１Ｐ）、低屈折率膜（１Ｌ）及び高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（１Ｔ）の前記高屈折率膜（１Ｈ）と、基材とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（１Ｔ）から剥離用フィルム（１Ｐ）を剥がして前面反射防止層と基材との積層体を形成する工程である。
第２の工程：
剥離用フィルム（２Ｐ）、低屈折率膜（２Ｌ）及び高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（２Ｔ）の前記高屈折率膜（２Ｈ）と、前記積層体中の基材の裏面とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（２Ｔ）から剥離用フィルム（２Ｐ）を剥がして、後面反射防止層と前記積層体との積層体を形成する工程である。
剥離用フィルム（２Ｐ）、低屈折率膜（２Ｌ）及び高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（２Ｔ）の前記高屈折率膜（２Ｈ）と、前記積層体中の基材の裏面とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（２Ｔ）から剥離用フィルム（２Ｐ）を剥がして、後面反射防止層と前記積層体との積層体を形成する工程である。
基材と転写フィルムとを積層する方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。圧着の際の圧力としては、例えば、５〜１５ＭＰａとすることができる。また、積層する基材の表面を４０〜１２５℃に加温しておくことが好ましい。この温度範囲内に加温することにより、転写フィルムと基材との密着性を良好とすることができ、基材の過度の溶解による基材の硬度低下を抑制し、接着層の黄変も抑制できる傾向にある。基材を加温する際の基材の表面温度は加熱部の設定温度、加熱時間等により調整することができる。また、基材の温度の測定方法としては、例えば、非接触型表面温度計による方法が挙げられる。
［接着用の材料］
接着層を形成するための塗膜としては、例えば、熱可塑性樹脂を含有する塗膜及び活性エネルギー線硬化性組成物を含有する塗膜が挙げられる。
接着層を形成するための塗膜としては、例えば、熱可塑性樹脂を含有する塗膜及び活性エネルギー線硬化性組成物を含有する塗膜が挙げられる。
熱可塑性樹脂を含有する塗膜用の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂を希釈溶媒に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用することができる。希釈溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール及びトルエンが挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば以下のものが挙げられる。アクリル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、ブチラール樹脂、ロジン系樹脂、及びエポキシ系樹脂。
活性エネルギー線硬化性組成物を含有する塗膜用の材料としては、例えば、低屈折率膜（１Ｌ）用の架橋成分と同様の化合物を使用することができる。活性エネルギー線硬化性組成物は単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記の活性エネルギー線硬化性組成物に添加される光重合開始剤としては、例えば、低屈折率膜（１Ｌ）用組成物中に配合する場合に使用される光開始剤と同様のものが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
熱可塑性樹脂又は活性エネルギー線硬化性組成物を含有する塗膜の形成は、例えば、転写フィルム（１Ｔ）の表面に存在する中屈折率膜（１Ｍ）もしくは高屈折率膜（１Ｈ）の表面、又は、転写フィルム（２Ｔ）の表面に存在する高屈折率膜（２Ｈ）の表面、あるいは基材の表面に、これらの組成物を塗付し、必要に応じて希釈溶媒を除去することにより行うことができる。この様にして得られた塗膜を介して基材と中屈折率膜（１Ｍ）もしくは高屈折率膜（１Ｈ）が積層される。あるいは、この様にして得られた塗膜を介して基材と高屈折率膜（２Ｈ）が積層される。
次いでこの塗膜を、乾燥、加熱、又は活性エネルギー線照射して硬化させることによって接着層が形成され、その結果として、基材と前面反射防止層との積層体、又は、基材と後面反射防止層との積層体が得られる。加熱硬化法としては公知の方法が挙げられる。活性エネルギー線の照射は、転写フィルムを介して行うことができる。あるいは、基材の形状に応じて、必要に応じて基材側から活性エネルギー線を照射することができる。活性エネルギー線の照射条件としては、例えば、空気存在下で、ピーク照度２００〜１，０００ｍＷ／ｃｍ2及び積算光量４００〜１，２００ｍＪ／ｃｍ2とすることができる。
尚、この塗膜硬化の開始時点において、低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）及び中屈折率膜（１Ｍ）中に未硬化物が存在する場合、当該硬化工程においてこれらの未硬化物を併せて硬化させることができる。また、必要に応じて、前述の加熱又は活性エネルギー線照射の条件を強化することによって、低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）及び中屈折率膜（１Ｍ）、低屈折率膜（２Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）の硬化を更に促進させることができる。
この様にして形成された接着層の屈折率ｎ1Aは、反射防止積層体の干渉模様を抑制する観点から、前記の式（９）の条件を満たすことが好ましい。屈折率ｎ1Aは、１．４５以上１．５６以下であることがより好ましい。また、基材と接着層との屈折率差が大きくなり、基材と接着層との界面で光の反射が発生し、これが新たな干渉模様を引き起こす。従って、接着層を基材へ十分浸透させるか、基材と接着層との屈折率差を０．０３以下に抑制することが好ましい。
［剥離用フィルムの剥離］
以上のようにして製造された、転写フィルム（１Ｔ）と基材と転写フィルム（２Ｔ）の積層体から剥離用フィルムを剥がすことによって本発明の反射防止積層体を得ることができる。この剥離操作は、例えば、室温にて公知の方法により行うことができる。
以上のようにして製造された、転写フィルム（１Ｔ）と基材と転写フィルム（２Ｔ）の積層体から剥離用フィルムを剥がすことによって本発明の反射防止積層体を得ることができる。この剥離操作は、例えば、室温にて公知の方法により行うことができる。
〔画像表示装置〕
本発明の反射防止積層体は、その前面反射防止層が画像表示装置の最表層に配置される画像表示装置の部品として使用することができる。画像表示装置としては、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子ペーパーディスプレイなどが挙げられる。
本発明の反射防止積層体は、その前面反射防止層が画像表示装置の最表層に配置される画像表示装置の部品として使用することができる。画像表示装置としては、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子ペーパーディスプレイなどが挙げられる。
以下、実施例により本発明を説明する。尚、実施例及び比較例で使用した化合物の略称は表１に示す通りである。また、以下において、「部」及び「％」はそれぞれ「質量部」及び「質量％」を示す。測定及び評価方法（１）〜（１３）を以下に示す。
（１）基材の温度
非接触型表面温度計（（株）チノー製、ハンディ型放射温度計ＩＲ−ＴＡ（商品名））を用いて基材の表面温度を測定した。
非接触型表面温度計（（株）チノー製、ハンディ型放射温度計ＩＲ−ＴＡ（商品名））を用いて基材の表面温度を測定した。
（２）全光線透過率及びヘイズ値
日本電色工業（株）製ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ２０００（商品名）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１−１に示される測定法に準拠して、反射防止積層体の全光線透過率を測定し、ＪＩＳ Ｋ７１３６に示される測定法に準拠してヘイズ値を測定した。
日本電色工業（株）製ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ２０００（商品名）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１−１に示される測定法に準拠して、反射防止積層体の全光線透過率を測定し、ＪＩＳ Ｋ７１３６に示される測定法に準拠してヘイズ値を測定した。
（３）耐擦傷性
＃００００のスチールウールを装着した直径２５．４ｍｍの円形パッドを反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に置き、２．０ｋｇの荷重下で、２０ｍｍの距離を２０回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘイズ値の差（△ヘイズ）を下式より求めた。また、試験後のサンプル表面の傷の本数を数えて耐擦傷性を評価した。
［△ヘイズ（％）］＝［擦傷後のヘイズ値（％）］−［擦傷前のヘイズ値（％）］
（４）反射防止性
分光光度計（（株）日立製作所製、商品名：Ｕ−４０００）を用いて、入射角５°及び波長３８０〜７８０ｎｍの範囲でＪＩＳ Ｒ３１０６に示される測定法に準拠して反射防止積層体の反射率を測定し、得られる反射率曲線の最も反射率の低い波長（ボトムの波長）及びボトムの波長における反射率（ボトムの波長反射率）を求めた。
＃００００のスチールウールを装着した直径２５．４ｍｍの円形パッドを反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に置き、２．０ｋｇの荷重下で、２０ｍｍの距離を２０回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘイズ値の差（△ヘイズ）を下式より求めた。また、試験後のサンプル表面の傷の本数を数えて耐擦傷性を評価した。
［△ヘイズ（％）］＝［擦傷後のヘイズ値（％）］−［擦傷前のヘイズ値（％）］
（４）反射防止性
分光光度計（（株）日立製作所製、商品名：Ｕ−４０００）を用いて、入射角５°及び波長３８０〜７８０ｎｍの範囲でＪＩＳ Ｒ３１０６に示される測定法に準拠して反射防止積層体の反射率を測定し、得られる反射率曲線の最も反射率の低い波長（ボトムの波長）及びボトムの波長における反射率（ボトムの波長反射率）を求めた。
また、反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面に指紋を付着させたときの反射色の変化の有無を以下の基準で評価した。
◎：反射色の変化は認められなかった。
○：反射色の変化がわずかに認められた。
×：反射色の変化が認められた。
◎：反射色の変化は認められなかった。
○：反射色の変化がわずかに認められた。
×：反射色の変化が認められた。
（５）防汚性
反射防止積層体の表面の低屈折率膜の防汚性を、下記の水接触角、トリオレイン接触角及び油性インキ拭き取り性により評価した。
反射防止積層体の表面の低屈折率膜の防汚性を、下記の水接触角、トリオレイン接触角及び油性インキ拭き取り性により評価した。
（５−１）水接触角
温度２３℃及び相対湿度５０％の環境下において、低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に脱イオン水を１滴（０．２μＬ）滴下し、携帯型接触角計（ＦＩＢＲＯ Ｓｙｓｔｅｍ ＡＢ 社製、商品名：ＰＧ−Ｘ）を用いて、水の接触角を測定し、水接触角を求めた。
温度２３℃及び相対湿度５０％の環境下において、低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に脱イオン水を１滴（０．２μＬ）滴下し、携帯型接触角計（ＦＩＢＲＯ Ｓｙｓｔｅｍ ＡＢ 社製、商品名：ＰＧ−Ｘ）を用いて、水の接触角を測定し、水接触角を求めた。
（５−２）トリオレイン接触角
脱イオン水の代わりにトリオレインを使用したこと以外は水接触角の測定の場合と同様にして、トリオレイン接触角を求めた。
脱イオン水の代わりにトリオレインを使用したこと以外は水接触角の測定の場合と同様にして、トリオレイン接触角を求めた。
（５−３）油性インキの拭き取り性
反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に、油性インキとして「マイネーム」（黒色）（（株）サクラクレパス製、商品名）で線を書き、３分後に「キムタオル」（日本製紙クレシア（株）製、商品名）で拭き取り、その際の油性インキの拭き取れ具合を目視により以下の基準で評価した。
◎：５回の拭き取りで、完全に拭き取れる。
○：５回の拭き取りで、わずかに線の跡が残る。
×：５回の拭き取りで、一部又は全部の油性インキが付着したままである。
反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの表面上に、油性インキとして「マイネーム」（黒色）（（株）サクラクレパス製、商品名）で線を書き、３分後に「キムタオル」（日本製紙クレシア（株）製、商品名）で拭き取り、その際の油性インキの拭き取れ具合を目視により以下の基準で評価した。
◎：５回の拭き取りで、完全に拭き取れる。
○：５回の拭き取りで、わずかに線の跡が残る。
×：５回の拭き取りで、一部又は全部の油性インキが付着したままである。
（６）密着性
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準拠して、２５マスの碁盤目の剥離評価を４箇所で実施し、合計１００マスの中で剥離せずに残ったマスの数で反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの密着性を評価した。
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準拠して、２５マスの碁盤目の剥離評価を４箇所で実施し、合計１００マスの中で剥離せずに残ったマスの数で反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）及び低屈折率膜（２Ｌ）のそれぞれの密着性を評価した。
（７）各層の膜厚
反射防止積層体の厚み方向にミクロトームで幅１００ｎｍのサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製ＪＥＭ−１０１０（商品名））で反射防止積層体の断面を観察し、各層の膜厚を測定した。
反射防止積層体の厚み方向にミクロトームで幅１００ｎｍのサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製ＪＥＭ−１０１０（商品名））で反射防止積層体の断面を観察し、各層の膜厚を測定した。
（８）耐汗性
ＪＩＳ Ｌ０８４８の汗に対する染色堅ろう度試験のＡ法に準じて人工汗液を調製した。反射防止積層体を縦横各５０ｍｍの大きさにカットして評価用サンプルとした。次いで、脱脂綿を縦横各３０ｍｍの大きさにカットし、評価用サンプルの上に乗せ、注射器を使用して前記人工汗液を脱脂綿に垂らして、脱脂綿を湿らせた。そのサンプルを温度４５℃及び相対湿度９５％の恒温恒湿機中に９６時間放置した後に取り出し、反射防止積層体の表面を水洗浄した後に、目視評価により以下の基準で耐汗性を評価した。
○：変色は認められなかった。
×：変色が認められた。
ＪＩＳ Ｌ０８４８の汗に対する染色堅ろう度試験のＡ法に準じて人工汗液を調製した。反射防止積層体を縦横各５０ｍｍの大きさにカットして評価用サンプルとした。次いで、脱脂綿を縦横各３０ｍｍの大きさにカットし、評価用サンプルの上に乗せ、注射器を使用して前記人工汗液を脱脂綿に垂らして、脱脂綿を湿らせた。そのサンプルを温度４５℃及び相対湿度９５％の恒温恒湿機中に９６時間放置した後に取り出し、反射防止積層体の表面を水洗浄した後に、目視評価により以下の基準で耐汗性を評価した。
○：変色は認められなかった。
×：変色が認められた。
（９）屈折率
プリズムカプラー（メトリコン社製、モデル２０１０）を用いて５９４ｎｍレーザーにおける各層の屈折率を測定した。
プリズムカプラー（メトリコン社製、モデル２０１０）を用いて５９４ｎｍレーザーにおける各層の屈折率を測定した。
（１０）干渉模様
反射防止積層体の表面を３波長蛍光管（（株）東芝製、商品名：メロウ５、４０Ｗ）の下で、５名による目視により、干渉模様の有無を下記基準で評価した。
◎：角度を変えても干渉模様は見えない。
○：角度を変えると干渉模様が薄く見える。
△：角度を変えると干渉模様が顕著に見える。
×：角度を変えなくとも干渉模様が顕著に見える。
反射防止積層体の表面を３波長蛍光管（（株）東芝製、商品名：メロウ５、４０Ｗ）の下で、５名による目視により、干渉模様の有無を下記基準で評価した。
◎：角度を変えても干渉模様は見えない。
○：角度を変えると干渉模様が薄く見える。
△：角度を変えると干渉模様が顕著に見える。
×：角度を変えなくとも干渉模様が顕著に見える。
（１１）中屈折率膜中の各領域の厚み及び長さ
反射防止積層体（厚みＴｎｍ）の厚み方向にミクロトームで幅１００ｎｍのサンプルを切り出した。このサンプルの厚み方向断面を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製ＪＥＭ−１０１０（商品名））を使用して、金属酸化物微粒子の分布状態を写真撮影した。得られた写真に基づいて作成した、金属酸化物微粒子の分布状態の模式図を図１に示す。写真の中で、中屈折率膜の膜厚に対して、垂直方向の１２００ｎｍの長さにおける膜中央領域（ｍ３）の長さ（Ｌｉ）の合計の長さ（Ｌ）を算出した。
反射防止積層体（厚みＴｎｍ）の厚み方向にミクロトームで幅１００ｎｍのサンプルを切り出した。このサンプルの厚み方向断面を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製ＪＥＭ−１０１０（商品名））を使用して、金属酸化物微粒子の分布状態を写真撮影した。得られた写真に基づいて作成した、金属酸化物微粒子の分布状態の模式図を図１に示す。写真の中で、中屈折率膜の膜厚に対して、垂直方向の１２００ｎｍの長さにおける膜中央領域（ｍ３）の長さ（Ｌｉ）の合計の長さ（Ｌ）を算出した。
この測定は、具体的には以下のように実施される。図１において、前記１２００ｎｍの長さの部分において、式（１１）及び式（１３）を満足する、膜中央領域（ｍ３）の厚み（Ｔｂｉ及びＴｃｉ）並びに膜表層領域（ｓ１）の厚み（Ｔａｉ）及び膜表層領域（ｓ２）の厚み（Ｔｄｉ）を測定する。また、それらの各測定場所におけるＬｉの長さの合計（図１中のＤ１、Ｄ２、Ｄ３及びＤ４の部分を除外した長さ）を測定して、この長さを膜中央領域（ｍ３）の長さ（Ｌｉ）の合計の長さ（Ｌ）とするものである。
（１２）外観
暗室にて、エッジライトで反射防止積層体のエッジから光を照射し外観を観察した。
◎：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が見えない。
○：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が極僅か見える。
△：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が薄く見える。
▲：△と×の中間レベルに見える。
×：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が著しく見える。
暗室にて、エッジライトで反射防止積層体のエッジから光を照射し外観を観察した。
◎：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が見えない。
○：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が極僅か見える。
△：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が薄く見える。
▲：△と×の中間レベルに見える。
×：エッジライトを照射した際、白黒の濃淡が著しく見える。
（１３）反射色
白板を背面に設置して日本電色工業製 ＮＦ−３３３分光色差計を用いてＪＩＳ Ｚ ８７２２に準拠して反射防止積層体の反射色を測定した。白板は、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に記載の常用標準白色面を有するものを用いた。
白板を背面に設置して日本電色工業製 ＮＦ−３３３分光色差計を用いてＪＩＳ Ｚ ８７２２に準拠して反射防止積層体の反射色を測定した。白板は、ＪＩＳ Ｚ ８７２２に記載の常用標準白色面を有するものを用いた。
［製造例１］シリカゾル（１）の製造
以下のように、中空シリカを個別処理した。撹拌機及び冷却管を備えた４ツ口フラスコ（反応容器）にスルーリアＳを６３ｇ仕込み、次いでＫＢＭ５０３を１２ｇ添加した。その後、攪拌しながら水４．４ｇ及び０．０１ｍｏｌ／ｌ塩酸水溶液０．１ｇを順次添加し、８０℃で２時間加熱を行った。次いで、反応系を減圧状態にして固形分濃度が４０％となるまで揮発分を留出させた後、トルエン３８ｇを添加して８０℃で２時間加熱した。その後、反応系を減圧状態にして固形分濃度が６０％となるまで揮発分を留出させ、更に８０℃で２時間加熱し、加水分解処理及び縮合反応処理された、シリカゾル（１）を製造した。
以下のように、中空シリカを個別処理した。撹拌機及び冷却管を備えた４ツ口フラスコ（反応容器）にスルーリアＳを６３ｇ仕込み、次いでＫＢＭ５０３を１２ｇ添加した。その後、攪拌しながら水４．４ｇ及び０．０１ｍｏｌ／ｌ塩酸水溶液０．１ｇを順次添加し、８０℃で２時間加熱を行った。次いで、反応系を減圧状態にして固形分濃度が４０％となるまで揮発分を留出させた後、トルエン３８ｇを添加して８０℃で２時間加熱した。その後、反応系を減圧状態にして固形分濃度が６０％となるまで揮発分を留出させ、更に８０℃で２時間加熱し、加水分解処理及び縮合反応処理された、シリカゾル（１）を製造した。
シリカゾル（１）は白濁した液体であり、固形分濃度は６０％であった。尚、固形分濃度は、シリカゾル（１）を３日間８０℃の環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の質量差から計算により求めた。また、シリカゾル（１）中の無機微粒子の割合（％）は、使用した加水分解性シラン化合物と無機微粒子との合計１００部に対する無機微粒子の質量割合から求めた。
［調合例１〜４］低屈折率膜用組成物の調合
２５℃の環境で、表２に示す低屈折率膜用組成物（１）〜（４）を調合した。
２５℃の環境で、表２に示す低屈折率膜用組成物（１）〜（４）を調合した。
［調合例５〜８］高屈折率膜用組成物の調合
２５℃の環境で、表３に示す高屈折率膜用組成物（１）〜（４）を調合した。
２５℃の環境で、表３に示す高屈折率膜用組成物（１）〜（４）を調合した。
［調合例９〜１１］中屈折率膜用組成物の調合
２５℃の環境で、表４に示す中屈折率組成物（１）〜（３）を調合した。
２５℃の環境で、表４に示す中屈折率組成物（１）〜（３）を調合した。
［実施例１］
１．転写フィルム（１Ｔ−１）の作成
コロナ放電処理装置として、電気絶縁された搬送ベルトとその上方に近接配置された電極（厚さ１ｍｍ、長さ２６０ｍｍ、ＳＵＳ製）を備えたナビタス（株）製コロナ放電処理装置ＰＯＬＹＤＹＮＥ（商品名）を用いた。厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）、商品名：Ａ４１００）を搬送ベルト上に載せ、ＰＥＴフィルムと電極間のギャップが３ｍｍとなるように、速度２．０ｍ／分で搬送ベルトを走行させながら、印加電圧を１１．６ｋＶとしてＰＥＴフィルムに対してコロナ放電処理を行った。ＰＥＴフィルムに対する照射エネルギーは１００Ｗ・分／ｍであった。
１．転写フィルム（１Ｔ−１）の作成
コロナ放電処理装置として、電気絶縁された搬送ベルトとその上方に近接配置された電極（厚さ１ｍｍ、長さ２６０ｍｍ、ＳＵＳ製）を備えたナビタス（株）製コロナ放電処理装置ＰＯＬＹＤＹＮＥ（商品名）を用いた。厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）、商品名：Ａ４１００）を搬送ベルト上に載せ、ＰＥＴフィルムと電極間のギャップが３ｍｍとなるように、速度２．０ｍ／分で搬送ベルトを走行させながら、印加電圧を１１．６ｋＶとしてＰＥＴフィルムに対してコロナ放電処理を行った。ＰＥＴフィルムに対する照射エネルギーは１００Ｗ・分／ｍであった。
次いで、このＰＥＴフィルムのコロナ放電処理面上に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の低屈折率膜用組成物（１）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、１００℃で１．５分間及び１５０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成した。
次いで、この塗膜が積層されたＰＥＴフィルムを、窒素気流下にて、９．６ｋＷの高圧水銀ランプ（出力設定１００％）の下方２０ｃｍの位置の走行ラインを、４．５ｍ／分の速度で通過させて塗膜を硬化させ、低屈折率膜（１Ｌ）とＰＥＴフィルム（剥離用フィルム）との積層フィルムを得た。このときの積算光量は４００ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２６０ｍＷ／ｃｍ2であった。
次いで、上記ＰＥＴフィルムの表面に施したコロナ放電修理と同様にして、低屈折率膜（１Ｌ）の表面に対してコロナ放電処理を行った。コロナ放電処理を行った低屈折率膜（１Ｌ）の表面に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の高屈折率膜用組成物（１）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、１００℃で１．５分間及び１５０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成した。次いで空気気流下で９．６ｋＷの高圧水銀ランプ（出力設定１００％）の下方２０ｃｍの位置の走行ラインを、４．５ｍ／分の速度で通過させて塗膜を硬化させた。このようにして高屈折率膜（１Ｈ）と低屈折率膜（１Ｌ）とＰＥＴフィルム（剥離用フィルム）との積層フィルムを得た。なお、高圧水銀ランプは２灯点灯させた。このときの積算光量は８００ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２６０ｍＷ／ｃｍ2であった。
次いで、高屈折率膜（１Ｈ）の表面に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の中屈折率膜用組成物（１）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、８０℃で１．５分間及び１２０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成した。次いで空気気流下で９．６ｋＷの高圧水銀ランプ（出力設定１００％）の下方２０ｃｍの位置の走行ラインを、４．５ｍ／分の速度で通過させて塗膜を硬化させた。このようにして中屈折率膜（１Ｍ）、高屈折率膜（１Ｈ）、低屈折率膜（１Ｌ）及びＰＥＴフィルム（剥離用フィルム）が積層された積層フィルムを得た。このときの積算光量は４００ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２６０ｍＷ／ｃｍ2であった。上記手法により、転写フィルム（１Ｔ−１）を得た。
２．転写フィルム（２Ｔ−１）の作成
厚さ１００μｍの剥離層付ＰＥＴフィルム（（株）尾池工業、商品名：１００ＰＥＴ／ＲＣ）の剥離層の表面に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の低屈折率膜用組成物（２）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、１００℃で１．５分間及び１５０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成した。
厚さ１００μｍの剥離層付ＰＥＴフィルム（（株）尾池工業、商品名：１００ＰＥＴ／ＲＣ）の剥離層の表面に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の低屈折率膜用組成物（２）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、１００℃で１．５分間及び１５０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成した。
次いで、この塗膜が積層されたＰＥＴフィルムを、窒素気流下にて、９．６ｋＷの高圧水銀ランプ（出力設定１００％）の下方２０ｃｍの位置の走行ラインを、４．５ｍ／分の速度で通過させて塗膜を硬化させて低屈折率膜（２Ｌ）と剥離層付ＰＥＴフィルム（剥離用フィルム）との積層フィルムを得た。このときの積算光量は４００ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２６０ｍＷ／ｃｍ2であった。
次いで、低屈折率膜（２Ｌ）の表面に、２５℃の環境で調合し、２５℃の環境で３０分放置した後の高屈折率膜用組成物（２）を、１０号バーコーターを用いて塗付し、１００℃で１．５分間及び１５０℃で１分間乾燥させて塗膜を形成し、空気気流下で９．６ｋＷの高圧水銀ランプ（出力設定１００％）の下方２０ｃｍの位置の走行ラインを、４．５ｍ／分の速度で通過させて塗膜を硬化させた。このようにして高屈折率膜（２Ｈ）、低屈折率膜（２Ｌ）及び剥離層付ＰＥＴフィルム（剥離用フィルム）が積層された積層フィルムを得た。なお、高圧水銀ランプは２灯点灯させた。このときの積算光量は８００ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２６０ｍＷ／ｃｍ2であった。上記手法により、転写フィルム（２Ｔ−１）を得た。
３．反射防止積層体の作成
接着層形成材料としてＵ６ＨＡを１０部、Ｃ６ＤＡを３０部、Ｍ３０５を３０部、Ｍ４００を３０部及びＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯを混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物を用いた。この接着層形成材料を、１０号バーコーターを用いて、転写フィルム（１Ｔ−１）の中屈折率膜の表面に塗付して塗膜を形成した。
接着層形成材料としてＵ６ＨＡを１０部、Ｃ６ＤＡを３０部、Ｍ３０５を３０部、Ｍ４００を３０部及びＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯを混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物を用いた。この接着層形成材料を、１０号バーコーターを用いて、転写フィルム（１Ｔ−１）の中屈折率膜の表面に塗付して塗膜を形成した。
基材として板厚が２ｍｍのアクリル樹脂板（三菱レイヨン（株）製、アクリライトＥＸ００１）を使用し、コンベアで搬送させながら６０℃に基材を加温し、前記の塗膜付きの転写フィルムを、その塗膜を介して基材に積層した。
このようにして得られた６０℃に加温した積層体を、そのＰＥＴフィルム面を上にした状態で、出力９．６ｋＷのメタルハライドランプの下方２０ｃｍの位置の走行ラインを２．５ｍ／分の速度で通過させて、塗膜を硬化させて接着層を形成し、転写フィルムと基材との積層体を得た。硬化条件としては、積算光量は５７０ｍＪ／ｃｍ2で、ピーク照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であった。その後、この積層体の転写フィルムからＰＥＴフィルムを剥離して前面反射防止層と基材との積層体（１）を得た。なお、接着層の屈折率は１．５４であった。
一方、前記接着層形成材料を、１０号バーコーターを用いて転写フィルム（２Ｔ−１）の高屈折率膜の表面に塗付して塗膜を形成した。前記積層体（１）をコンベアで搬送させながら基材の表面を６０℃に加温し、上記の塗膜付きの転写フィルムを、その塗膜を介して基材に積層した。加温条件、走行速度、硬化条件を、前記積層体の製造時と同様の条件として、前記積層体（１）と転写フィルム（２Ｔ−１）を積層した。その後、ＰＥＴフィルムを剥離して前面反射防止層、基材及び後面反射防止層が積層された積層体（即ち反射防止積層体）を得た。基材に対する前面反射防止層の転写から、後面反射防止層の転写を終えるまでの作業は工程を停止させることなく、連続して行った。
得られた反射防止積層体中の各接着層の膜厚は共に１３μｍであった。評価結果を表４に示す。この反射防止積層体の低屈折率膜（１Ｌ）、低屈折率膜（２Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）、高屈折率膜（２Ｈ）及び中屈折率膜（１Ｍ）の膜厚は、それぞれ１００ｎｍ、５４ｎｍ、１，４００ｎｍ、９２ｎｍ及び６０ｎｍであった。また、低屈折率膜（１Ｌ）、低屈折率膜（２Ｌ）、高屈折率膜（１Ｈ）、高屈折率膜（２Ｈ）及び中屈折率膜（１Ｍ）の屈折率は、それぞれ１．４、１．４９、１．６、１．７及び１．５７であった。反射防止積層体の全光線透過率は９６．９％、ヘイズ値は０．２１％であり、透明性に優れていた。
低屈折率膜（１Ｌ）の表面の擦傷性試験後のΔヘイズは０．０５％であり、傷の本数は１本であった。また、基材と前面反射防止層との密着性は良好であった。低屈折率膜（２Ｌ）の表面の擦傷性試験後のΔヘイズは１．５％であり、傷の本数は１０本であった。また、基材と後面反射防止層との密着性は良好であった。低屈折率膜（１Ｌ）の表面の耐汗性については、変色は認められなかった。低屈折率膜（２Ｌ）の表面の耐汗性については、変色が認められた。
また、反射防止積層体のボトムの波長は５９０ｎｍであり、ボトムの波長反射率は２．０％であった。干渉模様の評価では角度を変えても干渉模様は確認されなかった。反射色を測定した結果、「Ｌ＊」は９３．８であり、「ａ＊」は−２．５３であり、「ｂ＊」は４．２１であった。
更に、低屈折率膜（１Ｌ）の表面に指紋を付着しても反射色の変化は見られなかった。低屈折率膜（１Ｌ）の表面の水接触角は１１０度であり、トリオレイン接触角は６６度であった。また、低屈折率膜（１Ｌ）の表面の油性インキ拭き取り性は、５回の拭き取りで完全に拭き取れるレベルであった。低屈折率膜（２Ｌ）の表面の水接触角は６８度であり、トリオレイン接触角は２２度であった。
中屈折率膜（１Ｍ）中の金属酸化物微粒子の存在状態を観察したところ、膜中央領域（ｍ３）の割合は５４０ｎｍ（１２００ｎｍの４５％）であった。暗室にて外観を観察した結果、極僅かエッジライトを照射した際、白黒の濃淡のムラが見える状態であった。
［実施例２〜１３］
各組成物の種類、膜厚、屈折率を表４に示す条件に変更したこと以外は、実施例１と同様にして反射防止積層体を製造した。評価結果を表５又は表６に示す。
各組成物の種類、膜厚、屈折率を表４に示す条件に変更したこと以外は、実施例１と同様にして反射防止積層体を製造した。評価結果を表５又は表６に示す。
［比較例１］
実施例１と同様にして製造した転写フィルム（１Ｔ−１）を製造した。また転写フィルム（２Ｔ−１）の代わりに転写フィルム（１Ｔ−１）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、前面反射防止層と後面反射防止層が同じ構成の反射防止積層体を製造した。
実施例１と同様にして製造した転写フィルム（１Ｔ−１）を製造した。また転写フィルム（２Ｔ−１）の代わりに転写フィルム（１Ｔ−１）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、前面反射防止層と後面反射防止層が同じ構成の反射防止積層体を製造した。
この反射防止積層体は、前面反射防止層と後面反射防止層が共に転写フィルム（１Ｔ−１）を転写して得られた３層型の反射防止層であったため、反射防止性能が不足していた。また、後面反射防止層には防汚成分としてフッ素原子含有硬化性モノマーが含有されていたので、インクがはじかれて塗布できなかった。評価結果を表７に示す。
［比較例２］
実施例１と同様にして製造した転写フィルム（２Ｔ−１）を製造した。また転写フィルム（１Ｔ−１）の代わりに転写フィルム（２Ｔ−１）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、前面反射防止層と後面反射防止層が同じ構成の反射防止積層体を製造した。
実施例１と同様にして製造した転写フィルム（２Ｔ−１）を製造した。また転写フィルム（１Ｔ−１）の代わりに転写フィルム（２Ｔ−１）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、前面反射防止層と後面反射防止層が同じ構成の反射防止積層体を製造した。
この反射防止積層体は、前面反射防止層と後面反射防止層が共に転写フィルム（２Ｔ−１）を転写して得られる２層型の反射防止層であったため、反射色が強く、表層の耐擦傷性、耐汗性が不足していた。評価結果を表７に示す。
Claims (8)
- 基材の表面及び裏面にそれぞれ前面反射防止層及び後面反射防止層が積層された反射防止積層体であって、前記前面反射防止層は高屈折率膜（１Ｈ）と低屈折率膜（１Ｌ）とを含む積層体であり、前記後面反射防止層は高屈折率膜（２Ｈ）と低屈折率膜（２Ｌ）とを含む積層体であり、前記高屈折率膜（１Ｈ）が、基材の表面へ積層されており、又前記高屈折率膜（２Ｈ）が、基材の裏面へ積層されており、これらの膜の厚みと屈折率が下記の式（１）〜（８）で示される条件を満たす反射防止積層体：
Ｎ1H、Ｎ1L、Ｎ2H、及びＮ2Lは、それぞれ、高屈折率膜（１Ｈ）、低屈折率膜（１Ｌ）、高屈折率膜（２Ｈ）及び低屈折率膜（２Ｌ）の屈折率である。］。 - 前記反射防止積層体の波長３８０〜７８０ｎｍの範囲でＪＩＳ Ｒ３１０６に示される測定法に準拠して測定される反射率曲線において、波長５００ｎｍ〜６４０ｎｍの範囲に最小反射率が存在し、且つこの最小反射率の値が１％〜３％である、請求項１に記載の反射防止積層体。
- 前記高屈折率膜（１Ｈ）と前記基材との間に、中屈折率膜（１Ｍ）が設けられている請求項１又は２に記載の反射防止積層体。
- 前面反射防止層の低屈折率膜（１Ｌ）の表面を、＃００００のスチールウールを装着した直径２５．４ｍｍの円形パッドを用いて、２．０ｋｇの荷重下で、２０ｍｍの距離を２０回往復擦傷した際の、ヘイズの増分が０．３％以下であることを特徴とする、請求項１〜３の何れかの１項に記載の反射防止積層体。
- 走行する基材の表面及び裏面に反射防止層を積層する反射防止積層体の製造方法であって、反射防止層を含む転写フィルムを用いた転写法によって、基材に対して前面反射防止層と後面反射防止層を積層する、請求項１〜４の何れかの１項に記載の反射防止積層体の製造方法。
- 走行する基材の表面及び裏面に反射防止層を積層する反射防止積層体の製造方法であって、剥離用フィルム（１Ｐ）、低屈折率膜（１Ｌ）及び高屈折率膜（１Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（１Ｔ）の前記高屈折率膜（１Ｈ）と、基材とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（１Ｔ）から剥離用フィルム（１Ｐ）を剥がして前面反射防止層と基材との積層体を形成する第１の工程と、剥離用フィルム（２Ｐ）、低屈折率膜（２Ｌ）及び高屈折率膜（２Ｈ）がこの順に積層された転写フィルム（２Ｔ）の前記高屈折率膜（２Ｈ）と、前記積層体中の基材の裏面とを接着用の塗膜を介して貼り合わせる工程、該塗膜を硬化させて接着層を形成する工程、及び前記転写フィルム（２Ｔ）から剥離用フィルム（２Ｐ）を剥がして、後面反射防止層と前記積層体との積層体を形成する第２の工程を含む、請求項１〜４の何れかの１項に記載の反射防止積層体の製造方法。
- 前記接着用の塗膜が活性エネルギー線硬化性組成物を含み、前記塗膜に活性エネルギー線を照射して、前記接着層を形成する請求項６に記載の反射防止積層体の製造方法。
- 請求項１〜４の何れかの一項に記載の反射防止積層体を有する画像表示装置であって、前面反射防止層が最表層に配置された画像表示装置。
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