CN1367163A - 生产芳族羧酸的方法 - Google Patents
生产芳族羧酸的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1367163A CN1367163A CN02102454.5A CN02102454A CN1367163A CN 1367163 A CN1367163 A CN 1367163A CN 02102454 A CN02102454 A CN 02102454A CN 1367163 A CN1367163 A CN 1367163A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- acetic acid
- aromatic carboxylic
- aqueous acetic
- condenser
- carboxylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 162
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 75
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 50
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 45
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 3
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 11
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 7
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical compound CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- -1 poly-alkyl aromatic hydrocarbon Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 150000003504 terephthalic acids Chemical class 0.000 description 3
- YGYNBBAUIYTWBF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=C(C)C=CC2=CC(C)=CC=C21 YGYNBBAUIYTWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZTDESRVPFKCBH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(4-methylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=C(C)C=C1 RZTDESRVPFKCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWLLTEXUIOFAFE-UHFFFAOYSA-N 2,6-diisopropylnaphthalene Chemical compound C1=C(C(C)C)C=CC2=CC(C(C)C)=CC=C21 GWLLTEXUIOFAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRQYSMQNJLZKPS-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC(C)=CC2=CC(C)=CC=C21 LRQYSMQNJLZKPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 240000005373 Panax quinquefolius Species 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical class C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical class C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical class C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/04—Monocyclic monocarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
- C07C51/255—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting
- C07C51/265—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting having alkyl side chains which are oxidised to carboxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
公开了一种连续生产芳族羧酸的方法,包括:(A)通过连续将多烷基芳烃、催化剂、反应促进剂、含水乙酸和含分子氧气的气体提供给氧化反应器,将所述的烃进行液相氧化;(B)连续从氧化反应器中取出含有芳族羧酸的反应产物,将其分离成粗芳族羧酸和含水乙酸;和(C)连续从氧化反应器中取出含有蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体,将上述气体引入冷凝器,冷凝上述蒸发的酸,其中把含水乙酸提供给将氧化反应排出气体导入冷凝器的入口管线。该方法能够近乎完美地消除伴随氧化反应排出气体的固体物质导致的在冷凝器中发生的问题,从而进行芳族羧酸生产设备的稳定操作。
Description
发明背景
1.发明领域
本发明涉及通过在催化剂和反应促进剂存在下氧化多烷基芳烃连续生产芳族羧酸的方法。本发明特别涉及的前述方法包括防止随氧化反应器连续排出的氧化反应排出气体飞溅的少量反应产物和/或催化剂成分对冷凝器附着造成的冷凝器工作受到阻碍。
2.背景技术
通过液相氧化多烷基芳烃经放热反应生产芳族羧酸，其在一个通常装配了搅拌器的罐式反应器中进行。在氧化过程中，向氧化反应器中将多烷基芳烃、催化成分和作为溶剂的新加的或循环使用的含水乙酸单独地或作为混合物连续加入。
这样生产的芳族羧酸以淤浆溶液的形式从反应产物出口连续取出，因为通常其在含水乙酸中溶解度低。如果需要进行进一步的氧化反应，在一个或两个或多个串联的结晶设备中结晶并分离得到的芳族羧酸，送至干燥步骤制成目标产物。
从芳族羧酸分离的母液含有作为溶剂的含水乙酸和可溶的催化剂成分，将一部分从反应体系中取出，而剩余的部分循环到氧化反应器以二次利用。
氧化反应排出气体通常含有最多约8体积％的氧气和少量低沸点的氧化反应副产物，连续地从位于反应器顶部或其附近的出口排出，同时通过蒸发作为溶剂的含水乙酸除去氧化反应热，蒸发的含水乙酸伴随着氧化反应排除气体一起排出。
含有蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体经一个或两个或更多冷凝器冷凝，分离成含水乙酸和由不能冷凝的成分组成的氧化反应排出气体。得到的氧化反应排出气体直接排出反应体系之外，或，如果需要，经过一个有价值成分回收步骤和/或能量回收步骤。
如此分离的含水乙酸一部分送入脱水步骤除去氧化反应形成的水，而脱水的乙酸作为溶剂重新用于氧化反应。剩余的如此分离的含水乙酸直接返回反应器作为溶剂重新用于氧化反应。
含分子氧的气体连续从氧化反应塔底部或其附近送入，气体穿过其中的液体上升，产生有力的搅拌，从而进行多烷基芳烃的氧化反应。
前述多烷基芳烃的氧化方法特征在于反应速度很高，已经作为商业方法在芳族羧酸的生产中使用了多年。
上述用于生产芳族羧酸的方法的一个问题在于固体物质伴随着在反应器顶部或其附近排出的氧化反应排出气体。前述固体物质不但包括各自伴随氧化反应排出气体的芳族羧酸的细小固体、反应副产物和中间产物，还包括各自溶解在伴随的液滴中的芳族羧酸、反应副产物、中间产物、催化成分等。
伴随氧化反应排出气体的固体物质有附着管道壁、在气体物流下游一侧机器和设备内壁、从而损害反应设备平稳运行的危险。固体物质对紧临反应器下游侧的冷凝器壁附着的危险是特别成问题的。当固体物质，即使是少量的，附着在该冷凝器的壁上，就会显著抑制热传递，从而损害冷凝器的正常运行。如果发生最严重的情况，由于固体物质蓄积导致的阻断会抑制气体物流本身。
在这种情况下，提出各种对策最大限度地抑制前述伴随氧化反应排出气体的固体物质。这些建议包括例如一种包括在反应器中液面上方保持较大的空间的方法，一种包括在剧烈鼓泡的液体表面和氧化反应排出气体出口之间设置一些挡板或类似物的方法，一种包括通过设计和改进已冷凝的作为溶剂的含水乙酸返回反应器的机理对固体物质进行清洁作用的方法，等等。
即使设计了上述任何一个或所有的方法，仍然不能最好地消除伴随氧化反应排出气体的成问题的固体物质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种方法，在通过氧化多烷基芳烃生产芳族羧酸的过程中，近乎完美地消除冷凝器中由伴随氧化反应排出气体的固体物质导致的问题和障碍的发生。
下文公开的详细说明显示了本发明的其它目的。
作为本发明人有力研究和调查的结果，已经发现通过将部分溶剂提供到将氧化反应排出气体导入冷凝器的入口能够防止前述由于伴随氧化反应排出气体的固体物质导致的冷凝器中的问题和阻塞。本发明通过上述发现和信息得以完成。
本发明特别提供一种连续生产芳族羧酸的方法，其包括：
(A)通过连续将多烷基芳烃、催化剂、反应促进剂、含水乙酸和含分子氧气的气体提供给氧化反应器，将所述的烃进行液相氧化；
(B)连续从氧化反应器中取出含有芳族羧酸的反应产物，将其分离成粗芳族羧酸和含水乙酸；和
(C)连续从氧化反应器中取出含有蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体，将所述气体引入冷凝器，冷凝蒸发的含水乙酸，
其中步骤(C)进一步包括将含水乙酸提供给将氧化反应排出气体导入冷凝器的入口管线。
附图说明
附图1是简易工艺流程图，表示根据本发明的生产芳族羧酸方法阿的一个例子，其中符号具有下述定义：10：氧化反应器，20：冷凝器，30：分离器，40：干燥器
优选实施方案
在根据本发明方法中作为起始原料使用的多烷基芳烃的例子包括二-和三-烷基苯，诸如邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、三甲基苯、2，6-二甲基萘、2，7-二甲基萘、2，6-二异丙基萘和4，4’-二甲基联苯；多烷基萘和多烷基联苯。
通过氧化多烷基芳烃得到的芳族羧酸的例子包括邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、苯三甲酸、2，6-萘二羧酸、2，7-萘二羧酸和4，4’-联苯二羧酸。
根据本发明的方法可选择性地适用于这些芳族羧酸中间苯二羧酸、对苯二羧酸、1，2，4-苯三酸和萘二羧酸的制备。
作为用于氧化反应的催化剂，通常使用钴化合物和锰化合物。作为反应促进剂，通常使用溴化合物。
作为溶剂的含水乙酸中水含量通常为1-30重量％，优选2-20重量％。
在附图1所述的方法中，多烷基芳族烃、催化剂、反应促进剂和作为溶剂的含水乙酸单独地或作为前述所有成分任选两种或多种的混合物经管线11或多个管线加入氧化反应器10中。含有分子氧的加压气体(通常为空气)经管线12加入氧化反应器10。控制空气的加入速度，从而使经管线13排出的氧化反应排出气体中氧以不含溶剂为基础的浓度最多为8体积％。
氧化反应器中的反应温度根据作为起始原料的多烷基芳烃和各个催化剂和反应促进剂的选择变化很大，在大多数情况下在120-250℃范围内。在规定的反应温度，氧化反应器中的压力只需达到能够保持起始原料和作为溶剂的含水乙酸实质上为液态的水平。
氧化反应器10是罐式或塔式容器，通常装配有搅拌器，但是并不总是需要。在氧化反应器10内部，在催化剂和反应促进剂存在下由含分子氧的气体对多烷基芳烃进行氧化反应。伴随氧化反应放出大量热。
由于部分含水乙酸的蒸发，作为氧化反应的结果生成的反应热从氧化反应器10通过蒸发的潜热除去。生成的蒸汽与少量分解的产物等伴随着氧化反应排出气体在氧化反应器10的顶部经管线13排出，引入一个或两个或更多个冷凝器20中。
在冷凝器20中已经冷却并凝结的冷凝液主要由含水乙酸组成，其中一部分经管线23排出反应体系之外，剩余的部分经管线24返回氧化反应器10。不能冷凝的成分经管线21排出反应体系之外。
根据本发明的方法重点在于在将氧化反应排出气体引向冷凝器20的入口管线中注入含水乙酸。对于注入的含水乙酸的化学成分或性质没有限定。因此，可使用任意的含水乙酸，无论存在于反应体系之内或之外。但是，最好的方法是如附图1所示，其中通过在冷凝器20中冷凝得到的冷凝液经泵25注入。冷凝液虽然在附图1中通过从管线22中途分支排出，但是也可以通过从管线23或24中途分支排出。
在附图1的工艺中，含水乙酸实质上通过将泵25的输出管线26连接到管线13注入将氧化反应排出气体引向冷凝器20的入口管线中，但是显然冷凝液可直接注入冷凝器20中，而不受到附图1工艺流程的限制。
要注入冷凝器20中的含水乙酸，即使量少，也表现出其功效。通常，基于10000重量份粗芳族羧酸，适合的量是10-5000重量份。
根据本发明的工艺，通过将含水乙酸注入冷凝器20的入口管线，可以近乎完美地消除由伴随氧化反应排出气体的固体物质造成的冷凝器中发生的问题和阻塞。
在反应器中通过氧化反应形成的含芳族羧酸的物流经管线14排出，如果需要进行进一步的氧化步骤和冷却结晶步骤，并引入分离器30。在分离器30中，晶体芳族羧酸从母液中分离出来，送入干燥器40，在此将粗芳族羧酸制成目标产物。
在分离器30中已分离的母液一部分排出反应体系之外，剩余的循环到氧化反应器10中。
总之，根据本发明通过氧化多烷基芳族烃生产芳族羧酸的工艺的功效和优点，通过将含水乙酸提供到冷凝器入口管线中，令氧化反应排出气体从中经过，能够近乎完美地消除伴随氧化反应排出气体的固体物质导致的在冷凝器中发生的问题和阻塞，从而进行稳定的操作。
在下文中，本发明参考操作实施例和比较实施例更详细地说明，但是它们不限制本发明。
根据附图1所述的简要工艺流程图进行下述实施例和对比实施例，其中氧化反应器10是罐式的，并且在内部装配了搅拌装置，冷凝器20是管壳式热交换器，其中包括含水乙酸的氧化反应排出气体经过管侧。
在实施例和比较实施例中各个成分的量用生产10000重量份粗对苯二甲酸所需的重量份表示。
实施例1
经管线11向氧化反应器10加入作为起始原料的混合物，其含有22000重量份含水乙酸(水含量10重量％)和6500份对二甲苯，含水乙酸中溶解了作为催化剂的9.1份Co、5.6份Mn和15份Br，经管线12加入31000份空气。反应器内部通过搅拌器剧烈搅拌，从而空气流在设定的190摄氏度反应温度进行氧化反应。经管线14排出氧化反应产物，该产物是淤浆溶液的形式，在含水乙酸中含有约30重量％的对苯二甲酸。淤浆溶液送入分离器30，在此分离成含水乙酸和湿晶体。得到的湿晶体在干燥器40中干燥，生成10000份粗对苯二甲酸作为目标产物。
伴随着大量蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体经氧化反应器10的顶部排入管线13。乙酸和水的混合蒸气在冷凝器20中冷凝，经管线22排出含水乙酸。同时，部分生成的含水乙酸经管线23排出反应体系之外，剩余的经管线24返回氧化反应器10。
此外，冷凝器20中冷凝液(含水乙酸)中的500份经管线24中途分支的管线通过泵25中途加入到管线13中。
对苯二甲酸的连续生产进行约5个月，同时以上述方式将含水乙酸注入到将氧化反应排出气体引入冷凝器20的入口管线中。
运行完成后，对冷凝器20分解检查以调查固体物质。结果，几乎看不到固体物质的附着或沉积。比较实施例1
用与实施例1相同的方法通过氧化对二甲苯连续生产对苯二甲酸，除了不将冷凝液注入将氧化反应排出气体引入冷凝器20的入口管线。特定地，经管线11向氧化反应器10加入作为起始原料的混合物，其含有22000重量份含水乙酸(水含量10重量％)和6500份对二甲苯，含水乙酸中溶解了作为催化剂的9.1份Co、5.6份Mn和15份Br，经管线12加入31000份空气。反应器内部通过搅拌器剧烈搅拌，从而空气流在设定的190摄氏度反应温度进行氧化反应。经管线14排出氧化反应产物，该产物是淤浆溶液的形式，在含水乙酸中含有约30重量％的对苯二甲酸。淤浆溶液送入分离器30，在此分离成含水乙酸和湿晶体。得到的湿晶体在干燥器40中干燥，生成10000份粗对苯二甲酸作为目标产物。
伴随着大量蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体经氧化反应器10的顶部排入管线13。乙酸和水的混合蒸气在冷凝器20中冷凝，作为含水乙酸经管线22排出。同时，部分生成的含水乙酸经管线23排出反应体系之外，剩余的经管线24返回氧化反应器10。
不使用泵25和管线26，对苯二甲酸的连续生产进行约5个月。运行完成后，对冷凝器20分解检查以调查固体物质。结果，在氧化反应排出气体的入口侧附着和沉积了大量固体物质，管道的约30％被堵塞。
Claims (4)
1.一种连续生产芳族羧酸的方法，其包括：
(A)通过连续将多烷基芳烃、催化剂、反应促进剂、含水乙酸和含分子氧气的气体提供给氧化反应器，将所述的烃进行液相氧化；
(B)连续从氧化反应器中取出含有芳族羧酸的反应产物，将其分离成粗芳族羧酸和含水乙酸；和
(C)连续从氧化反应器中取出含有蒸发的含水乙酸的氧化反应排出气体，将所述气体引入冷凝器，冷凝蒸发的含水乙酸，其中步骤(C)进一步包括将含水乙酸提供给将氧化反应排出气体导入冷凝器的入口管线。
2.根据权利要求1的连续生产芳族羧酸的方法，其中提供给将氧化反应排出气体引入冷凝器的入口管线的含水乙酸是冷凝器中冷凝的含水乙酸。
3.根据权利要求1或2的连续生产芳族羧酸的方法，其中基于10000重量份粗芳族羧酸，提供给将氧化反应排出气体引入冷凝器的入口管线的含水乙酸的量在10-5000重量份范围内。
4.根据前述权利要求任何一项的连续生产芳族羧酸的方法，其中多烷基芳族烃是对二甲苯，芳族羧酸是对苯二甲酸。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001013243A JP4809534B2 (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | 芳香族カルボン酸の製造法 |
| JP013243/2001 | 2001-01-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1367163A true CN1367163A (zh) | 2002-09-04 |
| CN1209335C CN1209335C (zh) | 2005-07-06 |
Family
ID=18880130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN02102454.5A Expired - Fee Related CN1209335C (zh) | 2001-01-22 | 2002-01-22 | 生产芳族羧酸的方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6620966B2 (zh) |
| EP (1) | EP1225164B1 (zh) |
| JP (1) | JP4809534B2 (zh) |
| CN (1) | CN1209335C (zh) |
| DE (1) | DE60200401T2 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102076408B (zh) * | 2008-04-30 | 2014-08-27 | 英威达技术有限公司 | 用于制备芳族羧酸的在超临界或近超临界水中的催化氧化反应 |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6657068B2 (en) | 2002-03-22 | 2003-12-02 | General Electric Company | Liquid phase oxidation of halogenated ortho-xylenes |
| US6649773B2 (en) | 2002-03-22 | 2003-11-18 | General Electric Company | Method for the manufacture of halophthalic acids and anhydrides |
| US6657067B2 (en) | 2002-03-22 | 2003-12-02 | General Electric Company | Method for the manufacture of chlorophthalic anhydride |
| US20050256335A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-11-17 | Ovidiu Marin | Providing gases to aromatic carboxylic acid manufacturing processes |
| US7504535B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-17 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7568361B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-08-04 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7582793B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-09-01 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7572936B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-08-11 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7507857B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-24 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7381836B2 (en) | 2004-09-02 | 2008-06-03 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7910769B2 (en) | 2004-09-02 | 2011-03-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7589231B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-09-15 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7692037B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7683210B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-03-23 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7741515B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-06-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7692036B2 (en) | 2004-11-29 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| US7550627B2 (en) * | 2005-03-08 | 2009-06-23 | Eastman Chemical Company | Processes for producing aromatic dicarboxylic acids |
| US20060205974A1 (en) * | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Lavoie Gino G | Processes for producing aromatic dicarboxylic acids |
| US7884232B2 (en) | 2005-06-16 | 2011-02-08 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
| KR100744754B1 (ko) | 2005-12-13 | 2007-08-01 | 삼성석유화학(주) | 방향족 카르복실산의 제조방법 |
| US8173836B2 (en) * | 2006-03-01 | 2012-05-08 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Method and apparatus for drying carboxylic acid |
| US8697906B2 (en) * | 2006-03-01 | 2014-04-15 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Methods and apparatus for producing a low-moisture carboxylic acid wet cake |
| DE102007004982A1 (de) * | 2007-02-01 | 2008-08-14 | Ziag Plant Engineering Gmbh | Verfahren zur Nutzung der Oxidationsabgase bei der Terephthalsäureherstellung |
| US8246751B2 (en) | 2010-10-01 | 2012-08-21 | General Electric Company | Pulsed detonation cleaning systems and methods |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5130102A (en) * | 1990-06-11 | 1992-07-14 | Chemical Research & Licensing Company | Catalytic distillation reactor |
| JP3198711B2 (ja) * | 1993-03-30 | 2001-08-13 | 三井化学株式会社 | テレフタル酸の製造方法および装置 |
| JP3433526B2 (ja) * | 1994-09-19 | 2003-08-04 | 三菱化学株式会社 | 晶析槽の運転方法 |
| US5612007A (en) * | 1994-10-14 | 1997-03-18 | Amoco Corporation | Apparatus for preparing aromatic carboxylic acids with efficient energy recovery |
| JP3864561B2 (ja) * | 1998-06-05 | 2007-01-10 | 三井化学株式会社 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
| KR20000005733A (ko) * | 1998-06-05 | 2000-01-25 | 나까니시 히로유끼 | 방향족카복실산의제조방법 |
| JP4061754B2 (ja) * | 1998-12-10 | 2008-03-19 | 株式会社Ｉｈｉ | 灰溶融炉の排ガス管清掃装置 |
-
2001
- 2001-01-22 JP JP2001013243A patent/JP4809534B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-01-15 EP EP02000846A patent/EP1225164B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-15 DE DE60200401T patent/DE60200401T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-16 US US10/046,248 patent/US6620966B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-22 CN CN02102454.5A patent/CN1209335C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102076408B (zh) * | 2008-04-30 | 2014-08-27 | 英威达技术有限公司 | 用于制备芳族羧酸的在超临界或近超临界水中的催化氧化反应 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4809534B2 (ja) | 2011-11-09 |
| DE60200401D1 (de) | 2004-06-03 |
| DE60200401T2 (de) | 2004-09-02 |
| JP2002212133A (ja) | 2002-07-31 |
| CN1209335C (zh) | 2005-07-06 |
| US20020099240A1 (en) | 2002-07-25 |
| US6620966B2 (en) | 2003-09-16 |
| EP1225164B1 (en) | 2004-04-28 |
| EP1225164A1 (en) | 2002-07-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1209335C (zh) | 生产芳族羧酸的方法 | |
| CN1022827C (zh) | 生产芳香多元羧酸的改进方法 | |
| US4827025A (en) | Process for the production of aromatic carboxylic acids | |
| RU2337903C2 (ru) | Способ двустадийного окисления для получения ароматических дикарбоновых кислот | |
| CN1258512C (zh) | 精制的对苯二甲酸的制备方法 | |
| CN100516006C (zh) | 易聚合的物质的制造方法 | |
| EP1989165B1 (en) | Carboxylic acid production process | |
| CN1395554A (zh) | 在苯甲酸和水溶剂中氧化生产高纯芳香羧酸的方法 | |
| RU2687489C1 (ru) | Улучшенный способ и устройство для производства ароматических карбоновых кислот | |
| RU2678993C2 (ru) | Рецикл конденсата высокого давления при производстве очищенных ароматических карбоновых кислот | |
| CN1077875C (zh) | 制备芳族羧酸的方法和设备 | |
| CN1022237C (zh) | 含异丁烯酸反应物气体的骤冷方法及骤冷液的处理方法 | |
| AU2005247887A1 (en) | Recycling 2,6-naphthalenedicarboxylic acid (2,6-NDA) contained in polyethylene naphthalate in a process to produce diesters | |
| US4172209A (en) | Process for producing dicarboxylic acids by the oxidation of xylene | |
| EP3197856A1 (en) | Production of an aromatic dicarboxylic acid | |
| KR100897078B1 (ko) | 말레산 무수물의 흡수를 위해 사용된 유기 용매를정제하는 방법 | |
| MX2008010938A (es) | Proceso de purga de subproducto de oxidacion versatil. | |
| EP3945086B1 (de) | C-4 basiertes verfahren zur herstellung von mma unter rückführung und recyclierung von methacrolein | |
| CN110944972A (zh) | 制造芳族羧酸的方法 | |
| JP2002326001A (ja) | 共沸蒸留方法 | |
| WO2002068083A1 (fr) | Methode de distillation azeotropique | |
| RU2574394C2 (ru) | Производство ароматических карбоновых кислот | |
| JP2991273B2 (ja) | ２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルの製造法 | |
| CN101395121A (zh) | 通用的氧化副产物净化方法 | |
| JP2002326972A (ja) | 共沸蒸留方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Free format text: FORMER OWNER: TOYOBO CO., LTD. MIZUSHIMA AROMA CO., LTD. Effective date: 20150722 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Tokyo, Japan Patentee after: MITSUBISHI GAS CHEMICAL Co.,Inc. Patentee after: TOYOBO Co.,Ltd. Patentee after: Mizushima Aroma Co.,Ltd. Address before: Tokyo, Japan Patentee before: MITSUBISHI GAS CHEMICAL Co.,Inc. Patentee before: Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Patentee before: Mizushima Aroma Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20150722 Address after: Tokyo, Japan Patentee after: MITSUBISHI GAS CHEMICAL Co.,Inc. Address before: Tokyo, Japan Patentee before: MITSUBISHI GAS CHEMICAL Co.,Inc. Patentee before: TOYOBO Co.,Ltd. Patentee before: Mizushima Aroma Co.,Ltd. |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20050706 Termination date: 20190122 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |