CN1336028A - 气体放电管 - Google Patents
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Abstract
本发明揭示了一种在端电极具有化学惰性表面的新型气体放电管。由于该表面能够避免如氧化物层的形成,与现有技术的设备相比,根据本发明的放电管就会呈现出较高的选择能力和较好的性能(例如,较高的耐热性和较长的寿命期),同时它还提供了一种环境能够接收的技术方案。
Description
技术领域
本发明涉及气体放电管领域，该放电管包括电涌放电器(避雷器)，高强度放电管，火花隙和触发火花隙，它可以在不同应用设备，如通信网络的浪涌电压防护装置中使用，特别是，本发明涉及一种呈现较高选择能力、具有良好特性和有益于环境的新型设备。
背景技术
电子设备与长信号或电源线，天线等相连接时，它容易受到感应产生的、雷电或电磁脉冲(EMP)引起的瞬变过程的影响。电涌放电器通过吸收瞬变过程中的电能或将它与大地相连接避免设备受到损坏。电涌放电器需要自动恢复，能够处理重复瞬变，并不会失效。一个重要特性是引燃的速度和选择能力，换句话说，电涌放电器必须有效运行而没有延时，还不能太灵敏，它用标准的通信信号触发。这些性能在规定时间应该不变，与引燃时间间隔无关。而且，电涌放电器应该适于进行高质量统一标准的批量生产。
充气放电管不仅用于保护电子设备，而且还经常用作电源开关电路如汽车产品中象气体放电前灯中的开关装置。其它的应用范围包括遥控和数据通信、声频/视频设备、电源、工业、医疗设备、安全和军事应用。
早期的电涌放电器包括两个被空气间隙或云母层分隔的固体石墨电极。然而，它们在体积，可靠性，产品性能和生产技术方面与现代的电涌放电器相比，不能同日而语。
现代常用的电涌放电器是充气放电管，它可具有一个或数个放电路径或放电间隙，通常包括两个端电极，可任意地外加一个辅助电极，该辅助电极以中心电极的形式外加在一个或两个中空圆柱形绝缘体，该圆柱形绝缘体由电绝缘材料，如陶瓷，合适的聚合物，玻璃等制成。通常，两电极的电涌放电器中的绝缘体焊接到端电极的两侧，将它们连接成密封的真空。
例如，在US-A-4,437,845中简述了一种制造常用电涌放电器的方法。根据US-A-4,437,845，该制造过程包括在轻的气体与另一种气体相混合的大致为大气压和合适的温度的情况下密封管子的部件，考虑到管子的预期功能，另一种气体需要比上述第一种气体重，使管子的外部气压降低在大气压之下，同时将该温度降低到一定程度使重气体轻微地经过扩散和/或渗透穿透管壁，所密闭的轻的气体能够通过管壁进行扩散和/或渗透，这样，由于压力差的原因，发光气体就会通过管壁排出，因此就会引起管子内部整个气压的降低。
此外，在US-A-5,103,135中揭示了一种电涌放电器部件的外涂层，其中锡涂层用在电极上，环形保护涂层用在至少为1mm厚的陶瓷绝缘体上。这种保护涂层由耐酸和耐热的染料或清漆形成，它在电涌放电器的轴向是连续不断的。这种保护涂层可以形成电涌放电器的识别部分。例如，这种识别可以做成保护涂层上的反向印记形式。此外，涂锡的引线可与电极相连接。
US-A-4,672,259揭示了一种防止电气设备过压和具有强电流量的功率火花隙，其中火花隙包括两个碳电极，每个碳电极具有一半球形结构和一绝缘陶瓷外壳，由此碳电极包含深入其内部的通风孔以将电弧传输提供给内部的坚固电极材料。火花隙是供高压线路用的，其中所期望的火花长度大约为2.5cm(1英寸)，传输140kV左右的电压。这种火花隙不是密封充气型的，但是它可自由地与空气相通。所形成的电弧从相应的下设电极开始，并穿过通孔。因此，火花的形成在很大程度上是由下设材料所确定的，这种材料必须是活性的，但是由于它在存在的环境中会被氧化，这就意味着火花电压不能确定和重现。
US-A-4,407,849揭示了一种火花隙设备，特别是一种该火花隙电极上的涂层，它便于尽可能地减少细丝的形成。该涂层用在下设电极上，因此该涂层由石墨形式的碳组成。浪涌限制器是充气的那种。该参考文献没有提出在电极上是否具有一惰性表面的问题，或任何与此相关的问题。
上述灵敏和恢复的问题通过在电极表面或其它地方使用电子给体已经论述过。这种电子给体可包括放射性元素，如超重氢和/或有毒的碱金属，如钡。很显然这种方案具有明显的缺点，特别是与放射性的和/或有毒的部件有关的缺点。
发明内容
本发明的目的就是使气体放电管能够适用于所有相关的应用领域，上述气体放电管呈现较高的选择能力，具有良好特性(如较高的耐热性和较长的寿命期)，不会产生放射性或破坏环境的复合物。
本发明的目的是通过避免形成任何层，如在电极表面上，特别是在端电极的相对表面上形成的氧化或氢化层而实现的。假设金属电极表面上氧化物的形成会影响放电的启动电压。与放电室中的高真空无关，氧气和其它元素的残留总是存在的。通过避免层的形成或电极表面的氧化，放电管将会在相同电压或至少在较窄的间隔内重复地起作用。
附图说明
本发明将参考附图在下面作详细地描述，其中：
图1表示具有两个电极的典型气体放电管的剖视图；
图2表示具有多个电极的气体放电管的剖视图。
具体实施方式
通用的气体放电管至少包括两个电极，它们与一中空绝缘体相连接。如图1所示的是一种常用类型的气体放电管，它包括两个端电极1和2，每个电极包括一个凸缘状的基座和至少一个中空圆柱形绝缘体3，该绝缘体焊接在至少一个端电极的基座上。避免层形成的本发明的涂层或部件就是如图所示的两个电极上的栅格区(screened area)4。不考虑气体放电管的类型，至少阴极具有本发明的层或是本发明的材料或结构是十分重要的，下面将作描述。然而，所有电极最好都具有这种层或结构，因为瞬变的极性是可变的。
图2所示的多电极管除了上述的部件外，还包括一中心电极5。这里本发明的涂层或部件也如图所示的栅格区4，栅格区出现在所有电极上。
最好是至少上述相对电极的相对表面的部分覆盖有层或能够避免层如氧化层形成的复合物或元素的涂层。其它不需要的层，即本发明的意图在于避免它们的形成，例如是氢化物。通常来说，表述的“不需要的层”包括任何通过与周围复合物，如气体放电管中的气体相互作用在电极上形成的层，这些层能够对放电管的特性产生影响。
形成本发明层和避免不需要层形成的复合物可以是具有较高稳定性的金属合金，如钛的金属，或实际上是不活泼元素，如金。该复合物可以是一种碳化合物，最好是具有金属如铬或钛的碳。
在这种情况下，碳就被定义为任意的多晶碳，如金刚石，金刚石状的碳或石墨。碳还可包含其它元素，象含量由应用决定，如可高达15％的一种或几种金属。
上述端电极的相对表面最好覆盖一涂层或石墨层，上述层包括附加的金属，如铬或钛。根据本发明的一个实施例，惰性表面或抗氧化涂层或层经过化学电镀，溅射等敷在电极上。抗氧化层最好用本领域技术人员所熟知的常用的溅射或等离子体淀积技术敷成。
根据本发明能够应用的工艺方法包括化学气相淀积(CVD)，物理气相淀积(PVD)是一种淀积在衬底上的涂层。溅射是一种物理淀积工艺，它是目前所掌握的最好应用技术。在溅射工艺方法中，材料是通过用高能离子，通常是氩离子轰击阴极进行溅射的。离子撞击目标材料，离子时，原子将会溅离开并淀积在衬底上。这种工艺在溅射过程中通常需要高真空或至少是低真空。衬底通过反向执行该过程，安装衬底作为阴极，并轰击阴极能被方便地清洗。通过改变气相的成分就能影响淀积层的组成。在一种应用中，如果希望含碳材料淀积时，就可使用如甲烷的气态碳氢化合物。石墨阴极也可用作碳源。例如，使用铬阴极的甲烷将会形成活性溅射过程，导致具有附加铬的石墨层的淀积。典型的淀积率大约为1μm/h或更小。正常的溅射时间间隔大约为4至8小时。依据所需层的厚度，所使用的时间可长点或短点。改变阴极材料和气相成分，就可形成不同的涂层。
在金属涂层的情况下，也能使用电镀工艺或所谓的无电镀工艺。这些工艺特别适用于由上述金属如金或铂组成的涂层。
根据本发明的一个实施例，电极的表面仅有部分，例如在相对电极方向上的较小区域中进行涂层。作为本发明的另一个实施例，电极的一部分是由惰性材料组成，例如是由插入或烧结固定在电极的金属基底上的含碳体组成。可以想象该电极能够作为一金属基底制造，例如一个覆盖或封闭石墨本体的铜或铝的基底，该石墨本体至少在一相对的电极方向上至少形成一表面。
根据本发明的具有电极表面的电涌放电器与现有的设备相比具有较低的电弧电压和较窄的静态引燃电压分布。
此外，本发明提供了一种容易在现有电涌放电器设计中实施和适用于批量生产的方案。而且，与目前使用的包含放射性气体如超重氢，和/或有毒化合物如钡盐的电涌放电器相比，根据本发明的方案不会对环境产生任何负面影响，或需要特别的废物处理工艺。充气电涌放电器中使用的气体尤其是氮气，氦气，氩气，甲烷，氢气等或其混合物。
本发明将通过一非限定的制造实例加以说明解释，该实例根据本发明的一个实施例描述了电涌放电器的制造过程。
制造实例
电涌放电器通过将一批铜电极经过下面的步骤处理进行制造：首先，电极在溶剂中经过清洗，去除疏松的杂质，润滑油或油脂的痕迹。然后电极放置在一掩膜中，暴露将被涂层的区域。接着放置在掩膜中被清洗过的一组电极放入抽成真空的溅射室内。然后电极通过反向溅射进行清洗，从电极中去除杂质。接着电流反向流动，甲烷进入溅射室中。通过提供铬阴极形式的铬，就能实现活性溅射的过程。电极形成一具有附加铬原子的石墨层，铬原子吸持在石墨层上。最后，溅射过程结束，涂层过的电极移离溅射室，再经过标准的质量控制。
经过涂层的电极呈现了良好的改进性能，如较高的耐热性。使用经过涂层电极所制造的电涌放电器呈现了良好的改进性能，如较低的电弧电压，较窄引燃电压的分布，还具有良好的改进速度和选择能力及较长的寿命期。
虽然本发明对其较佳实施例已作出描述，该实施例构成了本发明人目前所知道的最佳实例，但是应该明白本领域的普通技术人员可对其作出各种变化和修改，并没有脱离后面权利要求所提出的本发明的保护范围。
Claims (12)
1.气体放电管，它包括至少两个电极和至少一个与至少其中之一的电极固定的中空绝缘体，其特征在于：上述至少两个电极具有一化学惰性表面。
2.如权利要求1所述的气体放电管，其特征在于：该惰性表面能够避免通过与周围的复合物，如包含在气体放电管中的气体相互作用在电极上形成任何层，其中这些层能够影响放电管的性能。
3.如权利要求2所述的气体放电管，其特征在于：该惰性表面能够避免任何氧化物或氢化物层的形成。
4.如权利要求1-3中一个或多个所述的气体放电管，其特征在于：至少上述电极的一个表面覆盖一复合物涂层，该涂层能够避免层，如氧化物层的形成。
5.如权利要求4所述的气体放电管，其特征在于：上述涂层包括碳。
6.如权利要求5所述的气体放电管，其特征在于：上述涂层包括石墨。
7.如权利要求1-6中一个或多个所述的气体放电管，其特征在于：至少一个电极还包括铬或钛元素。
8.如权利要求1所述的气体放电管，其特征在于：至少其中之一的电极由一种能够避免层，如氧化物和氢化物层形成的材料制成。
9.气体放电管的制造方法，该放电管包括至少两个电极，和至少一个与电极固定的中空绝缘体，其特征在于：上述每个电极的至少一个表面要敷上化学惰性涂层，如一种能够避免氧化物或氢化物层形成的涂层。
10.气体放电管的制造方法，该放电管包括至少两个电极，和至少一个与电极固定的中空绝缘体，其特征在于：至少上述其中之一的电极由一种能够避免氧化物和氢化物层形成的材料制成。
11.如权利要求9所述的方法，其特征在于：该涂层是通过物理气相淀积施加的。
12.如权利要求9和11所述的方法，其特征在于：该涂层包括铬或钛。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103441053A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-12-11 | 深圳市槟城电子有限公司 | 集成气体放电管及其制备方法 |
| CN103681173A (zh) * | 2013-11-19 | 2014-03-26 | 镇江市电子管厂 | 断续流大功率陶瓷放电管 |
| CN107507756A (zh) * | 2013-02-22 | 2017-12-22 | 伯恩斯公司 | 与气体放电管相关的器件和方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| MX2007006127A (es) * | 2004-11-22 | 2007-07-13 | Home Diagnostics Inc | Bionsensores que comprenden electrodos semiconductores o mediadores que contienen rutenio y metodo de uso de los mismos. |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3070613D1 (en) * | 1980-07-30 | 1985-06-13 | Reliance Electric Co | Surge voltage arrester with ventsafe feature |
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| JPS60171299A (ja) * | 1983-11-28 | 1985-09-04 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | ダイヤモンド薄膜およびその製造法 |
| JPS616198A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | ダイヤモンド薄膜の製造法 |
| US4672259A (en) * | 1985-10-23 | 1987-06-09 | Westinghouse Electric Corp. | Power spark gap assembly for high current conduction with improved sparkover level control |
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| BR9204887A (pt) * | 1991-12-23 | 1993-06-29 | Comision Nac Energ Atom | Processo para formar sobre um substrato solido uma pelicula de propriedade similares as do diamante,os corpos solidos assim revestidos e a pelicula revestida assim obtida |
| JP2737720B2 (ja) * | 1995-10-12 | 1998-04-08 | 日本電気株式会社 | 薄膜形成方法及び装置 |
| DE19632417C1 (de) | 1996-08-05 | 1998-05-07 | Siemens Ag | Gasgefüllter Überspannungsableiter mit Elektroden-Aktivierungsmasse |
| TW353758B (en) * | 1996-09-30 | 1999-03-01 | Motorola Inc | Electron emissive film and method |
| JPH10285793A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-23 | Okaya Electric Ind Co Ltd | 電界電子放出型サージ吸収素子及びその製造方法 |
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| JP2000012186A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-14 | Mitsubishi Materials Corp | サージアブソーバ |
-
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-
1999
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107507756A (zh) * | 2013-02-22 | 2017-12-22 | 伯恩斯公司 | 与气体放电管相关的器件和方法 |
| CN103441053A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-12-11 | 深圳市槟城电子有限公司 | 集成气体放电管及其制备方法 |
| CN103681173A (zh) * | 2013-11-19 | 2014-03-26 | 镇江市电子管厂 | 断续流大功率陶瓷放电管 |
| WO2022222211A1 (zh) * | 2021-04-21 | 2022-10-27 | 深圳市瑞隆源电子有限公司 | 气体放电管及其制造方法 |
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