CN1318651A

CN1318651A - 荫罩用Fe－Ni合金和杂质观察法和电子线透过孔均匀性判别法

Info

Publication number: CN1318651A
Application number: CN01111269A
Authority: CN
Inventors: 喜多芳久; 波多野隆绍
Original assignee: Nippon Mining and Metals Co Ltd
Current assignee: Nippon Mining Holdings Inc
Priority date: 2000-04-19
Filing date: 2001-03-15
Publication date: 2001-10-24
Anticipated expiration: 2021-03-15
Also published as: KR20010098399A; JP2001303198A; CN1120246C

Abstract

本发明提供Ni:34～38%、Mn:0.5%以下、余量Fe和不可避免的杂质或伴随元素的C:0.10%以下、Si:0.30%以下、Al:0.30%以下、S:0.005%以下、P:0.005%以下的荫罩用Fe－Ni合金,且此材料表面镜面抛光后,在3%硝酸－乙醇溶液中20℃下,浸渍30秒钟时,直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔的出现频率为2000个/mm²以上。和在Fe－Ni合金材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法以及由蚀刻加工穿设电子线透过孔时孔径均匀性的判别方法。

Description

荫罩用Fe-Ni合金和杂质观察法和电子线透过孔均匀性判别法

本发明涉及用于以微细蚀刻加工穿孔的荫罩用Fe-Ni合金原材料，特别是涉及用蚀刻加工穿设电子线透过孔时，可得孔径均匀的电子线透过孔的Fe-Ni合金荫罩用原材料。本发明也涉及在Fe-Ni合金原材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法以及Fe-Ni合金荫罩用原材料的、用蚀刻加工穿设电子线透过孔时的电子线透过孔的孔径均匀性的事前判别方法。

历来，彩色阴极射线管用的荫罩一般使用软钢。然而，若连续使用阴极射线管，则由于电子线的照射，荫罩的温度上升，由于热膨胀，荧光体和电子线照射位置变得不一致起来，产生套色不准。也即，在使彩色显像管运行时，通过荫罩孔的电子束是全部电子束的1/3以下，而其余的电子束则轰击在荫罩上，所以引起荫罩的温度上升。

因此，在彩色阴极射线管用的荫罩领域，从套色不准的观点出发，使用低热膨胀系数的、被称为“36合金”的Fe-Ni合金。

作为Fe-Ni合金荫罩用原材料的制造方法是：将规定的Fe-Ni合金经例如用VIM炉的真空冶炼或用LF的炉外精炼熔制后，铸造成锭，锻造后热轧，除去扁坯表面的氧化皮，反复进行冷轧和退火(再结晶退火)，最终退火后，进行最终冷轧，使精加工到厚0.3mm以下预定片厚。随后，纵切之，得到规定板宽的荫罩用原材料。脱脂后，两面涂敷光刻胶，随后烤出图形使显像后，用蚀刻液穿孔加工，经将每片切断，得到平面屏罩。将平面屏罩在非氧化性气氛气中退火使其具有冲压加工性后(在普雷斯阿尼尔法中，此退火是在蚀刻前对最终轧材施行的)，用冲压球面成型为屏罩形态。最后，将球面成型的屏罩脱脂后，在水蒸汽或燃气气氛气中进行黑化处理，形成在表面上的黑化氧化膜。这样制成了荫罩。

在本发明中，将供给最后冷轧后的电子线透过孔蚀刻加工的材料总称之为荫罩用原材料。

这样的荫罩一般使用氯化铁通过众所周知的蚀刻加工形成电子线的透过孔。蚀刻加工是应用光刻技术形成在合金带的一侧表面上具有多数例如直径80μm的正圆形开孔部、而在另一侧表面的相对位置上形成具有例如直径180μm的正圆形开孔部的掩膜后，将氯化铁水溶液雾状喷涂。

通过此蚀刻加工得到具有致密而排列整齐的微小开孔部的荫罩，但由于蚀刻条件局部的参差而产生开孔部直径的参差。此参差如变大，则将荫罩组装入阴极射线管时，将成为套色不准的产品而不适用。历来，此开孔部直径的参差是蚀刻加工荫罩时成品率下降，成本增大的主要原因。

关于开孔部直径参差的抑制问题，过去曾作过各种研究，在材料方面，例如特开平05-08 6441号和特开平10-111614号提出通过控制集合组织来防止该参差的方法。这些方法企图通过集合组织的控制达到蚀刻加工的均匀性。

然而，通过本发明人的锐意研究，结果弄清：有用这样的公知技术所不能防止的电子线透过孔的孔径参差现象的存在。附图1示出，用蚀刻加工所形成的电子线透过孔的“正常孔”和“异常孔”一例的SEM照片(仅在一侧表面蚀刻时比较观察孔的形状)，该“异常孔”是经本发明新发现的、成为孔径参差的原因。此异常孔的特征是孔壁面与正常孔相比粗糙；孔轮廓部被异常腐蚀，显示出锯齿形态；同时，孔径比预定孔径有变大的倾向。此异常孔的特征由于蚀刻条件等的不同而有程度上的变化，也有时壁面也不粗糙，不能明白地观察到锯齿状。由于此异常孔的发生所致孔径偏差用历来技术是不能防止的。

本发明的课题是提供：用蚀刻加工形成电子线透过孔时，即使局部蚀刻条件有偏差也不在开孔部直径上发生参差的Fe-Ni合金荫罩用原材料。

本发明人为了完成上述课题，从历来所未有的全新观点出发，就金属组织和作为上述异常孔起因的开孔部直径参差之间的关系进行了锐意的研究。结果发现：将Fe-Ni合金荫罩用原材料的表面镜面抛光，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟后，在其腐蚀面上存在许多蚀刻孔的Fe-Ni合金荫罩用原材料上，在其后电子线透过孔蚀刻加工时难以产生开孔部直径的参差。在此情况下业已判明：如0.5μm～10μm的蚀刻孔的存在频率在2000个/mm²以上，则显示对电子线透过孔蚀刻加工时开孔部直径参差的抑制效果。这里，在测定腐蚀面的蚀刻孔时，在纯度≥99.5％的乙醇(JIS K8101特级)100ml中混入浓度60％的硝酸(JIS K8541)，调配成腐蚀液。再用光学显微镜，在使腐蚀面的暗视野像×400的倍率下摄影，在此照片上测定直径0.5μm～10μm的蚀刻孔。再用图像解析装置就0.2mm²的面积来计算测定蚀刻孔。

几乎所有的用3％硝酸-乙醇溶液蚀刻孔的内部都存在夹杂物或析出物粒子，对这些粒子成分鉴定的结果，它们是Al₂O₃、SiO₂、MnO、MgO、CaO、MnS、CaS、AlN、BN等。

本发明人还详细弄清：微小的夹杂物或析出物和在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时所生蚀刻孔之间的关系。也即，将各种Fe-Ni合金原材料表面镜面抛光，在其表面上用电子显微镜寻找直径为0.1μm～5μm的夹杂物或析出物、在3％硝酸-乙醇溶液中腐蚀该位置，当在光学显微镜的暗视野下观察该腐蚀面时，可看见在对应于该夹杂物或析出物的部分有蚀刻孔。又，该蚀刻孔直径是0.5μm～10μm。反过来说，在3％硝酸-乙醇溶液中腐蚀而显出的蚀刻孔中有直径为0.1μm～5μm的夹杂物或析出物存在。

由于对不用电子显微镜就不能直接观察的微小夹杂物或析出物作为蚀刻孔而进行光学显微镜观察，因此，上述的观察方法是微小夹杂物或析出物简易观察的有效方法。例如，当工业生产含有所期微小夹杂物或析出物量的Fe-Ni合金时，为了管理产品的品质，就在制造车间内检查产品所含夹杂物或析出物等时，本发明观察方法是极为有用的。

微小夹杂物或析出物对由于蚀刻加工所致电子线透过孔开孔部直径的参差抑制的机理，尚未详细明了，但可作如下推测。

本发明所涉及的Fe-Ni合金一般用氯化铁对荫罩作蚀刻加工。此时，将保护掩膜涂布于材料上，将不开孔部分覆盖，仅在开孔部分上接触氯化铁水溶液。如果在此开孔部有微细的夹杂物或析出物(以下只以夹杂物表之)存在，则此夹杂物就作为腐蚀的起点而起作用，促进基体的蚀刻。如所有的开孔部都不存在夹杂物，则不管哪个开孔部都成为同样的蚀刻状态，孔径的参差就不发生了。然而，在现实的工业生产中，使夹杂物全无是困难的，在若干开孔部成为腐蚀起点的夹杂物以某些几率存在。在有这样腐蚀起点的开孔部比其四周无起点的开孔部的蚀刻速度快，因此，开孔径就更大些。更且在有起点的开孔部比其四周无起点的开孔部早开始蚀刻，因此，有起点的开孔部成为电化学上的阳极，而无起点的开孔部则成为阴极。在此情况下，腐蚀速度之差进一步加大，蚀刻加工终了后的开孔径差也变大了。另一方面，如原材料以某些频率以上含有微细的夹杂物时，哪一个开孔部也能均等地存在夹杂物，则开孔部直径上的参差也就不发生了。

在发生上述本发明中的“异常孔”的原材料中，成为腐蚀起点的夹杂物只以某频率以下存在，因此，遍布原材料全体的夹杂物均匀性就丧失了。在此情况下，虽然大半开孔部含有平均水平的夹杂物，但是发生了：①不含夹杂物的开孔部；②含夹杂物多的开孔部；③在其内部夹杂物的分布有偏差的开孔部等。在此种其夹杂物的含有状态与平均水平不同的开孔部相对于含有平均水平夹杂物的开孔部，其夹杂物对蚀刻的贡献程度产生差别，因此，在蚀刻速度上产生差异。结果，在孔壁面，孔轮廓部，孔径等上具有带特征的异常腐蚀的孔在电子显微镜下被检出。又，这种异常孔可作为开孔部直径的参差而评价。

这样，在本发明中，与历来概念相反，将微细夹杂物以一定数以上积极地导入Fe-Ni合金基体中，因此，排除或减低由蚀刻加工所致电子线透过孔开孔部直径的参差。

基于以上知识与考察，本发明提供用蚀刻加工穿设电子线透过孔的孔径均匀性优良的Fe-Ni合金荫罩用原材料，其特征是：在由以质量百分率(％)计的(以下用％表示)Ni:34～38％、Mn:0.5％以下，余量Fe和作为不可避免杂质或伴随元素的C:0.10％以下，Si:0.30％以下、Al:0.30％以下、S:0.005％以下、P:0.005％以下组成的Fe-Ni合金荫罩用原材料上，将该原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时，直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率显示。

与此相关联，本发明也提供在以质量百分率(％)计由含Ni:34～38％、Mn:0.5％以下，余量Fe和作为不可避免杂质或伴随元素的C:0.10％以下，Si:0.30％以下。Al:0.30％以下、S:0.005％以下、P:0.005％以下组成的Fe-Ni合金原材料中的微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法以及Fe-Ni合金荫罩用原材料电子线透过孔孔径均匀性的事前判别方法：

(1)在Fe-Ni合金原材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法，其特征在于；将该原材料的表面镜面抛光后在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时的蚀刻孔用光学显微镜观察，从该光学显微镜观察结果可间接地观察到不用电子显微镜就直接观察不到的微小夹杂物或析出物的存在；

(2)Fe-Ni合金荫罩用原材料电子线透过孔的孔径均匀性的事前判别方法：将该原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时，直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率显出，以此作为基准来判别用蚀刻加工穿设电子线透过孔时的电子线透过孔的孔径均匀性优越。

本发明中规定Fe-Ni合金荫罩用原材料的Ni含量为34～38％。这是因为如果Ni含量超出此范围，则热膨胀系数增大而不能用于荫罩的缘故，Mn是为了使对热加工性有害的S无害化而添加的。然而，Mn如超过0.5％，则原材料变硬，其加工性变坏。因此，Mn含量的上限定在0.5％。

另外，Fe-Ni合金中作杂质或伴随元素含有的C、Si、Al和P的上限值分别限制在0.10％、0.30％、0.30％和0.005％，这是因为超过该浓度含有这些元素时，损害蚀刻穿孔性则不可能作为荫罩用材料使用，S含量超过0.005％时材料的热轧加工性显著受损害。因此，S含量的上限定为0.005％。

以下详述本发明Fe-Ni合金原材料用3％硝酸-乙醇溶液所致蚀刻特性：

(1)蚀刻孔的个数：当将Fe-Ni合金表面在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时所发生的直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔个数在2000个/mm²以上时，可抑制用蚀刻加工形成电子线透过孔时的电子线透过孔开孔径的参差。因此，在本发明目的中规定直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔必要的个数在2000个/mm²以上。蚀刻孔最好在2500～10000个/mm²的范围内分散。

再者，蚀刻孔的形状是大致球形的，在测定其直径时，测定在与轧制方向平行方向上的孔径。

(2)蚀刻孔的直径

在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下、浸渍30秒后的蚀刻孔中与小于0.5μm的孔相对应的夹杂物对于用蚀刻加工形成电子线透过孔时的电子线透过孔的开孔径参差的抑制效果小；又，与超过10μm的孔相对应的夹杂物显著地伤害电子线透过孔蚀刻加工时开孔部的形状，因此，规定蚀刻孔的直径为0.5μm～10μm。

(3)夹杂物、析出物的种类

如果在3％硝酸-乙醇溶液中，在20℃下，浸渍30秒钟后，作为蚀刻孔来观察的话，则夹杂物、析出物的种类不论和哪个金属构成的氧化物、氮化物、碳化物都无所谓，可有Al₂O₃、SiO₂、MnO、MgO、CaO、MnS、CaS、AlN、BN等。

如最初所述那样，在Fe-Ni合金荫罩用原材料的制造方法中，将规定的Fe-Ni合金经在例如VIM炉中真空冶炼或在LF中的炉外精炼熔制后，铸造成锭，锻造后热轧，除去扁坯表面的氧化皮，反复进行冷轧和退火(再结晶退火)，最终退火后进行精轧到厚度0.3mm以下预定厚度的最终冷轧。随后，纵切之，得到预定板宽的荫罩用原材料。将荫罩用原材料脱脂后，两面涂敷光刻胶，烤出图形显像后，用蚀刻液穿孔加工，将各片切断，即成平面屏罩。将平面屏罩在非氧化性气氛气中退火，对其赋予冲压加工性后(在普雷斯阿尼尔法中此退火是在蚀刻前对最终轧材进行的)，用冲压球面成型为荫罩形态。最后，球面成型的屏罩脱脂后，在水蒸气或燃气气氛中进行黑化处理，在表面上形成黑化氧化膜。这样制得荫罩。

在此一连串工序中，为了控制上述夹杂物的含量，首先，必须调整构成夹杂物的各个元素(Al、Si、Mn、Mg、Ca、O、S、N等)的浓度。为此，以下事项是重要的：①按照熔化原料的杂质含量而选定熔化原料；②对于精炼时作为脱氧剂等添加的元素其添加量要适当；③为调整气体成分(O、S、N等)的含量，要留心溶炼时的气氛气，采取适当精炼条件；④由于炉体材料和炉渣是杂质的混入源，所以要使它们的组成适当等。

其次，若按夹杂物生成过程对夹杂物分类则有：a)在金属熔液中生成者；b)将金属熔液铸造时在锭中结晶出来或析出者；c)在加工锭的过程中，在锻造、热轧、再结晶退火中析出者等。

如Al₂O₃、SiO₂、MgO、CaO、CaS等化学上稳定的夹杂物经过a)或b)的过程而被导入锭中，则在其后的热处理(锻造、热轧、再结晶退火等)中该夹杂物不会有大的变化。因此，锭的熔制条件对这些夹杂物的量有重要影响。但是，用锻造、热轧、冷轧等对原材料加工时，夹杂物有时或开裂或变形，其形态有变化。

另一方面，就MnS和BN等化学上不稳定的夹杂物来说c)的过程对它也是重要的。也即，构成夹杂物的元素在Fe-Ni原材料中的溶解度当温度越高时它越大，因此，当在高温进行热处理时，夹杂物消失(固溶)，而在低温进行热处理时，则有夹杂物生成(析出)反应。固溶进行状况和析出进行状况的边界温度依夹杂物的组成及其构成元素的浓度而变化，但在定性上，当在低温进行热处理或加热的冷却速度慢时，夹杂物就增加。

如上述那样，有几个导入微小夹杂物的手段，使用哪个手段也没问题。

冷轧并不参与夹杂物的固溶/析出，如加以说明的话，则其压下量按如下理由而受制约。这里，轧制压下量(R)是以R(％)=(t₀-t)/t₀×100来定义，其中，t₀是轧制前的厚度；t₁是轧制后的厚度。如最终再结晶退火前的冷轧压下量超过85％，则(200)集合组织显著发达，蚀刻加工孔的正圆度下降；另一方面，如加工度低于50％，则产品中的(200)集合组织的发达度过低，蚀刻速度下降。当最终冷轧加工度超过40％时，轧制集合组织极度发达，蚀刻速度下降；另一方面，加工度低于10％时，在为赋予冲压加工前的冲压成型性的退火中，未再结晶组织残留下来，冲压成型性下降。

在这样的考虑下，由于导入满足如下条件的微小夹杂物，在用蚀刻加工形成电子线透过孔时，即使局部的蚀刻条件有偏差，也可得到不发生基于上述异常孔的开孔部直径有参差的Fe-Ni合金荫罩用原材料。该微小夹杂物应满足的条件是：控制制造条件，将原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，经30秒钟浸渍时，直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率显示。

由于将此原材料提供为形成电子线透过孔的蚀刻加工，从而得到在使多数夹杂物分散的基体上形成电子线透过孔的、改善基于异常孔所致开孔部的直径参差的，形成电子线透过孔的荫罩用原材料。

更且，按照本发明对基于质量百分率(％)(以下以％表示)的Ni:34-38％、Mn:0.5％以下、余量Fe和作为不可避免的杂质或伴随元素的C:0.10％以下。Si:0.30％以下、Al:0.30％以下。S:0.005％以下、P:0.005％以下组成的Fe-Ni合金原材料提供如下两个方法：

对Fe-Ni合金中微小夹杂物或析出物存在的简单观察方法，其特征在于：将该原材料的表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时出现的蚀刻孔用光学显微镜观察，从该光学显微镜观察的结果，间接地观察到不用电子显微镜就不能直接观察的微小夹杂物或析出物的存在；

荫罩用Fe-Ni合金原材料的电子线透过孔的孔径均匀性的事前判别方法：将该原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时，直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率显示，以此作为基准，判别用蚀刻加工穿设电子线透过孔时的电子线透过孔均匀性优良。

上述的观察方法和判别方法是将不用电子显微镜就不能直接观察的微小夹杂物或析出物作为蚀刻孔用光学显微镜观察。因此，是简易观察微小夹杂或析出物的有效方法；也是事前判别蚀刻穿孔加工电子线透过孔时的孔径均匀性优良的有效方法。例如，在工业生产含有所期微小夹杂物或析出物量的Fe-Ni合金时，当管理产品品质，对于在制造车间现场检查产品所含夹杂物或析出物等是极为有用的。

实施例

将Ni浓度和杂质(伴随元素)的浓度调整到Ni:35.8～36.5％、Mn:0.2～0.5％、Si:0.02～0.3％、S:0.0005～0.005％、Al:0.01～0.3％、C:0.001～0.1％、P:0.001～0.003范围，其次，将合金锭热锻造、热轧，接着除去表面氧化皮后反复进行冷轧和退火，再作最终冷轧，制得0.13mm厚的合金带(用冷轧加工到厚为0.6mm，进行再结晶退火，再以压下量为75％冷轧到厚为0.15mm，再结晶退火后，最后以压下量33％冷轧到0.1mm)。再者，将合金锭的熔制方法和随后热轧后的冷却条件、热处理方法以上述方式改变，使夹杂物或析出物的量变化。

关于最终轧制时的各试料，将从不同位置的十个地方取的表面镜面抛光，在3％硝酸-乙醇溶液中浸渍30秒，在光学显微镜的暗视野下观察，测定直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔的数。

这里所得合金带中，试料No.1～7是满足本发明重要条件的实施例，No.8～12则是比较例。

其次，在这些合金带上应用公知的光刻技术，在合金带一侧表面上形成具有多数直径80μm的正圆开孔部的掩膜；而在另一侧表面相对位置上形成具有直径180μm的正圆开孔部的掩膜之后，将氯化铁水溶液喷雾，形成蚀刻加工孔。测定所形成的100个电子线透过孔最大直径。所有进入80±2μm的孔评价为“良”，含有最大直径小于78μm和超过82μm(各孔中最大直径值)者中一个以上者评价为“不良”。

从表1所示结果示出，本发明有关试料No.1～7的直径0.5μm～10μm蚀刻孔个数有2000个/mm²以上，因此，在电子线透过孔蚀刻加工时，电子线透过孔的开孔径不发生参差，显示均匀的蚀刻穿孔性。

与此相反，试料No.8～12的蚀刻孔数不足2000个/mm²。用蚀刻加工所得电子线透过孔的开孔径超出规定值，蚀刻穿孔性不良。

总之，如从上述结果所知那样，由于满足本发明要件，故在电子线透过孔蚀刻加工时在电子线透过孔的蚀刻开孔径不发生参差，才可能使Fe-Ni合金的荫罩用原材料具有优良的蚀刻穿孔性。

如以上所说明那样，本发明就Fe-Ni合金荫罩用原材料，对由于蚀刻加工时的异常孔所致开孔部直径参差的问题，从历来所无的全部观点查明：在微小夹杂物多到一定数以上的Fe-Ni合金原材料中难以产生这样的开孔部直径参差，由于积极地将微小夹杂物导入材料整体中，当以蚀刻加工穿设电子线透过孔时，从微观的观点看来也可能得到具有均匀孔径的透过孔。可简易而方便地事前判别出来Fe-Ni合金荫罩用原材料优劣，从而提高荫罩产品的合格率。

本发明对以蚀刻加工穿设电子线透过孔的荫罩用原材料有效，对于蚀刻加工后不需冲压成型加工而仅附加张力使保持平坦形状的荫罩等也有效。又，本发明对电子线透过孔的形状不需正圆形而穿设椭圆形、长方形等透过孔的荫罩也有效。也可能应用于除荫罩以外，如导线框等施加微细蚀刻加工的用途。

附图的简单说明

图1

用蚀刻加工穿设电子线透过孔时。“正常孔“和本发明新发现的、成为孔径参差原因的“异常孔”一例的SEM照片。

表1

Claims

1．用蚀刻加工穿设电子线透过孔时的电子线透过孔的孔径均匀性优良的Fe-Ni合金荫罩用原材料，该材料是由以质量百分率(％)计含Ni:34～38％、Mn:0.5％以下、余量Fe和作为不可避免的杂质或伴随元素的：C:0.10％以下。Si:0.30％以下、Al:0.30％以下、S:0.005％以下、P:0.005％以下所组成的Fe-Ni系合金荫罩用原材料，其特征在于：将所述原材料的表面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中、20℃下，浸渍30秒钟时，直径0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率出现。

2．Fe-Ni合金原材料中微小夹杂物或析出物存在的简易观察方法，其特征在于：在由以质量百分率(％)计含Ni:34～38％、Mn:0.5％以下、余量Fe和作为不可避免的杂质或伴随元素的：C:0.10％以下、Si:0.30％以下、Al:0.30％以下、S:0.005％以下、P:0.005％以下所组成的Fe-Ni合金原材料中，将该原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中20℃下，浸渍30秒钟时所出现的蚀刻孔用光学显微镜观察，从该光学显微镜的观察结果可间接地观察到不用电子显微镜就不能直接观察的微小夹杂物或析出物的存在。

3．Fe-Ni合金荫罩用原材料电子线透过孔的孔径均匀性的事前判别方法，其特征在于：在由以质量百分率(％)计含Ni:34～38％、Mn:0.5％以下、余量Fe和作为不可避的杂质或伴随元素的：C:0.10％以下、Si:0.30％以下、Al:0.30％以下、S:0.005％以下、P:0.005％以下所组成的Fe-Ni合金荫罩用原材料中，将该原材料表面镜面抛光后，在3％硝酸-乙醇溶液中。20℃下，浸渍30秒钟时，直径为0.5μm～10μm的蚀刻孔以2000个/mm²以上的频率显现，以此为基准判别用蚀刻加工穿设电子线透过孔时电子线透过孔的优良孔径均匀性。