CN1294158A - 液态光成像碱显影电子阻蚀油墨 - Google Patents
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Abstract
一种液态光成像碱显影电子阻蚀油墨,由可光固化的碱溶性树脂、反应性稀释剂、非反应性溶剂、光引发剂、助剂及颜料组成,按一定的重量百分比配比,混合均匀,研磨,调整粘度,制成。本发明配方合理、制作容易、分辨率高、性能优良。
Description
本发明涉及化学领域中的一种油墨,具体涉及一种液态光成像碱显影的阻蚀油墨。
现有的光成像碱显影液体阻蚀油墨一般由成膜树脂、稀释剂、光引发剂和助剂组成,成膜树脂一般采用改性马来酸酐共聚物的碱溶性树脂,这种改性马来酸酐共聚物由(甲基)丙烯酸羟烷基酯使马来酸酐共聚物部分酯化制得。中国专利91104683.6所提供的“碱水型显影光成像抗蚀剂”就是采用这种改性马来酸酐共聚物作为成膜树脂,而这种改性马来酸酐共聚物的碱溶性不强,由其为主要成膜物质制得的抗蚀油墨分辩率不高,难以形成70微米以下的线路图像。
本发明之目的旨在提供一种由新型碱溶性树脂为主体树脂制得的、具有高分辩率的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
本发明的技术解决方案是:这种液态光成像碱显影电子阻蚀油墨由可光固化的碱溶性树脂、反应性稀释剂、非反应性溶剂、光引发剂、助剂及颜料组成,将上述组份按一定的重量百分比配比,并在一定的温度下混合搅拌均匀后,在三辊机上研磨至细度≤10μ,最后用溶剂调整至施工粘度,即制得本发明之液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
上述可光固化的碱溶性树脂为含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化的齐换。
上述组份的重量百分比如下:
可光固化的碱溶性树脂:含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化齐聚物:30-80%;反应性稀释剂5-30%;非反应性溶剂5-30%;光引发剂1-15%,颜料0.2-1%;助剂0.1-2%。
上述组份中,1、可光固化的碱溶性树脂,其特点是含芳香族羧酸的(甲基)丙烯酸半酯化齐聚物,如Sartomer公司的SB400系列和SB500系列及SB510、SB520等;2、反应性稀释剂为丙烯酸酯类,包括单酯、二酯和多酯,如(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二缩三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二缩三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1.6一已二醇二(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戍四醇六丙烯酸酯等;3、非反应性溶剂:主要为丙二醇及乙二醇的单烷基醚醋酸酯类,如乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇丙醚醋酸酯、乙二醇丁醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丁醚醋酸酯等;4、光引发剂为采用吸收波长在200-450nm的自由基型光引发剂,如安息香醚类、苯偶酰类、取代的笨乙酮衍生物、二苯甲酮、噻吨酮衍生物及蒽醌类、硫杂蒽酮类;4、助剂:包括消泡剂、热阻聚剂、流平剂、有机颜料、染料、填充料等。
本发明的制作方法:
将上述含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化剂聚物、反应性稀释剂、非反应性溶剂、光引发剂及助剂,在35°-50℃的温度下搅拌均匀,然后加入颜料,再搅拌均匀后,在三辊机上研磨至细度≤10μ,再用溶剂调整至施工粘度,即制得本发明之液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
使用时,将本发明的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨用丝网漏板印刷于富铜板上,在90℃左右的温度下干燥10-30min,冷却后即形成10-35μm膜厚的干膜,盖上掩膜,在紫外灯下接触曝光,然后用1%的Na2CO3水溶液显影,未经光照的部分被碱水洗去,而经光固化的部分则留在基板上,这样便形成了需要的线路图形,这些线图图形耐氨碱蚀刻液和电镀液,蚀刻后的印刷线路板用5%的NaOH水溶液处理,脱膜,即制得分辩率在70μm以下的精细线路板,因此,本发明配方合理、制作容易、分辩率高、性能优良。
本发明的技术性能和实验数据如下:
颜色:兰色
粘度:50PS-100PS
涂布方式:网版印刷
预干(80℃):10-15分钟
曝光量:100-200mj/cm2
显像:1%Na2CO3水溶液
蚀刻:氯化铁、氯化铜、碱性蚀刻液
电镀:二次铜、锡铅液、纯锡液、氟硼酸锡液、氨基磺酸锡液
剥离:5%NaOH 40℃-50℃
实施例1:取下述组份并按一定的重量百分比配比:SB400:70%,TMPTA:5%,甲基丙烯酸羟乙酯:5%,滑石粉:10%,酞菁兰:0.5%,Irgacure907:4%,消泡剂:0.5%,乙二醇乙醚醋酸酯:5%,将上述物质在40℃的温度下搅拌均匀,然后置于三辊机上研磨,使其细度实现≤10μ,最后用溶剂调整至施工粘度,即制得本发明的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
性能测试结果如下:
颜色:兰色
粘度:50PS
涂布方式:网版印刷
预干(80℃):10-15分钟
曝光量:100-200mj/cm2
显像:1%Na2CO3水溶液
蚀刻:氯化铁、氯化铜、碱性蚀刻液
电镀:二次铜、锡铅液、纯锡液、氟硼酸锡液、氨基磺酸锡液
剥离:5%NaOH 40℃-50℃
实施例2:取下述组份并按一定的重量百分比配比:SB510:70%,TMPTA:5%,甲基丙烯酸羟乙酯:5%,滑石粉:10%,酞菁兰:0.5%,Irgacure907:4%,消泡剂:0.5%,乙二醇乙醚醋酸酯:5%,将上述物质含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化的齐聚物,如SB510,反应性稀释剂、非反应性溶剂、光引发剂及助剂在40℃-50℃的温度下搅拌均匀,在三辊机上研磨至细度≤10μ,最后用溶剂调整至施工粘度,即制得本发明的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
性能测试结果如下:
颜色:兰色
粘度:100PS
涂布方式:网版印刷
预干(80℃):10-15分钟
曝光量:100-200mj/cm2
显像:1%Na2CO3水溶液
蚀刻:氯化铁、氯化铜、碱性蚀刻液
电镀:二次铜、锡铅液、纯锡液、氟硼酸锡液、氨基磺酸锡液
剥离:5%NaOH 40℃-50℃
Claims (3)
1、一种液态光成像碱显影电子阻蚀油墨,其特征在于由可光固化的碱溶性树脂、反应性稀释剂、非反应性溶剂、光引发剂、助剂及颜料组成,将上述组份按一定的重量百分比配比,并在一定的温度下混合搅拌均匀后,在三辊机上研磨至细度≤10μ,最后用溶剂调整至施工粘度,即制得本发明之液态光成像碱显影电子阻蚀油墨。
2、根据权利要求1所述的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨,其特征在于所述可光固化的碱溶性树脂为含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化的齐聚物
3、根据权利要求1所述的液态光成像碱显影电子阻蚀油墨,其特征在于所述的重量百分比为:可光固化的碱溶性树脂:含芳香族羧酸基团的(甲基)丙烯酸半酯化齐聚物:30-80%;反应性稀释剂5-30%;非反应性溶剂5-30%;光引发剂1-15%,颜料0.2-1%;助剂0.1-2%。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 99115611 CN1294158A (zh) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 液态光成像碱显影电子阻蚀油墨 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN 99115611 CN1294158A (zh) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 液态光成像碱显影电子阻蚀油墨 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1294158A true CN1294158A (zh) | 2001-05-09 |
Family
ID=5278546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 99115611 Pending CN1294158A (zh) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 液态光成像碱显影电子阻蚀油墨 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1294158A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1749856B (zh) * | 2004-09-16 | 2011-10-19 | 爱克发印艺公司 | 用于苯胺印刷的可固化可喷射液体 |
CN102079943B (zh) * | 2009-11-28 | 2013-01-02 | 比亚迪股份有限公司 | 一种紫外光固化涂料组合物及手机按键 |
CN108864818A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-11-23 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 | 一种手机3d logo蚀刻用含二氧化硅的保护油墨 |
-
1999
- 1999-10-28 CN CN 99115611 patent/CN1294158A/zh active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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