CN1275248C - 记录头、记录头的制造方法以及信息记录装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种基于光磁记录系统记录信息的记录头，目的在于通过减小照射在记录介质上的光束的束径来实现高密度记录。当比记录头直径大的光束被照射时，在光导层中该光束被聚光。利用尖头晶片将该光束进一步聚光。从晶片前端处小于光波长的发射孔发射该聚光的光束，并照射在记录介质上。

Description

记录头、记录头的制造方法以及信息记录装置
技术领域
本发明涉及一种光磁记录系统的信息记录装置，用来将信息记录在基于光和磁两种操作的记录介质上，一种用于这种信息记录装置的记录头，以及这种记录头的制造方法。
背景技术
近年来，光磁记录系统的记录介质和信息记录装置已经得到了广泛的发展。如同其它信息记录系统，在这种光磁记录系统中要求更高的记录密度。
为了满足这种需要，除了用于调制光的光学调制系统外，焦点就集中在用于调制磁场的磁场调制系统。
图15为表示一种采用光调制系统和磁场调制系统的传统光磁记录系统实例的示意图。
图中所示的记录介质10由用于将信息记录到透光衬底11表面上的记录层12组成。在记录层12的表面上形成一用于保护该记录层的透明的保护层13。
磁头20设置在接近于保护层13的位置处(例如与保护层13的表面之间有大约2到4μm的间隙)。保护层13的厚度为大约5到10μm。因而，磁头20设置在距离记录层12大约10μm到100μm的位置处。
该磁头20的磁性线圈21被输入如图所示的调制信号S，并且形成调制磁场。
为了实现磁场调制，必须将磁头20设置在非常接近于记录层12的位置处，比如上述的10μm。因此，用于将激光束30引导到记录层12上的物镜31设置在衬底11一侧。激光束30从衬底11一侧照射记录层12。在该例中，激光束30也被按照记录介质10上的记录信息进行调制。这就是所谓的激光脉冲光发射磁场调制记录，它进一步提高了磁道密度。基于磁头20产生的磁场和激光束30产生的发热这两种操作将信息记录到记录层12上。
为了得到记录介质上的高密度记录，必须增加物镜31的NA，及在记录层12上形成极小的光斑。
图16为表示在记录介质上形成极小光斑的传统实例的示意图。
作为物镜，配置一与图15中所示物镜31相似的聚光透镜32和一例如被称为固态浸没透镜(SIL)的半球形透镜33。在使用SIL33的基础上，从SIL33漏泄到非常接近于SIL33位置的激光束33a被用作在记录介质10上进行记录的光。由于这种结构，可能在一定程度上实现高NA。仅从光斑的观点看，可能认为得到一定程度的高密度记录。
不过，这种SIL33具有几μm到100nm或以下的短聚焦深度。因而，当将图15所示的系统尝试用于该磁场调制系统时，必须在记录介质的相同一侧设置包括这种SIL33的物镜和磁性线圈。为了这个目的，必须将磁性线圈34设置在SIL33的底面33a上。从而为了使激光束30通过，必须使用不具有磁芯的线圈。问题是难以得到高速调制所必需强度的磁场。
发明内容
鉴于上述情况，本发明的目的是提供一种能够基于光场和磁场两种操作而实现高密度记录的信息记录装置，一种适用于这种信息记录装置的记录头，以及一种制造这种记录头的方法。
为了实现上述目的，根据本发明，提供一种设置在光源与记录介质之间的记录头，该记录头包括：一用于产生朝向记录介质的磁场的磁头；和在光路上设置在该磁头下游的光波导，用于对从该磁头上游引导来的光束进行聚光，并将该光束朝向记录介质发射，其中，所述磁头由嵌入的磁芯和在面对记录介质的表面上在磁芯周围的区域上形成的磁性线圈制成，并形成透光衬底的一部分；该光波导包括：在光路上设置在该磁头下游的光导层，用于接收从磁头上游引导来的入射光束；以及在光路上设置在该光波导下游的尖头光波导，其具有朝向面对记录介质的前端小孔的一个尖头，用于对从光导层引导来的光束进行聚光，并通过该小孔朝记录介质发射该光束，该光导层具有一用于将该光束引导至光束入射表面的入射光导衍射光栅，以及光发射衍射光栅。
根据本发明的记录头，优选地，所述尖头光波导在与面对记录介质的磁头前表面相距预定距离处具有一用于接收入射光的光入射孔，用于对从光入射孔入射的光进行聚光，并从形成在面对记录介质的前端处的光发射孔将该聚光后的光朝向记录介质发射；以及所述光导层的前表面面对与光入射孔接触的记录介质，其后表面延展，与透光衬底的前表面相接触，该光导层在与透光衬底前表面接触的区域内具有所述入射光导衍射光栅，通过该入射光导衍射光栅对从透光衬底的后表面入射的光朝着光入射孔聚光，并通过所述光发射衍射光栅将该聚光后的光朝着所述尖头光波导发射。
该记录头具有上述结构，且物镜光学系统和磁性线圈均设置在记录介质相同一侧。即使照射到磁头一部分上的光被磁头屏蔽，也仅是全部光束中的一小部分被屏蔽。因而，可能将足够强度的光聚焦成一极小的光斑，并将该聚焦光束照射到记录介质上。
另外，基于该衍射光栅的形成，可能有效地将入射光束引入该光导层中。
另外，根据本发明的记录头，有可能提供一种具有磁芯的磁头。与提供不具有磁芯的线圈的传统技术相比，可能提高施加给记录介质的磁场强度。
另外，根据本发明，提供一种制造记录头的方法，该方法包括的步骤为：在形成有磁芯嵌入部分的透光衬底的表面上形成一入射光导衍射光栅和一用于嵌入磁性线圈的沟槽；将磁芯嵌入磁芯嵌入部分；在沟槽上形成磁性线圈；在磁性线圈形成之后形成一光导层，用于将来自于透光衬底后表面的入射光引导到透光衬底的前表面，并在面对磁性线圈前表面的光的聚光位置将导入光聚光；在光导层的表面上面对磁性线圈前表面的聚光位置处形成一衍射光栅，用于将光导层聚光的光从光导层发射出去；形成一具有一尖锐前端的尖头光波导，用于将通过光导层在聚光位置处聚光的光导入，并进一步将该光聚光。例如，基于这种制造方法可能制造出记录头。
另外，根据本发明提供一种信息记录装置，其具有一光源和一个设置在该光源与记录介质之间的光路上的记录头，用来基于用光对记录介质加热和磁场的磁力两种操作将信息记录在记录介质上，其中该记录头包括：一用于产生朝向记录介质的磁场的磁头；在光路上设置在该磁头下游的光波导，用于对从磁头上游引导来的光束进行聚光，并将该聚光的光朝着记录介质发射；其中，所述磁头由嵌入的磁芯和在面对记录介质的表面上在磁芯周围的区域上形成的磁性线圈制成，并形成透光衬底的一部分；以及该光波导包括：在光路上设置在该磁头下游的光导层，用于接收从磁头上游引导来的入射光束；以及在光路上设置在该光波导下游的尖头光波导，其具有朝向面对记录介质的前端小孔的一个尖头，用于对从光导层引导来的光束进行聚光，并通过该小孔朝记录介质发射该光束，该光导层具有一用于将该光束引导至光束入射表面的入射光导衍射光栅，以及光发射衍射光栅。
根据本发明的信息记录装置，有可能基于光和磁场两种操作来实现高密度记录，有关本发明的磁头如前面所述。
在本发明的信息记录装置中，尖头光波导具有一其尺寸为光源所发射光波长一半或小于一半光波长的小孔，例如作为光发射孔。
在基于形成极小的光发射孔的前提下，通过将从该光发射孔漏泄的光照射到记录介质上，有可能在记录介质上形成具有极小直径的光斑。
而且，在本发明的信息记录装置中，最好提供一种与记录头一起安装并浮动在记录介质上的滑动器(slider)。
在供给已经被传统地用在磁盘装置中的滑动器的基础上，例如可能将记录头设置在非常接近于记录介质的位置处用来记录信息。
另外，在本发明的信息记录装置中，最好提供一种用于使记录头平行于记录介质移动的位置控制元件。
在传统的光盘装置中已经采用这种位置控制来补偿光盘的偏心。最好是在本发明的信息记录装置中还提供一用于补偿对记录介质的相对位置偏离的机构。
如同记录信息那样，本发明的信息记录装置还可以是用于读取记录介质上记录的信息的装置。根据记录介质的特性之类，这种信息记录装置可以被设计成使得记录在记录介质上的信息被光读出或磁读出。为了光读出信息，提供一种用于光学拾取记录在记录介质上信息的读出头。为了磁读出记录在记录介质上的信息，提供一种用于磁拾取记录在记录介质上信息的读出头。
如上所述，根据本发明，使用一种光磁记录系统，它可能实现高密度记录，还可能进一步将记录介质的记录容量增加到更大的容量。结果，可能降低每单位信息容量记录介质的成本。
在本发明中，由于使用了光学近场，所以不必需使用短波长光源。例如当使用硅作为光传输部分时，可能使用800nm波段的半导体激光器。
附图说明
图1为表示根据本发明第一实施例的记录头的结构图。
图2为表示根据本发明第二实施例的记录头的结构图。
图3为表示根据本发明第三实施例的记录头的结构图。
图4为表示根据本发明第四实施例的记录头的结构图。
图5为表示记录头制造方法的一个实例的工艺过程图。
图6为表示记录头制造方法的一个实例的工艺过程图。
图7为表示记录头制造方法的一个实例的工艺过程图。
图8为表示记录头制造方法的另一个实例的工艺过程图。
图9是根据本发明一个实施例的信息记录装置的透视图。
图10为表示信息记录装置的记录头和固定在信息记录装置上的记录介质简图。
图11为表示信息记录装置的记录头的另一实例的简图。
图12为表示本发明信息记录装置的又一实例简图。
图13为表示图12所示信息记录装置的光学系统的简图。
图14为构成图12所示记录头204装置的部分放大示意图。
图15为表示使用光学调制系统和磁场调制系统的一种传统光磁记录系统实例的示意图。
图16为表示在记录介质上形成极小光斑的一个技术实例的示意图。
具体实施方式
图1为表示根据本发明第一实施例的记录头的结构图。
记录头50A包括一个磁头51，一个耦合器层52，一个光导层53，另一个耦合器层54和一个晶片(chip)55。
在本实施例中，该磁头51包括一个不透明磁芯和一个磁性线圈，产生施加给记录介质10的磁场。直径大于磁头51的光束30从磁头51的后表面入射，磁头51的前表面面对记录介质。除了一部分被磁头51屏蔽外，光束30经由耦合器层52入射到光导层53上。例如该入射光束具有3mmφ的光束直径，被磁头51所屏蔽的部分具有例如大约300μmφ的直径。光束30由于被磁头51屏蔽而产生的光学损失很小。当使用旋转三棱镜光学系统时，可能产生具有环形能量分布的光束。从而，可能更有效地利用光。例如，耦合器层52包括一个衍射光栅和类似结构。该耦合器层52引导光入射到光导层53，继续通过光导层53到达磁头51的前表面。该光导层53将通过耦合器层52的入射光在面对磁头51前表面的位置处聚焦。
由光导层53引导并在面对磁头51的前表面位置处聚焦的光通过耦合器层54入射到晶片55。耦合器层52、光导层53和另一耦合器层54已经被解释为独立项，不过可以将这三层组合成一层作为本发明的光导层。耦合器层54具有将经由光导层53聚光的光引导向晶片的功能，包括例如与耦合器层52相似的诸如一衍射光栅。晶片55是一尖头光波导，具有朝向记录介质10前端的尖头。除了形成在其前端的小孔55a以外，晶片55的外围表面被遮蔽。通过耦合器层54入射到晶片55的光被进一步聚光，并被引导向记录介质10的前端。一部分光通过形成在晶片前端的小孔55a朝向记录介质10发射。形成在晶片前端的小孔55a的尺寸极小，等于或小于光束30的波长λ的一半，例如50nm。通过这个小孔55a，比波长λ更细的超过称为光学近场的衍射极限的光束被发射，并入射到记录介质10上。
从晶片55发射的光束的尺寸很小，当晶片55的前端与记录介质10之间的距离超过大约10nm时，到达记录介质10的光束强度被减小到相当小。因而，为了通过照射光束而在记录介质10上记录信息，必需将该距离保持在大约100nm或更小。
在本实施例中，磁头51和晶片55的前端之间的距离在大约10到100μm范围内。使用磁芯作为该磁头51，可以将足够强的磁场施加给设置在接近晶片55前端的记录介质10。如上所述，在使用图1所示记录头的基础上，可能将足够强且具有极小直径的光束照射在记录介质10上。结果，可能将具有足够强度的磁场施加给记录介质10。从而，可能以高速度、高密度实现光磁调制记录。
图2为表示根据本发明第二实施例的记录头的结构图。
图2所示的记录头50B不同于图1所示的记录头50A，在于在图2所示记录头50B上形成有保护光屏蔽层56。
如上所述，根据这种记录头，晶片55的前端与记录介质10设置得彼此非常接近，其间的距离为100nm或更小。从而，磁头有与记录介质10接触的危险。在具有图1所示结构的记录头50A的情形中，存在有晶片55的前端与记录介质10接触，从而导致晶片55的前端被折断，或者划伤并损害记录介质10的表面的危险。该保护光屏蔽层56形成与晶片55前端相同的高度。因而，当记录头50B与记录介质10接触时该光屏蔽层56对晶片55的前端提供保护。另外，随着接触区被扩展，能够防止记录介质10被损伤。而且，该保护光屏蔽层56屏蔽了除晶片55的前端处小孔55a的部分以外的晶片55的周围表面和光导层53的下表面。结果，可能抑制从光导层53的下表面或晶片55的周围表面产生杂散光。
图3为表示根据本发明第三实施例的记录头的结构图。
图3所示的记录头不同于图2所示的第二实施例的记录头，在于图3所示记录头50C中的磁头51嵌入在透明衬底57中(诸如硅衬底或玻璃基片)。在存在衬底57的基础上，磁头51的位置被稳定，耦合器层52等被更加可靠地集成起来。结果，可能形成一种能够实现一集成模块形状的记录头。
图4为表示根据本发明第四实施例的记录头的结构图。
记录头50D设置有一保护光屏蔽层58，保护光屏蔽层58的高度达到晶片55的前端，如同图2所示的记录头50B的情形。该保护光屏蔽层58在设置晶片55的部分形成一个孔58a。用于防止晶片55受影响，并当晶片55与记录介质10接触时保护晶片55。
图5到7为表示记录头一种制造方法的工艺过程图。
首先，准备一个衬底60(如玻璃衬底或石英硅衬底等)，在中心形成用于穿入磁芯的孔61。在该衬底的表面上，通过蚀刻等方法制备一衍射光栅62，作为确定光前进路径的耦合器，并形成用于嵌入磁性线圈的细沟槽63〔图5(A)〕。
然后，在细沟槽63内，将磁芯64嵌入中心处的孔61中〔图5(B)〕。在这种情况下，磁芯64在形成有衍射光栅62等一侧的表面具有与衬底60的表面高度相同的嵌入高度。
然后，通过蚀刻形成由导电材料(Ni，Cu或类似材料)制成的薄膜线圈65〔图5(C)〕。
在这个阶段，磁头由磁芯64和薄膜线圈65构成。薄膜线圈65的外部直径为磁头的直径。
然后，蒸发玻璃或硅以形成光导层66，光导层的折射率大于材料60的折射率。另外，通过蚀刻在面对磁芯64的位置处形成一衍射光栅67(图6(D))。
接着，安装一个具有一尖头的晶片68〔图6(E)〕。可以再次在衍射光栅67的部位通过蒸发玻璃或硅并通过蚀刻形成晶片68。
然后，形成一保护光屏蔽层69以覆盖晶片68的周围表面，保护光屏蔽层69与晶片68的前端具有相同的高度〔图7(F)〕。
基于例如上述步骤可以制造出本发明的记录头。
图8为表示记录头另一种制造方法的工艺过程图。
首先，制备一包括一透光法拉第元件的衬底70，通过蚀刻形成一个延伸为磁芯一部分的柱体，如图8所示。然后，形成具有达到柱前端高度的玻璃或硅衬底60。此后，通过参照图5到7所给出的相似的方法制造记录头。在这种情况下，可以使用透光导电材料形成薄膜线圈65。
基于上述使用法拉第元件的磁芯的制备，不必要如图5(B)所示将磁芯嵌入，从而更容易地制造记录头。由于采用了透光法拉第元件70和薄膜线圈65，可能使光利用效率得到提高。
图9是根据本发明一个实施例的信息记录装置的剖面图。
信息记录装置100安装有盘状记录介质10。该信息记录装置100沿箭头A方向绕着旋转轴101旋转安装在其上的记录介质10。该信息记录装置100设置有可在导轨109上沿箭头B方向自由前进的滑座104。在滑座104的前端通过悬挂装置114设置一个滑动器115。该滑动器115装有本发明一个实施例所给出的磁头。
图10为表示信息记录装置100的滑座104和滑动器115，以及安装在图9所示的这种信息记录装置100上的记录介质10，从侧面观看的图。在图10中，图9所示部件的上下位置被颠倒了。
在图10中滑座104可沿与图面垂直的方向在导轨109上自由移动。滑座104具有一框架111，一固定在框架111底部的激光二极管112，一固定在框架111口径上的准直透镜113，一从滑座104延伸出的悬挂装置114和固定在悬挂装置114前端的滑动器115。该滑动器115具有根据本发明一个实施例的记录头的记录头50，以及一固定在记录头50旁边的磁读出头60。当记录介质10绕着旋转轴101转动时，基于记录介质10上空气的流动，滑动器115略微悬浮在记录介质10上。激光二极管112所发射的激光束被准直透镜113准直，成为平行的光通量。直径很小的光束通过记录头50照射在记录介质10上。在光束和磁头51所产生的磁场这两种操作的基础上信息被记录到记录介质10上。该记录介质10为一种磁盘，通过使用激光束来记录信息。为了再现记录在记录介质10上的信息，使用用于磁盘的如GMR磁读出头60或旋转灯头(spin bulb head)。
图11为表示信息记录装置的滑座部分另一实例的简图。
图11所示的记录介质10基于使用光和磁两者的系统来记录信息，基于光学系统来再现信息。
图11所示的信息记录装置与这种类型的记录介质10相匹配。头104A具有与图10中所示滑座104和滑动器115相似的结构，被固定在未配备磁读出头60的滑座103的前端。取而代之的是，设置读出头104B来执行光学再现。
该读出头104B被固定在悬挂装置116的前端，悬挂装置116一端固定在滑座103上。该读出头104B具有一物镜117，一反射镜118，一沃拉斯顿棱镜119，聚光透镜120和一光探测器121。滑座103以一种与图9所示的滑座114相似的方式通过图11中没有示出的导轨运动。
激光二极管112在再现期间也发光。细光束直径的光束通过记录头50照射到记录介质10上。穿过记录介质10并载有记录介质10上所记录信息的光经过物镜117被反射镜118反射。反射光由沃拉斯顿棱镜119根据光的衍射方向被分开。然后该光经由聚光透镜120被光探测器121接收。光探测器121所接收的光信号被转换为电流，图中没有给出。该电流再现了记录在记录介质10上的信息。在这种情形下，采用与光盘相似的再现系统，将省略对这种再现系统的详细说明。
如上所述，采用本发明记录头的信息记录装置根据记录介质的性质采用了磁再现系统和光再现系统，从记录介质再现出信息。
图12为表示本发明另一实例的信息记录装置的简图，图13为表示这种信息记录装置的光学系统的简图。
信息记录装置200安装有盘状记录介质10。该信息记录装置200围绕旋转轴201沿箭头A的方向旋转所安装的记录介质10。该信息记录装置200具有一个可沿箭头C方向自由移动的臂203。在臂203的前端设置一个头部204。头部204安装有本发明一实例的磁头。
根据图12和图13所示的实例，激光二极管212和准直透镜213不是设置在头部204，而是固定在臂203上。激光二极管212所发射的光被准直透镜213准直成为平行光。该平行光被入射到头部204，并被设置在头部204中的反射镜217所反射。然后该反射光经过磁头215设置在其中的滑动器单元218中的孔218a入射到该滑动器单元218上。经过以本发明一个实施例的记录头作为的记录头50，细直径光束被照射在记录介质10上。基于光束和磁头51所产生的磁场这两种操作将信息记录到记录介质10上。为了使记录头50精确地跟踪一预定位置，提供一用于沿箭头D方向移动记录头50，使记录头50处于磁道中心的致动器219。将从记录介质10上磁道伺服控制系统获得的伺服信号输入该致动器219，将磁道伺服控制系统利用再现信号探测图中没有给出的采样伺服图样并执行跟踪伺服。根据该伺服信号，致动器219沿记录介质表面依箭头D方向精确地移动记录头50。例如，可以将用于光盘的跟踪伺服技术用于该跟踪伺服控制系统。将省略对该技术的详细说明。
图14为构成图12所示头部204的滑动器单元218部分的放大示意图。
图中表示具有一对梳齿状电极219a和219b的静电激励器作为致动器219。该对梳齿状电极219a和219b中的电极219a固定到单元218上。另一电极219b固定到记录头50上，并能够与记录头50一起沿箭头D方向轻微滑动。当在该对梳齿状电极219a和219b之间施加电压V时，相应于电压V的极性和大小，固定在记录头50上的梳齿状电极219b滑动到一个位置。同时，记录头50也滑动到一相应位置。
当通过使用致动器219沿箭头D方向移动记录头50而实现跟踪伺服时，可能将信息记录在记录介质上的精确位置处。
虽然将静电激励器作为一个实例进行了说明，还可以使用利用压电元件的压电致动器来代替静电激励器。
另外，已经对使用致动器通过在记录介质表面上朝着一个方向滑动记录头来实现跟踪伺服的情形进行了说明。还可能通过沿与记录介质的垂直方向移动记录头来实现调焦伺服控制。例如，可以将用于光盘的调焦伺服技术用于该调焦伺服。此处将省略对该技术的详细说明。不用说使用致动器沿记录介质表面移动记录头和沿与记录介质垂直的方向移动记录头的系统也可以被用于图9所示的在导轨上移动记录头的系统中。

Claims (4)

1、一种设置在光源与记录介质之间的记录头，该记录头包括：
一用于产生朝向记录介质的磁场的磁头；和
在光路上设置在该磁头下游的光波导，用于对从该磁头上游引导来的光束进行聚光，并将该光束朝向记录介质发射，
其中，所述磁头由嵌入的磁芯和在面对记录介质的表面上在磁芯周围的区域上形成的磁性线圈制成，并形成透光衬底的一部分；
该光波导包括：
在光路上设置在该磁头下游的光导层，用于接收从磁头上游引导来的入射光束；以及
在光路上设置在该光波导下游的尖头光波导，其具有朝向面对记录介质的前端小孔的一个尖头，用于对从光导层引导来的光束进行聚光，并通过该小孔朝记录介质发射该光束，
该光导层具有一用于将该光束引导至光束入射表面的入射光导衍射光栅，以及光发射衍射光栅。
2、如权利要求1所述的记录头，其中：
所述尖头光波导在与面对记录介质的磁头前表面相距预定距离处具有一用于接收入射光的光入射孔，用于对从光入射孔入射的光进行聚光，并从形成在面对记录介质的前端处的光发射孔将该聚光后的光朝向记录介质发射；以及
所述光导层的前表面面对与光入射孔接触的记录介质，其后表面延展，与透光衬底的前表面相接触，该光导层在与透光衬底前表面接触的区域内具有所述入射光导衍射光栅，通过该入射光导衍射光栅对从透光衬底的后表面入射的光朝着光入射孔聚光，并通过所述光发射衍射光栅将该聚光后的光朝着所述尖头光波导发射。
3、一种制造如权利要求1所述的记录头的方法，该方法包括以下步骤：
在一透光衬底的表面上形成一入射光导衍射光栅和一用于嵌入磁性线圈的沟槽，该透光衬底形成有一磁芯嵌入部分；
将磁芯嵌入该磁芯嵌入部分；
在沟槽上形成磁性线圈；
在磁性线圈形成之后，形成一用于将从透光衬底后表面入射的光引导到透光衬底前表面的光导层，并将该导入光聚光在面对磁性线圈前表面的聚光部位处；
在光导层表面上面对磁性线圈前表面的聚光部位处形成一衍射光栅，用于将由光导层聚光的光从光导层发射出去；以及
形成一具有尖锐前端的尖头光波导，用来导入光导层在聚光部位聚光的光，并对该光进一步地聚光。
4、一种信息记录装置，其具有一光源和一个设置在该光源与记录介质之间的光路上的记录头，用来基于用光对记录介质加热和磁场的磁力两种操作将信息记录在记录介质上，其中该记录头包括：
一用于产生朝向记录介质的磁场的磁头；
在光路上设置在该磁头下游的光波导，用于对从磁头上游引导来的光束进行聚光，并将该聚光的光朝着记录介质发射；
其中，所述磁头由嵌入的磁芯和在面对记录介质的表面上在磁芯周围的区域上形成的磁性线圈制成，并形成透光衬底的一部分；以及
该光波导包括：
在光路上设置在该磁头下游的光导层，用于接收从磁头上游引导来的入射光束；以及
在光路上设置在该光波导下游的尖头光波导，其具有朝向面对记录介质的前端小孔的一个尖头，用于对从光导层引导来的光束进行聚光，并通过该小孔朝记录介质发射该光束，
该光导层具有一用于将该光束引导至光束入射表面的入射光导衍射光栅，以及光发射衍射光栅。
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