CN1251025C - 图案描绘方法及图案描绘体的制造方法 - Google Patents

图案描绘方法及图案描绘体的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及提供减少CPU运算处理负担的图案描绘方法。在基板(32)上对按照同心圆状排列的多个轨道进行二维图案描绘的图案描绘方法，包括：通过将作为每个轨道的基础的基本象素列(轨迹1、轨迹2)在一个轨道上至少的两点处进行正向或反向的反复排列，并按照同样的方式对连续的多个轨道反复进行排列，从而构成所需的图案。

Description

图案描绘方法及图案描绘体的制造方法
技术领域
本发明涉及一种图案描绘方法，用于在集成电路、显示装置、光学元件等的制造过程中，在基板上的薄膜等表层形成细微图案。
技术背景
在半导体基板及光学元件制造过程中，薄膜的图案形成步骤是不可欠缺的。例如，在被处理膜上涂敷光致抗蚀剂，将图案在光致抗蚀剂上曝光，曝光后的保护膜进行显影处理，以残留的保护膜为掩膜，利用对被处理膜的蚀刻处理，可形成图案。在上述的图案曝光中，可使用图案描绘装置。在图案描绘中，除了使用光掩膜的表面曝光以外，也有使用电子束扫描进行曝光的。后者可在光盘制作及自由的图案描绘中使用。例如，日本专利公开1984年第171119号、日本专利公开1998年第11814号都描述了一种利用转动扫描的图案描绘装置。这种图案描绘装置将涂敷光致抗蚀剂的基板设置在转台上，用图案数据调制的激光进行转动扫描，从而在基板上进行图案描绘。
但是，在上述的转动扫描的图案描绘装置中，将利用扫描仪在X-Y坐标系读取到的原始图案数据，变换为r-θ坐标系数据，并将其临时存储到存储器中。然后在基板转动的同时，从存储器读出象素数据，利用其调制光束，通过将基板涂敷的光致抗蚀剂曝光后进行图案描绘。因此，至少每进行一次转动扫描(一个轨道)就将所存储的应描绘的图案变换为r-θ坐标系的数据。必须进行高清晰度的图案描绘时，由于对于一个轨道圆周的全部描绘点，必须将其从X-Y坐标系的数据变换为r-θ坐标系的数据，因此运算量增大，调制时间长，限制了高速描绘。另外，当CPU的运算处理能力相对较低时，也限制了高清晰度的及多值强度的图案描绘，随之而来的就需要大容量的存储器。
发明内容
本发明的一个目的是提供在同等处理能力的CPU工作状态下，可进行更高速描绘的图案描绘方法。
本发明的另一个目的是提供在同等处理能力的CPU工作状态下，可进行更高清晰度描绘的图案描绘方法。
为了达到上述目的，本发明的图案描绘方法是在基板上对按照同心圆状排列的多个轨道进行二维图案描绘的图案描绘方法，该包括包括：通过将作为每个轨道的基础的基本象素列在一个轨道上的至少两点处进行正向或反向的反复排列，并按照同样的方式在连续的多个轨道上反复进行排列，从而生成由象素列数据形成的所述二维图案的发生步骤；调制描绘光束的调制步骤，所述描绘光束利用所述的象素列数据在所述基板上进行扫描；以及在所述象素列数据生成的同时，对描绘光束在基板上的扫描位置进行设定的位置设定步骤。
由于这样的构成，可以用更少的从X-Y坐标系向r-θ坐标系变换的象素数据进行图案描绘。
优选的是，所述基板包括在其上沿圆周方向划分的多个扇区区域，由一个或连续的多个扇区区域组合成的簇区域，以及所述多个簇区域；所述图案发生步骤是用描绘光束在所述簇区域的轨道上对基本象素列进行扫描时输出的。
由于这样的构成，就很容易得到形成全部图案的控制程序。
优选的是，上述的图案发生步骤将不形成图案的虚拟象素列排列在基本象素列之间，因此不需要图案数据的变换，减轻描绘处理的运算负担。
优选的是，图案发生步骤将不形成图案的虚拟象素列排列在所述簇区域以外的扇区区域的轨道上，因此扇区单位可以设定描绘的有无，并可很容易地形成图案的程序化。
优选的是，轨道是利用象素列数据调制的描绘光束对基板进行转动扫描后得到的轨迹。例如，利用光束及感光膜，可很容易地进行图案描绘。
本发明的图案描绘体的制造方法，是在基板上对按照同心圆状排列的多个轨道进行二维图案描绘的图案描绘体制造方法，该方法包括：通过将作为每个轨道的基础的基本象素列在一个轨道上的至少两点处进行正向或反向的反复排列，并按照同样的方式在连续的多个轨道上反复进行描绘，形成二维图案。
优选的是，基板包括在其上沿圆周方向划分的多个扇区区域，由一个或连续的多个该扇区区域组合成的簇区域，以及所述多个簇区域，并且在所述簇区域的轨道上排列基本象素列。
优选的是，在簇区域以外的扇区区域的轨道上排列不形成图案的虚拟象素列。
另外，本发明的图案描绘体装置的制造方法具有的特征是，利用以上所述的无论哪种图案描绘体的制造方法，都可以得到所需的图案描绘体。
以上所述的图案描绘装置、描绘方法，可使用于制造集成电路等的半导体器件、LCD显示装置、电泳显示装置、包括光掩膜、反射板、光波导、衍射光栅等的光学装置，以及包括此图案描绘体的装置。
附图说明
图1是对本发明图案描绘装置的全部构成进行说明的功能程序图。
图2是对测试图案发生器40的构成实施例进行说明的结构图。
图3是存储器404内部范围的实施例的示意图。
图4是第1图案描绘实施例示意图。
图5是第1图案描绘时的扇区、簇的构成实施例示意图。
图6是对从存储器控制器405、存储器404中数据读取操作进行说明的流程图。
图7是对数据输出处理进行说明的流程图。
图8是对扇区最终点以外的处理进行说明的流程图。
图9是对簇最终点以外的处理进行说明的流程图。
图10是对簇最终点的处理进行说明的流程图。
图11是对轨道最终点的处理进行说明的流程图。
图12是对数据传送请求信号的生成进行说明的流程图。
图13是对存储器内读取存储单元的转换进行说明的流程图。
图14是对第2图案的描绘实施例进行说明的说明图。
图15是第2图案的扇区、簇的构成实施例的说明图。
图16是对第2图案中的扇区最终点以外的处理进行说明的流程图。
图17是对第2图案中的簇最终点的处理进行说明的流程图。
图18是对第2图案中的轨道最终点的处理进行说明的流程图。
图19是对第2图案中的轨道最终点以外的处理进行说明的流程图。
具体实施方式
以下参照附图对本发明的实施方案进行说明。
图1是对本发明图案描绘装置的全部构成进行说明的程序图。
图1中，从该激光束发生装置11放射出的光束(激光束)12，经过光电调制器(EOM)13到达半透半反镜14，光束12的其中一部分通过半透半反镜14进入第一光检测器15，其他部分经反射后进入声光调制器(AOM)17。光检测器15检测出光束12的强度，检测出的光强度变换成强度信号，由光检测器15提供给强度调节器16，强度调节器16按照光束光点21的转台31的径向位置r，控制应用于光电调制器13的控制信号，设定穿透量，调节光束的强度。因此，用固定的角速度(CAV)进行转台31的转动控制时，对光致抗蚀剂扫描的光束的曝光能源密度经常是一定的。以上所述的光电调制器13、第一光检测器15、强度调节器16等构成强度调节回路。
半透半反镜14反射的光束12，用强度调节回路调节到预定的强度，经过声光调制器(AOM)17、反射镜18、反射镜19及物镜20在转台31上引出。声光调制器17按照后面所述的由测试图案发生器40提供的图案信号，通过变换透过率，调制光束12的强度。声光调制器17是一种根据描绘数据，对描绘光束进行调制的调制装置。物镜20在基板32上汇聚光束12，形成光点21。光点21通过聚焦伺服系统(图中未示出)可以控制到一定的直径(或焦点深度)。作为聚焦伺服系统，例如可以采用非对称法。另外，在基板上形成多个层叠膜时，也可以将焦点调节到与该多个层叠膜所特定的膜重合。光点21的直径相当于一次转动扫描的径向宽度(轨道的宽度)，可使用于图案的描绘。
放置基板32的转台31，利用主轴电动机35进行转动驱动，这种转动通过没在图中表示的驱动回路进行，该回路根据由测试图案发生器40提供的时钟信号产生驱动信号。另外，转台31放置着沿径向移动的滑块34，滑块34由进给电动机33驱动，转台31的一次转动就给滑块送进一个螺距，这样，可得到光点21旋涡状的转动扫描轨迹。进给电动机33的进给量由测试图案发生器40控制。于是，转台31、进给电动机33、滑块34及主轴电动机35与象素列数据同步，对描绘光束基板上的扫描位置进行设定，构成位置设定装置。另外，不仅是将转台31移动，利用另外的滑块也可以将成像光学系统(18～21)沿转台的径向移动。
图2是对适合图案发生装置的测试图案发生器40的构成进行说明的功能结构图。测试图案发生器40是由描绘点坐标生成单元401、描绘点坐标数据生成单元402、图案记忆单元403、存储器404、存储器控制器405、数/模转换器406、和振荡器407等构成，这些功能可由计算机系统实现。
描绘点坐标生成单元401，根据由存储器控制器405提供的数据传送请求信号，用适合于转台的极坐标(ri，θi)的形式，将进行描绘的轨道的各象素地址输出。例如一个轨道的象素地址群连续生成。描绘数据生成单元402，将用极坐标表示的各象素(ri，θi)地址，变换为X-Y坐标位置(xi，yi)图案数据地址。极坐标(ri，θi)和X-Y坐标(xi，yi)之间的变换可利用xi＝rjcos θi、yi＝risinθi的关系式进行，其中，ri是从X-Y坐标原点位置O(0，0)到任意位置P(xi，yi)象素的距离OP(相当于轨道号ri)。θi是x轴和线段OP形成的角度。基板上应描绘的图案数据，例如作为二维表示的位标志数据，利用扫描仪等预先保存在图案记忆单元403中。另外，可以对CAD数据(计算机的图形设计数据)等进行变换。图案记忆单元403也可存储关于描绘的图案形成信息，这一信息通过存储器404可以提供给存储器控制器405。对于如上所述的由描绘点坐标生成单元401提供的一系列的极坐标地址(ri，θi)，通过与其对应的X-Y坐标地址(xi，yi)的方式，描绘数据生成单元402从图案记忆单元403读取应进行描绘的图案象素数据，并存储到存储器404中，例如一个轨道的象素数据可以存储到存储器404。
存储器404如图3所示，包括存储单元A和存储单元B两个部分，当一个部分进行读取或写入时，另一个部分可以写入或读取。存储单元A，分配存储器地址[0]～[SizeBank-1]的部分；存储单元B分配存储器地址[SizeBank]～[2×SizeBank]的部分。存储器控制器405在读取存储单元A的地址及地址[adrCrrnt]的数据D[adrCrrnt]时，存储单元B的数据更新，因此，在读取一个轨道象素数据群时，下一个轨道的象素群可以写入，并可进行先入先出(FIFO)操作。
存储器控制器405：存储器404逐一读取各轨道的象素数据后，提供给数/模转换器406，得到声光调制器17的调制输入，按照象素数据设定声光调制器17的透过率，由此用象素数据对光束进行调制。
存储器控制器405：从存储器404一方的存储单元读取一个轨道的象素数据完成后，从另外的存储单元读取下一个轨道的象素数据，与此同时，将数据传送请求信号发给描绘点坐标生成单元401，接着输出下一个轨道象素的地址。反复进行此操作，描绘点坐标生成单元401生成从第1轨道的象素数据地址到最后轨道的象素数据地址，以及读取基板上应描绘的图案区域的象素地址。提供象素数据的存储器控制器405和数/模转换器406与振荡器407输出的时钟信号同步，而振荡器407输出的时钟，也可使用于主轴电动机35、进给电动机33的转动控制，转台31的转动、滑块的径向移动与象素数据的传输同步进行。因此，转台31和滑块34的转动控制系统的各次进给33与数据的传输同步进行，利用r-θ坐标的转动扫描，进行图案的描绘。
本发明的实施例中，为了减少在上述的描绘点坐标生成、描绘数据生成中的坐标变换等的运算处理量。测试图案发生器40还包括反复利用记录在存储器中的数据及在非描绘区域生成零数据等功能。
图4示出了一个在基板32上描绘图案的实施例。其图案由圆形基板32的中心上侧右半部分区域的描绘图案1；该基板上侧的左半部分区域的描绘图案2；以及基板下侧区域的非描绘区域构成。描绘图案1和2是对于基板的中心线的对称图形。在图示的实施例中，描绘图案1和2的四方形中标有箭头，另外，如图4所示，描绘图案1形成的扫描轨迹为轨迹1，描绘图案2形成的扫描轨迹为轨迹2，对非描绘区域进行扫描的轨迹为轨迹3。
对这种图案进行描绘的测试图案发生器40的操作做一说明。如前所述，存储器404包括存储单元A和存储单元B两个单元。各存储单元的存储容量(尺寸)是SizeBank，其存储容量确保了轨迹1对图案1描绘时所需容量的更大容量。地址[adrCrrnt]的数据用D[adrCrrnt]表示。
如图5所示，该测试图案发生器40进行将描绘区域分成尺寸相同的扇区区域的处理。在实施例中，一个圆周的扫描轨迹(一个轨道)分为24个扇区。扇区数根据描绘图案适当选定。一个或多个连续的扇区构成一簇。如图所示，作为簇+(扇区0～5)，簇-(扇区6～11)，虚拟簇(扇区12～23)，按照描绘图案1、描绘图案2、非描绘区域分摊各个扇区。簇+对应描绘图案1，存储器地址按顺时针方向扫描，由此在基板上对基本象素列进行描绘。簇-按照描绘图案2，存储器地址按逆时针方向扫描，由此在基板上对基本象素列用相反排列进行描绘。簇+及簇-的扇区数是相同的，非描绘区域地址不变，生成虚拟(零)数据。
对此时的存储器控制器405的处理参照流程图进行说明。图6是对存储器控制器405的主程序进行说明的流程图。图7是数据输出子程序的流程图。图8是对扇区以外的点(象素)处理的子程序进行说明的流程图。图9是对轨道最终点处理的子程序进行说明的流程图。图10是对簇最终点处理的子程序进行说明的流程图。图11是对簇以外的最终点处理的子程序进行说明的流程图。
各流程图中所用的算符、变量、常量定义如下。其变量等随着对装置操作状态进行模拟的计算机结果随时被更新。
＜＝：从右向左赋值
++：增加
--：减少
＝？：比较
cntDot_Sect：表示扇区内(一个轨道内)对第几个点进行处理的变量。
cntSect_Rev：表示在轨道内对第几个扇区进行处理的变量。
cntSect_Clst：表示在簇内对第几个扇区进行处理的变量。
cntTrack：表示在描绘区域内对第几个轨道进行处理的变量。
adrCrrnt：用于存储器控制器在存储器中进行存储时的地址。
NDot_Clst：构成一个轨道的一个扇区的点数。
NSect_Rev：构成一个轨道的扇区数。本实施例中是24。
NSect_Clst：构成一个簇的扇区数。本实施例中是6。
adrFrnt：对应于下一个簇+的最前列点的地址。
变量adrCrrnt用2×SizeBank尺寸循环进行，即，adrCrrnt＝2SizeBank-1时，如果adrCrrnt增加，则adrCrrnt＝0。相反，adrCrrnt＝0时，如果adrCrrnt减少，则adrCrrnt＝2SizeBank-1。
如图6所示，一旦描绘指令开始存储器控制器405就进行初始化，即，变量cntDot_Sect、cntSelect_Rev、cntSect_Clst、cntTrack、adrCrrnt分别设定为0。簇+被选择为描绘区域，在描绘区域设定适合的标志(S12)。
接着，判断描绘中的轨道号是否变为描绘结束的轨道号、要根据变量cntTrack的值是否已变为表示描绘轨道结束的结束值NTrack(S14)来判断，描绘轨道结束时为(S14；Yes)，结束描绘处理为(S16)。
在初始状态，由于最终描绘轨道尚未完成(S14；No)，所以，在存储器404中存储的象素数据被输出(S18)。数据输出如图7所示，判断目前描绘点的区域是否是虚拟区域(S182)，是虚拟区域时(S182；Yes)，输出“0”数据(S184)。另外，不是虚拟区域时(S182；No)，输出数据D[adrCrrnt](S186)。
目前的扇区处理点号是否是该扇区的最终点号，通过变量cntDot_Sect是否与NDot_Clst-1相等来判断。由于变量是从0开始，所以最终点号为NDot_Clst-1(S20)。另外不到扇区最终点时(S20；No)扇区的读取点号增加“1”(S22)，进行扇区最终点以外的处理(S24)。
扇区最终点以外的处理如图8所示，判断目前的描绘区域是虚拟区域、簇+区域、簇-区域中的哪一种(S242)。是虚拟区域时，子程序结束后回到S14步骤；是簇+区域时，存储器404中存取的地址增加“1”(S244)，回到S14步骤；是簇-区域时，存储器404中存取的地址减去“1”(S246)，回到S14步骤，按这样的处理顺序反复进行。
扇区的处理点号是该扇区的最终点号时(S20；Yes)，与描绘点下一个扇区的移动相对应，表示扇区点号的变量cntDot_Sect设定(复位)为0(S20)。
接着，扇区号是否是轨道最后的扇区号，在变量cntSelect_Rev与变量NSect_Rev-1比较后进行判断(S28)。并且，不是最后的扇区时(S28；No)要增加变量cntSect_Rev，扇区号增加“1”(S30)。
判断目前的描绘点区域是否是虚拟区域(S32)。如果是虚拟区域时(S32；Yes)，如下所述，由于输出的数据为“0”，不从存储器404中读取，所以回到S14步骤，按这样的处理顺序反复进行。
如果不是虚拟区域时(S32；No)，目前描绘点的扇区是否是该扇区内的最后扇区，通过变量cntSect_Clst与变量NSect_Clst-1比较后判断(S40)。不是最后的扇区时(S40；No)，形成扇区的最终点(S20；Yes)，所以将变量cntSect_Clst增加“1”(S42)，进行簇最终点以外的处理(S44)。
该簇最终点以外的处理如图9所示，判断目前的描绘区域是簇+区域、簇-区域中的哪一种(S442)。当在簇+区域时，存储器404中存取的地址增加“1”(S444)，回到S14步骤。当在簇-区域时，存储器404中存取的地址减去“1”(S446)，回到S14步骤。按这样的处理顺序反复进行。
接着，目前的描绘点扇区是该簇内的最后扇区时(S40；Yes)，变量cntSect_Clst设定为“0”后，将计数复位(S42)，进行簇的最终点处理(S44)。
簇的最终处理如图10所示，判断目前的描绘区域是簇+区域还是簇-区域(S442)。是簇+区域时，作为下一个簇最前列点的地址AdrFrnt，在目前存储器404中存取的地址adrCrrnt上增加“1”(S484)，区域标志设定为簇-(S486)，回到S14步骤。目前的描绘区域是簇-时将变量adrCrrnt设定为变量adrFrnt(S448)，区域标志设定虚拟(S490)，回到S14步骤。按这样的处理顺序反复进行。
接着，轨道是最后扇区时(S28；Yes)，变量cntSect Rev设定为“0”，扇区号复位(S50)，变量cntTrack增加“1”，将处理轨道设定为下一个轨道(S52)，进行轨道的最后点处理(S54)。
轨道的最终点处理如图11所示，判断描绘区域是虚拟区域、簇+区域、簇-区域中的哪一种(S542)。是虚拟区域时，区域标志设定为簇+(S548)，回到S14步骤。按这样的处理顺序反复进行。
目前的描绘区域是簇+区域时，变量adrCrrnt上增加“1”，增加存储器存取的地址(S544)，区域标志设定为簇+(S548)，回到S14步骤。按这样的处理顺序反复进行。
目前的描绘区域是簇-区域时，将变量adrCrrnt设定为变量adrFrnt(S546)，区域标志设定为簇+(S548)，回到S14步骤。按这样的处理顺序反复进行。
从S14步骤按上述顺序反复进行后，进行存储器404的地址指定，反复读取数据。
如上所述，存储器控制器405进行存储器404的地址指定，读取点(象素)数据，进行图案描绘。
图12是对存储器控制器405的生成数据传送请求信号进行说明的流程图。如上所述，存储器控制器405，如果将存储器404存储单元A的数据读完，则数据传送请求信号传输给描绘点坐标生成单元401。这一程序中，描绘点坐标生成单元401生成SizeBank坐标，描绘数据生成单元402将各描绘点的数据传输给存储单元A。存储单元B的数据读完后，也按同样的方法进行处理。
数据传输请求处理，首先，数据传输请求标志bankReq设定为“0”，进行复位(S62)。接着，判断目前的读取位置是所定位置，即，判断轨道内的扇区是0号，扇区内的点号也是0号的轨道最前列扇区的最前列的位置，要根据变量cntSect_Rev是否是“0”，并且变量cntDot_Sect是否也是“0”来判断(S64)。
在轨道扇区是最前列位置时(S64；Yes)，存储器控制器405利用后面所述的变量crossBorder的值判断存储器404的A或B的最终地址是否进行过存取(S66)。变量crossBorder的值不是“1”，并且最终地址也未经过存取时(S66；No)，不发生数据传输请求，然后回到S64步骤，进行反复处理。最终的地址发生过存取时(S66；Yes)，数据传输请求标志bankReq设定为1，将数据传送请求信号传输到描绘点坐标生成单元401(S68)，然后回到S64步骤，进行反复处理。
一方面，目前的读取位置不是轨道扇区最前列位置时(S64；No)，判断是否发生数据传输请求，通过变量bankReq是否是“1”来判断(S70)。不发生数据传输请求时(S70；No)，回到S64步骤，进行反复处理。数据传输请求发生时(S70；Yes)，变量bankReq设定为“0”，变量bankReq复位(S72)，回到S64步骤。变量bankReq复位后，数据传输请求消失(S62)。处理步骤S64～S72的每一个循环与振荡器407的时钟同步进行，数据传送请求信号bankReq为了防止存储器上所需的数据被覆盖，可与转台的转动同时传输，描绘数据的再利用在一周内可反复进行。
图13是对存储单元转换的检测变量crossBorder进行说明的流程图。当该存储器控制器405访问存储单元A和B的最终地址时，变量crossBorder变为“1”，在变量bankReq信号输出后，变量crossBorder变为“0”。
首先，对于存储单元转换的检测处理，存储器控制器将变量crossBorder复位(S82)。判断目前存储器404读取的地址是否是存储单元A最大的地址，或者是否是存储单元B的最大的地址，要通过表示读取地址的变量adrCrrnt的值是否与SizeBank-1或者2SizeBank-1相等来判断(S84)。存储器404读取的地址是A或B单元的最终地址时(S84；Yes)，一个单元读取结束，或者存储单元边界读取的位置所表示的变量crossBorder设定为1(S86)，回到S84步骤，进行反复处理。
存储器404读取的地址不是A或B单元的最终地址时(S84；No)，，通过变量bankReq是否是“1”来判断是否发生数据传输请求(S88)。不发生数据传输请求时(S88；No)，回到S84步骤，进行反复处理。发生数据传输请求时(S88；Yes)，该变量crossBorder设定为“0”，该变量crossBorder被复位(S90)，回到S84步骤。变量crossBorder复位后单元转换信号消失(S82)。处理步骤S84～S90每一个循环都与振荡器407的时钟同步。这样，变量crossBorder如果通过读取单元边界的地址，则为“1”，变量bankReq变为“1”，如果发生数据传送请求信号则复位到“0”。
根据这一系列操作的反复进行，生成的描绘点数据的处理比以往减半，可以进行高速描绘。
图14是另一实施例的说明图。这一实施例使用“J”状箭头的一个图案数据，对4个图案进行描绘。先形成一个轨道的轨迹，对相互等长的轨迹1，2，3和4用同样的描绘数据进行描绘，形成四个图案。
图15表示这种状况下簇的分布，描绘区域分为24个扇区。扇区0～5为簇0+；扇区6～11为簇1+；扇区12～17为簇2+；扇区18～23为簇3+。在这里，簇的“+”表示在增加(顺时针)的方向读取指定的地址。
这一实施例对图6所示的处理的子程序内容可以有如图16～图20所示的各种变化。
即，如图16所示，扇区的最终点以外的处理(S24)，存储器控制器405在存储器404上存取的地址增加“1”(S244)，然后回到S14步骤。另外，如图17所示，轨道的最终点处理(S54)，存储器控制器405在存储器404上存取的地址增加“1”(S544)。接着，在表示簇最前列点的存储器地址的变量adrBack上设定目前地址的adrCrrnt值(S545)，然后回到S14步骤。簇最终点的处理(S48)，如图18所示，存储器控制器405将存储器404上存取的地址设定为adrBack，增加“1”(S244)后，回到S14步骤。簇最终点以外的处理(S44)，如图19所示，存储器控制器405将存储器404上存取的地址增加“1”(S244)，然后回到S14步骤。
在第二实施例中，描绘点坐标生成单元401、描绘数据生成单元402与生成全部的描绘点数据状况相比，由于使用4次相同的数据，所以数据处理量变为大约1/4。
由此看来，根据本发明的实施例，在所定的轨道区域内，由于反复使用构成基本图案的数据或者使用虚拟数据，对全部的图案进行描绘，所以，与全部图案数据进行数据变换时相比，数据变换中所需的运算的负担就会减少。
综上所述，根据本发明的图案描绘装置，由于反复使用在R-θ坐标系上变换的数据对图案进行描绘，所以，数据变换的运算处理量就减少，可以更高速地进行描绘，并且也可以提高清晰度。
尽管本发明已经参照附图和优选实施例进行了说明，但是，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。本发明的各种更改，变化，和等同物由申请文件的内容涵盖。

Claims (8)

1.一种用于在基板上形成按照同心圆状排列的多个轨道，并从而进行二维图案描绘的图案描绘方法，其特征在于，所述方法包括：
图案发生步骤，通过将作为每个轨道的基础的基本象素列在一个轨道上的至少两点处进行正向或反向的反复排列，并按照同样的方式在连续的多个轨道上反复进行排列，从而生成形成所述二维图案的象素列数据；
调制步骤，根据所述图案发生步骤产生的所述象素列数据对扫描所述基板上的描绘光束进行调制；以及
光束位置设定步骤，与所述象素列数据同步，对所述描绘光束在所述基板上的扫描位置进行设定。
2.根据权利要求1所述的图案描绘方法，其中，所述基板包括在其上沿圆周方向划分的多个扇区区域，由一个或连续的多个所述扇区区域组合成的簇区域，以及所述多个簇区域；以及
所述图案发生步骤中，在描绘光束扫描所述簇区域的轨道上时输出所述基本象素列。
3.根据权利要求1所述的图案描绘方法，其中，所述图案发生步骤将不形成图案的虚拟象素列排列在所述基本象素列之间。
4.根据权利要求2所述的图案描绘方法，其中，将不形成图案的虚拟象素列排列在所述簇区域以外的扇区区域的轨道上。
5.根据权利要求1所述的图案描绘方法，其中，所述轨道是利用所述象素列数据调制的描绘光束对所述基板进行转动扫描后得到的轨迹。
6.一种在基板上对按照同心圆状排列的多个轨道进行二维图案描绘的图案描绘体制造方法，其特征在于，所述方法包括：
通过将作为每个轨道的基础的基本象素列在一个轨道上的至少两点处进行正向或反向的反复排列，并按照同样的方式在连续的多个轨道上反复进行排列，形成所述二维图案。
7.根据权利要求6所述的图案描绘体制造方法，包括如下步骤：
将所述基板划分为多个沿圆周方向划分的扇区区域，一个簇区域包括一个或多个连续的所述扇区区域；
在所述基板上包括多个所述簇区域；以及
在所述簇区域的轨道上排列所述基本象素列。
8.根据权利要求7所述的图案描绘体制造方法，其中，在所述簇区域以外的扇区区域的轨道上排列不形成图案的虚拟象素列。
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