CN1215765A - 锡镍合金退镀液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种锡镍合金的退镀液,由浓盐酸和浓硝酸组成,其中浓度为浓盐酸350—700ml/l,浓硝酸为5—30ml/l,在室温下就可退镀,与目前所用的浓盐酸法、双氧水加添加剂法具有成本低、参对镀件腐蚀小的优点。
Description
本发明涉及一种电镀技术,特别是锡镍合金电镀。
电镀是工业上普遍应用于表面处理,有时也根据需要进行退镀,其中有采用电解退镀,有采用化学方法退镀;现有化学法退镀,主要以盐酸为基和以硫酸为基的处理方法,如附图1和2,退镀工艺复杂。
本发明的目的是研制一种化学处理液,同处理液腐蚀退镀。
本发明的退镀液为双组份,其成份为浓盐酸和浓硝酸,其中浓盐酸为350-700ml/l,浓硝酸为5-30ml/l,退镀温度为室温。
本发明的退镀液与浓盐酸法、双氧水加添加剂法比较,具有成本低,对产品腐蚀性小,控制易的特点。
表1为以盐酸为基的退镀工艺规范;
表2为以硫酸为基的退镀工艺规范。
本发明实施例:浓盐酸(37%)350-700ml/l,
浓硝酸(65%)5-30ml/l
操作条件:在室温下将镀件在处理液中抖动,时间10s-20min。
表一表二
含量(g/l 配方号组成和操作条件 | 20 ① | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 |
硫酸(H2SO4)(98%,mL/L) | 600-325 | 80-110 | 435-520 | 545-600 | 19份1份 | 1000 | 60%(体积)20%(体积) | 1000 | 60 |
硝酸(HNO3)(65%,mL/L) | 45-55 | ||||||||
磷酸(H3PO4)(85%,mL/L) | 30 | ||||||||
盐酸(HCL)(37%,mL/L) | 15-20 | ||||||||
柠檬酸(C6H8O7.H2O) | 22~38 | ||||||||
甘油(C3H5O3) | |||||||||
硫脲(CS(NH2)2) | 1 | 1 | |||||||
硝酸钠(NaNO3) | 100~200 | ||||||||
防染盐S | 60 | ||||||||
硫氯酸钾(KCNS) | 0.6-1 | ||||||||
溶解金属 | ≤30 | ≤30 | |||||||
温度 (℃) | 室温 | 室温 | 室温 | 室温 | 20 | 30~40 | 70-90 | 70-90 | |
电流密度(A/cm2 | 5-10 | 2~10 | 5~3 | 10-20 | |||||
电流密度(√) | 2-6 | 4-6 | 2-3 | 5-6 | |||||
适用性(镀层/基体) | Ni、化学镀 NiAu/Fe、Cu Cr、Au/Al | Cr/Al、氧化胰/cu(化学法) | Cu、Ni/Zn合金 | Ni+C/Cu | Au/Cu | AUFe | Ni/Zn合金 | Ag/FeCuPd/Cu | Ni、Sn-N/Cu |
Claims (1)
- 一种锡镍合金退镀液,其特征在于含浓盐酸和浓硝酸,其浓度为浓盐酸350-700ml/l,浓硝酸为5-30ml/l。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 97119766 CN1215765A (zh) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | 锡镍合金退镀液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN 97119766 CN1215765A (zh) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | 锡镍合金退镀液 |
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CN1215765A true CN1215765A (zh) | 1999-05-05 |
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Family Applications (1)
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CN 97119766 Pending CN1215765A (zh) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | 锡镍合金退镀液 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN1215765A (zh) |
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1997
- 1997-10-28 CN CN 97119766 patent/CN1215765A/zh active Pending
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |