CN118076153A - 显示基板以及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示基板以及显示装置。显示基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的多个子像素、像素限定图案以及限定结构，子像素包括发光功能层，发光功能层包括多个膜层。限定结构位于发光功能层与衬底基板之间。像素限定图案包括多个第一开口和多个第二开口，发光功能层中的至少一层位于第一开口中的部分为连续的部分，沿垂直于衬底基板的方向，限定结构与至少两个第一开口交叠的部分为一体化设置的结构，至少一个第二开口暴露限定结构的至少部分边缘以隔断发光功能层中的至少一层。限定结构与至少两个第一开口交叠的部分为连续的结构且限定结构被第二开口暴露的至少部分边缘隔断发光功能层，以降低串扰的同时不增加功耗。

Description

显示基板以及显示装置

本申请为2022年11月22日递交的中国专利申请第202211469198.9号的发明名称为“显示基板以及显示装置”的分案申请。

技术领域

本公开实施例涉及一种显示基板以及显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，用户对显示装置使用寿命以及功耗的要求越来越高。一种串联式(tandem)有机发光显示器件，通过在有机发光器件中增加至少一层发光层以及电荷产生层而提高了发光器件的寿命和亮度、降低了功耗，由此该发光器件可以极大满足用户对显示装置使用寿命和功耗的需求。

发明内容

本公开实施例提供一种显示基板以及显示装置。

本公开实施例中，显示基板包括衬底基板、位于衬底基板上的多个子像素、像素限定图案以及限定结构。部分子像素中的每个子像素包括发光功能层，所述发光功能层包括多个膜层；限定结构位于所述发光功能层与所述衬底基板之间。所述像素限定图案包括多个第一开口和多个第二开口，所述发光功能层中的至少一层位于所述第一开口中的部分为连续的部分，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述限定结构与至少两个第一开口交叠的部分为一体化设置的结构，至少一个第二开口暴露所述限定结构的至少部分边缘以隔断所述发光功能层中的至少一层。

例如，根据本公开实施例，至少部分子像素中的每个子像素还包括沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，且所述像素限定图案位于所述第一电极远离所述衬底基板的一侧；相邻设置的子像素的所述第二电极至少部分连续设置。

例如，根据本公开实施例，所述多个第一开口中包括沿第一方向排列的第一开口以及沿第二方向排列的第一开口，所述第一方向与所述第二方向相交；所述限定结构包括沿所述第一方向排列的多个延伸限定结构，相邻两个延伸限定结构之间的最小距离小于在所述第一方向上排列的相邻两个第一开口之间的最小距离。

例如，根据本公开实施例，所述多个延伸限定结构中包括沿所述第一方向交替排列的第一子延伸限定结构和第二子延伸限定结构，所述第一子延伸限定结构的形状与所述第二子延伸限定结构的形状不同，各第一子延伸限定结构的形状大致相同。

例如，根据本公开实施例，所述多个延伸限定结构中包括沿所述第一方向交替排列的第一子延伸限定结构和第二子延伸限定结构，所述第一子延伸限定结构的形状与所述第二子延伸限定结构的形状不同，相邻第一子延伸限定结构的形状不同。

例如，根据本公开实施例，所述多个子像素中包括沿第一方向排列的多个像素组，每个像素组中的子像素沿第二方向排列，所述第一方向与所述第二方向相交；所述限定结构包括沿所述第一方向排列的多个延伸限定结构，至少一个延伸限定结构在所述衬底基板上的正投影与相邻两个像素组对应的第一开口在所述衬底基板上的正投影交叠，且相邻两个延伸限定结构间隔设置。

例如，根据本公开实施例，所述延伸限定结构包括与所述相邻两个像素组之一交叠的第一延伸限定结构以及与所述相邻两个像素组中另一个交叠的第二延伸限定结构，所述第一延伸限定结构为沿所述第二方向延伸的连续结构，所述第二延伸限定结构包括沿所述第二方向间隔排列的多个子结构，每个子结构与一个子像素对应的第一开口交叠，且每个子结构与所述第一延伸限定结构连接。

例如，根据本公开实施例，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第二开口与所述第一延伸限定结构和所述第二延伸限定结构之一交叠，或者，所述第一延伸限定结构和所述第二延伸限定结构均与所述第二开口交叠。

例如，根据本公开实施例，所述多个子像素中包括沿第一方向排列的子像素以及沿第二方向排列的子像素，所述第一方向与所述第二方向相交；所述限定结构包括阵列排布的多个限定块，沿垂直于所述衬底基板的方向，至少一个限定块与两个不同颜色子像素的对应的第一开口交叠，且所述两个不同颜色子像素对应的第一开口在所述衬底基板上的正投影的中心连线与所述第一方向和所述第二方向均相交，相邻限定块间隔设置。

例如，根据本公开实施例，所述至少一个限定块包括分别与所述两个不同颜色子像素对应的第一开口交叠的第一子限定块和第二子限定块，所述第一子限定块与所述第二子限定块为一体化设置的结构，且沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一子限定块与所述第二子限定块之一与所述第二开口交叠。

例如，根据本公开实施例，所述第一子限定块与所述第二开口交叠，所述第二子限定块与所述第二开口的彼此靠近的边缘之间的距离小于相邻两个第二开口之间的距离。

例如，根据本公开实施例，沿所述第一方向和所述第二方向中任一方向排列的限定块包括交替设置的第一限定块和第二限定块，沿垂直于所述衬底基板的方向，与所述第一限定块交叠的两个不同颜色子像素之一发出的光的颜色和与所述第二限定块交叠的两个不同颜色子像素之一发出的光的颜色相同。

例如，根据本公开实施例，所述多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一限定块与所述第一颜色子像素和所述第三颜色子像素交叠，所述第二限定块与所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素交叠。

例如，根据本公开实施例，所述多个子像素包括多个第一颜色子像素、多个第二颜色子像素以及多个第三颜色子像素，所述多个子像素排列为沿第一方向交替设置的多个第一子像素组和多个第二子像素组，各第一子像素组包括沿所述第二方向交替设置的所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素，各第二子像素组包括沿所述第二方向排列的所述第三颜色子像素；所述多个像素组包括所述第一子像素组和所述第二子像素组。

例如，根据本公开实施例，显示基板还包括：绝缘层，位于所述限定结构与所述衬底基板之间。所述绝缘层远离所述衬底基板一侧包括突出部，所述突出部在所述衬底基板上的正投影与所述限定结构在所述衬底基板上的正投影交叠。

例如，根据本公开实施例，所述限定结构与所述突出部接触。

例如，根据本公开实施例，所述限定结构的材料包括无机非金属材料，所述绝缘层的材料包括有机材料。

例如，根据本公开实施例，所述限定结构的至少部分边缘相对于所述突出部远离所述衬底基板一侧的表面的边缘突出的尺寸小于1微米。

例如，根据本公开实施例，所述发光功能层的至少一层膜层包括电荷产生层，所述发光功能层包括层叠设置的第一发光层、所述电荷产生层以及第二发光层，所述电荷产生层位于所述第一发光层与所述第二发光层之间，且所述电荷产生层在所述限定结构的边缘处断开。

本公开另一实施例提供一种显示装置，包括上述任一显示基板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1-图3为根据本公开实施例提供的一种显示基板的局部平面结构示意图。

图4A为沿图1所示AA’线所截的局部截面结构示意图。

图4B-图4D为根据本公开实施例的不同示例提供的包括隔离部的局部截面结构示意图。

图5为在图4C所示隔离部上设置像素限定图案的结构示意图。

图6为图1所示一第一颜色子像素的发光区的示意性放大图。

图7-图8为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图9-图10为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图11-图12为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图13A-图13B为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图14A为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图14B为图14A所示显示基板的局部放大图。

图15-图16为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图17-图18为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。

图19为根据本公开另一实施例提供的显示装置的示意框图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。

本公开实施例中使用的“平行”、“垂直”以及“相同”等特征均包括严格意义的“平行”、“垂直”、“相同”等特征，以及“大致平行”、“大致垂直”、“大致相同”等包含一定误差的情况，考虑到测量和与特定量的测量相关的误差(例如，测量系统的限制)，表示在本领域的普通技术人员所确定的对于特定值的可接受的偏差范围内。例如，“大致”能够表示在一个或多个标准偏差内，或者在所述值的10％或者5％内。在本公开实施例的下文中没有特别指出一个成分的数量时，意味着该成分可以是一个也可以是多个，或可理解为至少一个。“至少一个”指一个或多个，“多个”指至少两个。

在研究中，本申请的发明人发现：发光元件的发光功能层可以包括层叠设置的多层发光层，该多层发光层中的至少两层之间设置有电荷产生层(CGL)，电荷产生层的导电率较大，在电荷产生层为整面膜层时，相邻两个发光元件的电荷产生层是连续膜层，存在电荷横向迁移现象，导致显示基板在低灰阶下出现光谱串扰，如容易使得相邻子像素之间产生串扰，导致显示基板出现色偏。如电荷产生层容易导致低亮度下不同颜色子像素之间发生串扰，导致低灰阶色偏。此外，在显示基板中第二电极为整面膜层时，存在电荷横向迁移现象，导致显示基板在低灰阶下出现光谱串扰，导致显示基板出现色彩不均，对显示产品均一性产生较大影响。

本公开实施例提供一种显示基板以及显示装置。显示基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的多个子像素，至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件，发光元件包括发光区，发光元件包括发光功能层以及沿垂直于衬底基板的方向位于发光功能层两侧的第一电极和第二电极，第一电极位于发光功能层与衬底基板之间，发光功能层包括多个膜层。至少两个相邻子像素之间设置有隔离部，所述发光功能层中的至少一层以及所述第二电极的至少部分在所述隔离部的边缘处断开，且相邻设置的子像素的所述第二电极至少部分连续设置以形成网状通路；所述至少部分子像素中的所述第二电极在所述衬底基板上的正投影在一方向上的长度大于沿该方向排列的子像素的发光区在所述衬底基板上的正投影的尺寸之和，所述网状通路包括交叉设置的多条通路，至少一条通路为宽度不均匀设置的通路，且宽度不均匀设置的所述通路中与所述发光区交叠部分的宽度大于与所述发光区以外至少部分位置交叠部分的宽度。

本公开提供的显示基板中设置的隔离部在隔断发光功能层的至少一层以及第二电极的至少部分的同时，通过对隔离部的形状的设置以使得第二电极形成网状通路，且网状通路中在对应发光区的位置处宽度设置的较宽以提高隔离部与子像素排列关系的匹配，进而实现在降低相邻子像素之间产生的串扰的同时，提高第二电极导通效果，尽量保证第二电极电阻不增加，有利于避免显示基板产生功耗过高以及亮度均一性问题。

本公开实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板；多个子像素，位于所述衬底基板上，至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件，所述发光元件包括发光区，所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，所述发光功能层包括多个膜层。至少两个相邻子像素之间设置有隔离部，所述发光功能层中的至少一层以及所述第二电极的至少部分在所述隔离部的边缘处断开，且相邻设置的子像素的所述第二电极至少部分连续设置以形成网状通路；所述网状通路包括交叉设置的多条通路，至少一条通路为宽度不均匀设置的通路，所述宽度不均匀设置的通路的至少部分边缘为所述隔离部的边缘，所述宽度不均匀设置的通路包括与所述发光区交叠的第一通路部以及位于所述发光区以外位置的第二通路部，与所述宽度不均匀设置的通路的延伸方向垂直的直线包括经过所述第一通路部在所述衬底基板上的正投影的第一直线以及经过所述第二通路部在所述衬底基板上的正投影的第二直线，所述第一直线与位于所述第一通路部两侧的所述隔离部的边缘在所述衬底基板上正投影的两个交点连线的长度为第一连线长度，所述第二直线与位于所述第二通路部两侧的所述隔离部的边缘在所述衬底基板上正投影的两个交点连线的长度为第二连线长度，所述第一连线长度不小于所述第二连线长度。

本公开提供的显示基板中设置的隔离部在隔断发光功能层的至少一层以及第二电极的至少部分的同时，通过对隔离部的形状的设置以使得第二电极形成网状通路，且网状通路中在对应发光区的位置处的第一通路部的两侧隔离部边缘之间的距离不小于对应发光区以外的第二通路部的两侧隔离部边缘之间的距离，进而实现在降低相邻子像素之间产生的串扰的同时，提高第二电极导通效果，尽量保证第二电极电阻不增加，有利于避免显示基板产生功耗过高以及亮度均一性问题。

下面结合附图对本公开实施例提供的显示基板以及显示装置进行描述。

图1-图3为根据本公开实施例提供的一种显示基板的局部平面结构示意图。图4A为沿图1所示AA’线所截的局部截面结构示意图。图1示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图2和图3示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。

如图1至图4A所示，显示基板包括衬底基板01以及位于衬底基板01上的多个子像素10。至少部分子像素10中的每个子像素10包括发光元件100，发光元件100包括发光区101，发光元件100包括发光功能层130以及沿垂直于衬底基板01的方向(如图4A所示的Z方向)位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120，第一电极110位于发光功能层130与衬底基板01之间，第二电极120位于发光功能层130远离衬底基板01的一侧，发光功能层130包括多个膜层。例如，发光功能层130包括电荷产生层133。例如，发光元件100可以为有机发光元件。例如，位于显示区域的每个子像素均包括发光元件。

如图1至图4A所示，至少两个相邻子像素10之间设置有隔离部210，发光功能层130中的至少一层以及第二电极120的至少部分在隔离部210的边缘处断开，且相邻设置的子像素10的第二电极120至少部分连续设置以形成网状通路30。例如，任意相邻子像素10之间均设置有隔离部210。例如，相邻设置的子像素10之间至少没有设置隔离部210的位置处的第二电极120连续设置。

例如，至少部分子像素10中的第二电极120在衬底基板01上的正投影为整面结构。

如图1至图4A所示，至少部分子像素10中的第二电极120在衬底基板01上的正投影在一方向上的长度大于沿该方向排列的子像素10的发光区101在衬底基板01上的正投影的尺寸之和。例如，上述“一方向”包括行方向或列方向。例如，图中所示X方向和Y方向之一可以为行方向，另一个可以为列方向。

如图1至图4A所示，网状通路30包括交叉设置的多条通路300，至少一条通路300为宽度不均匀设置的通路300，至少一条通路300为宽度不均匀设置的通路300，且宽度不均匀设置的通路300中与发光区101交叠部分的宽度大于与发光区101以外至少部分位置交叠部分的宽度。例如，至少一条通路300中宽度最宽的位置在衬底基板01上的正投影与发光区101在衬底基板01上的正投影交叠。图3示意性的示出一条宽度不均匀设置的通路300，该通路300中宽度最宽的位置在衬底基板01上的正投影与发光区101在衬底基板01上的正投影交叠，该通路300中宽度较窄的位置与相邻发光区101之间的间隔交叠。例如，与不同发光区101对应的通路300的宽度可以不同。

本公开提供的显示基板中设置的隔离部在隔断发光功能层的至少一层以及第二电极的至少部分的同时，通过对隔离部的形状的设置以使得第二电极形成网状通路，且网状通路中在对应发光区的位置处宽度设置的较宽以提高隔离部与子像素排列关系的匹配，进而实现在降低相邻子像素之间产生的串扰的同时，提高第二电极导通效果，有利于避免显示基板产生功耗过高以及亮度均一性问题。

上述“网状通路”指在形成隔离部后形成整面第二电极时，第二电极会在至少一个隔离部位置处断开，而第二电极中除断开位置处以外的连续部分形成网状结构的搭接通道，该通道为传输电荷的通道，形成为电荷通路。

本公开任一实施例中的“相邻子像素”指两个子像素10之间没有设置其他子像素10。

在一些示例中，如图4A所示，发光功能层130可以包括层叠设置的第一发光层(EML)131、电荷产生层(CGL)133以及第二发光层(EML)132，电荷产生层133位于第一发光层131与第二发光层132之间。电荷产生层具有较强的导电性，可以使得发光功能层具有寿命长、功耗低以及可实现高亮度的优点，例如，相对于没有设置电荷产生层的发光功能层，子像素通过在发光功能层中设置电荷产生层可以将发光亮度提高近一倍。

例如，同一子像素10的发光元件100可以为串联式(tandem)发光元件，如TandemOLED。

例如，电荷产生层133可以包括N型电荷产生层和P型电荷产生层。

例如，各子像素10中，发光功能层130还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)。

例如，空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层以及电荷产生层133均为多个子像素10的共用膜层，可以称为共通层。例如，多个子像素10中的第二电极120可以为多个子像素10共用的公共电极，在上述相邻两个子像素10之间没有设置隔离部210时，第二电极120为整层膜层。

例如，第一电极110可以为阳极，第二电极120可以为阴极。例如，阴极可由高导电性和低功函数的材料形成，例如，阴极可采用金属材料制成。例如，阳极可由具有高功函数的透明导电材料形成。

例如，发光功能层130中在隔离部210的边缘处断开的至少一层膜层可以为上述共通层中的至少一层膜层。例如，发光功能层130的全部膜层以及第二电极120均被隔离部210断开。通过将上述共通层中的至少一层膜层在位于相邻子像素之间的隔离部210的边缘处断开，可以有利于降低相邻子像素之间产生串扰的几率。例如，上述共通层以及第二电极可以为采用开口掩模(open mask)形成的膜层。

例如，第二发光层132可以位于第一发光层131与第二电极120之间，空穴注入层可以位于第一电极110与第一发光层131之间。例如，电荷产生层133与第一发光层131之间还可以设置电子传输层。例如，第二发光层132与电荷产生层133之间可以设置空穴传输层。例如，第二发光层132与第二电极120之间可以设置电子传输层和电子注入层。

例如，同一个子像素10中，第一发光层131和第二发光层132可以为发射相同颜色光的发光层。例如，发不同颜色光的子像素10中的第一发光层131发射不同颜色光。例如，发不同颜色光的子像素10中的第二发光层132发射不同颜色光。当然，本公开实施例不限于此，例如，同一子像素10中，第一发光层131和第二发光层132可以为发射不同颜色光的发光层，通过在同一子像素10中设置发射不同颜色光的发光层可以使得子像素10包括的多层发光层发射的光混合为白光，通过设置彩膜层来调节每个子像素出射光的颜色。

例如，如图1至图4A所示，多个子像素10包括不同颜色子像素10，通路300与不同颜色子像素10的发光区101交叠部分的宽度不同。例如，不同颜色子像素可以包括蓝色子像素、红色子像素以及绿色子像素，如通路与蓝色子像素的发光区交叠部分的宽度可以大于通路与绿色子像素的发光区交叠部分的宽度，本公开实施例不限于此。可以根据产品需求，如某一颜色子像素的第二电极的电压降对显示产品影响较大，可以将与该颜色子像素的发光区交叠的第二电极的通路的宽度设置的较宽。如上述某一颜色子像素可以为绿色子像素。

例如，相邻子像素10中，位于电荷产生层133同一侧的发光层可以交叠，也可以间隔设置。例如，相邻子像素10中，位于电荷产生层133同一侧的发光层可以在隔离部210边缘处间隔设置，但不限于此，相邻子像素10中，位于电荷产生层133同一侧的发光层可以在像素限定部(后续描述)上交叠，或者间隔设置。

例如，电子传输层的材料可以包括芳族杂环化合物，例如苯并咪唑衍生物、咪唑并吡啶衍生物、苯并咪唑并菲啶衍生物等咪唑衍生物；嘧啶衍生物、三嗪衍生物等嗪衍生物；喹啉衍生物、异喹啉衍生物、菲咯啉衍生物等包含含氮六元环结构的化合物(也包括在杂环上具有氧化膦系的取代基的化合物)等。

例如，电荷产生层133的材料可以是含有磷氧基团的材料，也可以是含有三嗪的材料。

例如，电荷产生层133的材料电子迁移率与电子传输层电子迁移率之比为10-²～10²。

例如，如图4A所示，发光功能层130中至少一层可以为电荷产生层133，电荷产生层133在衬底基板01上的第一电荷产生层正投影是连续的，且在垂直于衬底基板01的平面(如ZV面)上的第二电荷产生层正投影不连续。例如，电荷产生层133可以包括位于隔离部210上的部分以及没有位于隔离部210上的部分，这两部分在隔离部210的边缘处断开。例如，这两部分在衬底基板01上的第一电荷产生层正投影可以相接或者交叠，第一电荷产生层正投影是连续的。

例如，发光功能层130包括至少一层发光层，发光功能层130中在隔离部210处断开的膜层中包括至少一层发光层以及至少一层其他膜层；断开的至少一层其他膜层在衬底基板01上的正投影的面积大于断开的至少一层发光层在衬底基板01上的正投影的面积；或者，断开的至少一层其他膜层覆盖隔离部210的部分的面积，大于断开的至少一层发光层覆盖隔离部210的部分的面积。

例如，如图4A所示，第二电极120以及发光功能层130包括的多个膜层的至少一层在衬底基板01上的正投影与隔离部210在衬底基板01上的正投影有交叠。

例如，发光功能层130包括的多个膜层的至少一层的至少部分覆盖隔离部210的部分侧表面。

在一些示例中，如图4A所示，显示基板还包括像素限定图案400和绝缘层500。像素限定图案400位于发光元件100的第一电极110远离衬底基板01的一侧；绝缘层500位于像素限定图案400与衬底基板01之间。像素限定图案400包括多个第一开口410，一个子像素10对应至少一个第一开口410，子像素10的发光元件100至少部分位于子像素10对应的第一开口410中，且第一开口410被配置为暴露第一电极110。例如，像素限定图案400包括围绕第一开口410的像素限定部401。

例如，如图4A所示，当发光功能层130形成在像素限定图案400的第一开口410中时，位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120能够驱动第一开口410中的发光功能层130进行发光。例如，像素限定图案400的第一开口410用于限定发光元件100的发光区101，图1至图3中每个子像素10的中间区域轮廓示意出了发光区101。图1中围绕发光区101的轮廓为第一电极110。

上述发光区101可以指子像素有效发光的区域，发光区的形状指二维形状，例如发光区的形状可以与像素限定图案400的第一开口410的形状相同。

例如，如图4A所示，像素限定部401的材料可以包括聚酰亚胺、亚克力或聚对苯二甲酸乙二醇酯等。

在一些示例中，如图1至图4A所示，像素限定图案400还包括第二开口420，第二开口420被配置为暴露隔离部210，隔离部210位于发光功能层130与绝缘层500之间。例如，像素限定部401围绕第二开口420。例如，第二开口420位于相邻子像素10之间。例如，相邻第一开口410之间设置有至少一个第二开口420。例如，隔离部210在衬底基板01上的正投影与像素限定部401在衬底基板01上的正投影没有交叠。例如，像素限定图案400中除第一开口410和第二开口420以外的像素限定部401可以为连续结构。

在一些示例中，如图1至图4A所示，显示基板还包括位于发光功能层130与绝缘层500之间限定结构200。限定结构200围绕至少部分子像素10中的每个子像素10的发光区101，限定结构200的至少部分位于第一电极110远离衬底基板01的一侧，且限定结构200中被第二开口420暴露的部分包括隔离部210。例如，隔离部210是限定结构200的一部分，在垂直于衬底基板01的方向，限定结构200与像素限定部401交叠的部分为隔离部210以外的不用于隔断发光功能层130的至少一层的部分。

例如，如图1至图4A所示，在垂直于衬底基板01的方向，隔离部210与发光元件10的第一电极110没有交叠。例如，隔离部210可以与第一电极110同层设置，如第一电极110与隔离部210可以均设置在绝缘层500的远离衬底基板01一侧的表面。

例如，如图1至图4A所示，限定结构200的部分覆盖第一电极110的边缘，如覆盖第一电极110的一圈边缘或者一圈边缘中的部分边缘，有利于避免第一电极边缘材料(如银离子)的脱落。例如，限定结构200中覆盖第一电极110的部分被像素限定部401覆盖，即限定结构200中覆盖第一电极110的部分位于第一开口410与第二开口420之间的区域。

例如，如图1至图4A所示，围绕不同子像素10的发光区101的限定结构200可以为一体化结构。例如，多个子像素10包括沿X方向排列的多行子像素，每两行子像素对应的限定结构200可以为一体化结构，如第一行子像素与第二行子像素对应的限定结构200可以为一体化结构，第三行子像素对应的限定结构200与第二行子像素对应的限定结构200之间设置有间隔。本公开中，通过将围绕不同子像素的发光区的限定结构设置为一体化结构，可以方便限定结构的图案化。

例如，如图4A所示，限定结构200包括层叠设置的三层膜层，如第一限定结构层201、第二限定结构层202以及第三限定结构层203，隔离部210位置处的第一限定结构层201和第三限定结构层203的边缘均相对于第二限定结构层202的边缘向外突出，以使得发光功能层130的至少一层在第一限定结构层201的边缘处断开。

例如，限定结构200的材料包括无机非金属材料。例如，限定结构200的材料可以包括氮化硅、氧化硅或者氮氧化硅中的任意一种或多种。例如，第一限定结构层201和第三限定结构层203的材料可以包括氧化硅，第二限定结构层202的材料可以包括氮化硅。

例如，如图4A所示，限定结构200的厚度可以小于第一电极110的厚度。例如，限定结构200的厚度可以为大于400埃。

图4A没有示出绝缘层与衬底基板之间的其他膜层，如绝缘层与衬底基板之间还可以设置与发光元件电连接的像素电路、各种信号线以及其他绝缘层等，如其他绝缘层可以包括平坦层、钝化层、缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层等。

图4B-图4D为根据本公开实施例的不同示例提供的包括隔离部的局部截面结构示意图。图4B-图4D没有示出像素限定图案，图5为在图4C所示隔离部上设置像素限定图案的结构示意图，图中所示的隔离部210可以为限定结构完全被像素限定图案的开口暴露的情况。

图4B-图5所示示例与图4A所示示例不同之处在于限定结构200的至少部分位于所述第一电极110与所述绝缘层500之间。

例如，如图4B-图5所示，绝缘层500远离衬底基板01一侧包括突出部510，突出部510在衬底基板01上的正投影与隔离部210在衬底基板01上的正投影交叠，且隔离部210与突出部510接触。

例如，如图4B-图4D所示，隔离部210的材料包括无机非金属材料，绝缘层500的材料包括有机材料。例如，突出部510在衬底基板01上的正投影完全位于隔离部210在衬底基板01上的正投影内。

例如，如图4B-图4D所示，隔离部210的至少一侧边缘相对于突出部510的边缘突出，以对膜层进行隔断。例如，隔离部210的边缘也可以与突出部510的边缘齐平。例如，所述隔离部的至少部分边缘相对于所述突出部的边缘突出的尺寸小于1微米。例如，所述隔离部的至少部分边缘相对于所述突出部的边缘突出的尺寸小于0.08微米。例如，所述隔离部的至少部分边缘相对于所述突出部的边缘突出的尺寸小于0.05微米。例如，所述隔离部的至少部分边缘相对于所述突出部的边缘突出的尺寸小于0.02微米。

例如，如图4B所示，隔离部210包括依次层叠设置的第一隔离结构层2011、第二隔离结构层2012以及第三隔离结构层2013，第一隔离结构层2011的边缘和第三隔离结构层2013的边缘均相对于第二隔离结构层2012的边缘突出。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.05微米。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.08微米。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.1微米。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.15微米。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.2微米。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于第一隔离结构层2011的边缘内缩尺寸不小于0.5微米。

例如，如图4B所示，隔离部210的厚度可以为150～5000埃。例如，隔离部210的厚度可以为200～500埃。例如，隔离部210的厚度可以为300～1000埃。例如，隔离部210的厚度可以为400～2000埃。例如，隔离部210的厚度可以为600～1500埃。

例如，如图4B所示，突出部510的厚度可以为400～5000埃。例如，突出部510的厚度可以为450～4000埃。例如，突出部510的厚度可以为500～3000埃。例如，突出部510的厚度可以为600～2000埃。

例如，如图4B所示，突出部510的中间位置在平行于衬底基板01的方向，如图4B所示的X方向的尺寸小于突出部510的两侧位置在该方向上的尺寸。例如，突出部510的中间位置相对于两侧位置内缩尺寸大于0.01微米。例如，突出部510的中间位置相对于两侧位置内缩尺寸大于0.02微米。例如，突出部510的中间位置相对于两侧位置内缩尺寸大于0.03微米。例如，突出部510的中间位置相对于两侧位置内缩尺寸大于0.05微米。

例如，如图4B所示，绝缘层500除突出部510以外的位置包括平坦部520，突出部510的与平坦部520连接部分可以为凹陷部分以更好的隔断共通层。例如，突出部510的边缘可以为倾斜的侧边，该侧边与平坦部连接的夹角不大于150度，以实现突出部和隔离部共同隔断共通层。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于140度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于130度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于120度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于110度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于100度。

例如，如图4B所示，第三隔离结构层2013的至少一侧边缘相对于突出部510的至少一侧边缘突出。例如，第一隔离结构层2011的至少一侧边缘相对于第三隔离结构层2013的至少一侧边缘突出，以对共通层实现较好的隔断效果。例如，第一隔离结构层2011的至少一侧边缘相对于第三隔离结构层2013的至少一侧边缘突出的尺寸不小于0.08微米。例如，第一隔离结构层2011的至少一侧边缘相对于第三隔离结构层2013的至少一侧边缘突出的尺寸不小于0.1微米。例如，第一隔离结构层2011的至少一侧边缘相对于第三隔离结构层2013的至少一侧边缘突出的尺寸不小于0.15微米。当然，本公开实施例不限于此，突出部的边缘可能相对于第三隔离结构层的边缘突出非常小的尺寸。

图4C所示显示基板与图4B所示显示基板的不同之处在于隔离部210包括的膜层的层数不同。图4C所示突出部可以与图4B所示突出部具有相同的特征，在此不再赘述。

例如，如图4C所示，隔离部210包括一层膜层。例如，隔离部210的厚度可以为100～5000埃。例如，隔离部210的厚度可以为200～4000埃。例如，隔离部210的厚度可以为300～3500埃。例如，隔离部210的厚度可以为400～2000埃。例如，隔离部210的厚度可以为500～1000埃。

图4C所示显示基板与图4B所示显示基板的不同之处在于隔离部210包括的膜层的层数不同。

例如，图4C所示，隔离部210可以包括两层膜层，如隔离部210包括层叠设置的第一隔离结构层2011和第二隔离结构层2012，第一隔离结构层2011位于第二隔离结构层2012远离衬底基板01的一侧，第一隔离结构层2011的边缘相对于第二隔离结构层2012的边缘突出。例如，第二隔离结构层2012的边缘相对于突出部510的边缘突出。

图4C所示突出部可以与图4B所示突出部具有相同的特征，但不限于此，图4C所示突出部的侧边可以没有凹陷部分。例如，该侧边与绝缘层的平坦部连接的夹角不大于140度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于130度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于120度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于110度。例如，该侧边与平坦部连接的夹角不大于100度。

例如，如图5所示，限定结构200形成在子像素的第一电极110与衬底基板01之间，如在形成子像素的第一电极110之前，先在绝缘层500，如平坦层上沉积形成限定结构200，然后在限定结构200上形成子像素的第一电极110。该显示基板中，在形成包括隔离部210的限定结构200时，位于限定结构200底部的平坦层500被刻蚀而形成了锯齿。通过将第一电极形成在限定结构上，可以防止平坦层的不平整导致第一电极存在锯齿的问题，降低显示不良出现的几率。例如，第一电极110在衬底基板01上的正投影可以完全位于限定结构200在衬底基板01上的正投影内。

例如，位于第一电极110正下方的限定结构与被像素限定图案400的第二开口420暴露的限定结构可以为一体化的限定结构，也可以为间隔设置的限定结构。

本申请提供的显示基板中，在绝缘层，如平坦层上方沉积并刻蚀出子像素的第一电极的图案后，在第一电极的四周覆盖限定结构，如包括层叠结构，如SiOx/SiNx/SiOx，在刻蚀限定结构时，因其限定结构中的SiNx膜层相比SiOx更容易被刻蚀，故在完成刻蚀后，在限定结构边缘形成“工”字型形貌。该形貌能够使发光功能层的至少一层沉积在限定结构中的隔离部上时被隔断，有利于降低相邻发光区之间的串扰。例如，在限定结构上沉积的像素限定膜层通过图案化形成第二开口以暴露限定结构边缘的隔离部，以实现对发光功能层的至少一层的隔断，而限定结构的边缘中被像素限定部覆盖的部分处形成的子像素的第二电极保持连续，形成了电荷传输通路，以实现第二电极的导通效果。

本公开提供的隔离部不限于图4A所示形状和位置，如隔离部还可以包括层叠设置的第一子隔离结构和第二子隔离结构，第一子隔离结构位于第二子隔离结构与衬底基板之间；沿相邻子像素的排列方向，位于该相邻子像素之间的隔离部中第一子隔离结构的尺寸小于第二子隔离结构的尺寸以使第二子隔离结构包括相对于第一子隔离结构的边缘突出的部分；或者，第一子隔离结构的至少部分侧表面与平行于第一子隔离结构和第二子隔离结构的接触面的平面的坡度角大于60度且小于120度，和/或，第二子隔离结构的至少部分侧表面与平行于第一子隔离结构和第二子隔离结构的接触面的平面的坡度角大于60度且小于120度。例如，该隔离部可以形成在像素限定图案之间，如位于绝缘层中设置的开口中，且被像素限定图案的第二开口暴露；或者，该隔离部可以位于相邻子像素之间，且与第一电极间隔设置，像素限定图案的第二开口暴露该隔离部；或者，该隔离部位于像素限定部远离衬底基板的一侧。

本公开提供的隔离部不限于图4A所示形状和位置，如隔离部还可以包括位于绝缘层中的凹槽以及位于凹槽边缘且向凹槽开口内突出的遮挡部。该隔离部中的遮挡部位于相邻子像素之间，且与相邻子像素的第一电极间隔设置。如隔离部还可以包括位于像素限定部中的凹槽，以及位于凹槽边缘且向凹槽内突出的遮挡部。

本公开提供的隔离部不限于图4A所示形状和位置，如隔离部还可以包括层叠设置的第一子隔离部和第二子隔离部，第一子隔离部位于第二子隔离部与衬底基板之间，第一子隔离部的材料包括无机材料，第二子隔离部的材料包括有机材料；第二子隔离部包括相对于第一子隔离部的边缘突出的突出部，突出部位于相邻子像素之间，第二子隔离部面向其中一个相邻子像素的至少部分，与第二子像素面向另一个相邻子像素的至少部分形状不同。该隔离部中的第二子隔离部可以为像素限定部的一部分，第一子隔离部可以与子像素的第一电极同层设置，或者第一子隔离部可以为子像素的第一电极的一部分。

本公开提供的隔离部不限于图4A所示形状和位置，如隔离部可以包括层叠设置的第一子结构和第二子结构，第一子结构位于第二子结构与衬底基板之间，第一子结构的材料与第二子结构的材料不同；沿相邻子像素的排列方向，位于该相邻子像素之间的限定结构中第二子结构的边缘相对于第一子结构的边缘突出以形成突出部；或者，第二子结构的至少部分侧表面与平行于第一子结构和第二子结构的接触面的平面的坡度角为第一坡度角，第一子结构的至少部分侧表面与平行于第一子结构和第二子结构的接触面的平面的坡度角为第二坡度角，第一坡度角与第二坡度角的至少之一大于60度，且第二子结构的靠近第一子结构的表面面积不小于第一子结构和第二子结构的接触面的面积。该隔离部与子像素的第一电极间隔设置。

图2示意性的示出多条通路的位置，没有示出不同通路的宽度特征。

在一些示例中，如图2所示，多条通路300包括多条主干通路310和多条分支通路320，至少一条分支通路320的两端均与延伸方向相交或者延伸方向相同的主干通路310连接。

例如，多条主干通路310包括延伸方向相交的第一主干通路311和第二主干通路312。例如，多条主干通路310包括沿X方向延伸的多条第一主干通路311和沿Y方向延伸的多条第二主干通路312。在第一主干通路为非直线时，如折线时，上述第一主干通路的延伸方向可以指一条第一主干通路的整体延伸方向，如折线的整体延伸方向为X方向。在第二主干通路为非直线时，如折线时，上述第二主干通路的延伸方向可以指一条第二主干通路的整体延伸方向，如折线的整体延伸方向为X方向。

例如，X方向与Y方向之间的夹角可以为30～150度。例如，X方向与Y方向之间的夹角可以为60～120度。例如，X方向与Y方向之间的夹角可以为80～100度。例如，X方向与Y方向可以垂直。

例如，如图2所示，多条第一主干通路311与多条第二主干通路312构成网状通路30的一部分，第一主干通路311与第二主干通路312是连通的，第二电极120传输的电荷可以在第一主干通路311和第二主干通路312中传输。

在一些示例中，如图2所示，多条主干通路310穿过至少部分子像素10所在区域。

例如，主干通路310的长度大于分支通路320的长度。例如，一条主干通路310所在区域的面积大于一条分支通路320所在区域。例如，一条主干通路310经过的区域的面积大于一条分支通路320经过的区域的面积。例如，一条主干通路310穿过的子像素10的发光区101的数量大于一条分支通路320穿过的子像素10的发光区101的数量。上述通路穿过子像素的发光区指通路在衬底基板上的正投影与子像素的发光区在衬底基板上的正投影交叠。

例如，主干通路310可以在其延伸方向上贯穿显示区，如沿X方向延伸的主干通路310可以沿X方向贯穿子像素10所在的显示区，沿Y方向延伸的主干通路310可以沿Y方向贯穿子像素10所在的显示区。例如，分支通路320仅位于主干通路310所在区域中的某一个或者某一些面积较小的区域，如一条分支通路320可以位于四条交叉设置的主干通路310围成的区域内。

在一些示例中，如图2所示，至少一条分支通路320的两端分别与第一主干通路311和第二主干通路312连接。例如，通路300包括多条分支通路320，至少部分数量的分支通路320的两端分别与第一主干通路311和第二主干通路312连接。例如，不同分支通路320的形状可以相同，也可以不同。例如，不同分支通路320的长度可以相同，也可以不同。上述分支通路与主干通路连接可以指分支通路位置处的第二电极与主干通路位置处的第二电极连续，即为一体化设置的结构。

例如，如图2所示，至少一条分支通路320的形状可以为折线，折线的两端分别与第一主干通路311和第二主干通路312连接。例如，一条分支通路320可以穿过至少一个子像素10的发光区101。

例如，如图2所示，分支通路320与主干通路310连通，第二电极120传输的电荷可以在分支通路320和主干通路310中传输。

在另一些示例中，至少一条分支通路320的两端均与第一主干通路311和第二主干通路312之一连接。例如，至少一条分支通路320的两端可以分别与两条不同的第一主干通路311连接，或者至少另一条分支通路320的两端可以分别与两条不同的第二主干通路312连接。例如，该分支通路320的延伸方向可以与第一主干通路311的延伸方向和第二主干通路312的延伸方向均不同，或者，分支通路320与第一主干通路311和第二主干通路312之一的延伸方向相同。

在一些示例中，如图1至图3所示，多个子像素10包括多个第一颜色子像素11、多个第二颜色子像素12以及多个第三颜色子像素13，多个子像素10排列为沿第一方向交替设置的多个第一子像素组001和多个第二子像素组002，各第一子像素组001包括沿第二方向交替设置的第一颜色子像素11和第二颜色子像素12，各第二子像素组002包括沿第二方向排列的第三颜色子像素13，第一方向与第二方向相交。例如，第一方向可以为图1所示的X方向，第二方向可以为图1所示的Y方向，第一方向与第二方向可以互换。例如，第一方向与第二方向之间的夹角可以为80～120度。例如，第一方向与第二方向垂直。例如，第一方向与第二方向之一可以为行方向，另一个可以为列方向。例如，第一方向可以为行方向，第二方向可以为列方向，则第一子像素组可以为第一子像素列，第二子像素组可以为第二子像素列；第一方向可以为列方向，第二方向可以为行方向，则第一子像素组可以为第一子像素行，第二子像素组可以为第二子像素行。

在一些示例中，如图1至图3所示，第一子像素组001与第二子像素组002在第二方向上错开分布，且至少部分第一颜色子像素11中的各第一颜色子像素11被八个子像素10包围，八个子像素10包括交替设置的第三颜色子像素13以及第二颜色子像素12。

例如，如图1至图3所示，第一颜色子像素11与第二颜色子像素12沿第二方向交替排列，第三颜色子像素13沿第一方向和第二方向阵列排布。例如，至少部分第二颜色子像素12中的各第二颜色子像素12被八个子像素10包围，八个子像素10包括交替设置的第三颜色子像素13以及第一颜色子像素11。

例如，如图1至图3所示，第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之一可以为发出红光的红色子像素，另一个可以为发出蓝光的蓝色子像素，第三颜色子像素13可以为发出绿光的绿色子像素。例如，第一颜色子像素11为蓝色子像素，第二颜色子像素12为红色子像素。

例如，如图1至图3所示，第一颜色子像素11的发光区的中心与第二颜色子像素12的发光区的中心在一条沿Y方向延伸的直线上。例如，如图1至图3所示，沿Y方向排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12的发光区101的中心连线与沿Y方向延伸的直线之间的夹角较小，如不大于2度。

例如，第一颜色子像素11的发光区的中心的45°、135°、225°和315°角方向分别设置了四个第三颜色子像素13。

在一些示例中，如图2所示，至少部分主干通路310穿过第二子像素组002。

由于第一颜色子像素和第二颜色子像素，如红色子像素和蓝色子像素之间容易发生严重的串扰，通过将主干通路设置为穿过第三颜色子像素所在的子像素组，分支通路穿过第一颜色子像素和第二颜色子像素所在的分支通路，如，第一颜色子像素和第二颜色子像素外围设置的隔离部包裹相应发光区的边缘较多，可以在隔断第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的至少一层共通膜层的同时，间接隔断第一颜色子像素与第三颜色子像素以及第二颜色子像素与第三颜色子像素之间的至少一层共通膜层，使得第三颜色子像素的发光区周边的第二电极形成较宽的主干通路，以提高电荷传输效果。

例如，至少部分主干通路310穿过第三颜色子像素13的发光区101。上述主干通路穿过第二子像素组指主干通路在衬底基板上的正投影与第二子像素组的发光区在衬底基板上的正投影交叠。

例如，如图2所示，第一主干通路311的延伸方向和第二主干通路312的延伸方向均与第三颜色子像素13的排列方向平行。例如，第二主干通路312穿过第二子像素组002。例如，第一主干通路311穿过第三颜色子像素13的发光区101。例如，穿过第三颜色子像素13的通路300可以均为主干通路310。

例如，如图2所示，第一主干通路311与第二主干通路312相交位置与第三颜色子像素13的发光区101交叠。例如，第一主干通路311与第二主干通路312相交位置处通路300的宽度最宽，以提高电荷传输效果。

在一些示例中，如图2所示，至少一条分支通路320穿过第一颜色子像素11和第二颜色子像素12的至少之一。上述分支通路穿过第一颜色子像素和第二颜色子像素至少之一指分支通路在衬底基板上的正投影与第一颜色子像素的发光区和第二颜色子像素的发光区的至少之一在衬底基板上的正投影交叠。

例如，如图2所示，多条分支通路320中的一部分分支通路320穿过第一颜色子像素11的发光区101，另一部分分支通路320穿过第二颜色子像素12的发光区101。本公开实施例不限于此还可以分支通路仅穿过第一颜色子像素的发光区，或者分支通路仅穿过第二颜色子像素的发光区。

在一些示例中，如图1至2所示，隔离部210包括围绕至少一个第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211，非闭合环状的第一隔离部211中设置有至少两个第一缺口212，至少一条分支通路320穿过第一缺口212以与主干通路310连接。上述第一隔离部指像素限定图案的第二开口暴露的限定结构，上述第一缺口指像素限定部覆盖的限定结构。上述第一隔离部指围绕第一颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图1至图2所示，围绕各第一颜色子像素11的隔离部210均为第一隔离部211，非闭合环状的第一隔离部211设置有两个第一缺口212，穿过第一颜色子像素11的发光区101的分支通路320的一端穿过一个第一缺口212以与第一主干通路311连接，该分支通路320的另一端穿过另一个第一缺口212以与第二主干通路312连接。非闭合环状的第一隔离部设置有两个第一缺口时，可以通过对两个第一缺口的相对位置关系进行设置以使得穿过第一颜色子像素的发光区的分支通路的两端分别穿过两个不同的第一缺口以分别与第一主干通路和第二主干通路连接，或者，使得穿过第一颜色子像素的发光区的两个第一缺口的两端均与第一主干通路连接，或者均与第二主干通路连接。

例如，围绕至少一个第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211设置的第一缺口212的数量大于两个，分支通路320穿过各第一缺口212与主干通路310连接，与该分支通路320连接的第一主干通路311的数量可以和与该分支通路320连接的第二主干通路312的数量相同，或者两者的数量不同。

在一些示例中，如图2所示，至少一条分支通路320穿过至少两个第一缺口212以形成至少一个L型分支通路320。上述至少两个第一缺口包括位于所述第一颜色子像素的发光区在所述第一方向上的一侧的一个第一缺口以及位于所述第一颜色子像素的发光区在所述第二方向上的一侧的一个第一缺口。

例如，L型分支通路320的拐角位置在衬底基板上的正投影与第一颜色子像素11的发光区101在衬底基板上的正投影交叠。图2示意性的示出一个第一颜色子像素对应一个L型分支通路，但不限于此，可以通过对第一缺口数量以及位置的设置使得第一颜色子像素对应多个L型分支通路，同一个第一颜色子像素对应的L型分支通路可以共用部分分支通路，或者间隔设置。

在一些示例中，如图1至图2所示，第一隔离部211的至少部分位于在第三方向上相邻设置的第一颜色子像素11和第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第三方向可以为图4A所的V方向。第一隔离部211与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第一距离D1，第一隔离部211与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第二距离D2，第一距离D1小于第二距离D2。上述第一隔离部的边缘指像素限定图案的第二开口暴露的第一隔离部的边缘。

例如，相邻设置的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第一隔离部211，且第一隔离部211更靠近第一颜色子像素11，有利于提高第二电极的主干通路与第三颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.1～0.9。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.2～0.7。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.3～0.8。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.45～0.65。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.5～0.58。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.55～0.6。

在一些示例中，如图1至图2所示，第一缺口212被配置为暴露第一颜色子像素11的发光区101的至少一个角部1010。例如，各第一缺口212均暴露第一颜色子像素11的发光区101的一个角部1010，同一个第一颜色子像素11对应的不同的第一缺口212被配置为暴露发光区101的不同角部1010。例如，同一个第一颜色子像素11对应的两个第一缺口212包括的两个角部1010可以为相邻的两个角部1010，也可以为相对的两个角部1010。

本公开实施例中，缺口暴露发光区的角部指该角部远离发光区的一侧没有设置隔离部，经过该角部的顶点和发光区中心的连线。

例如，如图1至图2所示，第一颜色子像素11对应的第一缺口212和与该第一颜色子像素11相邻设置的第二颜色子像素12之间设置有隔离部210，以降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的串扰。

例如，如图1至图2所示，在第三方向上相邻设置的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间设置有第一隔离部211，在第一方向上相邻设置的第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间设置有第一隔离部211或第一缺口212，在第二方向上相邻设置的第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间设置有第一隔离部211或第一缺口212。

例如，如图1所示，各发光元件的第一电极110包括一体化设置的主体电极111和连接电极112，主体电极111与发光区101交叠，且主体电极111的形状与发光区101的形状大致相同，如发光区101的形状为四边形，主体电极111的形状也为四边形；连接电极112与发光区101不交叠。例如，各子像素还包括驱动电路，驱动电路与发光元件的第一电极电连接以驱动发光元件发光。例如，连接电极112与驱动电路电连接。

例如，如图1所示，在垂直于衬底基板01的方向，第一隔离部211与连接电极112不交叠，即像素限定部与连接电极112交叠。例如，第一缺口212暴露连接电极112以及主体电极111的一部分。

本公开提供的显示基板，通过将围绕第一颜色子像素的发光区的第一隔离部设置为非闭合环状，可以增加第二电极的电荷通路，如分支通路，有利于降低显示基板的串扰的同时，使得显示基板用于显示时的功耗不会太高。

例如，如图1至图2所示，与连接电极112对应的第一缺口212的尺寸可以大于其他第一缺口212的尺寸。

图6为图1所示一第一颜色子像素的发光区的示意性放大图。

在一些示例中，如图1和图6所示，至少一个第一颜色子像素11的发光区101的每条边或其延长线依次连接形成多边形02，且多边形02的多个顶角021存在与对应的发光区101的多个角部不交叠的区域022；至少一个第一颜色子像素11的发光区101包括至少一个特定角部1011，特定角部1011和与其对应的多边形02的顶角021不交叠的区域022的面积大于至少部分其他角部1012中各角部1012和与该角部1012对应的多边形02的顶角021不交叠的区域的面积。例如，第一颜色子像素11的发光区101的其他角部1012和与该角部1012对应的多边形02的顶角021不交叠的区域的面积非常小，如基本为零，则发光区的该角部与多边形的顶角重合。

例如，如图6所示，构成特定角部1011的两条直边L1和L2的延长线的交点到该子像素的发光区的中心O的距离与构成其他角部1012的两条直边L3和L4的交点到该子像素的中心O的距离不同。例如，两条线的交点即为其他角部的顶点，此时，该其他角部可为从该顶点为中心沿轮廓x微米的范围，x的值可以为2～7微米。例如，上述特定角部可以为相邻两条边向其顶点延伸交汇的部分形成的一段曲线以使得该角部成为圆倒角，例如特定角部1011包括圆倒角，该角部的顶点可以为用于形成上述圆倒角的两条边的延长线交点和与该圆倒角相对的角部的顶点的连线与该圆倒角的交点P，此时，该角部可为从该顶点P为中心沿轮廓x微米的范围，x的值可以为2～7微米。在特定角部为圆倒角，其他角部为直角或锐角时，构成特定角部的两条直边的延长线的交点到该子像素的发光区的中心的距离小于构成其他角部的两条直边的延长线的交点到该子像素的发光区的中心的距离。

上述“圆倒角”为一段曲线形成的顶角，该曲线可以为圆弧，也可以为非规则的曲线，例如椭圆形中截取的曲线、波浪线等。本公开实施例示意性的示出该曲线具有相对于子像素的中心向外凸的形状，但不限于此，也可以为该曲线具有相对于子像素的中心向内凹的形状。例如，曲线为圆弧时，该圆弧的圆心角的范围可以为10°～150°。例如，该圆弧的圆心角的范围可以为60°～120°。例如，该圆弧的圆心角的范围可以为90°。例如，特定角部1011包括的圆倒角的曲线长度可以为10～60微米。当然，特定角部不限于上述圆倒角，也可以为平倒角。

在一些示例中，如图1至图2所示，第一缺口212被配置为暴露特定角部1011。例如，分支通路320穿过第一颜色子像素11的发光区101的特定角部1011后与主干通路310连接。例如，分支通路320在衬底基板01上的正投影与特定角部1011在衬底基板01上的正投影交叠。

本公开实施例中缺口暴露角部可以指缺口与角部相对，该角部处的第二电极与主干通路之间没有设置隔离部。

本公开通过将第一颜色子像素的发光区的至少一个角部设置为上述特定角部，可以增加该特定角部与相邻子像素的发光区之间的距离，进而降低相邻子像素之间的串扰发生的几率；与此同时，在特定角部位置处设置第一缺口，有利于降低第二电极的电阻以降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，如图1至图2所示，各第一缺口212对应的发光区101的角部1010均为特定角部1011。例如，与同一第一颜色子像素11的发光区101对应的第一缺口212的数量不大于发光区101包括的特定角部1011的数量。

在一些示例中，如图1至图2所示，隔离部210包括围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213，第二隔离部213设置有至少两个第二缺口214，至少一条分支通路320穿过第二缺口214以与主干通路310连接。上述第二隔离部指像素限定图案的第二开口暴露的限定结构，上述第二缺口指像素限定部覆盖的限定结构。上述第二隔离部指围绕第二颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图1至图2所示，围绕各第二颜色子像素12的隔离部210均为第二隔离部213，非闭合环状的第二隔离部213设置有两个第二缺口214，穿过第二颜色子像素12的发光区101的分支通路320的一端穿过一个第二缺口214以与第一主干通路311连接，该分支通路320的另一端穿过另一个第二缺口214以与第二主干通路312连接。非闭合环状的第二隔离部设置有两个第二缺口时，可以通过对两个第二缺口的相对位置关系进行设置以使得穿过第二颜色子像素的发光区的分支通路的两端分别穿过两个不同的第二缺口以分别与第一主干通路和第二主干通路连接，或者，使得穿过第二颜色子像素的发光区的两端均与第一主干通路连接，或者均与第二主干通路连接。

例如，围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213设置的第二缺口214的数量大于两个，分支通路320穿过各第二缺口214与主干通路310连接，与该分支通路320连接的第一主干通路311的数量可以和与该分支通路320连接的第二主干通路312的数量相同，或者两者的数量不同。

在一些示例中，如图2所示，至少一条分支通路320穿过至少两个第二缺口214以形成至少一个L型分支通路。上述至少两个第二缺口包括位于所述第二颜色子像素的发光区在所述第一方向上的一侧的一个第二缺口以及位于所述第二颜色子像素的发光区在所述第二方向上的一侧的一个第二缺口。

例如，L型分支通路320的拐角位置在衬底基板上的正投影与第二颜色子像素12的发光区101在衬底基板上的正投影交叠。图2示意性的示出一个第二颜色子像素对应一个L型分支通路，但不限于此，可以通过对第二缺口数量以及位置的设置使得第二颜色子像素对应多个L型分支通路，同一个第二颜色子像素对应的L型分支通路可以共用部分分支通路，或者间隔设置。

在一些示例中，如图1至图2所示，第二隔离部213的至少部分位于在第三方向上相邻设置的第二颜色子像素12和第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第三方向可以为图4A所的V方向。第二隔离部213与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第三距离D3，第二隔离部213与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第四距离D4，第三距离D3小于第四距离D4。上述第二隔离部的边缘指像素限定图案的第二开口暴露的第二隔离部的边缘。

例如，相邻设置的第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第二隔离部213，且第二隔离部213更靠近第二颜色子像素12，有利于提高第二电极的主干通路与第三颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.1～0.9。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.2～0.7。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.3～0.8。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.45～0.65。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.5～0.58。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.55～0.6。

例如，如图1至图2所示，相邻第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间设置有第一隔离部211与第二缺口214，或者第二隔离部213与第一缺口212，可以在隔断相邻第一颜色子像素与第二颜色子像素的发光功能层的至少一层以及第二电极的同时，使得相邻第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的通路在缺口位置处保持较大的宽度，降低第二电极的电阻以降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，如图1至图2所示，第二缺口214被配置为暴露第二颜色子像素12的发光区101的至少一个角部1020。例如，各第二缺口214均暴露第二颜色子像素12的发光区101的一个角部1020，同一个第二颜色子像素12对应的不同的第二缺口214被配置为暴露发光区101的不同角部1020。例如，同一个第二颜色子像素13对应的两个第二缺口214包括的两个角部1020可以为相邻的两个角部1020，也可以为相对的两个角部1020。

例如，如图1至图2所示，穿过第二颜色子像素12的发光区101的分支通路320穿过发光区101的角部1020以与主干通路310连接。

例如，如图1至图2所示，第一颜色子像素11的发光区101包括四条边，各条边对应设置第一隔离部211；第二颜色子像素12的发光区101包括四条边，各条边对应设置第二隔离部213；第三颜色子像素13的发光区101包括四条边，各条边对应设置第一隔离部211或第二隔离部213。

例如，如图1至图2所示，非闭合环状的第一隔离部211包括围绕第一颜色子像素11的发光区101的三条边的第一子部，以及与第一颜色子像素11的发光区101的第四条边对应的第二子部，第二子部的两端与第一子部之间均设置有间隔，该间隔为第一缺口212。

例如，如图1至图2所示，非闭合环状的第二隔离部213包括围绕第二颜色子像素12的发光区101的三条边的第三子部，以及与第二颜色子像素12的发光区101的第四条边对应的第四子部，第四子部的两端与第三子部之间均设置有间隔，该间隔为第二缺口214。

例如，如图1至图2所示，第一隔离部211的第一子部和第二子部的相对位置关系与第二隔离部213的第三子部和第四子部的相对位置关系相同。

例如，如图1至图2所示，第三颜色子像素13的发光区101包括相对设置的两条长边以及相对设置的两条短边，第一隔离部211的第二子部与第三颜色子像素13的发光区101的长边对应，第二隔离部213的第四子部与第三颜色子像素13的发光区101的短边对应，第一隔离部211的第二子部的长度大于第二隔离部213的第四子部的长度。

由于显示基板中，如果将相邻子像素之间的串扰降的很低，容易导致第二电极的电阻较高；如果将第二电极的电阻保持较低的水平，容易导致相邻子像素之间具有较大的串扰。本公开提供的显示基板中，通过在任意方向相邻设置的两个子像素之间均设置隔离部的同时，将至少部分隔离部设置为非闭合的环状结构，有利于在降低相邻子像素之间串扰的同时，使得第二电极的电阻不会较高，平衡显示基板的串扰与功耗参数。

在各子像素周边分别设置隔离部，防止各子像素间的串扰；同时相邻子像素间也需要保留部分通路，如阴极通道，在减少子像素间串扰的同时，保证阴极跨压在一定范围内。

例如，如图1至图3所示，隔离部210包括延伸方向与行方向和列方向均相交的部分。通过对隔离部的延伸方向的设置，可以使得第二电极的通路包括延伸方向与行方向和列方向均相交的边缘，有利于提高第二电极的各方向延伸的通路会聚连通的效果。

例如，如图1至图3所示，隔离部210包括延伸方向与行方向和列方向至少之一平行的部分。

通过对隔离部的延伸方向的设置，可以控制第二电极的通路的延伸方向。

图7-图8为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图7示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图8示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图7至图8所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列保持不变的情况下，通过对隔离部形状以及位置设置的改变使得第二电极的网状通路发生变化。图8示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。本示例中的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

在一些示例中，如图8所示，多条主干通路310还包括穿过第一子像素组001的主干通路310。例如，多条主干通路310还包括穿过第一颜色子像素11的发光区101和第二颜色子像素12的发光区101的主干通路310。图8所示的显示基板以Y方向为第一方向，X方向为第二方向为例。例如，至少一条主干通路310穿过第一子像素组001。

例如，如图8所示，主干通路310穿过第一子像素组001和第二子像素组002。例如，主干通路310穿过第一颜色子像素11的发光区101、第二颜色子像素12的发光区101以及第三颜色子像素13的发光区101。例如，主干通路310中的第一主干通路311和第二主干通路312之一穿过第一子像素组001和第二子像素组002。

图8所示显示基板中的主干通路和分支通路与图2所示显示基板中的主干通路和分支通路具有相同的定义，在此不再赘述。

本公开提供的显示基板通过将多个主干通路设置为包括穿过第一子像素组和第二子像素组的主干通路，将主干通路的数量设置的较多，有利于降低第二电极的电阻，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

在一些示例中，如图7至图8所示，隔离部210包括围绕至少一个第三颜色子像素13的非闭合环状的第三隔离部215，非闭合环状的第三隔离部215暴露第三颜色子像素13的发光区101的角部1030的至少两个第三缺口216，至少一条主干通路310穿过第三缺口216。上述第三隔离部指像素限定图案的第二开口暴露的限定结构，上述第三缺口指像素限定部覆盖的限定结构。上述第三隔离部指围绕第三颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图7和图8所示，主干通路310穿过第三颜色子像素13的角部1030。

例如，如图7和图8所示，与同一第三颜色子像素13对应的第三隔离部215设置有四个第三缺口216，以使得第一主干通路311穿过相对设置的两个第三缺口216，第二主干通路312穿过相对设置的另外两个第三缺口216，第一主干通路311与第二主干通路312在该第三颜色子像素13的发光区101内交汇。

例如，如图7和图8所示，第三颜色子像素13的发光区101包括四条边，非闭合环状的第三隔离部215包括交替设置的第五子部和第六子部，第五子部与第六子部之间的间隔为第三缺口216，两个第五子部和两个第六子部分别与发光区101的四条边对应设置。例如，第三颜色子像素13的发光区101包括两条相对设置的长边和两条相对设置的短边，第五子部与长边对应，第六子部与短边对应，第五子部的长度大于第六子部的长度。例如，第五子部的长度不小于长边的长度，第六子部的长度不小于短边的长度。

在一些示例中，如图7和图8所示，第三隔离部215位于在第三方向上相邻设置的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间设置有第三隔离部215的第五子部或者第六子部。

在一些示例中，如图7和图8所示，第三隔离部215与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第五距离D5，第三隔离部215与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第六距离D6，第五距离D5小于第六距离D6。

例如，如图7和图8所示，第一颜色子像素11的发光区101的面积大于第三颜色子像素13的发光区101的面积，主干通路310与第一颜色子像素11的发光区101交叠位置的宽度大于主干通路310与第三颜色子像素13的发光区101交叠位置的宽度。相邻设置的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第三隔离部215，且第三隔离部215更靠近第三颜色子像素13，有利于进一步提高第二电极的主干通路与第一颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。此外，该显示基板中隔离部在衬底基板上正投影的面积设置的较小，如仅在相邻子像素之间最易发生串扰的位置处设置了隔离部，且每个隔离部设置的尺寸较小，可以极大提高第二电极的导通通路的尺寸，适用于对功耗要求高的场景。

例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.1～0.9。例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.2～0.7。例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.3～0.8。例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.45～0.65。例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.5～0.58。例如，第五距离D5与第六距离D6之比可以为0.55～0.6。

在一些示例中，如图7和图8所示，第三隔离部215位于在第三方向上相邻设置的第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间设置有第三隔离部215的第五子部或者第六子部。

在一些示例中，如图7和图8所示，第三隔离部215与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第五距离D5，第三隔离部215与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第七距离D7，第五距离D5小于第七距离D7。

例如，如图7和图8所示，第二颜色子像素12的发光区101的面积大于第三颜色子像素13的发光区101的面积，主干通路310与第二颜色子像素12的发光区101交叠位置的宽度大于主干通路310与第三颜色子像素13的发光区101交叠位置的宽度。相邻设置的第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第三隔离部215，且第三隔离部215更靠近第三颜色子像素13，有利于进一步提高第二电极的主干通路与第二颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.1～0.9。例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.2～0.7。例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.3～0.8。例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.45～0.65。例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.5～0.58。例如，第五距离D5与第七距离D7之比可以为0.55～0.6。

显示基板中，因子像素串扰主要发生在相邻子像素的彼此靠近的直边方向，而相邻子像素的彼此靠近的角部之间因串扰路径较远，串扰程度较低，故在相邻子像素的彼此靠近的角部(如第一颜色子像素的角部与第三颜色子像素的角部，或者第二颜色子像素的角部与第三颜色子像素的角部)之间不设置隔离部的情况下，子像素之间的串扰风险仍然较低，同时还能增加第二电极的导电通路，降低电阻。

在一些示例中，如图7和图8所示，隔离部210还包括第四隔离部217，第四隔离部217位于沿第二方向或者沿第一方向排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间，以降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率。

例如，如图7和图8所示，第四隔离部217与第三隔离部215之间设置有间隔。例如，第四隔离部217两侧分别设置有两个第三隔离部215，如两个第五子部或者两个第六子部。本公开不限于此，第四隔离部还可以与第三隔离部一体化设置。

例如，如图7和图8所示，第一颜色子像素11的发光区101的角部1010与第二颜色子像素12的发光区101的角部1020相对设置，第四隔离部217位于第一颜色子像素11的角部1010与第二颜色子像素12的角部1020之间。相邻设置的第一颜色子像素与第二颜色子像素的彼此靠近的角部之间的距离较小，通过在这两个角部之间设置一个第四隔离部，且第四隔离部与第三隔离部间隔设置，可以在降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰几率的同时，不引起第二电极的电阻过多的增加。

例如，如图7和图8所示，可以仅在沿第一方向排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间设置第四隔离部217，使得主干通路310穿过沿第二方向排列的第一颜色子像素11和第二颜色子像素12。当然，本公开不限于此，可以仅在第二方向排列的相邻第一颜色子像素和第二颜色子像素之间设置第四隔离部，使得主干通路穿过沿第一方向排列的第一颜色子像素和第二颜色子像素。

例如，如图7和图8所示，分支通路320可以穿过第一颜色子像素11的发光区101，也可以穿过第二颜色子像素12的发光区101。例如，分支通路320的两端分别与延伸方向相同的两条主干通路310连接，如分支通路320的两端分别与两条第一主干通路311连接，或者分支通路320的两端分别与两条第二主干通路312连接。

图8仅示意性的示出一种沿Y方向延伸的分支通路，但不限于此，第二电极还可以包括经过第三隔离部与第四隔离部之间的分支通路。

例如，如图7和图8所示，位于第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间的第四隔离部217与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离不同于该第四隔离部217与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离。例如，沿Y方向排列的多个第四隔离部217均靠近位于其同一侧的子像素的发光区101，如第奇数个第四隔离部217更靠近第一颜色子像素11的发光区101，第偶数个第四隔离部217更靠近第二颜色子像素12的发光区101。

本公开不限于相邻第一颜色子像素与第二颜色子像素之间仅设置一个第四隔离部，还可以设置两个第四隔离部，或者更多个第四隔离部。

图9-图10为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图9示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图10示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图9至图10所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列保持不变的情况下，通过对隔离部形状以及位置设置的改变使得第二电极的网状通路发生变化。图10示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。图9所示显示基板中的主干通路与图2所示显示基板中的主干通路具有相同的定义，在此不再赘述。本示例中的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

在一些示例中，如图9和图10所示，隔离部210包括围绕至少一个第一颜色子像素11的发光区101的非闭合环状的第一隔离部211，非闭合环状的第一隔离部211设置有暴露第一颜色子像素11的发光区101的至少两条边1113的至少两个第一缺口212，主干通路310穿过两个第一缺口212。例如，第一颜色子像素11的发光区101的一条边1113与一个第一缺口212相对设置。上述第一隔离部指围绕第一颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图9和图10所示，多条主干通路310包括穿过第三颜色子像素13的发光区101的主干通路310，以及穿过第一颜色子像素11的发光区101以及第二颜色子像素12的发光区101的主干通路310。例如，多条主干通路310包括穿过第三颜色子像素13的发光区101的第一主干通路311和第二主干通路312，第一主干通路311的延伸方向与第二主干通路312的延伸方向相交，且第一主干通路311与第二主干通路312在第三颜色子像素13的发光区101处交汇。

例如，如图9和图10所示，多条主干通路310还包括穿过第一颜色子像素11的发光区101的第三主干通路313。例如，第三主干通路313还穿过第三颜色子像素13的发光区101。

例如，如图9和图10所示，通过设置同一第一颜色子像素11对应的第一隔离部211设置的第一缺口212的数量，可以调节穿过第一颜色子像素11的发光区101的第三主干通路313的数量。例如，同一第一颜色子像素11对应五个第一缺口212，其中两个第一缺口212在第三方向，如V方向相对设置，两个第一缺口212在第四方向，如W方向相对设置，第五个第一缺口212避让第一颜色子像素11的第一电极110的连接电极112，如第五个第一缺口212暴露第一颜色子像素11的发光区101的一个角部1010，则同一第一颜色子像素11被沿第三方向延伸的一条第三主干通路313和沿第四方向延伸的一条第三主干通路313穿过。例如，第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间没有设置第一隔离部211，由此第三主干通路可以依次穿过第一颜色子像素的发光区、第一缺口以及第三颜色子像素的发光区。

例如，如图9和图10所示，第一颜色子像素11的发光区101的至少一个角部1010被第一隔离部211包围，且第一隔离部211位于相邻第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间，以降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率。

例如，如图9和图10所示，设置在第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间的第一隔离部211与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第一子距离，该第一隔离部211与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第二子距离，第一子距离小于第二子距离，即第一隔离部211更靠近第一颜色子像素11的发光区101。

例如，如图9和图10所示，第一隔离部211包括间隔设置的多个子部，相邻子部之间设置有第一缺口212。例如，第一缺口212的尺寸小于第一颜色子像素11的发光区101的边1113的长度。

在一些示例中，如图9和图10所示，隔离部210包括围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213，非闭合环状的第二隔离部212设置有暴露第二颜色子像素11的发光区101的至少两条边1123的至少两个第二缺口214，第一隔离部211与第二隔离部213相对设置。上述第二隔离部指围绕第二颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图9和图10所示，第二隔离部213位于第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间，如第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间设置有第一隔离部211和第二隔离部213。

例如，如图9和图10所示，多条主干通路310还包括穿过第二颜色子像素12的发光区101的第四主干通路314。例如，第四主干通路314还穿过第三颜色子像素13的发光区101。

例如，如图9和图10所示，通过设置同一第二颜色子像素12对应的第二隔离部213设置的第二缺口214的数量，可以调节穿过第二颜色子像素12的发光区101的第四主干通路314的数量。例如，同一第二颜色子像素12对应五个第二缺口214，其中两个第二缺口214在第三方向，如V方向相对设置，两个第二缺口214在第四方向，如W方向相对设置，第五个第二缺口214避让第二颜色子像素12的第一电极110的连接电极112，如第五个第二缺口214暴露第二颜色子像素12的发光区101的一个角部1020，则同一第二颜色子像素12被沿第三方向延伸的一条第四主干通路314和沿第四方向延伸的一条第四主干通路314穿过。例如，第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间没有设置第二隔离部213，由此第四主干通路可以依次穿过第二颜色子像素的发光区、第二缺口以及第三颜色子像素的发光区。

例如，如图9和图10所示，第一主干通路311穿过第一隔离部211与第二隔离部213之间的间隔以及第三颜色子像素13的发光区101。

例如，如图9和图10所示，第二颜色子像素12的发光区101的至少一个角部1020被第二隔离部213包围，且第二隔离部213位于相邻第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间，以降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率。通过在第一颜色子像素和第二颜色子像素之间设置两个隔离部，可以避免第一颜色子像素和第二颜色子像素的应断开的膜层没有断开的情况的发生。

例如，如图9和图10所示，设置在第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间的第二隔离部213与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第三子距离，该第二隔离部213与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第四子距离，第三子距离大于第四子距离，即第二隔离部213更靠近第二颜色子像素12的发光区101。

例如，如图9和图10所示，第二隔离部213包括间隔设置的多个子部，相邻子部之间设置有第二缺口214。例如，第二缺口214的尺寸小于第二颜色子像素12的发光区101的边1123的长度。

图10没有示出分支通路，如该显示基板的第二电极可以包括穿过第一颜色子像素的第一电极的连接电极的分支通路，该分支通路的一端可以与第二主干通路312连接，该分支通路的另一端可以与第三主干通路313连接。如该显示基板的第二电极还可以包括穿过第二颜色子像素的第一电极的连接电极的分支通路，该分支通路的一端可以与第二主干通路312连接，该分支通路的另一端可以与第四主干通路314连接。

本公开实施例不限于此，在第一颜色子像素与第二颜色子像素之间设置第一隔离部和第二隔离部时，第一隔离部与第二隔离部的至少之一还可以设较小的缺口，该缺口仅与子像素的发光区的边相对，不与子像素的发光区的角部相对。

由于第一颜色子像素与第二颜色子像素之间容易发生串扰，如第一颜色子像素和第二颜色子像素的彼此相对的角部之间容易发生串扰，其他位置处发生串扰的概率较低，本公开提供的显示基板，通过在第一颜色子像素与第二颜色子像素的彼此相对的角部之间设置至少两个隔离部，且在第一颜色子像素和第二颜色子像素的边对应位置不设置隔离部，可以降低串扰发生概率的同时，尽量不增加第二电极的电阻，从而对第二电极的通路在串扰与功耗之间实现了较好的平衡。

图11-图12为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图11示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图12示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图11至图12所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列保持不变的情况下，通过对隔离部形状以及位置设置的改变使得第二电极的网状通路发生变化。图12示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。本示例中的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

在一些示例中，如图11和图12所示，隔离部210包括围绕至少一个第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211，非闭合环状的第一隔离部211设置有暴露第一颜色子像素11的发光区101的角部1010的至少两个第一缺口212，至少两个第一缺口212包括，如在第一方向上，相对设置的两个第一缺口212，主干通路310穿过两个第一缺口212。上述第一隔离部指像素限定图案的第二开口暴露的限定结构，上述第一缺口指像素限定部覆盖的限定结构。上述第一隔离部指围绕第一颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图11和图12所示，围绕各第一颜色子像素11的隔离部210均为第一隔离部211。例如，第一隔离部211位于在第二方向上排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间。例如，第一隔离部211包括第一颜色子像素11的发光区101的至少一个角部1010以及至少一条边。

例如，如图11和图12所示，主干通路310穿过第三颜色子像素13的发光区101以及第一颜色子像素11的发光区101。例如，主干通路310包括延伸方向相交的第一主干通路311和第二主干通路312，第一主干通路311和第二主干通路312在第三颜色子像素13的发光区101交汇。

本公开实施例提供的显示基板，主干通路除了穿过第三颜色子像素以外还穿过第一颜色子像素，可以进一步降低第二电极的电阻以降低功耗。

在一些示例中，如图11和图12所示，第一隔离部210的至少部分位于在第三方向上相邻设置的第一颜色子像素11和第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第三方向可以为图4A所的V方向。第一隔离部210与第一颜色子像素11的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第一距离D1，第一隔离部210与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第二距离D2，第一距离D1小于第二距离D2。上述第一隔离部的边缘指像素限定图案的第二开口暴露的第一隔离部的边缘。

例如，相邻设置的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第一隔离部211，且第一隔离部211更靠近第一颜色子像素11，有利于提高第二电极的主干通路与第三颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.1～0.9。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.2～0.7。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.3～0.8。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.45～0.65。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.5～0.58。例如，第一距离D1与第二距离D2之比可以为0.55～0.6。

例如，如图11至图12所示，第一缺口212被配置为暴露第一颜色子像素11的发光区101的至少一个角部1010。例如，同一个第一颜色子像素11对应的不同的第一缺口212被配置为暴露发光区101的不同角部1010。

例如，如图11和图12所示，第一缺口212暴露第一电极110的连接电极111。

在一些示例中，如图11和图12所示，隔离部210包括围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213，非闭合环状的第二隔离部213设置有暴露第二颜色子像素12的发光区101的角部1020的至少两个第二缺口214，至少两个第二缺口214包括，如在第一方向上，相对设置的两个第二缺口214，第二缺口214与第一缺口212，如在第一方向上，相对设置以使主干通路310穿过第一缺口212和第二缺口214。例如，主干通路310依次穿过第一颜色子像素11的发光区101、第一缺口212、第二缺口214以及第二颜色子像素12的发光区101。上述第二隔离部指围绕第二颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图11和图12所示，在第二方向排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间设置有第一隔离部211和第二隔离部213，在第一方向排列的相邻第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间没有设置隔离部210，在降低第二方向上第一颜色子像素和第二颜色子像素之间串扰的同时，在第一方向上提供第二电极的电荷通路，有利于平衡串扰和功耗。

在一些示例中，如图11和图12所示，主干通路310穿过在第二方向上相邻设置的第一隔离部211与第二隔离部213之间的间隔以及在第一方向上相邻设置的第一隔离部211与第二隔离部213之间的间隔。例如，穿过相邻设置的第一隔离部211与第二隔离部213之间的间隔的主干通路310穿过第三颜色子像素13的发光区101。

在一些示例中，如图11和图12所示，第二隔离部213的至少部分位于在第三方向上相邻设置的第二颜色子像素12和第三颜色子像素13之间，第一方向和第二方向均与第三方向相交。例如，第三方向可以为图4A所的V方向。第二隔离部213与第二颜色子像素12的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第三距离D3，第二隔离部213与第三颜色子像素13的发光区101的彼此靠近的边缘之间的距离为第四距离D4，第三距离D3小于第四距离D4。上述第二隔离部的边缘指像素限定图案的第二开口暴露的第二隔离部的边缘。

例如，相邻设置的第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间仅设置一个隔离部210，如第二隔离部213，且第二隔离部213更靠近第二颜色子像素12，有利于提高第二电极的主干通路与第三颜色子像素交叠位置处的宽度，进而降低显示基板用于显示时的功耗。

例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.1～0.9。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.2～0.7。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.3～0.8。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.45～0.65。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.5～0.58。例如，第三距离D3与第四距离D4之比可以为0.55～0.6。

在一些示例中，如图11和图12所示，在第一方向上相邻的第一隔离部211与第二隔离部213之间的间隔不小于第一缺口212在第二方向上的尺寸，以及第二缺口214在第二方向上的尺寸。

通过调整在第一方向上相邻设置的第一隔离部与第二隔离部之间的间隔，可以尽量增加两者之间的第二电极的通路的宽度以使得第二电极的电阻不会较高，进而有利于降低功耗。

图13A-图13B为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图13A示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图13B示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图13A至图13B所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列保持不变的情况下，通过对隔离部形状以及位置设置的改变使得第二电极的网状通路发生变化。图13B示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。本示例中的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层、限定结构、像素限定部、第一开口以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

在一些示例中，如图13A和图13B所示，隔离部210包括围绕至少一个第三颜色子像素13的非闭合环状的第三隔离部215，非闭合环状的第三隔离部215设置有暴露第三颜色子像素13的发光区101的角部1030的至少两个第三缺口216，至少两个第三缺口216包括相对设置的两个第三缺口216，主干通路310穿过相对设置的两个第三缺口216、在第一方向上相邻设置的第三隔离部215之间的间隔以及在第二方向上相邻设置的第三隔离部215之间的间隔。上述第三隔离部指围绕第三颜色子像素的发光区的限定结构被第二开口暴露的部分。

例如，如图13A和图13B所示，主干通路310穿过交替设置的第三缺口216与第三颜色子像素13的发光区101。

例如，如图13A和图13B所示，主干通路310包括延伸方向相交的第一主干通路311和第二主干通路312，第一主干通路311和第二主干通路312之一穿过第三缺口216以及第三颜色子像素13的发光区101，第一主干通路311和第二主干通路312中的另一个穿过相邻第三隔离部215之间的间隔、第一颜色子像素11以及第二颜色子像素12。例如，部分第一主干通路311穿过相邻第三隔离部215之间的间隔、第一颜色子像素11以及第二颜色子像素12。

在一些示例中，如图13A和图13B所示，在第一方向上相邻设置的第三隔离部215之间的间隔在第一方向上的最大尺寸不大于第三缺口216在第一方向上的最大尺寸。通过将第三缺口设置为大于第三间隔部之间的间隔，可以尽量增加经过第三颜色子像素的第二电极的通路的宽度的同时，尽量降低经过第一颜色子像素和第二颜色子像素的第二电极的通路的宽度，以在尽量降低相邻设置的第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的串扰的同时，尽量不增大第二电极的电阻，平衡串扰和功耗。

例如，如图13A和图13B所示，隔离部210还包括围绕第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211以及围绕第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213。例如，第一隔离部211设置有第一缺口212，第二隔离部213设置有第二缺口214。例如，用于暴露第三隔离部215的像素限定图案的第二开口420还暴露第一隔离部211和第二隔离部213。

例如，如图13A和图13B所示，主干通路310依次经过第一缺口212、第一颜色子像素11的发光区101、第二缺口214以及第二颜色子像素12的发光区101。例如，第一主干通路311依次经过第一缺口212、第一颜色子像素11的发光区101、第二缺口214以及第二颜色子像素12的发光区101。例如，第二主干通路312依次经过第一缺口212、第一颜色子像素11的发光区101、第二缺口214以及第二颜色子像素12的发光区101。

例如，如图13A所示，像素限定图案400的一个第二开口420包括围绕第一颜色子像素11的第一隔离部，围绕第二颜色子像素12的第二隔离部以及围绕第三颜色子像素13的第三隔离部，如第二开口420暴露三种隔离部。

图14A为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图14B为图14A所示显示基板的局部放大图。图14A所示显示基板中第二电极的通路可以与图13B中的通路相同，在此不再赘述。图13A所示显示基板与图14A所示显示基板的区别仅在于围绕第三颜色子像素13的限定结构200是否被像素限定图案400的第二开口420暴露。例如，图14A所示的显示基板中，第二开口420暴露两种隔离部，或者仅暴露一种隔离部。

例如，如图14A-图14B所示，所述第一颜色子像素11的发光区包括多个角部；所述隔离部210包括围绕至少一个第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211，所述非闭合环状的第一隔离部211设置有暴露所述多个角部的至少两个角部的至少两个第一缺口212，所述至少两个第一缺口212包括尺寸不同的两个第一缺口212。

例如，如图14A-图14B所示，第一颜色子像素11的发光区101包括四个角部，四个角部包括在第一方向上相对设置的两个第一角部1021以及在第二方向上相对设置的两个第二角部1022。隔离部210包括围绕至少一个第一颜色子像素11的非闭合环状的第一隔离部211，非闭合环状的第一隔离部211设置有暴露四个角部的四个第一缺口212，四个第一缺口212中的至少两个第一缺口212的尺寸不同。

例如，如图14A-图14B所示，与第一电极的连接电极对应的第一缺口212的尺寸较大。

例如，如图14A-图14B所示，暴露第一角部1021的第一缺口212的尺寸与暴露第二角部1022的第一缺口212的尺寸不同。例如，暴露第一角部1021的第一缺口212对应第一电极的连接电极，暴露第一角部1021的第一缺口212的尺寸大于暴露第二角部1022的第一缺口212的尺寸。通过将暴露第二角部的第一缺口的尺寸设置的较小，有利于降低沿第二方向排列的第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的串扰。

例如，如图14A-图14B所示，所述第二颜色子像素12的发光区101包括多个角部；所述隔离部210包括围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213，所述非闭合环状的第二隔离部213设置有暴露所述多个角部的至少两个角部的至少两个第二缺口214，所述至少两个第二缺口214包括尺寸不同的两个第二缺口214。

例如，如图14A-图14B所示，第二颜色子像素12的发光区101包括四个角部，四个角部包括在第一方向上相对设置的两个第三角部1023以及在第二方向上相对设置的两个第四角部1024；隔离部210包括围绕至少一个第二颜色子像素12的非闭合环状的第二隔离部213，非闭合环状的第二隔离部213设置有暴露四个角部的四个第二缺口214，四个第二缺口214中的至少两个第二缺口214的尺寸不同。

例如，如图14A-图14B所示，暴露第三角部1023的第二缺口214的尺寸与暴露第四角部1024的第二缺口214的尺寸不同。

例如，如图14A-图14B所示，与第一电极的连接电极对应的第二缺口214的尺寸较大。

例如，暴露第三角部1023的第二缺口214对应第一电极的连接电极，暴露第三角部1023的第二缺口214的尺寸大于暴露第四角部1024的第二缺口214的尺寸。通过将暴露第四角部的第二缺口的尺寸设置的较小，有利于降低沿第二方向排列的第一颜色子像素与第二颜色子像素之间的串扰。

图15-图16为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图15示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图16示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图15至图16所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列不同，且隔离部形状以及位置不同。图16示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。本示例中的衬底基板、绝缘层以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

例如，如图15和图16所示，子像素10包括第一颜色子像素11、第二颜色子像素12以及第三颜色子像素13。例如，第一颜色子像素11可以为发出蓝光的蓝色子像素、第二颜色子像素12可以为发出红光的红色子像素、第三颜色子像素13可以为发出绿光的绿色子像素。例如，第一颜色子像素11的发光区101和第二颜色子像素12的发光区101的形状均为六边形，第三颜色子像素13的发光区101的形状为四边形。例如，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12以及第三颜色子像素13沿一方向依次循环排列以形成一子像素组，如在Y方向循环排列以形成一子像素组，多个像素组在另一方向上排列，如在X方向上排列，且在上述一方向，如Y方向上错开分布。例如，多个子像素10可以排列为Delta像素排列。

例如，围绕不同子像素10的限定结构200之间设置有间隔。例如，围绕各子像素10的限定结构200可以为闭合环状结构。例如，围绕各子像素10的限定结构200可以围绕第一电极110且覆盖第一电极110的一圈边缘。

例如，如图15和图16所示，围绕各子像素10的限定结构200中被像素限定图案的第二开口402暴露的部分包括隔离部210。本示例中的限定结构可以与上述示例中显示基板中的限定结构具有相同的层叠结构特征，在此不再赘述。

例如，如图15和图16所示，多条通路300包括多条主干通路310和多条分支通路320。图16所示显示基板中的主干通路和分支通路与图2所示显示基板中的主干通路和分支通路具有相同的定义，在此不再赘述。

例如，如图15和图16所示，多条主干通路310的延伸方向均相同。例如，分支通路320的两端可以均与沿X方向延伸的主干通路310连接。

例如，如图15和图16所示，主干通路310经过第一颜色子像素11的发光区101。例如，一条分支通路320可以经过第一颜色子像素11的发光区101、第二颜色子像素12的发光区101以及第三颜色子像素13的发光区101的至少之一。

例如，如图15和图16所示，第一颜色子像素11的发光区101的一条边对应的限定结构200被第二开口420暴露以形成隔离部210，该发光区101的其他边对应的限定结构200被像素限定部401覆盖，例如，该隔离部210设置在同一子像素组中的第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间。通过在第一颜色子像素与第二颜色子像素之间设置隔离部，可以降低第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率。

例如，第二电极120的主干通路310穿过第一颜色子像素11的发光区101的其他边。

例如，如图15和图16所示，第二颜色子像素12的发光区101的三条边对应设置的限定结构200被第二开口420暴露以形成隔离部210，该发光区101的其他边对应的限定结构200被像素限定部401覆盖，如该隔离部210位于同一子像素组中的第二颜色子像素12与第三颜色子像素13之间，以及位于相邻子像素组中的第一颜色子像素11和第二颜色子像素12之间。通过在同一子像素组的第三颜色子像素与第二颜色子像素设置隔离部，且在相邻子像素组的第一颜色子像素与第二颜色子像素之间设置隔离部，可以降低同一子像素组的第三颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率以及相邻子像素组的第一颜色子像素与第二颜色子像素之间发生串扰的几率。

例如，第二电极120的分支通路320穿过第二颜色子像素12的发光区101的其他边以及同一组的相邻第一颜色子像素11与第二颜色子像素12之间的间隔。

例如，如图15和图16所示，第三颜色子像素13的发光区101的各边对应设置的限定结构200均被第二开口420暴露以形成隔离部210，且至少两条边的部分被像素限定部401覆盖以使得隔离部210形成为非闭合环状的隔离部210。例如，该隔离部210位于同一子像素组的第一颜色子像素11与第三颜色子像素13之间，且位于相邻子像素组的第三颜色子像素13与第二颜色子像素12之间，以及相邻子像素组的第三颜色子像素13与第一颜色子像素11之间。通过在同一子像素组的第三颜色子像素与第一颜色子像素之间设置隔离部，且在相邻子像素组的第一颜色子像素与第二颜色子像素以及相邻子像素组的第三颜色子像素与第一颜色子像素之间设置隔离部，可以降低同一子像素组中相邻子像素之间发生串扰的几率以及相邻子像素组的相邻子像素之间发生串扰的几率。

例如，第二电极120的分支通路320穿过第三颜色子像素13的发光区101的非闭合环状的隔离部210设置的缺口。

本示例提供的显示基板中，通过设置最少的隔离部以在起到高效的隔离效果以降低串扰的同时，使得第二电极的电阻不会明显增大。

图17-图18为根据本公开实施例提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。图17示出了发光元件的第一电极，没有示出发光元件的第二电极，图18示出了发光元件的第二电极，没有示出发光元件的第一电极。图15至图18所示显示基板与图1所示显示基板的不同之处在于在像素排列不同，且隔离部形状以及位置不同。图18示意性的示出了通路的路径，没有示出通路的形状，该显示基板中第二电极包括宽度不均匀的通路，通路中宽度最宽的位置在衬底基板上的正投影与发光区在衬底基板上的正投影交叠。本示例中的衬底基板、绝缘层以及发光元件与图1所示的衬底基板、绝缘层以及发光元件具有相同的特征，在此不再赘述。

例如，如图17和图18所示，子像素10包括第一颜色子像素11、第二颜色子像素12以及第三颜色子像素13。例如，第一颜色子像素11可以为发出蓝光的蓝色子像素、第二颜色子像素12可以为发出红光的红色子像素、第三颜色子像素13可以为发出绿光的绿色子像素。例如，第一颜色子像素11的发光区101、第二颜色子像素12的发光区101以及第三颜色子像素13的发光区101的形状均为四边形。例如，第一颜色子像素11和第二颜色子像素12沿一方向交替排列，如沿Y方向交替排列以形成第一子像素组，且第一颜色子像素11与第二颜色子像素12的发光区101的中心连线与沿Y方向延伸的直线之间的夹角较大，如3～10度。例如，第三颜色子像素13沿上述一方向，如Y方向排列以形成第二子像素组，第一子像素组与第二子像素组在另一方向，如X方向上交替排列。例如，多个子像素10排列为鼎形像素排列。

例如，如图17和图18所示，围绕不同子像素10的限定结构200可以一体化设置，也可以设置间隔。例如，围绕各子像素10的限定结构200可以围绕第一电极110且覆盖第一电极110的一圈边缘。

例如，如图17和图18所示，围绕各子像素10的限定结构200中被像素限定图案的第二开口402暴露的部分包括隔离部210。本示例中的限定结构可以与上述示例中显示基板中的限定结构具有相同的层叠结构特征，在此不再赘述。

例如，如图17和图18所示，多条通路300包括多条主干通路310和多条分支通路320。图18所示显示基板中的主干通路和分支通路与图2所示显示基板中的主干通路和分支通路具有相同的定义，在此不再赘述。

例如，如图17和图18所示，多条主干通路310包括延伸方向相交的第一主干通路311和第二主干通路312，第一主干通路311与第二主干通路312是连通的，第二电极120传输的电荷可以在第一主干通路311和第二主干通路312中传输。例如，第一主干通路311和第二主干通路312之一沿X方向延伸，另一个沿Y方向延伸。

例如，如图17和图18所示，分支通路320的两端分别与延伸方向相同的主干通路310连接。例如，分支通路320的延伸方向与主干通路310的延伸方向不同。

例如，如图17和图18所示，主干通路310经过第一颜色子像素11的发光区101和第二颜色子像素12的发光区101。例如，第一主干通路311经过第一颜色子像素11的发光区101和第二颜色子像素12的发光区101。例如，分支通路320经过第三颜色子像素13的发光区101。

例如，如图17和图18所示，围绕第一颜色子像素11的发光区101的一圈限定结构200没有被像素限定图案的第二开口420暴露。例如，围绕第二颜色子像素12的发光区101的一圈限定结构200中，位于第二颜色子像素与第三颜色子像素13之间的至少部位被第二开口420暴露以形成隔离部210。例如，围绕第二颜色子像素12的发光区101的一圈限定结构200中，位于第三颜色子像素13与第一颜色子像素11之间的至少部分，以及位于第三颜色子像素13与第二颜色子像素12之间的至少部分被第二开口420暴露以形成隔离部210。例如，围绕任意子像素10的发光区101的隔离部210均为非闭合环状的隔离部210。

本示例提供的显示基板中，通过设置最少的隔离部以在起到高效的隔离效果以降低串扰的同时，使得第二电极的电阻不会明显增大。

在上述各实施例中，位于显示区域边缘的至少部分子像素的远离显示区域中心一侧可以不设置限定结构，以提高第二电极在显示区域边缘位置处的连续性。

本公开另一实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板；多个子像素，位于所述衬底基板上，至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件，所述发光元件包括发光区，所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，所述发光功能层包括多个膜层。至少两个相邻子像素之间设置有隔离部，所述发光功能层中的至少一层以及所述第二电极的至少部分在所述隔离部的边缘处断开，且相邻设置的子像素的所述第二电极至少部分连续设置以形成网状通路；所述网状通路包括交叉设置的多条通路，至少一条通路为宽度不均匀设置的通路。本实施例中的衬底基板、子像素以及隔离部可以与上述任一实施例中的衬底基板、子像素以及隔离部具有相同的特征。

如图11和图12所示，所述宽度不均匀设置的通路300的至少部分边缘为所述隔离部210的边缘，所述宽度不均匀设置的通路300包括与所述发光区101交叠的第一通路部3011以及位于所述发光区101以外位置的第二通路部3012，与所述宽度不均匀设置的通路300的延伸方向垂直的直线包括经过所述第一通路部3011在所述衬底基板01上的正投影的第一直线以及经过所述第二通路部3012在所述衬底基板01上的正投影的第二直线，所述第一直线与位于所述第一通路部3011两侧的所述隔离部210的边缘在所述衬底基板01上正投影的两个交点连线的长度为第一连线长度L31，所述第二直线与位于所述第二通路部3012两侧的所述隔离部210的边缘在所述衬底基板01上正投影的两个交点连线的长度为第二连线长度L32，所述第一连线长度L31不小于所述第二连线长度L32。

本公开提供的显示基板中设置的隔离部在隔断发光功能层的至少一层以及第二电极的至少部分的同时，通过对隔离部的形状的设置以使得第二电极形成网状通路，且网状通路中在对应发光区的位置处的第一通路部的两侧隔离部边缘之间的距离不小于对应发光区以外的第二通路部的两侧隔离部边缘之间的距离，进而实现在降低相邻子像素之间产生的串扰的同时，提高第二电极导通效果，尽量保证第二电极电阻不增加，有利于避免显示基板产生功耗过高以及亮度均一性问题。

如图1至图18所示，本公开实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板；多个子像素，位于所述衬底基板上，至少部分子像素中的每个子像素包括发光元件，所述发光元件包括发光区，所述发光元件包括发光功能层以及沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，所述发光功能层包括多个膜层，所述第二电极覆盖各子像素的发光区；像素限定图案，位于所述第二电极与所述衬底基板之间，且位于所述第一电极远离所述衬底基板的一侧，所述像素限定图案包括多个第一开口，一个子像素对应至少一个第一开口，所述子像素的发光元件至少部分位于所述子像素对应的所述第一开口中，且所述第一开口被配置为暴露所述第一电极；其中，所述像素限定图案还包括多个第二开口，所述多个第二开口位于至少部分子像素之间，所述发光功能层中的至少一层以及所述第二电极的至少部分在所述第二开口处断开。

在一些示例中，如图1至图18所示，各第二开口内设置有至少一个隔离部，所述发光功能层中的至少一层以及所述第二电极的至少部分在所述隔离部处断开。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述隔离部的部分边缘在所述衬底基板上的正投影与其所在的所述第二开口的边缘在所述衬底基板上的正投影之间设置有间隔。

在一些示例中，如图1至图18所示，在垂直于所述隔离部的延伸方向上位于该隔离部两侧的子像素的发光区的两个边缘与该隔离部的被所述第二开口暴露的边缘之间的距离不同。

在一些示例中，如图1至图18所示，至少一个子像素的发光区周围设置有至少一个第二开口。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二电极中围绕所述第二开口的部分包括闭合环状结构。

在一些示例中，如图1至图18所示，与所述子像素的发光区交叠的第二电极和位于所述第二开口远离所述发光区的第二电极为连续结构。

在一些示例中，如图1至图18所示，在垂直于所述隔离部的延伸方向上位于该隔离部两侧的子像素的第二电极在所述第二开口以外位置处连接。

在一些示例中，如图1至图18所示，围绕至少一个子像素的发光区的所述第二开口为非闭合环状结构。

在一些示例中，如图1至图18所示，至少一个子像素的发光区的形状包括多边形，且所述多边形的每条边远离所述发光区中心的一侧均设置有所述第二开口。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口的边界包括延伸方向与行方向和列方向均相交的部分。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口的边缘包括延伸方向与行方向和列方向其中之一平行的部分。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述多个子像素包括多个第一颜色子像素、多个第二颜色子像素以及多个第三颜色子像素，所述多个子像素排列为沿第一方向交替设置的多个第一子像素组和多个第二子像素组，各第一子像素组包括沿第二方向交替设置的所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素，各第二子像素组包括沿所述第二方向排列的所述第三颜色子像素，所述第一方向与所述第二方向相交。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口包括围绕至少一个第一颜色子像素的非闭合环状的第一开口部，所述非闭合环状的第一开口部设置有第一缺口，所述第一缺口与所述第一颜色子像素的边和角部的至少之一相对设置。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口包括围绕至少一个第二颜色子像素的非闭合环状的第二开口部，所述非闭合环状的第二开口部设置有第二缺口，所述第二缺口与所述第二颜色子像素的边和角部的至少之一相对设置。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口包括围绕至少一个第三颜色子像素的非闭合环状的第三开口部，所述非闭合环状的第三开口部设置有第三缺口，所述第三缺口与所述第三颜色子像素的边和角部的至少之一相对设置。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第一开口部位于相邻设置的所述第一颜色子像素和所述第三颜色子像素之间，或者，所述第一开口部位于相邻设置的所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素之间。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第二开口部位于相邻设置的所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素之间，或者，所述第二开口部位于相邻设置的所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素之间。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第三开口部位于相邻设置的所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素之间，或者，所述第二开口部位于相邻设置的所述第一颜色子像素和所述第三颜色子像素之间。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第一缺口的尺寸与所述第二缺口的尺寸不同。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素之间包括相邻设置的所述第一开口部和所述第二开口部，相邻设置的所述第一开口部与所述第二开口部之间的最小距离为第一间隔距离，围绕所述第一颜色子像素的所述第一开口部在相邻设置的所述第一开口部和所述第二开口部的排列方向上的最大间隔距离(如图11所示经过第一颜色子像素的发光区的中心的直线与围绕该发光区的第一开口部的靠近发光区中心的边缘的两个交点之间的距离)为第二间隔距离，围绕所述第二颜色子像素的所述第二开口部在相邻设置的所述第一开口部和所述第二开口部的排列方向上的最大间隔距离为第三间隔距离，所述第二间隔距离和所述第三间隔距离均大于所述第一间隔距离。

在一些示例中，如图1至图18所示，所述显示基板还包括位于所述像素限定图案与所述衬底基板之间的绝缘层，所述隔离部位于所述绝缘层远离所述衬底基板的表面，所述第二开口中除所述隔离部以外位置设置有所述绝缘层。

本实施例中第二开口的分布可以与上述实施例中隔离部的分布相同，关于第二开口的分布可以参考隔离部的分布。

图19为根据本公开另一实施例提供的显示装置的示意框图。如图19所示，本公开实施例提供的显示装置包括上述任一种显示基板。

例如，该显示装置还包括位于显示基板出光侧的盖板。

例如，该显示装置可以为有机发光二极管显示装置等显示器件以及包括该显示装置的电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件，本实施例不限于此。

有以下几点需要说明：

(1)本公开的实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)在不冲突的情况下，本公开的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。

以上所述仅是本公开的示范性实施方式，而非用于限制本公开的保护范围，本公开的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (20)

1.一种显示基板，包括：

衬底基板；

多个子像素，位于所述衬底基板上，至少部分子像素中的每个子像素包括发光功能层，所述发光功能层包括多个膜层；

像素限定图案，位于所述衬底基板上；

限定结构，位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，

其中，所述像素限定图案包括多个第一开口和多个第二开口，所述发光功能层中的至少一层位于所述第一开口中的部分为连续的部分，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述限定结构与至少两个第一开口交叠的部分为一体化设置的结构，至少一个第二开口暴露所述限定结构的至少部分边缘以隔断所述发光功能层中的至少一层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，至少部分子像素中的每个子像素还包括沿垂直于所述衬底基板的方向位于所述发光功能层两侧的第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述发光功能层与所述衬底基板之间，且所述像素限定图案位于所述第一电极远离所述衬底基板的一侧；

相邻设置的子像素的所述第二电极至少部分连续设置。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个第一开口中包括沿第一方向排列的第一开口以及沿第二方向排列的第一开口，所述第一方向与所述第二方向相交；

所述限定结构包括沿所述第一方向排列的多个延伸限定结构，相邻两个延伸限定结构之间的最小距离小于在所述第一方向上排列的相邻两个第一开口之间的最小距离。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述多个延伸限定结构中包括沿所述第一方向交替排列的第一子延伸限定结构和第二子延伸限定结构，所述第一子延伸限定结构的形状与所述第二子延伸限定结构的形状不同，各第一子延伸限定结构的形状大致相同。

5.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述多个延伸限定结构中包括沿所述第一方向交替排列的第一子延伸限定结构和第二子延伸限定结构，所述第一子延伸限定结构的形状与所述第二子延伸限定结构的形状不同，相邻第一子延伸限定结构的形状不同。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个子像素中包括沿第一方向排列的多个像素组，每个像素组中的子像素沿第二方向排列，所述第一方向与所述第二方向相交；

所述限定结构包括沿所述第一方向排列的多个延伸限定结构，至少一个延伸限定结构在所述衬底基板上的正投影与相邻两个像素组对应的第一开口在所述衬底基板上的正投影交叠，且相邻两个延伸限定结构间隔设置。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述延伸限定结构包括与所述相邻两个像素组之一交叠的第一延伸限定结构以及与所述相邻两个像素组中另一个交叠的第二延伸限定结构，所述第一延伸限定结构为沿所述第二方向延伸的连续结构，所述第二延伸限定结构包括沿所述第二方向间隔排列的多个子结构，每个子结构与一个子像素对应的第一开口交叠，且每个子结构与所述第一延伸限定结构连接。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第二开口与所述第一延伸限定结构和所述第二延伸限定结构之一交叠，或者，所述第一延伸限定结构和所述第二延伸限定结构均与所述第二开口交叠。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个子像素中包括沿第一方向排列的子像素以及沿第二方向排列的子像素，所述第一方向与所述第二方向相交；

所述限定结构包括阵列排布的多个限定块，沿垂直于所述衬底基板的方向，至少一个限定块与两个不同颜色子像素的对应的第一开口交叠，且所述两个不同颜色子像素对应的第一开口在所述衬底基板上的正投影的中心连线与所述第一方向和所述第二方向均相交，相邻限定块间隔设置。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其中，所述至少一个限定块包括分别与所述两个不同颜色子像素对应的第一开口交叠的第一子限定块和第二子限定块，所述第一子限定块与所述第二子限定块为一体化设置的结构，且沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一子限定块与所述第二子限定块之一与所述第二开口交叠。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其中，所述第一子限定块与所述第二开口交叠，所述第二子限定块与所述第二开口的彼此靠近的边缘之间的距离小于相邻两个第二开口之间的距离。

12.根据权利要求9所述的显示基板，其中，沿所述第一方向和所述第二方向中任一方向排列的限定块包括交替设置的第一限定块和第二限定块，沿垂直于所述衬底基板的方向，与所述第一限定块交叠的两个不同颜色子像素之一发出的光的颜色和与所述第二限定块交叠的两个不同颜色子像素之一发出的光的颜色相同。

13.根据权利要求12所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一限定块与所述第一颜色子像素和所述第三颜色子像素交叠，所述第二限定块与所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素交叠。

14.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括多个第一颜色子像素、多个第二颜色子像素以及多个第三颜色子像素，所述多个子像素排列为沿第一方向交替设置的多个第一子像素组和多个第二子像素组，各第一子像素组包括沿所述第二方向交替设置的所述第一颜色子像素和所述第二颜色子像素，各第二子像素组包括沿所述第二方向排列的所述第三颜色子像素；

所述多个像素组包括所述第一子像素组和所述第二子像素组。

15.根据权利要求1-14任一项所述的显示基板，还包括：

绝缘层，位于所述限定结构与所述衬底基板之间，

其中，所述绝缘层远离所述衬底基板一侧包括突出部，所述突出部在所述衬底基板上的正投影与所述限定结构在所述衬底基板上的正投影交叠。

16.根据权利要求15所述的显示基板，其中，所述限定结构与所述突出部接触。

17.根据权利要求15所述的显示基板，其中，所述限定结构的材料包括无机非金属材料，所述绝缘层的材料包括有机材料。

18.根据权利要求15所述的显示基板，其中，所述限定结构的至少部分边缘相对于所述突出部远离所述衬底基板一侧的表面的边缘突出的尺寸小于1微米。

19.根据权利要求1-14任一项所述的显示基板，其中，所述发光功能层的至少一层膜层包括电荷产生层，所述发光功能层包括层叠设置的第一发光层、所述电荷产生层以及第二发光层，所述电荷产生层位于所述第一发光层与所述第二发光层之间，且所述电荷产生层在所述限定结构的边缘处断开。

20.一种显示装置，包括权利要求1-19任一项所述的显示基板。