CN117897610A - 荧光x射线分析装置以及x射线的光阑构件 - Google Patents
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Abstract
光阑构件(1A)用于缩小由X射线管(3)产生的一次X射线的照射范围。分析部对由于穿过了光阑构件的一次X射线被照射到试样而从试样产生的荧光X射线进行分析。在光阑构件中，在一次X射线的入射侧形成第一开口部(11A)，在一次X射线的出射侧形成第二开口部(12A)，在第一开口部与第二开口部之间形成用于使一次X射线穿过的孔(10A)。当将从第二开口部的中心朝向第二开口部的边缘部(13A)的角即端部(14A)的方向设为第一方向时，光阑构件包括遮蔽部(16A)，该遮蔽部(16A)在孔的内表面(19A)形成在X射线管与第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将X射线管与第二开口部的端部连结的直线靠第一方向的位置。
Description
技术领域
本发明涉及一种荧光X射线分析装置以及X射线的光阑构件。
背景技术
在日本特开2009-2795号公报(专利文献1)中公开了以下内容：在荧光X射线分析装置中，向试样照射从X射线管射出的一次X射线，通过由检测器检测从试样产生的荧光X射线来进行该试样中含有的元素的定性及定量分析。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-2795号公报
发明内容
发明要解决的问题
关于以往的荧光X射线分析装置，已知一种通过使从X射线管射出的一次X射线穿过具有圆形的孔的光阑构件来缩小一次X射线的出射范围的结构。从该光阑构件的孔穿过的一次X射线再穿过了例如一次X射线滤光器和准直透镜之后被照射到试样。
但是，光阑构件中的孔的靠一次X射线出射侧的边缘部与其它部分相比，一次X射线的入射方向上的厚度薄。因此，在该边缘部处，由于一次X射线入射而产生的来自光阑构件的荧光X射线有可能混杂在穿过了孔的一次X射线中而被照射到试样台，并被检测器检测到。像这样，如果来自光阑构件的荧光X射线混杂在一次X射线中，则有可能作为噪声而被检测到。
本公开是为了解决该问题而完成的，其目的在于，在荧光X射线分析装置中，抑制来自光阑构件的荧光X射线的射出以降低噪声。
用于解决问题的方案
本发明的第一方式涉及一种荧光X射线分析装置。荧光X射线分析装置具备X射线管、光阑构件以及分析部。光阑构件用于缩小由X射线管产生的一次X射线的照射范围。分析部对由于穿过了光阑构件的一次X射线被照射到试样而从试样产生的荧光X射线进行分析。在光阑构件中，在一次X射线的入射侧形成第一开口部，在一次X射线的出射侧形成第二开口部，在第一开口部与第二开口部之间形成用于使一次X射线穿过的孔。当将从第二开口部的中心朝向第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，光阑构件包括遮蔽部，该遮蔽部在孔的内表面形成在X射线管与第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将X射线管与第二开口部的端部连结的直线靠第一方向的位置。
本发明的第二方式涉及一种光阑构件。在光阑构件中，在X射线的入射侧形成第一开口部，在X射线的出射侧形成第二开口部，在第一开口部与第二开口部之间形成用于使X射线穿过的孔。当将从第二开口部的中心朝向第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，光阑构件包括遮蔽部，该遮蔽部在孔的内表面形成在X射线源与第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将X射线源与第二开口部的端部连结的直线靠第一方向的位置。
根据本公开，从X射线管产生的一次X射线被在光阑构件的孔的内表面形成的遮蔽部遮蔽，一次X射线向光阑构件中的第二开口部的边缘部入射的入射量减少。因此，由于一次X射线向该边缘部的入射引起的荧光X射线的产生受到抑制，荧光X射线被照射到试样台的可能性降低，因此能够降低噪声。
附图说明
图1是示出按照本发明的实施方式的分析装置的结构的概要图。
图2是按照本发明的实施方式的光阑构件的一例的截面图。
图3是按照比较例的光阑构件的截面图。
图4是按照本发明的实施方式的光阑构件的变形例的截面图。
图5是按照本发明的实施方式的光阑构件的变形例的截面图。
图6是按照本发明的实施方式的光阑构件的变形例的截面图。
具体实施方式
下面，参照附图来详细地说明本发明的实施方式。此外，对图中的相同或相当的部分标注相同的附图标记，不重复其说明。
[1.荧光X射线分析装置的结构]
图1是示出按照本发明的实施方式的分析装置100的结构的概要图。参照图1，分析装置100是荧光X射线分析装置。分析装置100包括主体8和处理装置9。
主体8包括壳体83、壳体91以及试样台81。壳体83设置于试样台81的上表面。通过壳体83和试样台81来形成试样室80。壳体91设置于试样台81的下表面。通过壳体91和试样台81来形成测定室90。试样室80和测定室90被壳体83和壳体91气密地包围。
在试样台81形成有开口部82，以覆盖开口部82的方式在试样台81上设置试样S。在测定时，以试样S的测定位置在开口部82处向测定室90露出的方式将试样S设置到试样台81上。
在测定室90配置光阑构件1、X射线管3、壳体91、遮光器93、滤光器94、准直器95、驱动机构96、检测器97以及摄像部98。
X射线管3和检测器97设置于测定室90的壁面。X射线管3具有：灯丝，其射出热电子；以及靶材，其将热电子转换为规定的一次X射线并射出。从X射线管3射出的一次X射线穿过开口部82后被照射到试样S的测定位置。从试样S产生的二次X射线(荧光X射线)入射到检测器97，荧光X射线的能量和强度被检测器97测定。在从X射线管3向试样S的一次X射线的光路中依次配置有光阑构件1、遮光器93、滤光器94以及准直器95。遮光器93、滤光器94以及准直器95构成为能够通过驱动机构96进行滑动。
光阑构件1用于缩小从X射线管3射出的一次X射线的出射范围。被光阑构件1缩小了出射范围的一次X射线向滤光器94入射。
滤光器94由根据目的选择出的金属箔形成，该滤光器94是使从X射线管3发出的一次X射线中的背景成分衰减而使需要的特性X射线的S/N比提高的一次X射线滤光器。在一例中，滤光器94由利用种类互不相同的金属形成的多片滤光器构成，根据目的选择出的滤光器被驱动机构96插入到一次X射线的光路中。穿过了滤光器94的一次X射线向准直器95射入。
准直器95在中央具有圆形状的开口，用于决定对试样S进行照射的一次X射线束的大小。准直器95由铅、黄铜等X射线吸收材料形成。在一例中，准直器95例如由开口直径互不相同的多片准直器构成，根据目的选择出的准直器被驱动机构96插入到一次X射线束线上。穿过了准直器95的一次X射线束向试样S照射。
遮光器93由铅等X射线吸收材料形成，能够在需要遮蔽一次X射线时插入到一次X射线的光路中来遮蔽一次X射线。
摄像部98设置于测定室90的下部。摄像部98透过形成于试样台81的开口部82来拍摄试样S的测定位置。摄像部98构成为包括例如CMOS(Complementary Metal OxideSemiconductor：互补金属氧化物半导体)或CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)等被划分为多个像素的摄像元件。进行荧光X射线分析的测定者能够在测定前使由该摄像部98获取到的图像显示于未图示的显示装置，一边观察该图像一边调整试样S的测定位置。
处理装置9构成为包括作为运算处理部的CPU(Central Processing Unit：中央处理单元)。对于处理装置9，能够利用例如个人计算机等。对处理装置9连接X射线管3、检测器97以及摄像部98。
处理装置9控制由主体8进行的测定。具体地说，处理装置9控制X射线管3的管电压、管电流以及照射时间等，并且对遮光器93、滤光器94以及准直器95中的各器件进行驱动。
处理装置9在测定时获取由检测器97检测到的荧光X射线的光谱。处理装置9基于由检测器97检测到的荧光X射线的光谱来进行各元素的定量分析。在荧光X射线的光谱中，在各元素所固有的能量位置处出现荧光X射线的峰。因而，通过调查荧光X射线的光谱的峰位置，能够确定试样S中含有的元素。
[2.按照本实施方式的光阑构件]
图2是作为按照本发明的实施方式的光阑构件1的一例的光阑构件1A的截面图。参照图2，在光阑构件1A的靠一次X射线的入射侧的部分形成第一开口部11A，在光阑构件1A的靠一次X射线的出射侧的部分形成第二开口部12A。另外，在第一开口部11A与第二开口部12A之间形成用于使一次X射线穿过的孔10A。
在本说明书中，将一次X射线的出射范围的中心轴4设为X轴，将X轴的正方向设为出射方向。另外，将从中心轴4朝向孔10A的内表面19A的方向称为“外侧(或第一方向)”。反之，将从孔10A的内表面19A朝向中心轴4的方向称为“内侧(或第二方向)”。
箭头21表示被光阑构件1A的第二开口部12A缩小了的一次X射线的出射范围。箭头22A表示被射出到比出射范围稍微靠外侧的位置的一次X射线的行进方向。
更为具体地说，在光阑构件1A中，第一开口部11A和第二开口部12A各自呈圆形。第二开口部12A的直径比第一开口部11A的直径大。孔10A的内表面19A形成为两级的阶梯状。处于第一开口部11A与第二开口部12A之间的台阶部的角部形成在X射线管3与第二开口部12A的边缘部13A之间，相当于后述的遮蔽部16A。
[3.与按照比较例的光阑构件的比较]
图3是按照比较例的光阑构件1Q的截面图。参照图3，光阑构件1Q形成为在圆柱的中心贯通圆柱状的孔10Q。将光阑构件1Q的靠一次X射线的入射侧的开口部称为第一开口部11Q，将光阑构件1Q的靠一次X射线的出射侧的开口部称为第二开口部12Q。
用箭头21表示被光阑构件1Q缩小了的一次X射线的出射范围。如箭头21所示，从X射线管3射出的一次X射线的出射范围被光阑构件11Q缩小为将X射线管3与第二开口部12Q的端部14Q连结的直线的内侧的范围。端部14Q是第二开口部12Q的边缘部13Q的角。更为特定地说，端部14Q表示边缘部13Q的角的顶点。
当使用光阑构件1Q时，从X射线管3射出的一次X射线中的、比箭头21靠内侧的X射线穿过光阑构件1Q。另一方面，从X射线管3射出的一次X射线中的、比箭头21靠外侧的X射线被光阑构件1Q遮蔽。
箭头22Q表示被射出到比箭头21稍微靠外侧的位置的一次X射线的行进方向。沿箭头22Q的方向行进的一次X射线向第二开口部12Q的边缘部13Q入射。边缘部13Q是与端部14Q具有规定的距离的范围所包含的部分。在此，边缘部13Q在箭头22Q的方向上的厚度与光阑构件1Q的其它部分在一次X射线的行进方向上的厚度相比较薄。因而，在边缘部13Q处，由于一次X射线的入射而产生的荧光X射线有可能从边缘部13Q射出而被照射到试样台，并被检测器97检测到。因此，在光阑构件1Q的边缘部13Q处产生的荧光X射线有可能混杂到从第二开口部12Q射出的一次X射线中，在分析结果中，光阑构件1Q的荧光X射线成分有可能成为噪声而被检测到。
因此，在本实施方式所涉及的分析装置100中，在光阑构件1的孔的内侧的、X射线管3与边缘部之间(图3的斜线部15Q)形成遮蔽部。由此，在光阑构件1A中，从X射线管3产生的沿箭头22A的方向行进的一次X射线被遮蔽部16A遮蔽而不入射到边缘部13A。因此，能够降低由于通过边缘部13A产生的荧光X射线被照射到试样台81而生成的噪声。
此外，由入射到遮蔽部16A的一次X射线产生的荧光X射线如由箭头23A所示那样在内表面19A处被遮蔽，因此在检测器97中作为噪声而被检测到的可能性低。
另外，遮蔽部16A形成于比将X射线管3与第二开口部12A的端部14A连结的直线靠外侧的位置。即，遮蔽部16A形成于比箭头21靠外侧的位置。因此，遮蔽部16A不会缩小由第二开口部12A规定的一次X射线的照射范围。
光阑构件1A例如也可以由多个部件的组合形成。光阑构件1A例如也可以通过将两个构件1A1、1A2叠加地接合来形成。在该情况下，形成于构件1A1的孔的直径相当于第一开口部11A的直径。另外，形成于构件1A2的孔的直径相当于第二开口部12A的直径。在该情况下，只要在相同形状的两片构件中形成两个不同直径的孔并进行接合即可，因此能够抑制制造成本。或者，光阑构件1A也可以形成为一体。在该情况下，在光阑构件1A的材料中形成与第一开口部11A对应的直径的孔，之后将与第二开口部12A对应的直径的孔形成至厚度方向上的中途为止，由此形成台阶部。
光阑构件1A例如由黄铜或钨形成。在使用黄铜的情况下，光阑构件1A的单价被抑制得便宜。在使用钨的情况下，若与黄铜相比则变得昂贵，但光阑构件1A中的除孔10A以外的部分对一次X射线的遮蔽效果进一步提高。
此外，在光阑构件1A的除第一开口部11A与第二开口部12A之间的孔10A以外的部分中，X轴的负方向的面(下表面)17A与X轴的正方向的面(上表面)18A之间是实心的。因此，在光阑构件1A中，与在除孔10A以外的部分中面17A与面18A之间为中空的情况相比，除孔10A以外的部分对一次X射线的遮蔽效果强。具体地说，在光阑构件1中，防止一次X射线从面17A与面18A之间向外侧泄漏的效果增强。另外，在光阑构件1A中，抑制一次X射线在除孔10A以外的部分中向X轴的正方向泄漏的效果增强。
如以上那样，按照本实施方式的光阑构件利用在孔的内表面形成的遮蔽部来抑制一次X射线向第二开口部的边缘部入射。因而，能够抑制从光阑构件的边缘部产生的荧光X射线从而降低荧光X射线被照射到试样台的可能性，因此能够降低分析结果中的噪声。
另外，通过在一次X射线向边缘部入射之前设置遮蔽部，能够增厚一次X射线行进的方向上的厚度，因此能够使透过边缘部的一次X射线的量减少。
[4.变形例]
此外，按照本实施方式的光阑构件1的结构不限定于图2的例子，遮蔽部形成在X射线管3与第二开口部的边缘部之间，并且遮蔽部形成在相对于一次X射线的穿过方向而言比将X射线管与第二开口部的端部连结的直线靠外侧的位置即可。
(变形例1)
例如，光阑构件1的内表面也可以如图4所示那样形成为三级以上的阶梯状。在该情况下，遮蔽部可以是处于第一开口部11B与第二开口部12B之间的台阶部的至少一个角部。在图4的光阑构件1B中，例如，从第一开口部11B起第一级的角部是遮蔽部16B。光阑构件1B是通过将例如三个形成有不同的孔的圆板叠加地接合而形成的。
通过将光阑构件1如光阑构件1B那样构成为多级，与图2的情况相比，箭头21与内表面19A之间易于形成为实心。即，在箭头21与内表面19A之间，空隙部分减少，光阑构件1的内部所占的比例变大。因此，如箭头22B所代表那样的、被射出到比箭头21靠外侧的位置的一次X射线的遮蔽效果增强。
(变形例2)
另外，光阑构件1的第二开口部的直径也可以并非必定比第一开口部的直径大。即，如图5所示，第二开口部的直径也可以与第一开口部的直径相等或者比第一开口部的直径小。参照图5，在光阑构件1C中，第二开口部12C的直径与第一开口部11C的直径相等。因此，例如在将光阑构件1C设置于分析装置100时，无论使光阑构件1C的第一开口部朝向X轴的正负哪个方向配置都起到同样的效果。
(变形例3)
并且，光阑构件1的内表面也可以如图6所示那样为锥状。参照图6，光阑构件1D的第一开口部11D和第二开口部12D呈圆形。第一开口部11D与第二开口部12D之间形成的孔10D的内表面19D形成为锥状。孔10D的直径从第一开口部11D到第二开口部12D为止锥状地增加。在光阑构件1D中，沿着内表面19D的部分是遮蔽部16D。与箭头22Q同样地，箭头22D是被射出到比箭头21稍微靠外侧的位置的一次X射线。遮蔽部16D对用箭头22D表示的一次X射线进行遮蔽。另一方面，与图2的情况相比，箭头21与内表面19D之间为实心。即，在箭头21与内表面19D之间，空隙部分减少，光阑构件1的内部所占的比例变大。因此，如箭头22D所代表那样的、被射出到比箭头21靠外侧的位置的一次X射线的遮蔽效果增强。
另外，按照本实施方式的光阑构件1的结构不限定于从上述荧光X射线分析装置中的X射线管3射出的一次X射线的光阑，也可以被其它的X射线光阑构造引用。例如，按照本实施方式的光阑构件1的结构也可以被准直器引用。另外，在荧光X射线分析装置具备在试样台处产生的荧光X射线的光阑构件的情况下，按照本实施方式的光阑构件1的结构也可以被该光阑构件引用。在该情况下，配置于试样台的试样对应于“X射线源”的一个实施例。并且，也可以被其它使用X射线的装置中的X射线光阑构件引用。在该情况下，向该光阑构件射出X射线的物体对应于“X射线源”的一个实施例。
此外，从X射线的出射方向(X轴方向)俯视光阑构件1的情况下的孔的形状不限定于圆形，根据用途或制造时的情况，也可以是多边形或椭圆等其它形状。
[方式]
本领域技术人员能够理解的是，上述的多个例示性的实施方式是下面的方式的具体例。
(第一项)一个方式所涉及的荧光X射线分析装置具备X射线管、光阑构件以及分析部。光阑构件用于缩小由X射线管产生的一次X射线的照射范围。分析部对由于穿过了光阑构件的一次X射线被照射到试样而从试样产生的荧光X射线进行分析。在光阑构件中，在一次X射线的入射侧形成第一开口部，在一次X射线的出射侧形成第二开口部，在第一开口部与第二开口部之间形成用于使一次X射线穿过的孔。当将从第二开口部的中心朝向第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，光阑构件包括遮蔽部，该遮蔽部在孔的内表面形成在X射线管与第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将X射线管与第二开口部的端部连结的直线靠第一方向的位置。
根据第一项所记载的荧光X射线分析装置，从X射线管产生的一次X射线被在光阑构件的孔的内表面形成的遮蔽部遮蔽，一次X射线向光阑构件中的第二开口部的边缘部入射的入射量减少。因此，由于一次X射线向该边缘部的入射引起的荧光X射线的产生受到抑制，荧光X射线被照射到试样台的可能性降低，因此能够降低噪声。
(第二项)在第一项所记载的荧光X射线分析装置中，第一开口部和第二开口部各自呈圆形。孔的内表面形成为两级的阶梯状。第二开口部的直径比第一开口部的直径大。遮蔽部是处于第一开口部与第二开口部之间的台阶部的角部。
第二项所记载的荧光X射线分析装置中的光阑构件能够通过在相同形状的两片构件中形成两个不同直径的孔并进行接合来形成。或者，能够通过在光阑构件的材料中形成与第一开口部对应的直径的孔、之后将与第二开口部对应的直径的孔形成至厚度方向上的中途为止，来形成该光阑构件。即，光阑构件的形成是容易的，能够抑制制造成本。
(第三项)在第一项所记载的荧光X射线分析装置中，第一开口部和第二开口部各自呈圆形。孔的内表面形成为三级以上的阶梯状。孔的直径从第一开口部到第二开口部为止阶梯状地增加。遮蔽部是处于第一开口部与第二开口部之间的台阶部的至少一个角部。
关于第三项所记载的荧光X射线分析装置中的光阑构件，与孔的内表面形成为两级的阶梯状的情况相比，将X射线管和端部连结的直线与孔的内表面之间易于形成为实心。即，被照射到比将X射线管与端部连结的直线靠外侧的位置的一次X射线的遮蔽效果增强。
(第四项)在第一项所记载的荧光X射线分析装置中，第一开口部和第二开口部各自呈圆形。孔的内表面形成为锥状。孔的直径从第一开口部到第二开口部为止锥状地增加。
关于第四项所记载的荧光X射线分析装置中的光阑构件，与孔的内表面形成为两级的阶梯状的情况相比，将X射线管和端部连结的直线与孔的内表面之间是实心的。即，被照射到比将X射线管与端部连结的直线靠外侧的位置的一次X射线的遮蔽效果增强。
(第五项)在第一项～第四项中的任一项所记载的荧光X射线分析装置的光阑构件中，一次X射线的入射侧的面与一次X射线的出射侧的面之间可以是实心的。
根据第五项所记载的荧光X射线分析装置，在光阑构件中，与在除孔以外的部分中一次X射线的入射侧的面(下表面)与一次X射线的出射侧的面(上表面)之间为中空的情况相比，除孔以外的部分对一次X射线的遮蔽效果强。具体地说，在第五项所记载的光阑构件中，防止一次X射线从下表面与上表面之间向外侧泄漏的效果增强。另外，在该光阑构件中，抑制一次X射线在除孔以外的部分中向X轴的正方向泄漏的效果增强。
(第六项)一个方式所涉及的光阑构件是用于缩小X射线的照射范围的光阑构件。在光阑构件中，在X射线的入射侧形成第一开口部，在X射线的出射侧形成第二开口部，在第一开口部与第二开口部之间形成用于使X射线穿过的孔。当将从第二开口部的中心朝向第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，光阑构件包括遮蔽部，该遮蔽部在孔的内表面形成在X射线源与第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将X射线源与第二开口部的端部连结的直线靠第一方向的位置。
根据第六项所记载的荧光X射线分析装置，从X射线源产生的一次X射线被在光阑构件的孔的内表面形成的遮蔽部遮蔽，一次X射线向光阑构件中的第二开口部的边缘部入射的入射量减少。因此，由于一次X射线向该边缘部的入射引起的荧光X射线的产生受到抑制。
应该认为，本次公开的实施方式在全部方面均为例示，而非限制性的内容。本发明的范围并非通过上述说明来示出，而是通过权利要求书来示出，意图包含与权利要求书等同的意义和范围内的所有变更。
附图标记说明
1、1A、1B、1C、1D、1Q：光阑构件；1A1、1A2：圆板；3：X射线管；8：主体；9：处理装置；10A～10D、10Q：孔；11A～11D、11Q：第一开口部；12A～12D、12Q：第二开口部；13A～13D、13Q：边缘部；14A～14D、14Q：端部；15Q：斜线部；16A～16D、16Q：遮蔽部；17A～17D、17Q、18A～18D、18Q：面；19A～19D、19Q：内表面；80：试样室；81：试样台；82：开口部；83、91：壳体；90：测定室；92：接合部；93：遮光器；94：滤光器；95：准直器；96：驱动机构；97：检测器；98：摄像部；100：分析装置；S：试样。
Claims (6)
1.一种荧光X射线分析装置，具备：
X射线管；
光阑构件，其用于缩小由所述X射线管产生的一次X射线的照射范围；以及
分析部，其对由于穿过了所述光阑构件的一次X射线被照射到试样而从试样产生的荧光X射线进行分析，
在所述光阑构件中，
在一次X射线的入射侧形成第一开口部，
在一次X射线的出射侧形成第二开口部，
在所述第一开口部与所述第二开口部之间形成用于使一次X射线穿过的孔，
当将从所述第二开口部的中心朝向所述第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，所述光阑构件包括遮蔽部，所述遮蔽部在所述孔的内表面形成在所述X射线管与所述第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将所述X射线管与所述第二开口部的端部连结的直线靠所述第一方向的位置。
2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其中，
所述第一开口部和所述第二开口部各自呈圆形，
所述孔的内表面形成为两级的阶梯状，
所述第二开口部的直径比所述第一开口部的直径大，
所述遮蔽部是处于所述第一开口部与所述第二开口部之间的台阶部的角部。
3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其中，
所述第一开口部和所述第二开口部各自呈圆形，
所述孔的内表面形成为三级以上的阶梯状，
所述孔的直径从所述第一开口部到所述第二开口部为止阶梯状地增加，
所述遮蔽部是处于所述第一开口部与所述第二开口部之间的台阶部的至少一个角部。
4.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其中，
所述第一开口部和所述第二开口部各自呈圆形，
所述孔的内表面形成为锥状，
所述孔的直径从所述第一开口部到所述第二开口部为止锥状地增加。
5.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其中，
在所述光阑构件中一次X射线的入射侧的面与一次X射线的出射侧的面之间是实心的。
6.一种光阑构件，用于缩小X射线的照射范围，其中，
在所述光阑构件中，
在X射线的入射侧形成第一开口部，
在X射线的出射侧形成第二开口部，
在所述第一开口部与所述第二开口部之间形成用于使X射线穿过的孔，
当将从所述第二开口部的中心朝向所述第二开口部的边缘部的角即端部的方向设为第一方向时，
所述光阑构件包括遮蔽部，所述遮蔽部在所述孔的内表面形成在X射线源与所述第二开口部的边缘部之间，并且形成在比将所述X射线源与所述第二开口部的端部连结的直线靠所述第一方向的位置。
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