CN117794290A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示装置，属于显示技术领域。该显示面板包括阵列基板、封装基板以及位于阵列基板和封装基板之间的阳极层和阴极层；像素定义层以及和像素定义层同层设置的像素单元，其中，像素单元位于阳极层和阴极层之间；漫反射层设置在阵列基板靠近像素单元的一侧、像素单元的周侧和封装基板的内部中的至少一个位置，以使像素单元的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有漫反射层；其中，在像素单元的顶部设置漫反射层的情况下，像素单元的底部或者周侧的至少一个位置也设置有漫反射层。这样，可以避免或减弱与阵列基板和封装基板中的膜层发生光波导现象，从而抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗，提升显示面板的光学效率。

Description

显示面板及显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板及显示装置及。

背景技术

传统底发射显示器件包括玻璃衬底、透明阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层、金属阴极。通常，发光层两侧还可引入激子阻挡层，使激子尽可能分布在发光层中，从而极大地提高了器件的发光效率。各层材料折射率不匹配是降低显示器件出光效率的主要原因。根据平面波矢理论，显示器件中生成的光子可分为空气模式、衬底模式、波导模式和SPP模式，空气模式、衬底模式、波导模式和SPP模式所占比例分别约为20％、20％、20％和40％。玻璃衬底(n≈1.5)和空气(n＝1.0)界面之间的全反射使光子被限制在衬底内，称为衬底模式。铟锡氧化物(Indiumtinoxide(ITO)，n≈1.7)和玻璃界面之间的全反射使光子在金属阴极与ITO或者玻璃界面之间的波导腔内传播，形成波导模式。光波和金属中自由电子振荡耦合而沿有机或者金属界面传播的电磁波，称为SPP模式。

然在，在显示技术的显示面板的制备过程中，难以做到避免或减弱与阵列基板和封装基板中的膜层发生光波导现象，以及同时抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗，进而降低了显示面板的光学效率。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种显示面板及显示装置，能够解决显示面板难以避免或减弱与阵列基板和封装基板中的膜层发生光波导现象，以及抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括：

阵列基板、封装基板以及位于所述阵列基板和所述封装基板之间的阳极层和阴极层，其中，所述阳极层靠近所述阵列基板，所述阴极层靠近所述封装基板；

像素定义层以及和所述像素定义层同层设置的像素单元，其中，所述像素单元位于所述阳极层和所述阴极层之间；

漫反射层，所述漫反射层设置在所述阵列基板靠近所述像素单元的一侧、所述像素单元的周侧和所述封装基板的内部中的至少一个位置，以使所述像素单元的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有所述漫反射层；

其中，在所述像素单元的顶部设置所述漫反射层的情况下，所述像素单元的底部或者周侧的至少一个位置也设置有所述漫反射层，所述底部为所述像素单元在沿所述阵列基板指向所述封装基板的方向上靠近所述阵列基板的一侧，所述顶部为所述像素单元在沿所述阵列基板指向所述封装基板的方向上靠近所述封装基板的一侧。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述第一平坦层和所述像素定义层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述漫反射层。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层和第二平坦层，所述第二平坦层位于所述像素定义层和所述第一平坦层之间；

所述漫反射层位于所述第二平坦层和所述封装基板之间，所述漫反射层和所述像素单元同层设置，且所述漫反射层围绕所述像素单元设置。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第一反射层和第二反射层，所述第一平坦层和所述第二反射层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第一反射层；

所述第二反射层位于所述第一反射层和所述封装基板之间，所述第二反射层和所述像素单元同层设置，且所述第二反射层围绕所述像素单元设置。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第三反射层和第四反射层，

所述第一平坦层和所述像素定义层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第三反射层；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述像素定义层之间，所述第四反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层和第二平坦层，所述第二平坦层位于所述像素定义层和所述第一平坦层之间；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述像素定义层之间；

所述漫反射层包括第五反射层和第六反射层，所述第五反射层位于所述第二平坦层和所述第一封装层之间，所述第五反射层和所述像素单元同层设置，且所述第五反射层围绕所述像素单元设置，所述第六反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

可选的，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第七反射层、第八反射层和第九反射层，所述第一平坦层和所述第八反射层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第七反射层；

所述第八反射层和所述像素单元同层设置，所述第八反射层位于所述第七反射层和所述封装基板之间，且所述第八反射层围绕所述像素单元设置；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述第八反射层之间，所述第九反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

可选的，所述漫反射层为聚偏二氟乙烯材料。

可选的，，所述漫反射层的表面粗糙度为第一数值，其中，第一数值大于或者等于0.162微米，且小于或者等于1.9微米。

可选的，所述漫反射层为多孔结构膜层。

可选的，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的底部具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述绿色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述蓝色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠。

可选的，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的顶部具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述绿色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述蓝色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠。

可选的，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的周侧具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元和所述绿色子像素单元之间填充有所述漫反射层，所述蓝色子像素单元和所述绿色子像素单元之间填充有所述漫反射层，所述红色子像素单元和所述蓝色子像素单元之间填充有所述漫反射层。

在本发明实施例中，由于漫反射层设置在阵列基板靠近像素单元的一侧、像素单元的周侧和封装基板的内部中的至少一个位置，以使像素单元的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有漫反射层，在像素单元的顶部设置漫反射层的情况下，像素单元的底部或者周侧的至少一个位置也设置有漫反射层，因此可以使得像素单元的底部和周侧至少一个位置具有漫反射层，使得像素单元发出的光反射到正视角方向上，同时避免或减弱与阵列基板和封装基板中的膜层发生光波导现象，从而抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗，提升显示面板的光学效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之一；

图2表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之二；

图3表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之三；

图4表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之四；

图5表示本发明实施例提供的一种显示面板在图4的A处的局部放大示意图；

图6表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之五；

图7表示本发明实施例提供的一种显示面板在图6的B处的局部放大示意图；

图8表示本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图之六；

图9表示本发明实施例提供的一种显示面板在图8的C处的局部放大示意图。

附图标记：

1：阵列基板；2：封装基板；3：像素定义层；4：漫反射层；5：像素单元；6：阳极层；7：阴极层；11：第一平坦层；12：第二平坦层；21：第一封装层；22：第二封装层；41：第一反射层；42：第二反射层；43：第三反射层；44：第四反射层；45：第五反射层；46：第六反射层；47：第七反射层；48：第八反射层；49：第九反射层。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本发明的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在描述一些实施例时，可能使用了“电连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“电连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。

“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。

本文中“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。

如本文所使用的那样，“大致”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

本文中“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。与之相反地，“异层”指的是分别采用相应的成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用相应的掩模板通过构图工艺形成的层结构，例如，“两个层结构异层设置”是指两个层结构分别在相应的工艺步骤(成膜工艺和构图工艺)下形成。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

传统底发射显示器件包括玻璃衬底、透明阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层、金属阴极。通常，发光层两侧还可引入激子阻挡层，使激子尽可能分布在发光层中，从而极大地提高了器件的发光效率。各层材料折射率不匹配是降低显示器件出光效率的主要原因。根据平面波矢理论，显示器件中生成的光子可分为空气模式、衬底模式、波导模式和SPP模式，空气模式、衬底模式、波导模式和SPP模式所占比例分别约为20％、20％、20％和40％。玻璃衬底(n≈1.5)和空气(n＝1.0)界面之间的全反射使光子被限制在衬底内，称为衬底模式。铟锡氧化物(Indiumtinoxide(ITO)，n≈1.7)和玻璃界面之间的全反射使光子在金属阴极与ITO或者玻璃界面之间的波导腔内传播，形成波导模式。光波和金属中自由电子振荡耦合而沿有机或者金属界面传播的电磁波，称为SPP模式。

为提升显示器件的光学效率，通常采用光提取技术提升显示器件的光学效率。光提取技术可分为外提取技术和内提取技术。常用的外提取技术包括衬底粗糙化、外部散射层、半球透镜、微透镜阵列等，主要用于将衬底模式中的光提取到空气中。内提取技术通过对衬底、透明阳极和有机层任一或多个界面进行改性，从而抑制波导模式和SPP模式中的光学损耗，理论上可以使EQE(单位时间内出射到空间的光子数/单位时间内注入到有源层的电子子数)最大提高至3倍。常用的方法包括衬底褶皱化、高折射率衬底、内散射层、阳极图案化、光子晶体等。通常而言，内提取技术比外提取技术具有更好的光取出效果，但是仅用内提取或外提取结构只能将某一种损耗模式进行改进，其提升效果仍非常有限。

内部光散射层通常用于衬底和透明阳极之间，其中分散颗粒和基质材料是影响散射层光提取效果的两个主要因素。TiO2具有良好的晶体结构和高折射率，是最常用的散射颗粒。现有公开技术将粒径为100nm的TiO2颗粒分散在光刻胶聚合物中制备的内散射层，将器件电流效率和外量子效率分别提高至原来的2.04倍和1.96倍。散射层具有低成本、易操作、高效率的特点，易与大面积显示器件相兼容，通过随机改变出光方向，能够有效减少光谱偏移和角度依赖性。

然而，内部光散射层导致显示器件的出光面的雾度增大，不利于显示效果，且内散射粒子粒径不易控制，且无机TiO2等散射粒子易发生团聚和沉淀，均一性无法控制。

基于此，本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，能够实现避免或减弱与阵列基板1和封装基板2中的膜层发生光波导现象的目的。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，如图1至图6所示，该显示面板包括：

阵列基板1、封装基板2以及位于阵列基板1和封装基板2之间的阳极层6和阴极层7，其中，阳极层6靠近阵列基板1，阴极层7靠近封装基板2；

像素定义层3以及和像素定义层3同层设置的像素单元5，其中，像素单元5位于阳极层6和阴极层7之间；

漫反射层4，漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元3的一侧、像素单元3的周侧和封装基板2的内部中的至少一个位置，以使像素单元5的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有漫反射层4；

其中，在像素单元5的顶部设置漫反射层4的情况下，像素单元5的底部或者周侧的至少一个位置也设置有漫反射层4，底部为像素单元5在沿阵列基板1指向封装基板2的方向上靠近阵列基板1的一侧，顶部为像素单元5在沿阵列基板1指向封装基板2的方向上靠近封装基板2的一侧。

需要说明的是，在本发明实施例中，漫反射层4为表面粗糙度大于或者等于第一表面粗糙度的材料，第一表面粗糙度为可以起到漫反射效果的表面粗糙度。此外，漫反射层4可以为各个表面均大于或者等于第一表面粗糙度的材料，也可以为仅为反射面大于或者等于第一表面粗糙度的材料，反射面依据漫反射层4的设置位置确定。示例性的，若漫反射层4设置在像素单元5的底部，则表面粗糙度大于或者等于第一表面粗糙度的反射层为朝向像素单元5的表面。若漫反射层4设置在像素单元5的顶部，则表面粗糙度大于或者等于第一表面粗糙度的反射层为朝向像素单元5的表面。

此外，漫反射层4可以设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧，即使得漫反射层4位于像素单元5的底部，漫反射层4可以设置在像素单元5的周侧，或者，漫反射层4也可以设置在封装基板2的内部和阵列基板1靠近像素单元53的一侧，即使得漫反射层4位于像素单元5的顶部和底部上，再或者，漫反射层4也可以设置在封装基板2的内部和像素单元5的周侧，即使得漫反射层4位于像素单元5的顶部和周侧上。需要说明的是，由于是反射像素单元5的光，因此若只将漫反射层4设置在像素单元5的顶部，则无法达到漫反射的效果。也即是说，若漫反射层4设置在封装基板2的内部时，则阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧中的至少一个位置也要设置漫反射层4。

基于上述原理，漫反射层4可以有以下几种设置方式：漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧，漫反射层4设置在像素单元5的周侧，漫反射层4设置在封装基板2的内部和阵列基板1靠近像素单元5的一侧，反射层设置在封装基板2的内部和像素单元5的周侧，或者，在阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧和封装基板2的内部均设置漫反射层4，漫反射层4的具体设置位置以及层数依据显示面板的制备工艺以及像素单元5的反射需求确定，本发明实施例对此不做限定。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧和封装基板2的内部中的至少一个位置，以使像素单元5的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有漫反射层4，在像素单元5的顶部设置漫反射层4的情况下，像素单元5的底部或者周侧的至少一个位置也设置有漫反射层4，因此可以使得像素单元5的底部和周侧至少一个位置具有漫反射层4，使得像素单元5发出的光反射到正视角方向上，同时避免或减弱与阵列基板1和封装基板2中的膜层发生光波导现象，从而抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗，提升显示面板的光学效率。

下面将具体列举下将漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧和封装基板2的内部中的情况下，显示面板的具体结构，具体如下：

在将漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧的情况下，如图1所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11；第一平坦层11和像素定义层3之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置漫反射层4。

在该实施例中，显示面板背板包括但不限于LTPS，LTPO或Oxide电路部分。以LTPO的背板为例，显示面板的制备过程从下至上依次可以为Poly(活化层)、Gate1(第一栅极层)、Gate2(第二栅极层)、Oxide(多晶氧化物层)、Gate3(第二栅极层)、CNT_L(接触孔层)、CNT_O(走线层)、SD1(第一源漏金属层)、PVX(钝化层)、PLN1(第一平坦层11)、SD2(第二源漏金属层)、DRL(漫反射层4)、AND(阳极层6)、PS(光刻间隙柱层)、Cathode(阴极层7)。

需要说明的是，由于第一平坦层11和像素定义层3之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置漫反射层4，因此使得漫反射层4位于像素单元5的底部，即漫反射层4将像素单元5的底部包裹，这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。还需要说明的是，在该实施例中，漫反射层4可以替代第二平坦层12的作用，也即是漫反射层4的位置即为第二平坦层12所在的位置，漫反射层4同时作为阳极层6的平坦层。

在将漫反射层4设置在像素单元5的周侧的情况下，如图2所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11和第二平坦层12，第二平坦层12位于像素定义层3和第一平坦层11之间；漫反射层4位于第二平坦层12和封装基板2之间，漫反射层4和像素单元5同层设置，且漫反射层4围绕像素单元5设置。

在该实施例中，显示面板背板包括但不限于LTPS，LTPO或Oxide电路部分。以LTPO的背板为例，显示面板的制备过程从下至上依次可以为Poly(活化层)、Gate1(第一栅极层)、Gate2(第二栅极层)、Oxide(多晶氧化物层)、Gate3(第二栅极层)、CNT_L(接触孔层)、CNT_O(走线层)、SD1(第一源漏金属层)、PVX(钝化层)、PLN1(第一平坦层11)、SD2(第二源漏金属层)、PLN1(第二平坦层12)、AND(阳极层6)、DRL(漫反射层4)、PS(光刻间隙柱层)、Cathode(阴极层7)。

需要说明的是，由于漫反射层4位于第二平坦层12和封装基板2之间，漫反射层4和像素单元5同层设置，且漫反射层4围绕像素单元5设置，因此使得漫反射层4位于像素单元5的周侧，即漫反射层4将像素单元5的周侧包裹，这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，可以将像素单元5四周的光反射到正视角方向，同时不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。还需要说明的是，在该实施例中，漫反射层4可以替代像素定义层3的作用，也即是漫反射层4的位置即为像素定义层3所在的位置，使得漫反射层4同时作为像素单元5的像素定义层3。

在将漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧和像素单元5的周侧的情况下，如图3所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11；漫反射层4包括第一反射层41和第二反射层42，第一平坦层11和第二反射层42之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第一反射层41；第二反射层42位于第一反射层41和封装基板2之间，第二反射层42和像素单元5同层设置，且第二反射层42围绕像素单元5设置。

在该实施例中，显示面板背板包括但不限于LTPS，LTPO或Oxide电路部分。以LTPO的背板为例，显示面板的制备过程从下至上依次可以为Poly(活化层)、Gate1(第一栅极层)、Gate2(第二栅极层)、Oxide(多晶氧化物层)、Gate3(第二栅极层)、CNT_L(接触孔层)、CNT_O(走线层)、SD1(第一源漏金属层)、PVX(钝化层)、PLN1(第一平坦层11)、SD2(第二源漏金属层)、PLN1(第二平坦层12)、DRL1(第一反射层41)、AND(阳极层6)、DRL2(第二反射层42)、PS(光刻间隙柱层)、Cathode(阴极层7)。

需要说明的是，由于漫反射层4包括第一反射层41和第二反射层42，第一平坦层11和第二反射层42之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第一反射层41，第二反射层42位于第一反射层41和封装基板2之间，第二反射层42和像素单元5同层设置，且第二反射层42围绕像素单元5设置，因此使得第一反射层41位于像素单元5的底部，第二反射层42位于像素单元5的周侧，即漫反射层4将像素单元5的周侧和底部包裹，这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，可以将像素单元5四周的光反射到正视角方向，同时不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。还需要说明的是，在该实施例中，第一反射层41可以替代第二平坦层12的作用，也即是第一反射层41的位置即为第二平坦层12所在的位置，第一反射层41同时作为阳极层6的平坦层，第二反射层42可以替代像素定义层3的作用，也即是第二反射层42的位置即为像素定义层3所在的位置，使得第二反射层42同时作为像素单元5的像素定义层3。

在将漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧和封装基板2的内部中的情况下，如图4和图5所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11；漫反射层4包括第三反射层43和第四反射层44，第一平坦层11和像素定义层3之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第三反射层43；封装基板2包括第一封装层21和第二封装层22，第一封装层21设置在第二封装层22和像素定义层3之间，第四反射层44设置在第一封装层21和第二封装层22之间。

在该实施例中，将第四反射层44作为封装基板2的中间层，即将第四反射层44作为有机封装材料，同时也作为显示面板的漫反射层4。第三反射层43可以替代第二平坦层12的作用，也即是第三反射层43的位置即为第二平坦层12所在的位置，第三反射层43同时作为阳极层6的平坦层。

这样，由于漫反射层4包括第三反射层43和第四反射层44，第一平坦层11和像素定义层3之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第三反射层43，封装基板2包括第一封装层21和第二封装层22，第一封装层21设置在第二封装层22和像素定义层3之间，第四反射层44设置在第一封装层21和第二封装层22之间，因此使得第三反射层43位于像素单元5的底部，第四反射层44位于像素单元5的顶部，即第三反射层43将像素单元5的底部包裹，第四反射层44将像素单元5的顶部覆盖。这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，同时不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。

在将漫反射层4设置在像素单元5的周侧和封装基板2的内部中的情况下，如图6和图7所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11和第二平坦层12，第二平坦层12位于像素定义层3和第一平坦层11之间；封装基板2包括第一封装层21和第二封装层22，第一封装层21设置在第二封装层22和像素定义层3之间；漫反射层4包括第五反射层45和第六反射层46，第五反射层45位于第二平坦层12和第一封装层21之间，第五反射层45和像素单元5同层设置，且第五反射层45围绕像素单元5设置，第六反射层46设置在第一封装层21和第二封装层22之间。

在该实施例中，将第六反射层46作为封装基板2的中间层，即将第六反射层46作为有机封装材料，同时也作为显示面板的漫反射层4。第五反射层45可以替代像素定义层3的作用，也即是第五反射层45的位置即为像素定义层3所在的位置，使得第五反射层45同时作为像素单元5的像素定义层3。

这样，由于漫反射层4包括第五反射层45和第六反射层46，第五反射层45位于第二平坦层12和第一封装层21之间，第五反射层45和像素单元5同层设置，且第五反射层45围绕像素单元5设置，第六反射层46设置在第一封装层21和第二封装层22之间，因此使得第五反射层45位于像素单元5的周侧，第六反射层46位于像素单元5的顶部，即第五反射层45将像素单元5的周侧包裹，第六反射层46将像素单元5的顶部覆盖。这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，可以将像素单元5四周的光反射到正视角方向，同时不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。

在阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧和封装基板2的内部中均设置漫反射层4的情况下，如图8和图9所示，在一些可行的实施例中，阵列基板1包括衬底基板以及层叠在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层11；漫反射层4包括第七反射层47、第八反射层48和第九反射层49，第一平坦层11和第八反射层48之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第七反射层47；第八反射层48和像素单元5同层设置，第八反射层48位于第七反射层47和封装基板2之间，且第八反射层48围绕像素单元5设置；封装基板2包括第一封装层21和第二封装层22，第一封装层21设置在第二封装层22和第八反射层48之间，第九反射层49设置在第一封装层21和第二封装层22之间。

在该实施例中，将第九反射层49作为封装基板2的中间层，即将第九反射层49作为有机封装材料，同时也作为显示面板的漫反射层4。第八反射层48可以替代像素定义层3的作用，也即是第八反射层48的位置即为像素定义层3所在的位置，使得第八反射层48同时作为像素单元5的像素定义层3。第七反射层47可以替代第二平坦层12的作用，也即是第七反射层47的位置即为第二平坦层12所在的位置，第七反射层47同时作为阳极层6的平坦层。

这样，由于漫反射层4包括第七反射层47、第八反射层48和第九反射层49，第一平坦层11和第八反射层48之间、第一平坦层11和像素单元5之间设置第七反射层47；第八反射层48和像素单元5同层设置，第八反射层48位于第七反射层47和封装基板2之间，且第八反射层48围绕像素单元5设置；封装基板2包括第一封装层21和第二封装层22，第一封装层21设置在第二封装层22和第八反射层48之间，第九反射层49设置在第一封装层21和第二封装层22之间，因此使得第七反射层47位于像素单元5的底部，第八反射层48位于像素单元5的周侧，第九反射层49位于像素单元5的顶部，即像素单元5的周侧、底部和顶部均有漫反射层4包覆或者覆盖。这样，在光进入漫反射层4之后会发生漫反射，且无论光线朝像素单元5的任意方向折射，均可以将像素单元5四周的光反射到正视角方向，同时不会和阳极层6以及阳极层6顶部以及底部的膜层产生波导效应SPP模式中的光学损耗，从而提高光效。

在一些实施例中，漫反射层4为聚偏二氟乙烯材料。偏聚乙烯材料即为PVDF(polyvinylidene difluoride,聚偏二氟乙烯)材料，由于聚偏二氟乙烯材料的表面粗糙度可以达到162纳米，且聚偏二氟乙烯材料的折射率为1.42，因此可以使得光线到达聚偏二氟乙烯材料层时可以发生漫反射。

在一些可行的实施例中，漫反射层4的表面粗糙度为第一数值，其中，第一数值大于或者等于0.162微米，且小于或者等于1.9微米，这样，可以保证光线到达漫反射层4可以发生漫反射。

在一些可行的实施例中，漫反射层4为多孔结构膜层。由于漫反射层4为多孔结构膜层，因此可以保证漫反射层4的表面粗糙度，且可以保证光线的透过滤，降低光学损耗。

在一些实施例中，像素单元5包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；在像素单元5的底部具有漫反射层4的情况下，红色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠，绿色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠，蓝色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠。这样，可以保证红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元发出的光可以经过漫反射层4进行漫反射。

在一些实施例中，像素单元5包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；在像素单元5的顶部具有漫反射层4的情况下，红色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠，绿色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠，蓝色子像素单元在阵列基板1的正投影和漫反射层4在阵列基板1的交叠。这样，可以保证红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元发出的光经过漫反射层4进行反射后可以再次通过顶部的漫反射层4进行漫反射，进一步提升显示面板的光学效率。。

在一些实施例中，像素单元5包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；在像素单元5的周侧具有漫反射层4的情况下，红色子像素单元和绿色子像素单元之间填充有漫反射层4，蓝色子像素单元和绿色子像素单元之间填充有漫反射层4，红色子像素单元和蓝色子像素单元之间填充有漫反射层4。这样，可以保证红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元四周的光反射到正视角方向上。

从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于漫反射层4设置在阵列基板1靠近像素单元5的一侧、像素单元5的周侧和封装基板2的内部中的至少一个位置，以使像素单元5的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有漫反射层4。在像素单元5的顶部设置漫反射层4的情况下，像素单元5的底部或者周侧的至少一个位置也设置有漫反射层4，因此可以使得像素单元5的底部和周侧至少一个位置具有漫反射层4，使得像素单元5发出的光反射到正视角方向上，同时避免或减弱与阵列基板1和封装基板2中的膜层发生光波导现象，从而抑制显示面板的波导模式和SPP模式中的光学损耗，提升显示面板的光学效率。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括第一方向任一实施例所述的显示面板。

需要说明的是，该显示装置可以为手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、车载显示装置、可穿戴设备、超级移动个人计算机(ultra-mobile personal computer，UMPC)、上网本或者个人数字助理(personal digital assistant，PDA)等移动显示装置，非移动显示装置可以为个人计算机(personal computer，PC)、电视机(television，TV)、柜员机或者自助机等，本公开实施例不作具体限定。该显示装置所具备的有益效果和上述显示面板所具备的有益效果一致，本公开实施例对此不再赘述。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板、封装基板以及位于所述阵列基板和所述封装基板之间的阳极层和阴极层，其中，所述阳极层靠近所述阵列基板，所述阴极层靠近所述封装基板；

像素定义层以及和所述像素定义层同层设置的像素单元，其中，所述像素单元位于所述阳极层和所述阴极层之间；

漫反射层，所述漫反射层设置在所述阵列基板靠近所述像素单元的一侧、所述像素单元的周侧和所述封装基板的内部中的至少一个位置，以使所述像素单元的底部、周侧和顶部的至少一个位置具有所述漫反射层；

其中，在所述像素单元的顶部设置所述漫反射层的情况下，所述像素单元的底部或者周侧的至少一个位置也设置有所述漫反射层，所述底部为所述像素单元在沿所述阵列基板指向所述封装基板的方向上靠近所述阵列基板的一侧，所述顶部为所述像素单元在沿所述阵列基板指向所述封装基板的方向上靠近所述封装基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述第一平坦层和所述像素定义层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述漫反射层。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层和第二平坦层，所述第二平坦层位于所述像素定义层和所述第一平坦层之间；

所述漫反射层位于所述第二平坦层和所述封装基板之间，所述漫反射层和所述像素单元同层设置，且所述漫反射层围绕所述像素单元设置。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第一反射层和第二反射层，所述第一平坦层和所述第二反射层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第一反射层；

所述第二反射层位于所述第一反射层和所述封装基板之间，所述第二反射层和所述像素单元同层设置，且所述第二反射层围绕所述像素单元设置。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第三反射层和第四反射层，

所述第一平坦层和所述像素定义层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第三反射层；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述像素定义层之间，所述第四反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层和第二平坦层，所述第二平坦层位于所述像素定义层和所述第一平坦层之间；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述像素定义层之间；

所述漫反射层包括第五反射层和第六反射层，所述第五反射层位于所述第二平坦层和所述第一封装层之间，所述第五反射层和所述像素单元同层设置，且所述第五反射层围绕所述像素单元设置，所述第六反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及层叠在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列和第一平坦层；

所述漫反射层包括第七反射层、第八反射层和第九反射层，所述第一平坦层和所述第八反射层之间、所述第一平坦层和所述像素单元之间设置所述第七反射层；

所述第八反射层和所述像素单元同层设置，所述第八反射层位于所述第七反射层和所述封装基板之间，且所述第八反射层围绕所述像素单元设置；

所述封装基板包括第一封装层和第二封装层，所述第一封装层设置在所述第二封装层和所述第八反射层之间，所述第九反射层设置在所述第一封装层和所述第二封装层之间。

8.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射层为聚偏二氟乙烯材料。

9.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射层的表面粗糙度为第一数值，其中，第一数值大于或者等于0.162微米，且小于或者等于1.9微米。

10.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射层为多孔结构膜层。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的底部具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述绿色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述蓝色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的顶部具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述绿色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠，所述蓝色子像素单元在所述阵列基板的正投影和所述漫反射层在所述阵列基板的交叠。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

在所述像素单元的周侧具有所述漫反射层的情况下，所述红色子像素单元和所述绿色子像素单元之间填充有所述漫反射层，所述蓝色子像素单元和所述绿色子像素单元之间填充有所述漫反射层，所述红色子像素单元和所述蓝色子像素单元之间填充有所述漫反射层。

14.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-13任一项所述的显示面板。