CN109461838B - 一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。能够提升显示区的对比度，并能够避免出现像素区与透明区分屏的现象。本发明实施例提供一种显示基板，显示基板划分出显示区，且显示区划分为透明区和像素区；像素区设置有位于透明衬底上的图案化的金属层以及设置于金属层靠近显示基板出光侧且图案化的防反光膜；防反光膜与金属层的正投影重叠。本发明实施例用于显示基板的生产制造。

Description

一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，透明显示的应用越来越多，局部透明显示是非常重要的实现全面屏的方案，例如近几年所涌现的刘海屏设计，刘海屏是为了留出摄像头的位置而不得不设置的区域，而局部透明带来的问题是对比度的下降。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置，能够提升显示区的对比度，并能够避免出现像素区与透明区分屏的现象。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供一种显示基板，所述显示基板划分出显示区，且所述显示区划分为透明区和像素区；所述像素区设置有位于透明衬底上的图案化的金属层以及设置于所述金属层靠近所述显示基板出光侧且图案化的防反光膜；所述防反光膜与所述金属层的正投影重叠。

可选的，所述像素区还设置有阳极层、阴极层以及位于所述阳极层和所述阴极层之间的发光功能层；所述阳极层、所述发光功能层和所述阴极层均设置于所述金属层远离所述透明衬底的一侧。

可选的，阳极层相对所述阴极层靠近所述透明衬底，所述显示基板的出光方向由所述发光功能层指向所述阴极层；所述显示基板还包括封装层，所述封装层位于所述阴极层远离所述透明衬底的一侧，且所述封装层至少覆盖所述显示区；所述防反光膜设置在所述阴极层和所述封装层之间。

可选的，阳极层相对所述阴极层靠近所述透明衬底，所述显示基板的出光方向由所述发光功能层指向所述阴极层；所述显示基板还包括封装层，所述封装层位于所述阴极层远离所述透明衬底的一侧，且所述封装层至少覆盖所述显示区；所述防反光膜设置在所述封装层远离所述透明衬底的一侧。

可选的，所述防反光膜为偏振膜。

可选的，所述防反光膜的厚度介于1-5微米之间。

可选的，所述透明区在所述显示区中的面积占比为9％-12％。

另一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括如上所述的显示基板、位于所述显示基板的远离所述透明衬底一侧的盖板。

另一方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板以及感光元件，感光元件设置于显示面板背离出光侧的一侧，且与所述透明区对应。

再一方面，本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，所述显示基板划分出显示区，且所述显示区划分为透明区和像素区；所述显示基板的制备方法，包括：在透明衬底上且位于像素区，通过构图工艺形成图案化的金属层，并在所述金属层靠近所述显示基板出光侧，通过构图工艺形成图案化的防反光膜；所述防反光膜与所述金属层的正投影重叠。

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置，通过在像素区设置图案化的防反光膜，由于该防反光膜设置于金属层靠近显示基板出光侧，且该防反光膜与金属层的正投影重叠，因此，能够避免外界光入射至金属层表面而发生反光，可大幅提升像素区的透过率，从而提升透明区的对比度，避免出现像素区与透明区分屏的现象。此外，由于防反光膜仅设置在像素区，相对防反光膜还覆盖透明区，可提升透明区的透过率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种基于图2的像素区的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种像素区的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种防反光膜设置区域的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种防反光膜设置区域的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种圆偏振片的防反射原理图；

图8为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的再一种显示基板的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

本发明实施例提供一种显示基板，参见图1，该显示基板划分出显示区(ActiveArea，AA区)A，且显示区A划分为透明区A1和像素区A2；参见图2，像素区A2设置有位于透明衬底1上的图案化的金属层2以及设置于金属层2靠近显示基板出光侧且图案化的防反光膜3；防反光膜3与金属层2的正投影重叠。

对于像素区A2而言，在该像素区A2内设置有多个子像素。对于透明区A1而言，之所以称为“透明区”，是设置于该区域的各膜层均为透明膜层，也就是说透明区整体呈透明。在透明区A1内，未设置子像素，因而透明区A1不用于显示。

在图2中，示出了本发明提供的显示基板的一种可能的结构，如图2所示在像素区A2中，G1和G2分别是栅极绝缘层，P-Si为有机半导体有源层，21为栅极，22为源极，23为漏极，该栅极、源极和漏极构成薄膜晶体管。ILD是层间绝缘层，PLN是有机平坦层，PDL是像素定义层，PS是隔垫物。

图案化的金属层2是指金属层2不是整层的，而是从正视方向看具有特定的图案。图案化的金属层2可以包括栅线金属走线、数据线金属走线和薄膜晶体管，这时，金属层2的图案是由栅线金属走线、数据线金属走线和薄膜晶体管构成的图案，如图2所示，仅示出了金属层2包括薄膜晶体管的情况。

其中，防反光膜3和金属层2的正投影重叠是指：沿该显示基板的厚度方向，二者的正投影部分重叠或完全重叠。在一些实施例中，防反光膜3和金属层2的正投影完全重叠。

如图5所示，白色的方形区域为子像素区域，黑色区域为覆盖有防反光膜3的区域。如图6所示，白色区域为子像素区域，黑色区域为覆盖有防反光膜3的区域。

基于本发明提供的显示基板，透明区A1的设置，使得该显示基板具有局部透明区域，局部透明是非常重要的实现完全全面屏的方案。对于具有局部透明区域的显示基板而言，局部透明区域的对比度是非常重要的指标。

在不设置防反光膜的情况下，局部透明区域的对比度＝(像素区的显示态亮度×70％)/局部透明区域的透明态亮度。而本发明通过设置防反光膜3，可使像素区A2的透过率提升30％-40％，因此，局部透明区域的对比度可以达到：(像素区的显示态亮度×91％～98％)/局部透明区域的透明态亮度。

本发明实施例提供一种显示基板，通过在像素区A2设置图案化的防反光膜3，由于该防反光膜3设置于金属层2靠近显示基板出光侧，且该防反光膜3与金属层2的正投影重叠，因此，能够避免外界光入射至金属层2表面而发生反光，可大幅提升像素区A2的透过率，从而提升透明区A1的对比度，避免出现像素区A2与透明区A1分屏的现象。此外，由于防反光膜3仅设置在像素区A2，相对防反光膜3还覆盖透明区A1，可提升透明区A1的透过率。

本发明的又一实施例中，参见图2、图3和图4，该像素区A2还设置有阳极层4、阴极层5以及位于阳极层4和阴极层5之间的发光功能层6；该阳极层4、发光功能层6和阴极层5均设置于金属层2远离透明衬底1的一侧。

其中，发光功能层6可以是有机材料发光功能层，也可以是量子点发光功能层。当发光功能层为有机材料发光功能层时，该显示基板为OLED显示基板，这时，阳极层4包括多个阳极，且每个阳极设置于一个子像素中，有机材料功能层包括多个有机材料功能块，每个有机材料功能块设置于一个子像素中，阴极层5整层铺设在像素区A2中，基于此，在每个子像素中，阳极、有机材料功能块和阴极层层叠设置，构成OLED器件。而当发光功能层为量子点发光功能层时，该显示基板为QLED显示基板，这时，阳极层4包括多个阳极，且每个阳极设置于一个子像素中，量子点发光功能层包括多个量子点发光功能块，每个量子点发光功能块设置于一个子像素中，阴极层5整层铺设在像素区A2中，基于此，在每个子像素中，阳极、量子点发光功能块和阴极层层叠设置，构成QLED器件。

根据阳极层4和阴极层5的材料不同，该OLED器件可以为单面发光型OLED器件，也可以为双面发光型OLED器件。同理，该QLED器件可以为单面发光型QLED器件，也可以为双面发光型QLED器件。

其中，以OLED器件为例，当阳极层4和阴极层5中其中一个电极的材料为不透明材料时，该OLED器件为单面发光型，当阳极层4和阴极层5的材料均为透明材料时，该OLED器件为双面发光型。

对于单面发光型OLED器件，根据阳极层4和阴极层5的材料不同，又可以分为顶发光型和底发光型。具体的，当阳极层4靠近透明衬底1设置，阴极层5远离该透明衬底1设置，且阳极层4的材料为透明导电材料，而阴极层5的材料为不透明导电材料时，由于光从阳极层出射，而后再经透明衬底1一侧出射，因此，可以称为底发光型；当阳极层4的材料为不透明导电材料，阴极层5的材料为透明导电材料时，由于光从阴极层4出射、再经与透明衬底1相对设置的封装层7出射，因此，可以称为顶发光型。当然，也可以将上述两种阳极层4和阴极层5的相对位置进行替换，在此不再赘述。

对于双面发光型OLED器件，当阳极层4靠近透明衬底1设置，阴极层5远离透明衬底1设置，或当阳极层4远离透明衬底1设置，阴极层5靠近透明衬底1设置，且阳极层4和阴极层5的材料均为透明导电材料例如ITO(Indium Tin Oxides，氧化铟锡)时，由于光一方面从阳极层4出射、再经透明衬底1一侧出射，另一方面从阴极层5出射、再经与透明衬底1相对设置的封装层7出射，因此可以称为双面发光型。

本发明的一实施例中，参见图3，阳极层4相对该阴极层5靠近该透明衬底1，该显示基板的出光方向由该发光功能层6指向该阴极层5；该显示基板还包括封装层7，该封装层7位于该阴极层5远离该透明衬底1的一侧，且该封装层7至少覆盖该显示区A；该防反光膜3设置在阴极层5和封装层7之间。

在本发明实施例中，该显示基板为顶发光型显示基板，通过将该防反光膜3设置在阴极层5和封装层7之间，可以通过涂覆或印刷液体防反光材料的方式形成该防反光膜3，与在盖板上表面贴合防反光膜3相比，能够避免在贴合过程中容易产生静电，可能会击穿显示基板中的电极的缺陷，且与贴合工艺相比制作工艺简单。

本发明的又一实施例中，参见图4，阳极层4相对该阴极层5靠近该透明衬底1，该显示基板的出光方向由该发光功能层6指向该阴极层5；该显示基板还包括封装层7，该封装层7位于该阴极层5远离该透明衬底1的一侧，且该封装层7至少覆盖该显示区A；该防反光膜3设置在该封装层7远离该透明衬底1的一侧。

在本发明实施例中，该显示基板为顶发光型显示基板，通过将该防反光膜3设置在封装层7远离该透明衬底1的一侧，也可以通过涂覆或印刷液体防反光材料的方式形成该防反光膜3，与在盖板上表面贴合防反光膜3相比，能够避免在贴合过程中容易产生静电，可能会击穿显示基板中的电极的缺陷，且与贴合工艺相比制作工艺简单。

其中，对该防反光膜3的具体材料不做限定，只要能够阻止金属层2反射的光透过即可。

本发明的一实施例中，该防反光膜3可以为偏振膜。以圆偏振片为例，参见图7，圆偏振片是由一个线偏振片和四份之一波长(λ/4)延相器组成，延相器的轴与偏光轴成45度，当外部光线穿过该圆偏振片后，会被转换成圆偏振光，当光由金属层2反射回来时，第二次通过延相器时，圆偏振光又变回线偏振光且偏振方向与原来入射光相差90度，因此反射回的光无法通过线偏振片，如此使得外界的自然光干扰减少，从而提升对比度。

本发明的又一实施例中，该防反光膜3的厚度介于1-5微米之间。能够最大程度上减小显示基板的厚度。

其中，对该透明区A1在显示区A中的面积占比不做具体限定。

可选的，该透明区A1在显示区A中的面积占比为9％-12％。

相对于相关技术中，如图8所示，透明区A1在显示区A中的面积占比大约为30％，本发明中，由于在透明区A1不设置防反光膜3，可使透明区A1的透过率能增加30～40％，因此，虽然本发明将透明区A1在显示区A中的面积占比缩小为9％-12％，如图9所示，也能够保证前置摄像头接收到同样的光亮。其中，本发明通过将透明区A1在显示区A中的面积占比缩小，能够真正实现全面屏设计。

另一方面，本发明实施例提供一种显示面板，参见图10和图11，包括如上所述的显示基板01、位于显示基板01的远离透明衬底1一侧的盖板02。

本发明实施例提供的显示基板的有益效果与上述技术方案提供的显示面板的有益效果相同，在此不再赘述。

另一方面，本发明实施例提供一种显示装置，参见图12，包括如上所述的显示面板001以及感光元件002，感光元件002设置于显示面板001背离出光侧的一侧，且与该透明区A1对应。

其中，该感光元件002可以为一个，也可以为多个。示例性的，来感光元件可以为摄像头。本发明实施例提供的显示基板的有益效果与上述技术方案提供的显示装置的有益效果相同，在此不再赘述。

其中，上述实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

再一方面，本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，该显示基板划分出显示区，且该显示区划分为透明区和像素区；该显示基板的制备方法，包括：在透明衬底上且位于像素区，通过构图工艺形成图案化的金属层，并在金属层靠近显示基板出光侧，通过构图工艺形成图案化的防反光膜；防反光膜与所述金属层的正投影重叠。

本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，该制备方法简单，且能够获得图案化的防反光膜，与在显示基板制备完成后，在外基板表面贴合防反光膜相比，能够避免在贴合过程中容易产生静电，可能会击穿显示基板中的电极的缺陷。

其中，该防反光膜可以由液体防反光材料通过涂覆、曝光、刻蚀等工艺形成。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板划分出显示区，且所述显示区划分为透明区和像素区；

所述透明区在所述显示区中的面积占比为9％-12％；

所述像素区设置有位于透明衬底上的图案化的金属层以及设置于所述金属层靠近所述显示基板出光侧且图案化的防反光膜；

所述防反光膜为偏振膜；

所述防反光膜与所述金属层的正投影重叠。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述像素区还设置有阳极层、阴极层以及位于所述阳极层和所述阴极层之间的发光功能层；

所述阳极层、所述发光功能层和所述阴极层均设置于所述金属层远离所述透明衬底的一侧。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

阳极层相对所述阴极层靠近所述透明衬底，所述显示基板的出光方向由所述发光功能层指向所述阴极层；

所述显示基板还包括封装层，所述封装层位于所述阴极层远离所述透明衬底的一侧，且所述封装层至少覆盖所述显示区；

所述防反光膜设置在所述阴极层和所述封装层之间。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

阳极层相对所述阴极层靠近所述透明衬底，所述显示基板的出光方向由所述发光功能层指向所述阴极层；

所述显示基板还包括封装层，所述封装层位于所述阴极层远离所述透明衬底的一侧，且所述封装层至少覆盖所述显示区；

所述防反光膜设置在所述封装层远离所述透明衬底的一侧。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述防反光膜的厚度介于1-5微米之间。

6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板、位于所述显示基板的远离所述透明衬底一侧的盖板。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示面板以及感光元件，感光元件设置于显示面板背离出光侧的一侧，且与所述透明区对应。

8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板划分出显示区，且所述显示区划分为透明区和像素区；

所述透明区在所述显示区中的面积占比为9％-12％；

所述显示基板的制备方法，包括：

在透明衬底上且位于像素区，通过构图工艺形成图案化的金属层，并在所述金属层靠近所述显示基板出光侧，通过构图工艺形成图案化的防反光膜；

所述防反光膜为偏振膜；

所述防反光膜与所述金属层的正投影重叠。

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