CN1177351C - 利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法 - Google Patents
利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法Info
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- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000078 germane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- GWNAJLSPZNJDQW-UHFFFAOYSA-N [Na].[Ge] Chemical compound [Na].[Ge] GWNAJLSPZNJDQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N germane Chemical compound [GeH4] QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052986 germanium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
本发明的利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法包括首先采用阳极氧化的方法制备纳米多孔氧化铝模板,模板上的纳米孔径的孔为六角柱形并与模板面垂直呈有序并行排列,然后在纳米多孔氧化铝模板的背面生长一层金膜作为催化剂,再把镀金的纳米多孔氧化铝模板放入化学气相沉积装置的生长室,以高纯锗烷为生长气源,氮气为保护气体,在500~800℃温度下反应生长锗纳米线。用本发明方法生长纳米锗线的直径和长度可控,并可以得到阵列化的纳米锗线。
Description
技术领域
本发明涉及一种半导体纳米线的生长方法。具体说是利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法。
背景技术
锗(Ge)是一种重要的半导体材料,应用于高速微电子学器件和红外光学器件。与Si相比,Ge有更小的电子有效质量,空穴有效质量和更低的介电常数,并且体Ge的激子波尔半径(24.3nm)比体Si的激子波尔半径(4.9nm)大,所以,Ge会有更显著的量子尺寸效应。Ge的尺寸减小至纳米量级,能改善Ge的间接带隙的能带结构和材料的光学性质。
由于Ge纳米线材料的特殊性质和潜在的应用前景,国内外研究者在探索各种生长Ge纳米线材料的方法。Hiroo Omi等人采用高指数面法在Si(113)晶面上生长Ge纳米线,所制得的Ge纳米线取向一致,但其直径和长度的分布范围很大。另外一种制备Ge纳米线的方法是采用光刻技术在衬底上光刻出纳米线的图形,然后在光刻图形上生长Ge纳米线,该方法所获得的Ge纳米线,虽然直径和长度比较均匀,但是取向不一致,无法阵列化,而且成本很高。
发明内容
本发明的目的是提供一种利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法。它能实现锗纳米线的直径和长度可控及排列有序化。
本发明的利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法包括首先采用普通的阳极氧化的方法制备纳米多孔氧化铝模板,模板上的纳米孔径的孔为六角柱形并与模板面垂直呈有序并行排列,然后采用蒸发、溅射或喷金的方法在纳米多孔氧化铝模板的背面生长一层金膜作为催化剂,再把镀金的纳米多孔氧化铝模板放入化学气相沉积装置的生长室,以高纯锗烷GeH4(纯度为99.995%)为生长气源,氮气为保护气体,在500~800℃温度下反应生长锗纳米线。
本发明的优点是
1.纳米锗线的直径和长度可控,可以通过控制纳米多孔氧化铝的孔径来控制纳米锗的直径;通过控制生长时间来控制纳米锗的长度,长度可达几十微米。
2.可以得到阵列化的纳米锗线。
具体实施方式
以下结合实例进一步说明本发明。
实施例采用两步阳极氧化制备纳米多孔氧化铝模板,阳极氧化时,阴极用铅板,阳极用纯度为99.99%的铝片,先将铝片经过超声波清洗、退火、碱性除油、酸性浸渍和电解抛光工艺过程获得表面洁净光滑的铝片,采用浓度为0.3mol/L草酸溶液在室温下直流电压恒定在40V进行铝的第一步阳极氧化,氧化12小时后,用8%CrO3+6%H3PO4溶液在60℃的温度腐蚀10小时去掉此氧化层,接着按第一步相同的条件进行第二步阳极氧化就能形成多孔氧化铝的孔洞阵列,最后用HgCl2溶液和H3PO4溶液去除未被氧化的铝形成贯通的氧化铝模板。模板上的纳米孔径一般为5~100nm,此例为30nm,孔为六角柱形,与模板面垂直呈有序并行排列。然后在已穿孔的纳米多孔氧化铝模板背面,在室温下喷一层金膜,作为催化剂,再将喷金的纳米多孔氧化铝模板放入化学相沉积装置的生长室;调节温度控制器,使生长温度在720℃;同时使高纯锗烷(GeH4,纯度99.995%)气体以6sccm流量进入生长室。利用化学气相淀积的高温热分解反应生长锗纳米线。反应方程式如下:
生长过程完成,待温度降至室温后取出样品。
生长过程中,以氮气为保护气体,定时利用氮气将存积在化学气相沉积装置机械泵中剩余的锗烷从泵腔中赶走。
Claims (4)
1.利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法,其特征是它包括用铝片作为阳极,首先采用阳极氧化的方法制备纳米多孔氧化铝模板,模板上的纳米孔径的孔为六角柱形并与模板面垂直呈有序并行排列,然后在纳米多孔氧化铝模板的背面生长一层金膜作为催化剂,再把镀金的纳米多孔氧化铝模板放入化学气相沉积装置的生长室,以纯度99.995%的高纯锗烷为生长气源,在500~800℃温度下反应生长锗纳米线。
2.按权利要求1所述的利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法,其特征是阳极氧化,用铅板作阴极,纯度为99.99%的铝片为阳极。
3.按权利要求1所述的利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法,其特征是氧化铝模板背面生长金膜,可以采用蒸发、溅射或喷金的方法。
4.按权利要求1所述的利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法,其特征是所说的纳米孔径为5~100nm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB021361118A CN1177351C (zh) | 2002-07-17 | 2002-07-17 | 利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB021361118A CN1177351C (zh) | 2002-07-17 | 2002-07-17 | 利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1391237A CN1391237A (zh) | 2003-01-15 |
CN1177351C true CN1177351C (zh) | 2004-11-24 |
Family
ID=4748502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB021361118A Expired - Fee Related CN1177351C (zh) | 2002-07-17 | 2002-07-17 | 利用氧化铝模板生长锗纳米线的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1177351C (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100381235C (zh) * | 2005-09-28 | 2008-04-16 | 武汉大学 | 一种镍磷合金纳米线的制备方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100427379C (zh) * | 2004-03-19 | 2008-10-22 | 中国科学院固体物理研究所 | 纳米单晶锑丝/三氧化二铝有序介孔复合体及制备方法 |
CN1300839C (zh) * | 2004-08-06 | 2007-02-14 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种纳电子相变存储器的制备方法 |
US8679252B2 (en) * | 2005-09-23 | 2014-03-25 | Lam Research Corporation | Actively heated aluminum baffle component having improved particle performance and methods of use and manufacture thereof |
CN1328417C (zh) * | 2006-02-20 | 2007-07-25 | 浙江大学 | 一种合成碳包覆锗纳米线的方法 |
CN101724904B (zh) * | 2009-11-11 | 2011-12-28 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种制备锗纳米管阵列的方法 |
CN102815666A (zh) * | 2012-05-17 | 2012-12-12 | 浙江大学 | 纳米颗粒膜、多孔膜的制备方法及应用 |
CN103540995B (zh) * | 2013-10-15 | 2016-08-10 | 东华大学 | 一种液相合成锗纳米线的方法 |
CN104051576A (zh) * | 2014-06-25 | 2014-09-17 | 中国科学院半导体研究所 | 半导体纳米线有序阵列分布的制备方法 |
CN104562097B (zh) * | 2015-01-23 | 2017-10-20 | 华南理工大学 | 一种自支撑镍纳米线阵列膜的制备方法 |
CN106048524B (zh) * | 2016-07-11 | 2019-01-15 | 北京大学 | 一种类金刚石纳米结构及其制备方法 |
CN108417475B (zh) * | 2018-01-27 | 2020-07-03 | 安徽师范大学 | 一种基于界面诱导生长的金属纳米结构阵列的制备方法 |
CN108597710B (zh) * | 2018-04-13 | 2019-08-30 | 中国计量大学 | 一种钐铁氮磁纳米阵列的制备方法 |
CN109502630A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-03-22 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 氧化锌纳米线的制备方法及其产品和应用 |
CN111307726B (zh) * | 2020-03-11 | 2022-06-24 | 南京信息工程大学 | 光纤复合模式高灵敏度丙酮传感器及其制备方法 |
-
2002
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
CN100381235C (zh) * | 2005-09-28 | 2008-04-16 | 武汉大学 | 一种镍磷合金纳米线的制备方法 |
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---|---|
CN1391237A (zh) | 2003-01-15 |
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