CN117616065A - 高分子化合物、成型用组合物、薄膜和电容器 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 376
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 364
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 40
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims description 32
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 252
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 248
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 108
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 16
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 7
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 40
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1531
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 198
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 160
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 124
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 122
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 60
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 57
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 125000006414 CCl Chemical group ClC* 0.000 description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 20
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 19
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 5
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- LEHBURLTIWGHEM-UHFFFAOYSA-N pyridinium chlorochromate Chemical compound [O-][Cr](Cl)(=O)=O.C1=CC=[NH+]C=C1 LEHBURLTIWGHEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- YEDDVXZFXSHDIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)(F)C(F)(F)C(F)F YEDDVXZFXSHDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 101100256223 Caenorhabditis elegans cho-1 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001641 gel filtration chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/06—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from hydroxycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
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- Polymers & Plastics (AREA)
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Abstract
本公开提供了具有高介电常数的高分子化合物。该高分子化合物具有含有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)。所述取代基包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。
Description
技术领域
本公开总体上涉及高分子化合物、成型用组合物、薄膜和电容器。更具体地，本公开涉及新型高分子化合物、含有该高分子化合物的成型用组合物、含有该高分子化合物的薄膜和包括含有该高分子化合物的电介质层的电容器。
背景技术
专利文献1公开了一种薄膜电容器元件。该薄膜电容器元件被配置为其中至少作为聚脲甲醛膜的电介质膜层和金属蒸镀膜层彼此层叠的层压体。
专利文献2公开了一种层压膜。该层压膜包括依次彼此层叠的第一电极层、树脂基材(base member)、第二电极层和电介质层。该电介质层包含偏二氟乙烯和四氟乙烯的共聚物。
引用清单
专利文献
专利文献1：JP 2016-8323A
专利文献2：WO 2014/080832 A1
发明内容
本公开所解决的问题是提供具有高介电常数的高分子化合物、含有该高分子化合物的成型用组合物、含有该高分子化合物的薄膜和包括含有该高分子化合物的电介质层的电容器。
根据本公开的一个方面的高分子化合物具有含有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)。所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。
根据本公开的另一个方面的成型用组合物含有上述高分子化合物。
根据本公开的再一个方面的薄膜含有上述高分子化合物。
根据本公开的又一个方面的电容器包括含有上述高分子化合物的电介质层。
附图说明
图1是示出根据一个示例性实施方案的电容器的示意图；以及
图2A是示出根据示例性实施方案的卷式电容器中包含的卷体的示意图；并且
图2B是示出根据示例性实施方案的卷式电容器的示意图。
具体实施方式
现在将描述本公开的示例实施方案。注意，以下描述的示例性实施方案仅是本公开的各种实施方案中的一种示例性实施方案，并且不应被解释为限制性的。而是，在不背离本公开的范围的情况下，可以根据设计选择或任何其他因素以各种方式容易地改变示例性实施方案。
(概要)
近来，随着电动汽车(EV)和混合动力汽车越来越普及，对于减小用于控制它们的电动机的逆变器的尺寸存在增长的需求。这就是为什么对于减小作为逆变器的部件的电容器(比如薄膜电容器)的尺寸的需求也在增加。
减小电容器中包括的电介质层的厚度是各种用于在保持电容器性能的同时减小其总尺寸的方法之一。
尽管如此，减小电介质层的厚度不仅使得相当难以将电介质层图案化成所需形状，而且还提高了造成电介质击穿的可能性。
为了克服此问题，本发明人进行了深入细致的研究开发以提供一种这样的技术，该技术用于即使电介质层的厚度完全不减小或几乎不减小的情况下也提高电介质层的介电常数、提高包含这样的电介质层的电容器的电容以及降低造成电介质层的电解质击穿的可能性。结果，作为根据一个示例性实施方案的高分子化合物，本发明人成功地开发出与已知高分子化合物(其介电常数在约2.0至约3.0的范围内)相比具有更高介电常数(例如，所述介电常数可以等于或大于3.5)的高分子化合物。
根据一个示例性实施方案的高分子化合物具有含有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)。所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。
本实施方案提供了具有高介电常数的高分子化合物、含有该高分子化合物的成型用组合物、含有该高分子化合物的薄膜和包括含有该高分子化合物的电介质层的电容器。注意，根据本实施方案的高分子化合物不是必需用于制作用于电容器的电介质层，而是还可以用于任何各种其他目的。
(详细内容)
(1)(高分子化合物)
将描述根据本实施方案的高分子化合物的更具体的构成。
如上所述，根据本实施方案的高分子化合物具有含有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)。所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。也就是说，高分子化合物是具有结构单元(U)的化合物，所述结构单元(U)具有一个或多个杂环和一个或多个羰基，所述一个或多个杂环各自键合有取代基。
杂环是其自身具有至少两种不同元素的原子的环。杂环例如具有碳原子。杂环还可以具有除碳原子以外的杂原子，比如氮原子、氧原子或硫原子。在这些原子中，杂环优选地具有氮原子以提供具有较高介电常数的高分子化合物。也就是说，杂环优选为含氮杂环。杂环也可以是三元环、四元环、五元环、六元环或者七元或更多元的环中的任一种。特别地，杂环优选为五元环或六元环以稳定地提供具有高介电常数的高分子化合物。
羰基是一种具有由–C(＝O)–表示的结构的官能团。
在结构单元(U)中，羰基优选地直接与杂环键合。这使得能够提供具有较高介电常数的高分子化合物。备选地，另一个原子比如氧原子可以介于杂环和羰基之间。也就是说，形成杂环的碳原子和羰基的碳原子可以经由另一个原子比如氧原子而彼此键合。
如本文中使用的，如果羰基直接与杂环键合，则这意味着形成杂环的一部分的原子和羰基的碳原子形成共价键。
如上所述，取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。这使得能够提供具有高介电常数的高分子化合物。取代基更优选地包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH。
结构单元(U)优选地包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：结构单元(UA)、结构单元(UB)、结构单元(UC1)和结构单元(UC2)。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
结构单元(UA)具有由以下化学结构式(A)表示的结构：
在化学结构式(A)中，R1、R2和R3各自独立地为H或取代基，并且R1、R2或R3中的至少一个不是H。
在化学结构式(A)中，R1、R2和R3优选地各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1、R2或R3中的至少一个，所述清单优选不包括H(即，R1、R2或R3中的至少一个优选不是H)。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(A)中，R1为H；R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R3为H或与R2相同。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(A)中，R2为H；R3为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R1为H或与R3相同。这也使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(A)中，R3为H；R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R2为H或与R1相同。这也使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
甚至更优选地，在化学结构式(A)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2和R3分别与R1相同。这使得明显更容易提高高分子化合物的介电常数。
注意，结构单元(UA)可以仅由具有相同结构的一种类型的结构单元组成，或者包括具有相互不同结构的多种类型的结构单元。
结构单元(UB)具有由以下化学结构式(B)表示的结构：
在化学结构式(B)中，R1和R2各自独立地为H或取代基，并且R1或R2中的至少一个不是H。
在化学结构式(B)中，R1和R2优选地各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单优选不包括H。这使得更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(B)中，R1为H；并且R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(B)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2为H或与R1相同。这也使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
注意，结构单元(UB)可以仅由具有相同结构的一种类型的结构单元组成，或者包括具有相互不同的结构的多种类型的结构单元。
结构单元(UC1)具有由以下化学结构式(C1)表示的结构：
在化学结构式(C1)中，R1和R2各自独立地为H或取代基，并且R1或R2中的至少一个不是H。
在化学结构式(C1)中，R1和R2优选地各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单优选不包括H。这使得更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(C1)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2为H或与R1相同。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
注意，结构单元(UC1)可以仅由具有相同结构的一种类型的结构单元组成，或者包括具有相互不同的结构的多种类型的结构单元。
结构单元(UC2)具有由以下化学结构式(C2)表示的结构：
在化学结构式(C2)中，R1和R2各自独立地为H或取代基，并且R1或R2中的至少一个不是H。
在化学结构式(C2)中，R1和R2优选地各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单优选不包括H。这使得更容易提高高分子化合物的介电常数。
更优选地，在化学结构式(C2)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2为H或与R1相同。这使得甚至更容易提高高分子化合物的介电常数。
注意，结构单元(UC2)可以仅由具有相同结构的一种类型的结构单元组成，或者包括具有相互不同的结构的多种类型的结构单元。
还应注意，结构单元(U)不是必需包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：结构单元(UA)、结构单元(UB)、结构单元(UC1)和结构单元(UC2)。也就是说，结构单元(U)可以包括除这些结构单元(UA)–(UC2)以外的结构单元。
根据本实施方案的高分子化合物可以仅包含结构单元(U)，或者还可以包含除结构单元(U)以外的结构单元。
除结构单元(UA)–(UC2)以外的结构单元的实例包括其杂环具有与结构单元(UA)–(UC2)的对应部分不同的结构的结构单元。
除结构单元(UA)–(UC2)以外的结构单元的实例还包括其中原子或原子团介于羰基和键合有取代基的杂环之间的结构单元。该原子包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：例如，氧原子、氮原子等。另外，该原子团包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：例如，醚键、酯键、亚甲基等。
除结构单元(U)以外的结构单元包括例如选自由以下各项组成的组中的至少一项：合适的原子和合适的原子团。原子的实例包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：氧原子、氮原子等。原子团的实例包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：醚键、酯键、亚甲基等。
根据本实施方案的高分子化合物含有选自由以下各项组成的组中的至少一项：低聚物和聚合物。
根据本实施方案的高分子化合物可以是具有其中仅一种类型的结构单元通过单一连接方法重复的这种结构的规则高聚物，或者也可以是具有由重复的两种以上类型的结构单元组成的这种结构或其中结构单元不是通过单一方法连接到一起的这种结构的不规则高聚物。
根据本实施方案的高分子化合物可以包括根据本实施方案的高分子化合物中的一种或两种以上。也就是说，根据本实施方案的高分子化合物可以包括多种具有相互不同的化学结构的高分子化合物。这使得更容易提高高分子化合物的介电常数。
以下表1–10示出了根据本实施方案的薄膜的实施例1–215。在这些表格的每一个中，“化学结构式”栏都示出了根据各个实施例的薄膜中包含的高分子化合物的化学结构式。
另外，在这些表格的每一个中，“分子量”栏指明根据各个实施例的薄膜中包含的高分子化合物的分子量。
高分子化合物的分子量按以下方式测量。
首先，将根据各实施例的高分子化合物溶解于六氟丙醇中以制备测量样品。接下来，对由此制备的测量样品进行凝胶过滤色谱(GPC)，并且使其通过柱“GPC HFIP-805”(由Showa Denko K.K.生产)以将测量样品中的高分子化合物按照分子量进行分离。然后，使由此分离出的高分子化合物按照它们分离的顺序流动到差示折射计“2414RI检测器”(由Nihon Waters K.K.生产)中，由此获得反映高分子化合物的分子量分布的测量结果。基于由此获得的测量结果，计算出高分子化合物的分子量。注意，这仅是一种用于测量高分子化合物的分子量的示例性方法，并且不应被解释为限制本公开的范围。
在每一个表格中，“介电常数”和“电容”栏分别指明根据各个实施例的薄膜的介电常数和由根据各个实施例的薄膜形成的电容器的电容。
“介电常数”和“电容”按照以下方式测量。首先，将根据各实施例的高分子化合物装载到铸塑机的挤出机中，并且加热到等于或高于180℃且等于或低于270℃的温度以使其熔化。将由此熔化的高分子化合物从挤出机中挤出，然后通过铸塑机的冷却辊冷却以形成片材。随后，将该片材用纵向拉伸装置在片材移动方向上拉伸，用横向拉伸装置在垂直于片材移动方向的方向上拉伸，然后切割以获得薄膜。薄膜的厚度为3.0μm。
接下来，形成包括薄膜作为其电介质层的卷式电容器(其电介质层的面积为92m2)。注意，之后将在“(4)电容器”部分中详细描述根据本实施方案的卷式电容器。
使用参数分析仪“HP4284A”(由Hewlett-Packard生产)，在包括室温(25℃)、1kHz的频率和450V的施加电压的测量条件下测量卷式电容器的电容。另外，基于电容器的电容、电介质层的面积和电介质层的厚度计算薄膜的介电常数(相对介电常数)。注意，这些仅是用于测量“介电常数”和“电容”的示例性方法，并且不应被解释为限制本公开的范围。
[表1]
[表2]
[表3]
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[表5]
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[表6]
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[表7]
[表8]
[表9]
[表10]
将描述根据本实施方案的高分子化合物的合成路线。
将描述具有由化学结构式(A)表示的结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线。
具有结构单元(UA)的高分子化合物具有来源于通过使用以下单体(MA)作为起始材料合成的单体的结构单元：
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了Cl取代基的杂环。
通过使作为起始材料的单体(MA)与Cl2反应，可以生成含有单体(MA-Cl)的反应产物，所述单体(MA-Cl)具有键合了Cl取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-Cl)在本文中是指选自由单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)组成的组中的至少一种单体。如本文中使用的，“分级”是指例如通过纯化从反应产物中分离和回收拟作为目标产物获得的单体的操作。另外，对于在合成路线的描述中所示的每个反应，可以通过调整反应时间和反应温度来适当优化每种单体在反应期间的生成比。作为一个示例，以下示出由单体(MA)合成单体(MA-Cl-1)的反应式以及单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)的相应结构：
通过对单体(MA-Cl)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了Cl作为取代基的杂环。如本文中使用的，“酯聚合”是指通过醇与羧酸之间的脱水缩合的聚合。作为一个示例，以下示出由单体(MA-Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了Br作为取代基的杂环。
通过使作为起始材料的单体(MA)与Br2反应，可以生成含有单体(MA-Br)的反应产物，所述单体(MA-Br)具有键合了Br作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-Br)在本文中是指选自由单体(MA-Br-1)至(MA-Br-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-Br-1)至(MA-Br-7)中，Br分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA)合成单体(MA-Br-1)的反应式。
通过对单体(MA-Br)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了Br作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-Br-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了F作为取代基的杂环。
通过使由上述方法制备的单体(MA-Cl)和KF在环丁砜溶剂中彼此反应，可以生成含有单体(MA-F)的反应产物，所述单体(MA-F)具有键合了F作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。具有键合了F作为取代基的杂环的单体(MA-F)是指选自由单体(MA-F-1)至(MA-F-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-F-1)至(MA-F-7)中，F分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-C1-1)合成单体(MA-F-1)的反应式。
通过对具有键合了F作为取代基的杂环的单体(MA-F)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了F作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-F-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-Cl)和NaOH在水中彼此反应，可以生成含有单体(MA-OH)的反应产物，所述单体(MA-OH)具有键合了OH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-OH)在本文中是指选自由单体(MA-OH-1)至(MA-OH-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-OH-1)至(MA-OH-7)中，OH分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-C1-1)合成单体(MA-OH-1)的反应式。
通过使具有键合了OH作为取代基的杂环的单体(MA-OH)与乙酰氯反应，可以生成含有单体(MA-CH3COO)的反应产物，所述单体(MA-CH3COO)具有键合了CH3COO作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH3COO)在本文中是指选自由单体(MA-CH3COO-1)至(MA-CH3COO-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH3COO-1)至(MA-CH3COO-7)中，CH3COO分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-OH-1)合成单体(MA-CH3COO-1)的反应式。
使通过对单体(MA-CH3COO)进行酯聚合制备的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应以脱除乙酰基。结果，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了OH作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH3COO-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CH3作为取代基的杂环。
通过使用AlCl3作为催化剂来使单体(MA)和CH3Cl彼此反应，可以生成含有单体(MA-CH3)的反应产物，所述单体(MA-CH3)具有键合了CH3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH3)在本文中是指选自由单体(MA-CH3-1)至(MA-CH3-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH3-1)至(MA-CH3-7)中，CH3分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA)合成单体(MA-CH3-1)的反应式。
通过对具有键合了CH3作为取代基的杂环的单体(MA-CH3)进行酯聚合，生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CH3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH3)与F2反应，可以生成含有单体(MA-CH2F)的反应产物，所述单体(MA-CH2F)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH2F)在本文中是指选自由单体(MA-CH2F-1)至(MA-CH2F-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH2F-1)至(MA-CH2F-7)中，CH2F分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH3-1)合成单体(MA-CH2F-1)的反应式。
通过对单体(MA-CH2F)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2F-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CHF2作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH2F)与F2反应，可以生成含有单体(MA-CHF2)的反应产物，所述单体(MA-CHF2)具有键合了CHF2作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHF2)在本文中是指选自由单体(MA-CHF2-1)至(MA-CHF2-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHF2-1)至(MA-CHF2-7)中，CHF2分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHF2-1)合成单体(MA-CHF2-1)的反应式。
通过对单体(MA-CHF2)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CHF2作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHF2-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CH2Cl取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH3)与Cl2反应，可以生成含有单体(MA-CH2Cl)的反应产物，所述单体(MA-CH2Cl)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MA-CH2Cl-1)至(MA-CH2Cl-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH2Cl-1)至(MA-CH2Cl-7)中，CH2Cl分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH3-1)合成单体(MA-CH2Cl-1)的反应式。
通过对单体(MA-CH2Cl)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH2Cl)与Cl2反应，可以生成含有单体(MA-CHCl2)的反应产物，所述单体(MA-CHCl2)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MA-CHCl2-1)至(MA-CHCl2-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHCl2-1)至(MA-CHCl2-7)中，CHCl2分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2Cl-1)合成单体(MA-CHCl2-1)的反应式。
通过对单体(MA-CHCl2)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHCl2-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CHCl2)与Cl2反应，可以生成含有单体(MA-CCl3)的反应产物，所述单体(MA-CCl3)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CCl3)在本文中是指选自由单体(MA-CCl3-1)至(MA-CCl3-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CCl3-1)至(MA-CCl3-7)中，CCl3分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHCl2-1)合成单体(MA-CCl3-1)的反应式。
通过对单体(MA-CCl3)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CCl3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH3)与Br2反应，可以生成含有单体(MA-CH2Br)的反应产物，所述单体(MA-CH2Br)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MA-CH2Br-1)至(MA-CH2Br-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH2Br-1)至(MA-CH2Br-7)中，CH2Br分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH3-1)合成单体(MA-CH2Br-1)的反应式。
通过对单体(MA-CH2Br)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2Br-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH2Br)与Br2反应，可以生成含有单体(MA-CHBr2)的反应产物，所述单体(MA-CHBr2)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MA-CHBr2-1)至(MA-CHBr2-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHBr2-1)至(MA-CHBr2-7)中，CHBr2分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2Br-1)合成单体(MA-CHBr2-1)的反应式。
通过对单体(MA-CHBr2)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHBr2-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CHBr2)与Br2反应，可以生成含有单体(MA-CBr3)的反应产物，所述单体(MA-CBr3)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CBr3)在本文中是指选自由单体(MA-CBr3-1)至(MA-CBr3-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CBr3-1)至(MA-CBr3-7)中，CBr3分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHBr2-1)合成单体(MA-CBr3-1)的反应式。
通过对单体(MA-CBr3)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CBr3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CHO作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH2Cl)和NaOH在水中彼此反应，可以生成含有单体(MA-CH2OH)的反应产物，所述单体(MA-CH2OH)具有键合了CH2OH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MA-CH2OH-1)至(MA-CH2OH-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CH2OH-1)至(MA-CH2OH-7)中，CH2OH分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2Cl-1)合成单体(MA-CH2OH-1)的反应式。
通过使单体(MA-CH2OH)和氯铬酸吡啶(在下文中被称为“PCC”)在二氯甲烷溶剂中彼此反应，可以生产含有单体(MA-CHO)的反应产物，所述单体(MA-CHO)具有键合了CHO作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHO)在本文中是指选自由单体(MA-CHO-1)至(MA-CHO-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHO-1)至(MA-CHO-7)中，CHO分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2OH-1)合成单体(MA-CHO-1)的反应式。
通过对单体(MA-CHO)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CHO作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHO-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了COOH作为取代基的杂环。
通过使单体(MA-CH2OH)与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MA-COOH)的反应产物，所述单体(MA-COOH)具有键合了COOH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-COOH)在本文中是指选自由单体(MA-COOH-1)至(MA-COOH-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-COOH-1)至(MA-COOH-7)中，COOH分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CH2OH-1)合成单体(MA-COOH-1)的反应式。
通过使单体(MA-COOH)和亚硫酰氯在甲醇溶剂中彼此反应，可以生成含有单体(MA-COOCH3)的反应产物，所述单体(MA-COOCH3)具有键合了COOCH3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-COOCH3)在本文中是指选自由单体(MA-COOCH3-1)至(MA-COOCH3-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-COOCH3-1)至(MA-COOCH3-7)中，COOCH3分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-COOH-1)合成单体(MA-COOCH3-1)的反应式。
使通过对单体(MA-COOCH3)进行酯聚合制备的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应，然后用盐酸洗涤，由此获得具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了COOH作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-COOCH3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UA)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MA)与C2H5Li在甲苯溶剂中反应，可以生成含有单体(MA-C2H5)的反应产物，所述单体(MA-C2H5)具有键合了C2H5作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-C2H5)在本文中是指选自由单体(MA-C2H5-1)至(MA-C2H5-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-C2H5-1)至(MA-C2H5-7)中，C2H5分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA)合成单体(MA-C2H5-1)的反应式。
通过使单体(MA-C2H5)与Cl2反应，可以生成含有单体(MA-CHClCH2Cl)的反应产物，所述单体(MA-CHClCH2Cl)具有键合了CHClCH2Cl作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHClCH2Cl)在本文中是指选自由单体(MA-CHClCH2Cl-1)至(MA-CHClCH2Cl-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHClCH2Cl-1)至(MA-CHClCH2Cl-7)中，CHClCH2Cl分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-C2H5-1)合成单体(MA-CHClCH2Cl-1)的反应式。
通过使单体(MA-CHClCH2Cl)与NaOH在水中反应，可以生成含有单体(MA-CHOHCH2OH)的反应产物，所述单体(MA-CHOHCH2OH)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MA-CHOHCH2OH-1)至(MA-CHOHCH2OH-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHOHCH2OH-1)至(MA-CHOHCH2OH-7)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHClCH2Cl-1)合成单体(MA-CHOHCH2OH-1)的反应式。
通过使单体(MA-CHOHCH2OH)与乙酰氯反应，可以生成含有单体(MA-CHOAcCH2OAc)的反应产物，所述单体(MA-CHOAcCH2OAc)具有键合了CHOAcCH2OAc(其中Ac表示乙酰基)作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MA-CHOAcCH2OAc)在本文中是指选自由单体(MA-CHOAcCH2OAc-1)至(MA-CHOAcCH2OAc-7)组成的组中的至少一种单体。在单体(MA-CHOAcCH2OAc-1)至(MA-CHOAcCH2OAc-7)中，CHOAcCH2OAc分别取代了单体(MA-Cl-1)至(MA-Cl-7)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHOHCH2OH-1)合成单体(MA-CHOAcCH2OAc-1)的反应式。
使通过对单体(MA-CHOAcCH2OAc)进行酯聚合制备的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应而脱除乙酰基。结果，可以生成具有结构单元(UA)的高分子化合物，所述结构单元(UA)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MA-CHOAcCH2OAc-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有由化学结构式(B)表示的结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线。
具有结构单元(UB)的高分子化合物具有来源于通过使用以下单体(MB)作为起始材料合成的单体的结构单元：
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了Cl作为取代基的杂环。
通过使作为起始材料的单体(MB)与Cl2反应，可以生成含有选自由单体(MB-X-1)至(MB-X-3)组成的组中的至少一种单体(MB-X)的反应产物。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。作为一个示例，以下示出由单体(MB)合成单体(MB-X-1)的反应式以及单体(MB-X-1)至(MB-X-3)的相应结构：
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通过使由上述方法制备的单体(MB-X)和NaOH在水中彼此反应，可以生成具有键合了Cl作为取代基的杂环的单体(MB-Cl)。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-Cl)在本文中是指选自由单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)组成的组中的至少一种单体。作为一个示例，以下示出由单体(MB-X-1)合成单体(MB-Cl-1)的反应式以及单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)的相应结构：
通过对单体(MB-Cl)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了Cl作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了F作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-Cl)和KF在环丁砜溶剂中彼此反应，可以生成含有单体(MB-F)的反应产物，所述单体(MB-F)具有键合了F作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-F)在本文中是指选自由单体(MB-F-1)至(MB-F-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-F-1)至(MB-F-3)中，F分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。
作为一个示例，以下示出由单体(MB-C1-1)合成单体(MB-F-1)的反应式。
通过对单体(MB-F)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了F作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-F-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了Br作为取代基的杂环。
通过使作为起始材料的单体(MB)与NaOH在甲醇溶剂中反应后用盐酸洗涤反应物而制备出的反应产物进一步与盐酸反应，由此获得单体(MB-S)。以下示出由单体(MB)合成单体(MB-S)的反应式。
通过使由上述方法制备的单体(MB-S)和Br2彼此反应，可以生成含有单体(MB-Br)的反应产物，所述单体(MB-Br)具有键合了Br作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-Br)在本文中是指选自由单体(MB-Br-1)至(MB-Br-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-Br-1)至(MB-Br-3)中，Br分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-S)合成单体(MB-Br-1)的反应式。
通过对单体(MB-Br)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了Br作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-Br-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-Cl)和NaOH在水中彼此反应，可以生成含有单体(MB-OH)的反应产物，所述单体(MB-OH)具有键合了OH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-OH)在本文中是指选自由单体(MB-OH-1)至(MB-OH-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-OH-1)至(MB-OH-3)中，OH分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-C1-1)合成单体(MB-OH-1)的反应式。
通过使单体(MB-OH)与乙酰氯反应，可以生成含有单体(MB-CH3COO)的反应产物，所述单体(MB-CH3COO)具有键合了CH3COO作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH3COO)在本文中是指选自由单体(MB-CH3COO-1)至(MB-CH3COO-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH3COO-1)至(MB-CH3COO-3)中，CH3COO分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-OH-1)合成单体(MB-CH3COO-1)的反应式。
使通过对单体(MB-CH3COO)进行酯聚合而制备出的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应而脱除乙酰基。结果，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了OH作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH3COO-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CH3作为取代基的杂环。
通过使用AlCl3作为催化剂使由上述方法制备的单体(MB-S)和CH3Cl彼此反应，可以生成含有单体(MB-CH3)的反应产物，所述单体(MB-CH3)具有键合了CH3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH3)在本文中是指选自由单体(MB-CH3-1)至(MB-CH3-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH3-1)至(MB-CH3-3)中，CH3分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-S)合成单体(MB-CH3-1)的反应式。
通过对单体(MB-CH3)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CH3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH3)与F2反应，可以生成含有单体(MB-CH2F)的反应产物，所述单体(MB-CH2F)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH2F)在本文中是指选自由单体(MB-CH2F-1)至(MB-CH2F-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH2F-1)至(MB-CH2F-3)中，CH2F分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH3-1)合成单体(MB-CH2F-1)的反应式。
通过对单体(MB-CH2F)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2F-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH3)与Cl2反应，可以生成含有单体(MB-CH2Cl)的反应产物，所述单体(MB-CH2Cl)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MB-CH2Cl-1)至(MB-CH2Cl-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH2Cl-1)至(MB-CH2Cl-3)中，CH2Cl分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH3-1)合成单体(MB-CH2Cl-1)的反应式。
通过对单体(MB-CH2Cl)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH2Cl)与Cl2反应，可以生成含有单体的反应产物，所述单体具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MB-CHCl2-1)至(MB-CHCl2-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHCl2-1)至(MB-CHCl2-3)中，CHCl2分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2Cl-1)合成单体(MB-CHCl2-1)的反应式。
通过对单体(MB-CHCl2)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHCl2-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CHCl2)与Cl2反应，可以生成含有单体(MB-CCl3)的反应产物，所述单体(MB-CCl3)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CCl3)在本文中是指选自由单体(MB-CCl3-1)至(MB-CCl3-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CCl3-1)至(MB-CCl3-3)中，CCl3分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHCl2-1)合成单体(MB-CCl3-1)的反应式。
通过对单体(MB-CCl3)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CCl3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH3)与Br2反应，可以生成含有单体(MB-CH2Br)的反应产物，所述单体(MB-CH2Br)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MB-CH2Br-1)至(MB-CH2Br-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH2Br-1)至(MB-CH2Br-3)中，CH2Br分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH3-1)合成单体(MB-CH2Br-1)的反应式。
通过对单体(MB-CH2Br)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2Br-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH2Br)与Br2反应，可以生成含有单体(MB-CHBr2)的反应产物，所述单体(MA-CHBr2)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MB-CHBr2-1)至(MB-CHBr2-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHBr2-1)至(MB-CHBr2-3)中，CHBr2分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2Br-1)合成单体(MB-CHBr2-1)的反应式。
通过对单体(MB-CHBr2)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHBr2-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CHBr2)与Br2反应，可以生成含有单体(MB-CBr3)的反应产物，所述单体(MB-CBr3)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CBr3)在本文中是指选自由单体(MB-CBr3-1)至(MB-CBr3-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CBr3-1)至(MB-CBr3-3)中，CBr3分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHBr2-1)合成单体(MB-CBr3-1)的反应式。
通过对单体(MB-CBr3)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CBr3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CHO作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH2Cl)和NaOH在水中彼此反应，可以生成含有单体(MB-CH2OH)的反应产物，所述单体(MB-CH2OH)具有键合了CH2OH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MB-CH2OH-1)至(MB-CH2OH-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CH2OH-1)至(MB-CH2OH-3)中，CH2OH分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2Cl-1)合成单体(MB-CH2OH-1)的反应式。
通过使单体(MB-CH2OH)和PCC在二氯甲烷溶剂中彼此反应，可以生产含有单体(MB-CHO)的反应产物，所述单体(MB-CHO)具有键合了CHO作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHO)在本文中是指选自由单体(MB-CHO-1)至(MB-CHO-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHO-1)至(MB-CHO-3)中，CHO分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2OH-1)合成单体(MB-CHO-1)的反应式。
通过对单体(MB-CHO)进行酯聚合，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CHO作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHO-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了COOH作为取代基的杂环。
通过使单体(MB-CH2OH)与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MB-COOH)的反应产物，所述单体(MB-COOH)具有键合了COOH作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-COOH)在本文中是指选自由单体(MB-COOH-1)至(MB-COOH-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-COOH-1)至(MB-COOH-3)中，COOH分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CH2OH-1)合成单体(MB-COOH-1)的反应式。
通过使单体(MB-COOH)和亚硫酰氯在甲醇溶剂中彼此反应，可以生成含有单体(MB-COOCH3)的反应产物，所述单体(MB-COOCH3)具有键合了COOCH3作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-COOCH3)在本文中是指选自由单体(MB-COOCH3-1)至(MB-COOCH3-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-COOCH3-1)至(MB-COOCH3-3)中，COOCH3分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-COOH-1)合成单体(MB-COOCH3-1)的反应式。
使通过对单体(MB-COOCH3)进行酯聚合制备出的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应，然后用盐酸洗涤，由此生产具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了COOH作为取代基的这种杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-COOCH3-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UB)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。
通过使由上述方法制备的单体(MB-S)与C2H5Li在甲苯溶剂中反应，可以生产含有单体(MB-C2H5)的反应产物，所述单体(MB-C2H5)具有键合了C2H5作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-C2H5)在本文中是指选自由单体(MB-C2H5-1)至(MB-C2H5-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-C2H5-1)至(MB-C2H5-3)中，C2H5分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-S)合成单体(MB-C2H5-1)的反应式。
通过使单体(MB-C2H5)与Cl2反应，可以生成含有单体(MB-CHClCH2Cl)的反应产物，所述单体(MB-CHClCH2Cl)具有键合了CHClCH2Cl作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHClCH2Cl)在本文中是指选自由单体(MB-CHClCH2Cl-1)至(MB-CHClCH2Cl-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHClCH2Cl-1)至(MB-CHClCH2Cl-3)中，CHClCH2Cl分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-C2H5-1)合成单体(MB-CHClCH2Cl-1)的反应式。
通过使单体(MB-CHClCH2Cl)与NaOH在水中反应，可以生成含有单体(MB-CHOHCH2OH)的反应产物，所述单体(MB-CHOHCH2OH)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的这种杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MB-CHOHCH2OH-1)至(MB-CHOHCH2OH-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHOHCH2OH-1)至(MB-CHOHCH2OH-3)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHClCH2Cl-1)合成单体(MB-CHOHCH2OH-1)的反应式。
通过使单体(MB-CHOHCH2OH)与乙酰氯反应，可以生成含有单体(MB-CHOAcCH2OAc)的反应产物，所述单体(MB-CHOAcCH2OAc)具有键合了CHOAcCH2OAc作为取代基的杂环。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MB-CHOAcCH2OAc)在本文中是指选自由单体(MB-CHOAcCH2OAc-1)至(MB-CHOAcCH2OAc-3)组成的组中的至少一种单体。在单体(MB-CHOAcCH2OAc-1)至(MB-CHOAcCH2OAc-3)中，CHOAcCH2OAc分别取代了单体(MB-Cl-1)至(MB-Cl-3)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHOHCH2OH-1)合成单体(MB-CHOAcCH2OAc-1)的反应式。
使通过对单体(MB-CHOAcCH2OAc)进行酯聚合而制备的高分子化合物与NaOH在水/乙醇溶剂中反应。结果，可以生成具有结构单元(UB)的高分子化合物，所述结构单元(UB)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的这种杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MB-CHOAcCH2OAc-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有由化学结构式(C1)表示的结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线。
具有结构单元(UC1)的高分子化合物包括：来源于通过使用以下单体(MC1_A)作为起始材料合成的单体的结构单元和来源于通过使用以下单体(MC1_B)作为起始材料合成的单体的结构单元：
按照在以上对各自具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线以及对各自具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线的描述中已经提到的用于引入取代基的各种反应方法，使得能够由单体(MC1_A)和单体(MC1_B)作为相应起始材料制备各自具有键合了取代基的杂环的单体(MC1_A-X-Y)和单体(MC1_B-X-Y)。优选的是将单体(MC1_A-X-Y)和单体(MC1_B-X-Y)适当分级以回收目标单体。如本文中使用的，单体(MC1_A-X-Y)中的X表示与(MC1_A)的杂环键合的取代基，而单体(MC1_B-X-Y)中的X表示与单体(MC1_B)的杂环键合的取代基。另一方面，单体(MC1_A-X-Y)中的Y表示按照与杂环键合的取代基的位置和数量分配给各异构体的编号，以区分在反应期间生成的相应异构体，并且单体(MC1_B-X-Y)中的Y表示按照与杂环键合的取代基的位置和数量分配给各异构体的编号，以区分在反应期间生成的相应异构体。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了Cl作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC1_A)和单体(MC1_B)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-Cl)的反应产物和含有单体(MC1_B-Cl)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-Cl)在本文中是指选自由单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-Cl)在本文中是指选自由单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。对于在合成路线的描述中所示的每个反应，可以通过调整反应时间和反应温度来适当优化每种单体在反应期间的生成比。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A)合成单体(MC1_A-Cl-1)的反应式、由单体(MC1_B)合成单体(MC1_B-Cl-1)的反应式以及单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)和单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)的相应结构。
通过使单体(MC1_B-Cl)与五氯化磷反应，可以获得含有单体(MC1_C-Cl)的反应产物。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_C-Cl)在本文中是指选自由单体(MC1_C-Cl-1)和单体(MC1_C-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_B-Cl-1)合成单体(MC1_C-Cl-1)的反应式以及单体(MC1_C-Cl-1)和(MC1_C-Cl-2)的相应结构。
通过使用AlCl3作为催化剂使单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_C-Cl)彼此反应，可以生成具有结构单元(UC1)的高分子化合物，所述结构单元(UC1)具有键合了Cl作为取代基的这种杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-Cl-1)和单体(MC1_C-Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了F作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)分别与KF在环丁砜溶剂中反应，这些单体的每一个中的Cl都可以被F取代，由此生成含有单体(MC1_A-F)的反应产物和含有单体(MC1_B-F)的反应产物。优选的是将这些反应产物中的每一个都适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-F)在本文中是指选自由单体(MC1_A-F-1)和(MC1_A-F-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-F)在本文中是指选自由单体(MC1_B-F-1)和(MC1_B-F-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-F-1)和(MC1_A-F-2)中，F分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-F-1)和(MC1_B-F-2)中，F分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-C1-1)合成单体(MC1_A-F-1)的反应式和由单体(MC1_B-C1-1)合成单体(MC1_B-F-1)的反应式。
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除了分别使用单体(MC1_A-F)和单体(MC1_B-F)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了F作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-F-1)和单体(MC1_B-F-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了Br取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC1_A)和单体(MC1_B)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-Br)的反应产物和含有单体(MC1_B-Br)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-Br)在本文中是指选自由单体(MC1_A-Br-1)和(MC1_A-Br-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-Br)在本文中是指选自由单体(MC1_B-Br-1)和(MC1_B-Br-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-Br-1)和(MC1_A-Br-2)中，Br分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-Br-1)和(MC1_B-Br-2)中，Br分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A)合成单体(MC1_A-Br-1)的反应式和由单体(MC1_B)合成单体(MC1_B-Br-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-Br)和单体(MC1_B-Br)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了Br作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-Br-1)和单体(MC1_B-Br-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)分别与NaOH在水中反应，Cl可以被OH取代，由此可以分别生成含有单体(MC1_A-OH)的反应产物和含有单体(MC1_B-OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-OH)在本文中是指选自由单体(MC1_A-OH-1)和(MC1_A-OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-OH)在本文中是指选自由单体(MC1_B-OH-1)和(MC1_B-OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-OH-1)和(MC1_A-OH-2)中，OH分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-OH-1)和(MC1_B-OH-2)中，OH分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-Cl-1)合成单体(MC1_A-OH-1)的反应式和由单体(MC1_B-Cl-1)合成单体(MC1_B-OH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-OH)和单体(MC1_B-OH)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了OH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-OH-1)和单体(MC1_B-OH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CH3作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC1_A)和单体(MC1_B)分别在AlCl3的存在下与CH3Cl反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CH3)的反应产物和含有单体(MC1_B-CH3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CH3)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CH3-1)和(MC1_A-CH3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CH3)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CH3-1)和(MC1_B-CH3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CH3-1)和(MC1_A-CH3-2)中，CH3分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CH3-1)和(MC1_B-CH3-2)中，CH3分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A)合成单体(MC1_A-CH3-1)的反应式和由单体(MC1_B)合成单体(MC1_B-CH3-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CH3)和单体(MC1_B-CH3)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CH3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CH3-1)和单体(MC1_B-CH3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构：
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了C2H5作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC1_A)和单体(MC1_B)分别与C2H5Li反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-C2H5)的反应产物和含有单体(MC1_B-C2H5)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-C2H5)在本文中是指选自由单体(MC1_A-C2H5-1)和(MC1_A-C2H5-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-C2H5)在本文中是指选自由单体(MC1_B-C2H5-1)和(MC1_B-C2H5-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-C2H5-1)和(MC1_A-C2H5-2)中，C2H5分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-C2H5-1)和(MC1_B-C2H5-2)中，C2H5分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A)合成单体(MC1_A-C2H5-1)的反应式和由单体(MC1_B)合成单体(MC1_B-C2H5-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-C2H5)和单体(MC1_B-C2H5)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了C2H5作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-C2H5-1)和单体(MC1_B-C2H5-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH3)和单体(MC1_B-CH3)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CH2F)的反应产物和含有单体(MC1_B-CH2F)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CH2F)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CH2F-1)和(MC1_A-CH2F-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CH2F)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CH2F-1)和(MC1_B-CH2F-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CH2F-1)和(MC1_A-CH2F-2)中，CH2F分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CH2F-1)和(MC1_B-CH2F-2)中，CH2F分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH3-1)合成单体(MC1_A-CH2F-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH3-1)合成单体(MC1_B-CH2F-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CH2F)和单体(MC1_B-CH2F)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CH2F作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CH2F-1)和单体(MC1_B-CH2F-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CHF2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH2F)和单体(MC1_B-CH2F)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CHF2)的反应产物和含有单体(MC1_B-CHF2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CHF2)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CHF2-1)和(MC1_A-CHF2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CHF2)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CHF2-1)和(MC1_B-CHF2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CHF2-1)和(MC1_A-CHF2-2)中，CHF2分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CHF2-1)和(MC1_B-CHF2-2)中，CHF2分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2F-1)合成单体(MC1_A-CHF2-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2F-1)合成单体(MC1_B-CHF2-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CHF2)和单体(MC1_B-CHF2)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CHF2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CHF2-1)和单体(MC1_B-CHF2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CF3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CHF2)和单体(MC1_B-CHF2)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CF3)的反应产物和含有单体(MC1_B-CF3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CF3)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CF3-1)和(MC1_A-CF3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CF3)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CF3-1)和(MC1_B-CF3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CF3-1)和(MC1_A-CF3-2)中，CF3分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CF3-1)和(MC1_B-CF3-2)中，CF3分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CHF2-1)合成单体(MC1_A-CF3-1)的反应式和由单体(MC1_B-CHF2-1)合成单体(MC1_B-CF3-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CF3)和单体(MC1_B-CF3)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CF3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CF3-1)和单体(MC1_B-CF3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH3)和单体(MC1_B-CH3)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CH2Cl)的反应产物和含有单体(MC1_B-CH2Cl)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CH2Cl-1)和(MC1_A-CH2Cl-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CH2Cl-1)和(MC1_B-CH2Cl-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CH2Cl-1)和(MC1_A-CH2Cl-2)中，CH2Cl分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CH2Cl-1)和(MC1_B-CH2Cl-2)中，CH2Cl分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH3-1)合成单体(MC1_A-CH2Cl-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH3-1)合成单体(MC1_B-CH2Cl-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CH2Cl)和单体(MC1_B-CH2Cl)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CH2Cl作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CH2Cl-1)和单体(MC1_B-CH2Cl-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH2Cl)和单体(MC1_B-CH2Cl)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CHCl2)的反应产物和含有单体(MC1_B-CHCl2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CHCl2-1)和(MC1_A-CHCl2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CHCl2-1)和(MC1_B-CHCl2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CHCl2-1)和(MC1_A-CHCl2-2)中，CHCl2分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CHCl2-1)和(MC1_B-CHCl2-2)中，CHCl2分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2Cl-1)合成单体(MC1_A-CHCl2-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2Cl-1)合成单体(MC1_B-CHCl2-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CHCl2)和单体(MC1_B-CHCl2)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CHCl2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CHCl2-1)和单体(MC1_B-CHCl2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CHCl2)和单体(MC1_B-CHCl2)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CCl3)的反应产物和含有单体(MC1_B-CCl3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CCl3)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CCl3-1)和(MC1_A-CCl3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CCl3)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CCl3-1)和(MC1_B-CCl3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CCl3-1)和(MC1_A-CCl3-2)中，CCl3分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CCl3-1)和(MC1_B-CCl3-2)中，CCl3分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CHCl2-1)合成单体(MC1_A-CCl3-1)的反应式和由单体(MC1_B-CHCl2-1)合成单体(MC1_B-CCl3-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CCl3)和单体(MC1_B-CCl3)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CCl3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CCl3-1)和单体(MC1_B-CCl3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH3)和单体(MC1_B-CH3)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CH2Br)的反应产物和含有单体(MC1_B-CH2Br)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CH2Br-1)和(MC1_A-CH2Br-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CH2Br-1)和(MC1_B-CH2Br-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CH2Br-1)和(MC1_A-CH2Br-2)中，CH2Br分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CH2Br-1)和(MC1_B-CH2Br-2)中，CH2Br分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH3-1)合成单体(MC1_A-CH2Br-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH3-1)合成单体(MC1_B-CH2Br-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CH2Br)和单体(MC1_B-CH2Br)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CH2Br作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CH2Br-1)和单体(MC1_B-CH2Br-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH2Br)和单体(MC1_B-CH2Br)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CHBr2)的反应产物和含有单体(MC1_B-CHBr2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CHBr2-1)和(MC1_A-CHBr2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CHBr2-1)和(MC1_B-CHBr2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CHBr2-1)和(MC1_A-CHBr2-2)中，CHBr2分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CHBr2-1)和(MC1_B-CHBr2-2)中，CHBr2分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2Br-1)合成单体(MC1_A-CHBr2-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2Br-1)合成单体(MC1_B-CHBr2-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CHBr2)和单体(MC1_B-CHBr2)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CHBr2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CHBr2-1)和单体(MC1_B-CHBr2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CHBr2)和单体(MC1_B-CHBr2)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CBr3)的反应产物和含有单体(MC1_B-CBr3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CBr3)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CBr3-1)和(MC1_A-CBr3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CBr3)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CBr3-1)和(MC1_B-CBr3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CBr3-1)和(MC1_A-CBr3-2)中，CBr3分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CBr3-1)和(MC1_B-CBr3-2)中，CBr3分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CHBr2-1)合成单体(MC1_A-CBr3-1)的反应式和由单体(MC1_B-CHBr2-1)合成单体(MC1_B-CBr3-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CBr3)和单体(MC1_B-CBr3)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CBr3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CBr3-1)和单体(MC1_B-CBr3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CHO作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH2Cl)和单体(MC1_B-CH2Cl)分别与NaOH在水中反应，然后使反应物与HCl反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CH2OH)的反应产物和含有单体(MC1_B-CH2OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CH2OH-1)和(MC1_A-CH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CH2OH-1)和(MC1_B-CH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CH2OH-1)和(MC1_A-CH2OH-2)中，CH2OH分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CH2OH-1)和(MC1_B-CH2OH-2)中，CH2OH分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2Cl-1)合成单体(MC1_A-CH2OH-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2Cl-1)合成单体(MC1_B-CH2OH-1)的反应式：
通过使单体(MC1_A-CH2OH)和单体(MC1_B-CH2OH)分别与PCC在二氯甲烷溶剂中反应，可以分别生成含有单体(MC1_A-CHO)的反应产物和含有单体(MC1_B-CHO)的反应产物。单体(MC1_A-CHO)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CHO-1)和(MC1_A-CHO-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CHO)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CHO-1)和(MC1_B-CHO-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CHO-1)和(MC1_A-CHO-2)中，CHO分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CHO-1)和(MC1_B-CHO-2)中，CHO分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2OH-1)合成单体(MC1_A-CHO-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2OH-1)合成单体(MC1_B-CHO-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC1_A-CHO)和单体(MC1_B-CHO)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CHO作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CHO-1)和单体(MC1_B-CHO-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构：
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了COOH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-CH2OH)与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MC1_A-COOH)的反应产物。另一方面，通过使单体(MC1_B-CH2OH)与五氯化磷反应，然后使反应物与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MC1_C-COOH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-COOH)在本文中是指选自由单体(MC1_A-COOH-1)和(MC1_A-COOH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_C-COOH)在本文中是指选自由单体(MC1_C-COOH-1)和(MC1_C-COOH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-COOH-1)和(MC1_A-COOH-2)中，COOH分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_C-COOH-1)和(MC1_C-COOH-2)中，COOH分别取代了单体(MC1_C-Cl-1)和(MC1_C-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-CH2OH-1)合成单体(MC1_A-COOH-1)的反应式和由单体(MC1_B-CH2OH-1)合成单体(MC1_C-COOH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-COOH)和单体(MC1_C-COOH)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_C-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了COOH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-COOH-1)和单体(MC1_C-COOH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC1)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC1)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC1_A-C2H5)和单体(MC1_B-C2H5)分别与Cl2反应，然后使反应物与NaOH在水中反应，可以生成含有单体(MC1_A-CHOHCH2OH)的反应产物和含有单体(MC1_B-CHOHCH2OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC1_A-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MC1_A-CHOHCH2OH-1)和(MC1_A-CHOHCH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC1_B-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MC1_B-CHOHCH2OH-1)和(MC1_B-CHOHCH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC1_A-CHOHCH2OH-1)和(MC1_A-CHOHCH2OH-2)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MC1_A-Cl-1)和(MC1_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC1_B-CHOHCH2OH-1)和(MC1_B-CHOHCH2OH-2)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MC1_B-Cl-1)和(MC1_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC1_A-C2H5-1)合成单体(MC1_A-CHOHCH2OH-1)的反应式和由单体(MC1_B-C2H5-1)合成单体(MC1_B-CHOHCH2OH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC1_A-CHOHCH2OH)和单体(MC1_B-CHOHCH2OH)代替单体(MC1_A-Cl)和单体(MC1_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC1)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC1)(其具有键合了CHOHCH2OH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC1_A-CHOHCH2OH-1)和单体(MC1_B-CHOHCH2OH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有由化学结构式(C2)表示的结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线。
具有结构单元(UC2)的高分子化合物包括：来源于通过使用以下单体(MC2_A)作为起始材料合成的单体的结构单元和来源于通过使用以下单体(MC2_B)作为起始材料合成的单体的结构单元：
/>
按照在以上对各自具有结构单元(UA)的高分子化合物的合成路线以及对各自具有结构单元(UB)的高分子化合物的合成路线的描述中已经提到的用于引入取代基的各种反应方法，使得能够由单体(MC2_A)和单体(MC2_B)作为相应起始材料制备各自具有键合了取代基的杂环的单体(MC2_A-X-Y)和单体(MC2_B-X-Y)。优选的是将单体(MC2_A-X-Y)和单体(MC2_B-X-Y)适当分级以回收目标单体。如本文中使用的，单体(MC2_A-X-Y)中的X表示与(MC2_A)的杂环键合的取代基，并且单体(MC2_B-X-Y)中的X表示与单体(MC2_B)的杂环键合的取代基。另一方面，单体(MC2_A-X-Y)中的Y表示按照与杂环键合的取代基的位置和数量分配给各异构体的编号，以区分在反应期间生成的相应异构体。单体(MC2_B-X-Y)中的Y表示按照与杂环键合的取代基的位置和数量分配给各异构体的编号，以区分在反应期间生成的相应异构体。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了Cl作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC2_A)和单体(MC2_B)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-Cl)的反应产物和含有单体(MC2_B-Cl)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-Cl)在本文中是指选自由单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-Cl)在本文中是指选自由单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。对于在合成路线的描述中所示的每个反应，可以通过调整反应时间和反应温度来适当优化每种单体在反应期间的生成比。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A)合成单体(MC2_A-Cl-1)的反应式、由单体(MC2_B)合成单体(MC2_B-Cl-1)的反应式以及单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)和单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)的相应结构。
通过使单体(MC2_B-Cl)与五氯化磷反应，可以生成含有单体(MC2_C-Cl)的反应产物。优选的是将该反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_C-Cl)在本文中是指选自由单体(MC2_C-Cl-1)和单体(MC2_C-Cl-2)组成的组中的至少一种单体。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_B-Cl-1)合成单体(MC2_C-Cl-1)的反应式以及单体(MC2_C-Cl-1)和(MC2_C-Cl-2)的相应结构。
通过使用AlCl3作为催化剂使单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_C-Cl)彼此反应，可以生成具有结构单元(UC2)的高分子化合物，所述结构单元(UC2)具有键合了Cl作为取代基的杂环。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-Cl-1)和单体(MC2_C-Cl-1)合成目标高分子化合物的反应式。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了F作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)分别与KF在环丁砜溶剂中反应，这些单体的每一个中的Cl都可以被F取代，由此可以分别生成含有单体(MC2_A-F)的反应产物和含有单体(MC2_B-F)的反应产物。优选的是将这些反应产物中的每一个都适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-F)在本文中是指选自由单体(MC2_A-F-1)和(MC2_A-F-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-F)在本文中是指选自由单体(MC2_B-F-1)和(MC2_B-F-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-F-1)和(MC2_A-F-2)中，F分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-F-1)和(MC2_B-F-2)中，F分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-C1-1)合成单体(MC2_A-F-1)的反应式和由单体(MC2_B-C1-1)合成单体(MC2_B-F-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-F)和单体(MC2_B-F)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了F作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-F-1)和单体(MC2_B-F-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了Br作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC2_A)和单体(MC2_B)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-Br)的反应产物和含有单体(MC2_B-Br)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-Br)在本文中是指选自由单体(MC2_A-Br-1)和(MC2_A-Br-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-Br)在本文中是指选自由单体(MC2_B-Br-1)和(MC2_B-Br-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-Br-1)和(MC2_A-Br-2)中，Br分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-Br-1)和(MC2_B-Br-2)中，Br分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A)合成单体(MC2_A-Br-1)的反应式和由单体(MC2_B)合成单体(MC2_B-Br-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-Br)和单体(MC2_B-Br)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了Br作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-Br-1)和单体(MC2_B-Br-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)分别与NaOH在水中反应，Cl可以被OH取代，由此可以分别生成含有单体(MC2_A-OH)的反应产物和含有单体(MC2_B-OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-OH)在本文中是指选自由单体(MC2_A-OH-1)和(MC2_A-OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-OH)在本文中是指选自由单体(MC2_B-OH-1)和(MC2_B-OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-OH-1)和(MC2_A-OH-2)中，OH分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-OH-1)和(MC2_B-OH-2)中，OH分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-Cl-1)合成单体(MC2_A-OH-1)的反应式和由单体(MC2_B-Cl-1)合成单体(MC2_B-OH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-OH)和单体(MC2_B-OH)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了OH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-OH-1)和单体(MC2_B-OH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CH3作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC2_A)和单体(MC2_B)分别在AlCl3的存在下与CH3Cl反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CH3)的反应产物和含有单体(MC2_B-CH3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CH3)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CH3-1)和(MC2_A-CH3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CH3)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CH3-1)和(MC2_B-CH3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CH3-1)和(MC2_A-CH3-2)中，CH3分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CH3-1)和(MC2_B-CH3-2)中，CH3分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A)合成单体(MC2_A-CH3-1)的反应式和由单体(MC2_B)合成单体(MC2_B-CH3-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CH3)和单体(MC2_B-CH3)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CH3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CH3-1)和单体(MC2_B-CH3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了C2H5作为取代基的杂环。
通过使作为相应起始材料的单体(MC2_A)和单体(MC2_B)分别与C2H5Li反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-C2H5)的反应产物和含有单体(MC2_B-C2H5)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-C2H5)在本文中是指选自由单体(MC2_A-C2H5-1)和(MC2_A-C2H5-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-C2H5)在本文中是指选自由单体(MC2_B-C2H5-1)和(MC2_B-C2H5-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-C2H5-1)和(MC2_A-C2H5-2)中，C2H5分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-C2H5-1)和(MC2_B-C2H5-2)中，C2H5分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A)合成单体(MC2_A-C2H5-1)的反应式和由单体(MC2_B)合成单体(MC2_B-C2H5-1)的反应式。
/>
除了分别使用单体(MC2_A-C2H5)和单体(MC2_B-C2H5)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了C2H5作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-C2H5-1)和单体(MC2_B-C2H5-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CH2F作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH3)和单体(MC2_B-CH3)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CH2F)的反应产物和含有单体(MC2_B-CH2F)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CH2F)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CH2F-1)和(MC2_A-CH2F-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CH2F)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CH2F-1)和(MC2_B-CH2F-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CH2F-1)和(MC2_A-CH2F-2)中，CH2F分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CH2F-1)和(MC2_B-CH2F-2)中，CH2F分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH3-1)合成单体(MC2_A-CH2F-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH3-1)合成单体(MC2_B-CH2F-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CH2F)和单体(MC2_B-CH2F)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CH2F作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CH2F-1)和单体(MC2_B-CH2F-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CHF2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH2F)和单体(MC2_B-CH2F)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CHF2)的反应产物和含有单体(MC2_B-CHF2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CHF2)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CHF2-1)和(MC2_A-CHF2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CHF2)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CHF2-1)和(MC2_B-CHF2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CHF2-1)和(MC2_A-CHF2-2)中，CHF2分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CHF2-1)和(MC2_B-CHF2-2)中，CHF2分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2F-1)合成单体(MC2_A-CHF2-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2F-1)合成单体(MC2_B-CHF2-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CHF2)和单体(MC2_B-CHF2)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CHF2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CHF2-1)和单体(MC2_B-CHF2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CF3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CHF2)和单体(MC2_B-CHF2)分别与F2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CF3)的反应产物和含有单体(MC2_B-CF3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CF3)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CF3-1)和(MC2_A-CF3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CF3)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CF3-1)和(MC2_B-CF3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CF3-1)和(MC2_A-CF3-2)中，CF3分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CF3-1)和(MC2_B-CF3-2)中，CF3分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CHF2-1)合成单体(MC2_A-CF3-1)的反应式和由单体(MC2_B-CHF2-1)合成单体(MC2_B-CF3-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC2_A-CF3)和单体(MC2_B-CF3)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CF3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CF3-1)和单体(MC2_B-CF3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CH2Cl作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH3)和单体(MC2_B-CH3)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CH2Cl)的反应产物和含有单体(MC2_B-CH2Cl)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CH2Cl-1)和(MC2_A-CH2Cl-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CH2Cl)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CH2Cl-1)和(MC2_B-CH2Cl-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CH2Cl-1)和(MC2_A-CH2Cl-2)中，CH2Cl分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CH2Cl-1)和(MC2_B-CH2Cl-2)中，CH2Cl分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH3-1)合成单体(MC2_A-CH2Cl-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH3-1)合成单体(MC2_B-CH2Cl-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC2_A-CH2Cl)和单体(MC2_B-CH2Cl)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CH2Cl作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CH2Cl-1)和单体(MC2_B-CH2Cl-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CHCl2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH2Cl)和单体(MC2_B-CH2Cl)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CHCl2)的反应产物和含有单体(MC2_B-CHCl2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CHCl2-1)和(MC2_A-CHCl2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CHCl2)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CHCl2-1)和(MC2_B-CHCl2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CHCl2-1)和(MC2_A-CHCl2-2)中，CHCl2分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CHCl2-1)和(MC2_B-CHCl2-2)中，CHCl2分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2Cl-1)合成单体(MC2_A-CHCl2-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2Cl-1)合成单体(MC2_B-CHCl2-1)的反应式。
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除了分别使用单体(MC2_A-CHCl2)和单体(MC2_B-CHCl2)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CHCl2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CHCl2-1)和单体(MC2_B-CHCl2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CCl3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CHCl2)和单体(MC2_B-CHCl2)分别与Cl2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CCl3)的反应产物和含有单体(MC2_B-CCl3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CCl3)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CCl3-1)和(MC2_A-CCl3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CCl3)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CCl3-1)和(MC2_B-CCl3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CCl3-1)和(MC2_A-CCl3-2)中，CCl3分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CCl3-1)和(MC2_B-CCl3-2)中，CCl3分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CHCl2-1)合成单体(MC2_A-CCl3-1)的反应式和由单体(MC2_B-CHCl2-1)合成单体(MC2_B-CCl3-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CCl3)和单体(MC2_B-CCl3)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CCl3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CCl3-1)和单体(MC2_B-CCl3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CH2Br作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH3)和单体(MC2_B-CH3)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CH2Br)的反应产物和含有单体(MC2_B-CH2Br)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CH2Br-1)和(MC2_A-CH2Br-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CH2Br)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CH2Br-1)和(MC2_B-CH2Br-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CH2Br-1)和(MC2_A-CH2Br-2)中，CH2Br分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CH2Br-1)和(MC2_B-CH2Br-2)中，CH2Br分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH3-1)合成单体(MC2_A-CH2Br-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH3-1)合成单体(MC2_B-CH2Br-1)的反应式：
除了分别使用单体(MC2_A-CH2Br)和单体(MC2_B-CH2Br)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CH2Br作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CH2Br-1)和单体(MC2_B-CH2Br-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CHBr2作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH2Br)和单体(MC2_B-CH2Br)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CHBr2)的反应产物和含有单体(MC2_B-CHBr2)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CHBr2-1)和(MC2_A-CHBr2-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CHBr2)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CHBr2-1)和(MC2_B-CHBr2-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CHBr2-1)和(MC2_A-CHBr2-2)中，CHBr2分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CHBr2-1)和(MC2_B-CHBr2-2)中，CHBr2分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2Br-1)合成单体(MC2_A-CHBr2-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2Br-1)合成单体(MC2_B-CHBr2-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CHBr2)和单体(MC2_B-CHBr2)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CHBr2作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CHBr2-1)和单体(MC2_B-CHBr2-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CBr3作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CHBr2)和单体(MC2_B-CHBr2)分别与Br2反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CBr3)的反应产物和含有单体(MC2_B-CBr3)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CBr3)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CBr3-1)和(MC2_A-CBr3-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CBr3)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CBr3-1)和(MC2_B-CBr3-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CBr3-1)和(MC2_A-CBr3-2)中，CBr3分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CBr3-1)和(MC2_B-CBr3-2)中，CBr3分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CHBr2-1)合成单体(MC2_A-CBr3-1)的反应式和由单体(MC2_B-CHBr2-1)合成单体(MC2_B-CBr3-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CBr3)和单体(MC2_B-CBr3)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CBr3作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CBr3-1)和单体(MC2_B-CBr3-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CHO作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH2Cl)和单体(MC2_B-CH2Cl)分别与NaOH在水中反应，然后使反应物与HCl反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CH2OH)的反应产物和含有单体(MC2_B-CH2OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CH2OH-1)和(MC2_A-CH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CH2OH)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CH2OH-1)和(MC2_B-CH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CH2OH-1)和(MC2_A-CH2OH-2)中，CH2OH分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CH2OH-1)和(MC2_B-CH2OH-2)中，CH2OH分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2Cl-1)合成单体(MC2_A-CH2OH-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2Cl-1)合成单体(MC2_B-CH2OH-1)的反应式：
通过使单体(MC2_A-CH2OH)和单体(MC2_B-CH2OH)分别与PCC在二氯甲烷溶剂中反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CHO)的反应产物和含有单体(MC2_B-CHO)的反应产物。单体(MC2_A-CHO)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CHO-1)和(MC2_A-CHO-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CHO)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CHO-1)和(MC2_B-CHO-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CHO-1)和(MC2_A-CHO-2)中，CHO分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CHO-1)和(MC2_B-CHO-2)中，CHO分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2OH-1)合成单体(MC2_A-CHO-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2OH-1)合成单体(MC2_B-CHO-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CHO)和单体(MC2_B-CHO)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CHO作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CHO-1)和单体(MC2_B-CHO-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了COOH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-CH2OH)与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MC2_A-COOH)的反应产物。另一方面，通过使单体(MC2_B-CH2OH)与五氯化磷反应，然后使反应物与重铬酸钾和硫酸水溶液的混合物反应，可以生成含有单体(MC2_C-COOH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-COOH)在本文中是指选自由单体(MC2_A-COOH-1)和(MC2_A-COOH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_C-COOH)在本文中是指选自由单体(MC2_C-COOH-1)和(MC2_C-COOH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-COOH-1)和(MC2_A-COOH-2)中，COOH分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_C-COOH-1)和(MC2_C-COOH-2)中，COOH分别取代了单体(MC2_C-Cl-1)和(MC2_C-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-CH2OH-1)合成单体(MC2_A-COOH-1)的反应式和由单体(MC2_B-CH2OH-1)合成单体(MC2_C-COOH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-COOH)和单体(MC2_C-COOH)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_C-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了COOH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-COOH-1)和单体(MC2_C-COOH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
将描述具有结构单元(UC2)的高分子化合物的合成路线，所述结构单元(UC2)具有键合了CHOHCH2OH作为取代基的杂环。
通过使单体(MC2_A-C2H5)和单体(MC2_B-C2H5)分别与Cl2反应，然后使反应物与NaOH在水中反应，可以分别生成含有单体(MC2_A-CHOHCH2OH)的反应产物和含有单体(MC2_B-CHOHCH2OH)的反应产物。优选的是将这些反应产物适当分级以回收目标单体。单体(MC2_A-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MC2_A-CHOHCH2OH-1)和(MC2_A-CHOHCH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。单体(MC2_B-CHOHCH2OH)在本文中是指选自由单体(MC2_B-CHOHCH2OH-1)和(MC2_B-CHOHCH2OH-2)组成的组中的至少一种单体。在单体(MC2_A-CHOHCH2OH-1)和(MC2_A-CHOHCH2OH-2)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MC2_A-Cl-1)和(MC2_A-Cl-2)中的Cl。在单体(MC2_B-CHOHCH2OH-1)和(MC2_B-CHOHCH2OH-2)中，CHOHCH2OH分别取代了单体(MC2_B-Cl-1)和(MC2_B-Cl-2)中的Cl。作为一个示例，以下示出由单体(MC2_A-C2H5-1)合成单体(MC2_A-CHOHCH2OH-1)的反应式和由单体(MC2_B-C2H5-1)合成单体(MC2_B-CHOHCH2OH-1)的反应式。
除了分别使用单体(MC2_A-CHOHCH2OH)和单体(MC2_B-CHOHCH2OH)代替单体(MC2_A-Cl)和单体(MC2_B-Cl)以外，按照具有结构单元(UC2)(其具有键合了Cl作为取代基的杂环)的高分子化合物的合成路线，使得能够合成具有结构单元(UC2)(其具有键合了CHOHCH2OH作为替代取代基的这种杂环)的高分子化合物。作为一个示例，以下示出通过使用单体(MC2_A-CHOHCH2OH-1)和单体(MC2_B-CHOHCH2OH-1)合成的高分子化合物的一种示例性结构。
(2)成型用组合物
根据本实施方案的成型用组合物含有上述高分子化合物。例如，如果由成型用组合物形成薄膜，则高分子化合物相对于成型用组合物的百分比优选地等于或大于90质量％。这使得更容易形成具有高介电常数的薄膜。高分子化合物相对于成型用组合物的百分比更优选地等于或大于95质量％。任选地，成型用组合物不仅可以含有高分子化合物，而且还可以含有选自由以下各项组成的组中的至少一项其他附加组分：例如，溶剂比如水，聚合引发剂，聚合抑制剂，和固化剂。
(3)薄膜
将描述根据本实施方案的薄膜。
根据本实施方案的薄膜含有上述高分子化合物。这使得能够提供具有高介电常数的薄膜。
如果薄膜由成型用组合物形成，则上述成型用组合物优选地含有溶剂。这可以改善成型用组合物在成型薄膜时的涂布性。
根据本实施方案的薄膜可以通过以下方式形成：将成型用组合物干燥并固化，然后使固化产物变为膜状。备选地，根据本实施方案的薄膜也可以通过使含有溶剂的成型用组合物变为膜状来形成。
具体地，根据本实施方案的薄膜可以例如通过以下方式形成：将成型用组合物涂布到载体膜上，然后将该成型用组合物干燥并固化以使固化产物变为膜状。在该情况下，例如，成型用组合物中含有的溶剂可以是水。另外，可以使用具有良好剥离性的膜比如PET膜作为载体膜。另外，在形成薄膜时需要将成型用组合物干燥。在该情况下，可以加热成型用组合物以将其干燥。
根据本实施方案的薄膜也可以通过除上述方法以外的方法来形成。例如，薄膜也可以通过对成型用组合物进行挤出成型过程来形成。
根据本实施方案的薄膜可以根据预期用途被形成为具有合适的厚度。例如，如果薄膜用作电容器的电介质层，则薄膜优选地具有等于或大于1.0μm且等于或小于6.0μm的厚度，并且更优选地具有等于或大于2.3μm且等于或小于3.0μm的厚度。另外，如果薄膜用作电容器的电介质层，则薄膜优选地具有等于或大于0.9kV的击穿电压。
(4)电容器
将描述根据本实施方案的电容器。
根据本实施方案的电容器10包括含有上述高分子化合物的电介质层1。
电介质层1包括上述薄膜。换言之，电介质层1是含有根据本实施方案的高分子化合物的薄膜。
电容器10包括电介质层1作为其电介质层。具体地，电容器10包括一对电极2和介于这两个电极之间的电介质层1(参考图1)。
这些电极2中的每一个都可以是通过蒸镀金属或金属箔片(无论哪种都是合适的)形成的薄膜电极层。作为电极2的构成材料的金属可以包括选自由以下各项组成的组中的至少一项：例如，铝、锌、铜以及它们的合金。作为电极2的构成材料的金属优选为铝或铝合金。
电容器10的电极面积越大，电容器10的电容越高。另外，电容器10的电介质层的介电常数越高，其电容越高。此外，电容器10的电极之间的间隔距离越窄，其电容越高。根据本实施方案的电容器10包括由根据本实施方案的具有高介电常数的高分子化合物制成的电介质层1。这有助于提高电容器的电容。
在形成根据本实施方案的电容器10的过程中，在已经形成成型用组合物的薄膜之后，可以在相同过程步骤中进行：使薄膜中的高分子化合物聚合以及通过在薄膜上蒸镀金属来形成电极。这使得能够高效地由薄膜形成电介质层和由金属形成蒸镀电极。
此外，根据本实施方案的电容器可以是卷绕型电容器(在下文中也被称为“卷式电容器”)或层叠型电容器，无论哪种都是合适的。卷式电容器100包括卷体41。如图2A所示，卷体41包括一对电极11和介于一对电极11之间的电介质层21。另一方面，如图1所示，层叠型电容器10包括多层层叠体，所述多层层叠体包括一对电极2和介于一对电极2之间的电介质层1。
例如，卷式电容器100可以按以下方式形成。首先，形成含有根据本实施方案的高分子化合物的薄膜作为电介质层21。接下来，通过例如蒸镀过程或溅射过程在电介质层21的表面上形成含有铝、锌、镁或任何其他金属的电极层作为电极11，由此形成金属化膜31。在该情况下，金属化膜31包括未形成电极11的边缘部分22。边缘部分22沿着金属化膜31的长边中的一条设置。
接下来，通常将一对这样的金属化膜31在它们的长边彼此对齐的情况下相互叠置。然后，将一对金属化膜31卷起，使得一个金属化膜31的具有边缘部分22的长边与另一个金属化膜31的具有边缘部分22的长边相对地布置，并且电极11在电介质层21介于电极11自身之间的情况下彼此面对。通过卷绕相互叠置的一对金属化膜31来形成圆柱形卷体。然后，在圆柱形卷体的两个侧面挤压该圆柱形卷体，由此获得具有椭圆形横截面的卷体41。
接下来，通过金属喷镀法(Metallikon method)分别在卷体41的两端形成外部电极51、52，由此完成卷式电容器100。外部电极51、52可以由例如铝、锌、镁或它们的合金制成。外部电极51、52分别与一对电极11电连接。一对电极11作为一对外部电极。然后，可以通过凭借焊料焊接将外部连接端子61、62分别与外部电极51、52电连接来形成图2B所示的电容器100。这使得电容器100能够在保持其电介质层21的厚度的同时具有进一步增大的电容。另外，这也使得电容器100能够在保持其电容的同时具有减小的尺寸。注意，根据本公开的实施例1–215的介电常数和电容值通过使用由上述方法形成的卷式电容器100来测量。
另外，根据本实施方案的电容器10、100的电容等于或大于8.0×102μF，例如，优选地等于或大于1.0×103μF，更优选地等于或大于1.2×103μF，并且甚至更优选地等于或大于1.4×103μF。电容器10、100的电容的上限不限于任何特定值，而是可以例如等于或小于2.0×103μF。
(变化方案)
根据本实施方案的高分子化合物不仅可以被包含在薄膜和电容器中，而且也可以被包含在各种其他产品中。另外，含有根据本实施方案的高分子化合物的成型用组合物可以用于制作各种产品。
根据本实施方案的成型用组合物可以用于制作介质镜、导热构件、印刷线路板和用于包封半导体器件的包封剂。注意，成型用组合物可以根据预期用途或目的而具有合适的组成。例如，根据预期用途或目的，根据本实施方案的成型用组合物还可以含有除用于形成薄膜的溶剂比如水、聚合引发剂和固化剂以外的任何组分。
介质镜可以通过将多个电介质层彼此层叠来形成。多个电介质层可以通过在玻璃基底上将多层各自含有根据本实施方案的高分子化合物的薄膜彼此层叠来形成。
导热构件可以按以下方式形成。首先，通过使含有根据本实施方案的高分子化合物和导热填充剂的导热树脂组合物固化来形成成型产物。接下来，将成型产物切割成片状以获得成型产物的片材。然后，压制片材而形成导热构件。
印刷线路板可以通过以下方式形成：使用含有根据本实施方案的高分子化合物的薄膜形成树脂基底，然后在树脂基底的表面上形成导体。
用于包封半导体器件的包封剂可以按以下方式形成。首先，将根据本实施方案的高分子化合物、无机填充剂和固化剂加入到有机溶剂中并且混合分散，由此制备出用于包封半导体器件的连接部分的清漆。然后，将清漆涂布到基材膜(base member film)上。之后，通过加热将有机溶剂干燥以使清漆变成作为包封剂使用的膜状粘合剂。任选地，在制备用于包封半导体器件的连接部分的粘合剂清漆时，可以加入固化促进剂作为催化剂。备选地，也可以向其中加入任何其他合适的添加剂。
(概括)
由以上对实施方案和实施例的描述可以看出，根据本公开的第一方面的高分子化合物具有含有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)。所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。
第一方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第二方面(其可以与第一方面结合实施)的高分子化合物中，所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH。
第二方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第三方面(其可以与第一方面或第二方面结合实施)的高分子化合物中，所述杂环具有氮原子。
第三方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第四方面(其可以与第一方面至第三方面中任一方面结合实施)的高分子化合物中，所述羰基直接与所述杂环键合。
第四方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第五方面(其可以与第一方面至第四方面中任一方面结合实施)的高分子化合物中，所述结构单元(U)包括由化学结构式(A)表示的结构单元(UA)，其中R1、R2和R3各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1、R2或R3中的至少一个，所述清单不包括H。
第五方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第六方面(其可以与第五方面结合实施)的高分子化合物中，在所述化学结构式(A)中，R1为H；R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R3为H或与R2相同。备选地，R2为H；R3为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R1为H或与R3相同。仍备选地，R3为H；R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R2为H或与R1相同。
第六方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第七方面(其可以与第五方面结合实施)的高分子化合物中，在所述化学结构式(A)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2和R3各自与R1相同。
第七方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第八方面(其可以与第一方面至第七方面中任一方面结合实施)的高分子化合物中，所述结构单元(U)包括由化学结构式(B)表示的结构单元(UB)，其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH,并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
第八方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第九方面(其可以与第八方面结合实施)的高分子化合物中，在所述化学结构式(B)中，R1为H；并且R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH。备选地，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH；并且R2为H或与R1相同。
第九方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第十方面(其可以与第一方面至第九方面中任一方面结合实施)的高分子化合物中，结构单元(U)包括由化学结构式(C1)表示的结构单元(UC1)，其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
第十方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第十一方面(其可以与第十方面结合实施)的高分子化合物中，在所述化学结构式(C1)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2为H或与R1相同。
第十一方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第十二方面(其可以与第一方面至第十一方面中任一方面结合实施)的高分子化合物中，结构单元(U)包括由化学结构式(C2)表示的结构单元(UC2)，其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
第十二方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
在根据本公开的第十三方面(其可以与第十二方面结合实施)的高分子化合物中，在所述化学结构式(C2)中，R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且R2为H或与R1相同。
第十三方面提供了具有高介电常数的高分子化合物。
根据本公开的第十四方面的成型用组合物含有根据第一方面至第十三方面中任一方面的高分子化合物。
第十四方面提供了具有高介电常数的成型用组合物。
根据本公开的第十五方面的薄膜含有根据第一方面至第十三方面中任一方面的高分子化合物。
第十五方面提供了具有高介电常数的薄膜。
根据本公开的第十六方面的电容器包括含有根据第一方面至第十三方面中任一方面的高分子化合物的电介质层。
第十六方面提供了具有高介电常数的电容器。
附图标记清单
1、21 电介质层
2、11 电极
10、100 电容器
22 边缘部分
31 金属化膜
41 卷体
51、52 外部电极
61、62 外部连接端子
Claims (16)
1.一种高分子化合物，所述高分子化合物包含具有杂环、羰基和与所述杂环键合的取代基的结构单元(U)，
所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：卤素基团、羟基、醛基、羧基、烷基、卤代烷基和羟基烷基。
2.根据权利要求1所述的高分子化合物，其中
所述取代基包括选自由以下各种基团组成的组中的至少一种基团：F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH。
3.根据权利要求1所述的高分子化合物，其中
所述杂环具有氮原子。
4.根据权利要求1所述的高分子化合物，其中
所述羰基直接与所述杂环键合。
5.根据权利要求2所述的高分子化合物，其中
所述结构单元(U)包括由以下化学结构式(A)表示的结构单元(UA)：
其中R1、R2和R3各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且
对于R1、R2或R3中的至少一个，所述清单不包括H。
6.根据权利要求5所述的高分子化合物，其中
在所述化学结构式(A)中，
R1为H，
R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R3为H或与R2相同，或者
R2为H，
R3为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R1为H或与R3相同，或者
R3为H，
R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R2为H或与R1相同。
7.根据权利要求5所述的高分子化合物，其中
在所述化学结构式(A)中，
R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CHF2、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R2和R3分别与R1相同。
8.根据权利要求2所述的高分子化合物，其中
所述结构单元(U)包括由以下化学结构式(B)表示的结构单元(UB)：
其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且
对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
9.根据权利要求8所述的高分子化合物，其中
在所述化学结构式(B)中，
R1为H，并且
R2为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，或者
R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、CH2F、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R2为H或与R1相同。
10.根据权利要求2所述的高分子化合物，其中
所述结构单元(U)包括由以下化学结构式(C1)表示的结构单元(UC1)：
其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且
对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
11.根据权利要求10所述的高分子化合物，其中
在所述化学结构式(C1)中，
R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R2为H或与R1相同。
12.根据权利要求2所述的高分子化合物，其中
所述结构单元(U)包括由以下化学结构式(C2)表示的结构单元(UC2)：
其中R1和R2各自独立地选自由以下各项组成的清单：H、F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3和CHOHCH2OH，并且
对于R1或R2中的至少一个，所述清单不包括H。
13.根据权利要求12所述的高分子化合物，其中
在所述化学结构式(C2)中，
R1为F、Cl、Br、OH、CHO、COOH、CH3、C2H5、CH2F、CHF2、CF3、CH2Cl、CHCl2、CCl3、CH2Br、CHBr2、CBr3或CHOHCH2OH，并且
R2为H或与R1相同。
14.一种成型用组合物，所述成型用组合物含有根据权利要求1至13中任一项所述的高分子化合物。
15.一种薄膜，所述薄膜含有根据权利要求1至13中任一项所述的高分子化合物。
16.一种电容器，所述电容器包括含有根据权利要求1至13中任一项所述的高分子化合物的电介质层。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021145060 | 2021-09-06 | ||
| JP2021-145060 | 2021-09-06 | ||
| PCT/JP2022/033099 WO2023033142A1 (ja) | 2021-09-06 | 2022-09-02 | 高分子化合物、成形用組成物、フィルム及びコンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117616065A true CN117616065A (zh) | 2024-02-27 |
Family
ID=85412471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202280046252.0A Pending CN117616065A (zh) | 2021-09-06 | 2022-09-02 | 高分子化合物、成型用组合物、薄膜和电容器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2023033142A1 (zh) |
| CN (1) | CN117616065A (zh) |
| WO (1) | WO2023033142A1 (zh) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010056564A1 (de) * | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Clariant International Limited | Hydroxylgruppen und Estergruppen tragende Polymere und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| JP5865341B2 (ja) * | 2013-09-09 | 2016-02-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、感光性着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、モノマー、並びにポリマー |
| EP3692083B1 (fr) * | 2017-10-02 | 2024-05-29 | Université Paris-Saclay | Nouveaux polymeres, leurs procedes de preparation, et leurs utilisations notamment pour le captage de metaux |
| JP7357305B2 (ja) * | 2019-11-14 | 2023-10-06 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 誘電体組成物、誘電体フィルム及びコンデンサ |
-
2022
- 2022-09-02 WO PCT/JP2022/033099 patent/WO2023033142A1/ja active Application Filing
- 2022-09-02 JP JP2023545695A patent/JPWO2023033142A1/ja active Pending
- 2022-09-02 CN CN202280046252.0A patent/CN117616065A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2023033142A1 (ja) | 2023-03-09 |
| JPWO2023033142A1 (zh) | 2023-03-09 |
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| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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