CN117500959A - 镀覆装置 - Google Patents

Abstract

在杯式镀覆装置中抑制搅拌桨的中央部垂下。包括：镀覆槽(410)，其用于收容镀覆液；阳极，其配置于镀覆槽(410)内；基板支架，其构成为在使被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的状态下保持基板(Wf)；搅拌桨(460)，其配置于阳极与基板(Wf)之间；驱动机构(462)，其构成为支承搅拌桨(460)的基端部(460A)，使搅拌桨(460)沿着基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)往复移动；第1磁铁(464)，其设置于搅拌桨(460)；以及第2磁铁(468)，其设置为与第1磁铁(464)对置，第1磁铁(464)以及第2磁铁(468)构成为相互带来磁力，以使搅拌桨(460)的基端部(460A)与前端部(460B)之间的中央部(460C)接近基板(Wf)的被镀覆面(Wfa)。

Description

镀覆装置

技术领域

本申请涉及镀覆装置。

背景技术

公知有用于在基板(例如半导体晶圆)的被镀覆面形成导电膜的电解镀覆装置。例如专利文献1公开了使基板以立起的状态浸渍于镀覆液中来进行镀覆处理的所谓的浸渍式电解镀覆装置。另一方面，作为镀覆装置的一个例子，也公知有使基板以放平的状态浸渍于镀覆液中的所谓的杯式电解镀覆装置。

专利文献1所公开的浸渍式电解镀覆装置通过在基板的被镀覆面的附近配置搅拌桨，并使搅拌桨沿着基板的被镀覆面往复移动，由此搅拌被镀覆面附近的镀覆液。在该电解镀覆装置中，构成为搅拌桨的上端被支承，在搅拌镀覆液时搅拌桨的下端振动，因此在搅拌桨的下端与镀覆槽分别设置磁铁，通过这些磁铁的磁力抑制搅拌桨的下端振动。

专利文献1：日本专利6329681号公报

若欲将专利文献1公开的技术应用于杯式镀覆装置，则产生搅拌桨的中央部垂下这样的新的课题。

即，在杯式镀覆装置中，若物理地支承搅拌桨的基端部，并且在搅拌桨的前端部以及镀覆槽设置磁铁，通过它们的磁力支承搅拌桨的前端部(抑制振动)，则存在搅拌桨的中央部因重力而垂下的担忧。若搅拌桨挠曲而中央部垂下，则存在搅拌桨与配置于搅拌桨之下的电阻体干涉而产生颗粒的担忧，因此不优选。

发明内容

因此，本申请的一个目的在于，在杯式镀覆装置中抑制搅拌桨的中央部垂下。

根据一个实施方式，公开一种镀覆装置，包括：镀覆槽，其用于收容镀覆液；阳极，其配置于上述镀覆槽内；基板支架，其构成为在使被镀覆面朝向下方的状态下保持基板；搅拌桨，其配置于上述阳极与上述基板之间；搅拌桨驱动机构，其构成为支承上述搅拌桨的基端部，使上述搅拌桨沿着上述基板的被镀覆面往复移动；第1磁铁，其设置于上述搅拌桨；以及第2磁铁，其设置为与上述第1磁铁对置，上述第1磁铁以及上述第2磁铁构成为相互带来磁力，以使上述搅拌桨的上述基端部与前端部之间的中央部接近上述基板的被镀覆面。

附图说明

图1是表示本实施方式的镀覆装置的整体结构的立体图。

图2是表示本实施方式的镀覆装置的整体结构的俯视图。

图3是示意性地表示一个实施方式的镀覆模块的结构的纵剖视图。

图4A是示意性地表示搅拌桨的结构的俯视图。

图4B是示意性地表示搅拌桨的结构的俯视图。

图5是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

图6是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

图7是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

图8是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

图9是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的实施方式进行说明。在以下说明的附图中，对同一或相当的结构要素标注同一附图标记并省略重复的说明。

＜镀覆装置的整体结构＞

图1是表示本实施方式的镀覆装置的整体结构的立体图。图2是表示本实施方式的镀覆装置的整体结构的俯视图。如图1、图2所示，镀覆装置1000具备：装载口100、搬送机器人110、对准器120、预湿模块200、预浸模块300、镀覆模块400、清洗模块500、旋干机600、搬送装置700以及控制模块800。

装载口100是用于向镀覆装置1000搬入收纳于未图示的FOUP等盒的基板或者从镀覆装置1000向盒搬出基板的模块。在本实施方式中，4台装载口100沿水平方向排列配置，但装载口100的数量以及配置是任意的。搬送机器人110是用于搬送基板的机器人，构成为在装载口100、对准器120、预湿模块200以及旋干机600之间交接基板。搬送机器人110以及搬送装置700构成为当在搬送机器人110与搬送装置700之间交接基板时，能够经由未图示的临时载置台进行基板的交接。

对准器120是用于使基板的定向平面、凹口等的位置与规定的方向匹配的模块。在本实施方式中，2台对准器120沿水平方向排列配置，但对准器120的数量以及配置是任意的。预湿模块200利用纯水或脱气水等处理液使镀覆处理前的基板的被镀覆面湿润，由此将形成于基板表面的图案内部的空气置换为处理液。预湿模块200构成为实施预湿处理，该预湿处理是在镀覆时将图案内部的处理液置换为镀覆液由此容易向图案内部供给镀覆液的处理。在本实施方式中，2台预湿模块200沿上下方向排列配置，但预湿模块200的数量以及配置是任意的。

预浸模块300构成为实施预浸处理，该预浸处理是利用硫酸、盐酸等处理液将例如形成于镀覆处理前的基板的被镀覆面的晶种层表面等所存在的电阻较大的氧化膜蚀刻除去而对镀覆基底表面进行清洗或使其活性化的处理。在本实施方式中，2台预浸模块300沿上下方向排列配置，但预浸模块300的数量以及配置是任意的。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。在本实施方式中，存在两组沿上下方向排列配置有3台并且沿水平方向排列配置有4台的12台镀覆模块400，从而设置有合计24台镀覆模块400，但镀覆模块400的数量以及配置是任意的。

清洗模块500构成为为了除去残留于镀覆处理后的基板的镀覆液等而对基板进行清洗处理。在本实施方式中，2台清洗模块500沿上下方向排列配置，但清洗模块500的数量以及配置是任意的。旋干机600是用于使清洗处理后的基板高速旋转并干燥的模块。在本实施方式中，2台旋干机沿上下方向排列配置，但旋干机的数量以及配置是任意的。搬送装置700是用于在镀覆装置1000内的多个模块之间搬送基板的装置。控制模块800构成为控制镀覆装置1000的多个模块，例如能够由具备与操作人员之间的输入输出接口的通常的计算机或专用计算机构成。

对镀覆装置1000的一系列的镀覆处理的一个例子进行说明。首先，向装载口100搬入收纳于盒的基板。接着，搬送机器人110从装载口100的盒取出基板，并向对准器120搬送基板。对准器120使基板的定向平面、凹口等的位置与规定的方向匹配。搬送机器人110将由对准器120匹配了方向的基板向预湿模块200交接。

预湿模块200对基板实施预湿处理。搬送装置700将实施了预湿处理的基板向预浸模块300搬送。预浸模块300对基板实施预浸处理。搬送装置700将实施了预浸处理的基板向镀覆模块400搬送。镀覆模块400对基板实施镀覆处理。

搬送装置700将实施了镀覆处理的基板向清洗模块500搬送。清洗模块500对基板实施清洗处理。搬送装置700将实施了清洗处理的基板向旋干机600搬送。旋干机600对基板实施干燥处理。搬送机器人110从旋干机600接收基板，将实施了干燥处理的基板向装载口100的盒搬送。最后，从装载口100搬出收纳有基板的盒。

＜镀覆模块的结构＞

接下来，对镀覆模块400的结构进行说明。本实施方式中的24台镀覆模块400为同一结构，因此，仅对1台镀覆模块400进行说明。图3是示意性地表示一个实施方式的镀覆模块的结构的纵剖视图。

如图3所示，镀覆模块400具备用于收容镀覆液的镀覆槽410。镀覆模块400具备将镀覆槽410的内部在上下方向隔开的隔膜420。镀覆槽410的内部被隔膜420分隔为阴极区域422和阳极区域424。

在阴极区域422和阳极区域424分别填充有镀覆液。镀覆模块400具备朝向阴极区域422开口的喷嘴426和用于经由喷嘴426向阴极区域422供给镀覆液的供给源428。镀覆模块400针对阳极区域424也同样具备用于向阳极区域424供给镀覆液的机构，但省略图示。在阳极区域424的镀覆槽410的底面设置有阳极430。在阴极区域422与隔膜420对置地配置有电阻体450。电阻体450是用于实现基板Wf的被镀覆面Wf-a中的镀覆处理的均匀化的部件，由形成有多个孔的板状部件构成。

此外，镀覆模块400具备基板支架440，该基板支架440用于在使被镀覆面Wf-a朝向下方的状态下保持基板Wf。基板支架440具备用于从未图示的电源向基板Wf供电的供电接点。基板支架440具备：密封圈支架442，其用于支承基板Wf的被镀覆面Wf-a的外缘部；和框架446，其用于将密封圈支架442保持于未图示的基板支架主体。此外，基板支架440具备：背板444，其用于按压基板Wf的被镀覆面Wf-a的背面；和轴体448，其安装于背板444的基板按压面的背面。

镀覆模块400具备：升降机构443，其用于使基板支架440升降；和旋转机构447，其用于使基板支架440旋转，以便基板Wf绕轴体448的假想轴(在使被镀覆面Wf-a的中央垂直地延伸的假想的旋转轴)旋转。升降机构443以及旋转机构447能够通过例如马达等公知的机构来实现。镀覆模块400构成为使用升降机构443将基板Wf浸渍于阴极区域422的镀覆液中，并在阳极430与基板Wf之间施加电压，从而对基板Wf的被镀覆面Wf-a实施镀覆处理。

此外，镀覆模块400具备搅拌桨460，该搅拌桨460配置于阳极430与基板Wf之间，具体而言配置于电阻体450与基板Wf之间。搅拌桨460与基板Wf的被镀覆面Wf-a对置配置。镀覆模块400具备驱动机构462，该驱动机构462用于物理地支承搅拌桨460的基端部460A，并且使搅拌桨460沿着基板Wf的被镀覆面Wf-a往复移动。驱动机构462能够通过例如马达等公知的机构来实现。

图4A以及图4B是示意性地表示搅拌桨的结构的俯视图。如图4A所示，搅拌桨460能够由通过将多个棒状部件460a配置为格子状而形成了多个孔460b的板部件构成。搅拌桨460构成为具有基端部460A、与基端部460A相反侧的前端部460B、及基端部460A与前端部460B之间的中央部460C。此外，如图4B所示，搅拌桨460也能够由形成有蜂窝状的多个孔460c的板部件构成。利用驱动机构462使搅拌桨460往复移动，由此能够对基板Wf的被镀覆面Wf-a的附近的镀覆液进行搅拌，促进镀覆处理。另外，在图4A以及图4B中，示出在俯视时搅拌桨460为矩形形状的情况，但不局限于此，搅拌桨460的形状是任意的。

图5是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。图5将图3中的虚线α的部分放大而示意性地表示。如图5所示，镀覆模块400具备设置于搅拌桨460的第1磁铁464、和与第1磁铁464对置设置的第2磁铁468。

更具体而言，第1磁铁464包括设置于搅拌桨460的前端部460B的前端磁铁部464B。前端磁铁部464B具有沿着搅拌桨460的延伸方向配置的前端内侧磁铁部464B-1以及前端外侧磁铁部464B-2。前端内侧磁铁部464B-1设置于与搅拌桨460的最前端的内侧对应的位置，并在下部配置有N极，在上部配置有S极。前端外侧磁铁部464B-2设置于与搅拌桨460的最前端对应的位置，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

此外，第2磁铁468以与第1磁铁464的下表面对置的方式设置于镀覆槽410。第2磁铁468包括第1内侧磁铁部468B-1，该第1内侧磁铁部468B-1构成为带来升高前端内侧磁铁部464B-1的磁力。具体而言，第1内侧磁铁部468B-1构成为，在上部配置有与前端内侧磁铁部464B-1的下部(N极)相同的极(N极)，在下部配置有S极。第1内侧磁铁部468B-1固定于镀覆槽410，第1内侧磁铁部468B-1与前端内侧磁铁部464B-1相互排斥，由此产生升高前端内侧磁铁部464B-1的磁力。

第2磁铁468包括第1外侧磁铁部468B-2，该第1外侧磁铁部468B-2构成为带来降低前端外侧磁铁部464B-2的磁力。具体而言，第1外侧磁铁部468B-2构成为，在上部配置有与前端外侧磁铁部464B-2的下部(N极)相反的极(S极)，在下部配置有N极。第1外侧磁铁部468B-2固定于镀覆槽410，第1外侧磁铁部468B-2与前端外侧磁铁部464B-2相互吸引，由此产生降低第1外侧磁铁部468B-2的磁力。

由此，如图5所示，产生降低搅拌桨460的最前端的磁力以及升高最前端的内侧的磁力，因此产生提升搅拌桨460的中央部460C的力。其结果，能够抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下。即，搅拌桨460由于厚度相对于从基端部460A向前端部460B的长度而较小，因此搅拌桨460容易因重力而挠曲。特别是，在使用刚性低的树脂作为搅拌桨460的材料的情况下，即便物理地支承搅拌桨460的基端部460A，并且通过磁力来支承前端部460B的垂下，也存在中央部460C向电阻体450侧垂下的担忧。相对于此，在本实施方式中，第1磁铁464与第2磁铁468构成为相互带来磁力，以使搅拌桨460的中央部460C接近基板Wf的被镀覆面Wf-a。由此，能够抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下，其结果，能够抑制搅拌桨460与电阻体450干涉而产生颗粒的情况。

提升搅拌桨460的中央部460C的力依赖于在第1磁铁464与第2磁铁468之间作用的磁力。通过调整在两者作用的磁力，能够如图5所示将搅拌桨460保持为大致水平。此外，通过进一步增强在两者作用的磁力，如图5中虚线β所示那样，能够以搅拌桨460的中央部460C向基板Wf的被镀覆面Wf-a侧突出的方式将搅拌桨460保持为弓形的形状。由此，搅拌桨460接近基板Wf的被镀覆面Wf-a，因此能够提高被镀覆面Wf-a附近的镀覆液的搅拌作用。特别是，如本实施方式那样，在采用具有对被镀覆面Wf-a的外缘部进行支承的密封圈支架442的基板支架440的情况下，若使搅拌桨460整体接近被镀覆面Wf-a，则搅拌桨460与密封圈支架442的干涉成为问题。在这点，如本实施方式那样，通过使搅拌桨460成为弓形形状，能够避免与密封圈支架442的干涉并且使搅拌桨460接近被镀覆面Wf-a。

接下来，对镀覆模块400的变形例进行说明。图6是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。图6所示的镀覆模块400具备与图5所示的镀覆模块400相同的结构，进一步在搅拌桨460的基端部460A侧也设置磁铁这点不同。省略对与图5相同的结构的说明。

如图6所示，第1磁铁464进一步具备在搅拌桨460的基端部460A设置的基端磁铁部464A。基端磁铁部464A具有沿着搅拌桨460的延伸方向配置的基端内侧磁铁部464A-1以及基端外侧磁铁部464A-2。基端内侧磁铁部464A-1设置于与搅拌桨460的最基端的内侧对应的位置，在下部配置有N极，在上部配置有S极。基端外侧磁铁部464A-2设置于与搅拌桨460的最基端对应的位置，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

此外，第2磁铁468包括第2内侧磁铁部468A-1，该第2内侧磁铁部468A-1构成为带来升高基端内侧磁铁部464A-1的磁力。具体而言，第2内侧磁铁部468A-1构成为，在上部配置有与基端内侧磁铁部464A-1的下部(N极)相同的极(N极)，在下部配置有S极。第2内侧磁铁部468A-1固定于镀覆槽410，第2内侧磁铁部468A-1与基端内侧磁铁部464A-1相互排斥，由此产生升高第2内侧磁铁部468A-1的磁力。

第2磁铁468包括第2外侧磁铁部468A-2，该第2外侧磁铁部468A-2构成为带来降低基端外侧磁铁部464A-2的磁力。具体而言，第2外侧磁铁部468A-2构成为，在上部配置有与基端外侧磁铁部464A-2的下部(N极)相反的极(S极)，在下部配置有N极。第2外侧磁铁部468A-2固定于镀覆槽410，第2外侧磁铁部468A-2与基端外侧磁铁部464A-2相互吸引，由此产生降低第2外侧磁铁部468A-2的磁力。

不仅在搅拌桨460的前端部460B侧，在基端部460A侧也产生降低搅拌桨460的最基端的磁力以及升高最基端的内侧的磁力，因此以使搅拌桨460的中央部460C接近基板Wf的被镀覆面Wf-a的方式作用磁力。其结果，能够更强地抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下。

接下来，对镀覆模块400的变形例进行说明。图7是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。在图5以及图6所示的实施方式中，第2磁铁468以与第1磁铁464的下表面对置的方式设置于镀覆槽410，但除此之外，也可以以与第1磁铁464的上表面对置的方式设置于镀覆槽410。以下，对这点进行说明。

如图7所示，在本实施方式中，前端内侧磁铁部464B-1构成为，在下部配置有S极，在上部配置有N极。前端外侧磁铁部464B-2构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

此外，第2磁铁468以在上下方向上夹着前端磁铁部464B的方式，换言之以与前端磁铁部464B的上表面以及下表面对置的方式设置于镀覆槽410。具体而言，与前端内侧磁铁部464B-1的下表面对置的第1内侧磁铁部468B-1构成为，在上部配置有与前端内侧磁铁部464B-1的下部(S极)相同的极(S极)，在下部配置有N极。与前端内侧磁铁部464B-1的上表面对置的第1内侧磁铁部468B-1′构成为，在下部配置有与前端内侧磁铁部464B-1的上部(N极)相反的极(S极)，在上部配置有N极。由此，作用升高前端内侧磁铁部464B-1的磁力。

此外，与前端外侧磁铁部464B-2的下表面对置的第1外侧磁铁部468B-2构成为，在上部配置有与前端外侧磁铁部464B-2的下部(N极)相反的极(S极)，在下部配置有N极。与前端外侧磁铁部464B-2的上表面对置的第1外侧磁铁部468B-2′构成为，在下部配置有与前端外侧磁铁部464B-2的上部(S极)相同的极(S极)，在上部配置有N极。由此，作用降低前端外侧磁铁部464B-2的磁力。

此外，在本实施方式中，基端内侧磁铁部464A-1构成为，在下部配置有S极，在上部配置有N极。基端外侧磁铁部464A-2构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

第2磁铁468以在上下方向上夹着基端磁铁部464A的方式，换言之以与基端磁铁部464A的上表面以及下表面对置的方式设置于镀覆槽410。具体而言，与基端内侧磁铁部464A-1的下表面对置的第2内侧磁铁部468A-1构成为，在上部配置有与基端内侧磁铁部464A-1的下部(S极)相同的极(S极)，在下部配置有N极。与基端内侧磁铁部464A-1的上表面对置的第2内侧磁铁部468A-1′构成为，在下部配置有与基端内侧磁铁部464A-1的上部(N极)相反的极(S极)，在上部配置有N极。由此，作用升高基端内侧磁铁部464A-1的磁力。

此外，与基端外侧磁铁部464A-2的下表面对置的第1外侧磁铁部468A-2构成为，在上部配置有与基端外侧磁铁部464A-2的下部(N极)相反的极(S极)，在下部配置有N极。与基端外侧磁铁部464A-2的上表面对置的第2外侧磁铁部468A-2′构成为，在下部配置有与基端外侧磁铁部464A-2的上部(S极)相同的极(S极)，在上部配置有N极。由此，作用降低基端外侧磁铁部464A-2的磁力。

如以上那样，根据本实施方式，第2磁铁468不仅配置于前端磁铁部464B以及基端磁铁部464A的下部还配置于上部。因此，以使搅拌桨460的中央部460C接近基板Wf的被镀覆面Wf-a的方式作用较强的磁力，因此能够更强地抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下。

另外，在本实施方式中，第2磁铁468包括前端对置磁铁部468C，该前端对置磁铁部468C在搅拌桨460的延伸方向上与前端磁铁部464B(前端外侧磁铁部464B-2)对置地设置于镀覆槽410。前端对置磁铁部468C构成为带来相对于前端磁铁部464B排斥的磁力。具体而言，前端对置磁铁部468C构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。前端外侧磁铁部464B-2构成为，也在下部配置有N极，在上部配置有S极。因此，在前端对置磁铁部468C与前端外侧磁铁部464B-2之间产生相互排斥的磁力，因此能够助长使搅拌桨460成为弓形形状的力。另外，前端对置磁铁部468C不局限于本实施方式，能够应用于图5、图6或图8所示的实施方式。

接下来，对镀覆模块400的变形例进行说明。图8是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

在本实施方式中，第1磁铁464具有设置于搅拌桨460的前端部460B的前端磁铁部464B、设置于搅拌桨460的基端部460A的基端磁铁部464A以及设置于搅拌桨460的中央部460C的中央磁铁部464C。具体而言，前端磁铁部464B构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。基端磁铁部464A构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。中央磁铁部464C构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

第2磁铁468具有第1镀覆槽磁铁部468D，该第1镀覆槽磁铁部468D以带来降低前端磁铁部464B的磁力的方式设置于镀覆槽410。第1镀覆槽磁铁部468D以与前端磁铁部464B的上表面对置的方式配置于镀覆槽410。第1镀覆槽磁铁部468D构成为，在下部配置有与前端磁铁部464B的上部(S极)相同的极(S极)，在上部配置有N极。第1镀覆槽磁铁部468D固定于镀覆槽410，第1镀覆槽磁铁部468D与前端磁铁部464B相互排斥，由此产生降低前端磁铁部464B的磁力。

第2磁铁468具有第2镀覆槽磁铁部468E，该第2镀覆槽磁铁部468E以带来降低基端磁铁部464A的磁力的方式设置于镀覆槽410。第2镀覆槽磁铁部468E以与基端磁铁部464A的上表面对置的方式配置于镀覆槽410。第2镀覆槽磁铁部468E构成为，在下部配置有与基端磁铁部464A的上部(S极)相同的极(S极)，在上部配置有N极。第2镀覆槽磁铁部468E固定于镀覆槽410，第2镀覆槽磁铁部468E与基端磁铁部464A相互排斥，由此产生降低基端磁铁部464A的磁力。

第2磁铁468具有电阻体磁铁部468F，该电阻体磁铁部468F以带来升高中央磁铁部464C的磁力的方式设置于电阻体450。电阻体磁铁部468F以与中央磁铁部464C的下表面对置的方式配置于电阻体450。电阻体磁铁部468F构成为，在下部配置有与中央磁铁部464C的下部(N极)相同的极(N极)，在上部配置有S极。电阻体磁铁部468F固定于电阻体450，电阻体磁铁部468F与中央磁铁部464C相互排斥，由此产生升高中央磁铁部464C的磁力。通过像这样降低搅拌桨460的前端部460B以及基端部460A并升高中央部460C，能够抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下。

此外，在本实施方式中，如图8所示，镀覆装置1000具备传感器480，上述传感器480在搅拌桨460的延伸方向上与搅拌桨460的前端部460B对置设置。传感器480是构成为对与搅拌桨460的前端部460B之间的距离进行测量的距离传感器。传感器480能够使用光学式、电波式或超声波式等公知的传感器。

若由传感器480测量出的与搅拌桨460的前端部460B之间的距离比预先设定的阈值大，则镀覆装置1000能够产生警报。即，通过设置第1磁铁464和第2磁铁468，产生抑制搅拌桨460的中央部460C向电阻体450侧垂下的磁力，若该磁力变强则如虚线β所示搅拌桨460以向上侧突出的方式成为弓形。随着该磁力进一步变强，搅拌桨460的前端部460B向远离传感器480的方向移动。换言之，传感器480与搅拌桨460的前端部460B之间的距离随着搅拌桨460的中央部460C以向基板Wf的被镀覆面Wf-a侧突出的方式成为弓形而变大。若搅拌桨460超过预先设定的范围而成为弓形，则存在搅拌桨460与基板Wf的被镀覆面Wf-a接触的担忧。因此，若传感器480与搅拌桨460的前端部460B之间的距离大于预先设定的阈值，则镀覆装置1000产生警报，由此能够提示作业人员进行装置的停止以及检查等。另外，传感器480不局限于本实施方式，能够应用于图5～图7所示的实施方式。

接下来，对镀覆模块400的变形例进行说明。图9是将一个实施方式的镀覆模块的结构的一部分放大而示意性地表示的纵剖视图。

在本实施方式中，第1磁铁464包括设置于搅拌桨460的前端部460B的前端磁铁部464B。具体而言，前端磁铁部464B构成为，在下部配置有N极，在上部配置有S极。

第2磁铁468包括第3镀覆槽磁铁部468G，该第3镀覆槽磁铁部468G在搅拌桨460的延伸方向上与前端磁铁部464B对置地设置于镀覆槽410。第3镀覆槽磁铁部468G构成为带来与前端磁铁部464B相互吸引的磁力。具体而言，第3镀覆槽磁铁部468G构成为，在下部配置有S极，在上部配置有N极。因此，在第3镀覆槽磁铁部468G与前端磁铁部464B之间产生相互吸引的磁力。第3镀覆槽磁铁部468G固定于镀覆槽410，因此前端磁铁部464B向接近第3镀覆槽磁铁部468G的方向被吸引。其结果，能够消除因重力产生的搅拌桨460的挠曲，因此能够抑制搅拌桨460的中央部460C垂下。

以上，对几个本发明的实施方式进行了说明，但上述的发明的实施方式是用于容易理解本发明的，不是对本发明进行限定。本发明能够不脱离其主旨地进行变更、改进，并且本发明包含其等效物是不言而喻的。此外，在能够解决上述的课题的至少一部分的范围内或起到效果的至少一部分的范围内能够进行权利要求书以及说明书所记载的各结构要素的任意组合或省略。

本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，包括：镀覆槽，其用于收容镀覆液；阳极，其配置于上述镀覆槽内；基板支架，其构成为在使被镀覆面朝向下方的状态下保持基板；搅拌桨，其配置于上述阳极与上述基板之间；搅拌桨驱动机构，其支承上述搅拌桨的基端部，使上述搅拌桨沿着上述基板的被镀覆面往复移动；第1磁铁，其设置于上述搅拌桨；以及第2磁铁，其设置为与上述第1磁铁对置，上述第1磁铁以及上述第2磁铁构成为相互带来磁力，以使上述搅拌桨的上述基端部与前端部之间的中央部接近上述基板的被镀覆面。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，上述第1磁铁包括前端磁铁部，上述前端磁铁部设置于上述搅拌桨的上述前端部，且具有沿着上述搅拌桨的延伸方向配置的前端内侧磁铁部以及前端外侧磁铁部，上述第2磁铁包括以带来升高上述前端内侧磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第1内侧磁铁部、和以带来降低上述前端外侧磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第1外侧磁铁部。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，上述第1磁铁进一步包括基端磁铁部，上述基端磁铁部设置于上述搅拌桨的上述基端部，且具有沿着上述搅拌桨的延伸方向配置的基端内侧磁铁部以及基端外侧磁铁部，上述第2磁铁进一步包括以带来升高上述基端内侧磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第2内侧磁铁部、和以带来降低上述基端外侧磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第2外侧磁铁部。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，进一步包括配置于上述阳极与上述搅拌桨之间的电阻体，上述第1磁铁具有设置于上述搅拌桨的上述前端部的前端磁铁部、设置于上述搅拌桨的上述基端部的基端磁铁部以及设置于上述搅拌桨的上述中央部的中央磁铁部，上述第2磁铁具有以带来降低上述前端磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第1镀覆槽磁铁部、以带来降低上述基端磁铁部的磁力的方式设置于上述镀覆槽的第2镀覆槽磁铁部以及以带来升高上述中央磁铁部的磁力的方式设置于上述电阻体的电阻体磁铁部。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，上述第2磁铁包括前端对置磁铁部，上述前端对置磁铁部构成为在上述搅拌桨的延伸方向上与上述前端磁铁部对置地设置于上述镀覆槽，带来相对于上述前端磁铁部排斥的磁力。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，进一步包括传感器，上述传感器构成为在上述搅拌桨的延伸方向上与上述搅拌桨的上述前端部对置地设置，对与上述搅拌桨的上述前端部之间的距离进行测量。

另外，本申请作为一个实施方式而公开一种镀覆装置，上述第1磁铁包括设置于上述搅拌桨的上述前端部的前端磁铁部，上述第2磁铁包括第3镀覆槽磁铁部，上述第3镀覆槽磁铁部构成为在上述搅拌桨的延伸方向上与上述前端磁铁部对置地设置于上述镀覆槽，带来与上述前端磁铁部相互吸引的磁力。

附图标记说明

400...镀覆模块；410...镀覆槽；430...阳极；440...基板支架；450...电阻体；460...搅拌桨；460A...基端部；460B...前端部；460C...中央部；462...驱动机构；464...第1磁铁；464A...基端磁铁部；464A-1...基端内侧磁铁部；464A-2...基端外侧磁铁部；464B...前端磁铁部；464B-1...前端内侧磁铁部；464B-2...前端外侧磁铁部；464C...中央磁铁部；468...第2磁铁；468A-1...第2内侧磁铁部；468A-2...第2外侧磁铁部；468B-1...第1内侧磁铁部；468B-2...第1外侧磁铁部；468C...前端对置磁铁部；468D...第1镀覆槽磁铁部；468E...第2镀覆槽磁铁部；468F...电阻体磁铁部；468G...第3镀覆槽磁铁部；480...传感器；1000...镀覆装置；Wf...基板；Wf-a...被镀覆面。

Claims (7)

1.一种镀覆装置，其特征在于，包括：

镀覆槽，所述镀覆槽用于收容镀覆液；

阳极，所述阳极配置于所述镀覆槽内；

基板支架，所述基板支架构成为在使被镀覆面朝向下方的状态下保持基板；

搅拌桨，所述搅拌桨配置于所述阳极与所述基板之间；

搅拌桨驱动机构，所述搅拌桨驱动机构构成为支承所述搅拌桨的基端部，使所述搅拌桨沿着所述基板的被镀覆面往复移动；

第1磁铁，所述第1磁铁设置于所述搅拌桨；以及

第2磁铁，所述第2磁铁设置为与所述第1磁铁对置，

所述第1磁铁以及所述第2磁铁构成为相互带来磁力，以使所述搅拌桨的所述基端部与前端部之间的中央部接近所述基板的被镀覆面。

2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

所述第1磁铁包括前端磁铁部，所述前端磁铁部设置于所述搅拌桨的所述前端部，且具有沿着所述搅拌桨的延伸方向配置的前端内侧磁铁部以及前端外侧磁铁部，

所述第2磁铁包括以带来升高所述前端内侧磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第1内侧磁铁部、和以带来降低所述前端外侧磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第1外侧磁铁部。

3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，

所述第1磁铁进一步包括基端磁铁部，所述基端磁铁部设置于所述搅拌桨的所述基端部，且具有沿着所述搅拌桨的延伸方向配置的基端内侧磁铁部以及基端外侧磁铁部，

所述第2磁铁进一步包括以带来升高所述基端内侧磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第2内侧磁铁部、和以带来降低所述基端外侧磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第2外侧磁铁部。

4.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

进一步包括配置于所述阳极与所述搅拌桨之间的电阻体，

所述第1磁铁具有设置于所述搅拌桨的所述前端部的前端磁铁部、设置于所述搅拌桨的所述基端部的基端磁铁部以及设置于所述搅拌桨的所述中央部的中央磁铁部，

所述第2磁铁具有以带来降低所述前端磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第1镀覆槽磁铁部、以带来降低所述基端磁铁部的磁力的方式设置于所述镀覆槽的第2镀覆槽磁铁部以及以带来升高所述中央磁铁部的磁力的方式设置于所述电阻体的电阻体磁铁部。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的镀覆装置，其特征在于，

所述第2磁铁包括前端对置磁铁部，所述前端对置磁铁部构成为在所述搅拌桨的延伸方向上与所述前端磁铁部对置地设置于所述镀覆槽，带来相对于所述前端磁铁部排斥的磁力。

6.根据权利要求2～4中任一项所述的镀覆装置，其特征在于，

进一步包括传感器，所述传感器构成为在所述搅拌桨的延伸方向上与所述搅拌桨的所述前端部对置地设置，对与所述搅拌桨的所述前端部之间的距离进行测量。

7.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，

所述第1磁铁包括设置于所述搅拌桨的所述前端部的前端磁铁部，

所述第2磁铁包括第3镀覆槽磁铁部，所述第3镀覆槽磁铁部构成为在所述搅拌桨的延伸方向上与所述前端磁铁部对置地设置于所述镀覆槽，带来与所述前端磁铁部相互吸引的磁力。