CN117425632A - 防反射玻璃 - Google Patents

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Abstract

一种防反射玻璃，其依次包含玻璃基板、防反射膜和保护层，前述防反射膜从前述玻璃基板侧起以折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm的中低折射率层、折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm的中折射率层、折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm的高折射率层、折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm的低折射率层的顺序构成，该高折射率层的折射率高于中折射率层的折射率，前述保护层的折射率为1.43～1.48、层厚为20～30nm，前述高折射率层、低折射率层和保护层含有(A)铝盐水合物，波长380～780nm下的两面的平均光反射比为0.6％以下、波长380～780nm下的平均光透射比为98％以上，该防反射玻璃具有高度的防反射性能、耐碱性优异、适用于防反射强化玻璃的制造。

Description

防反射玻璃
技术领域
本发明涉及适用于防反射强化玻璃的制造的、被赋予了高度的防反射性能的防反射玻璃。
背景技术
玻璃的强度提高了的强化玻璃被广泛用于汽车、房屋的窗玻璃等用途，最近也被用于静电电容式触摸面板的整面保护面板、数字照相机、便携式电话等各种移动设备的显示器等用途。
后者用途的强化玻璃的形状小且复杂，需要切断、端面加工、开孔加工等形状加工。但是，强化后这些形状加工难以进行，因此预先将玻璃基板加工为最终的产品形状后进行强化处理。
作为玻璃的强化方法，已知利用骤冷的物理强化法、利用离子交换的化学强化法。物理强化法将厚度为数mm以上的玻璃作为对象、对于厚度薄的玻璃基板没有效果。因此对于上述保护面板、显示器等薄壁玻璃，通常采用化学强化法。
利用离子交换的化学强化法通过将玻璃中含有的小的离子半径的金属离子(例如钠离子)利用更大的离子半径的金属离子(例如钾离子)置换来进行。即，通过将离子半径小的金属离子利用具有大于其的离子半径的金属离子置换，在玻璃表面形成压缩应力层。
其结果，对于破坏该玻璃而言，除了破坏分子之间的键合的力之外，还需要去除表面的压缩应力的力，与通常的玻璃相比，其强度当然显著改善。
然而，即使是通过利用离子交换的化学处理进行了强化的强化玻璃，有时也要求防反射功能等其他功能，特别是对前述的保护面板、各种显示器等要求高的防反射功能。
为了赋予防反射功能，若在玻璃表面形成低折射率的防反射膜即可。作为这种防反射膜的形成手段，已知大致分为蒸镀法和利用溶胶凝胶法的方法。
蒸镀法由于需要成本极高的装置，工业上不太实施，现在涂布含有微细颗粒的涂覆液、通过利用加热处理进行的凝胶化而形成防反射膜的溶胶凝胶法，由于生产成本低、生产也高而成为主流。
作为利用这种溶胶凝胶法形成的防反射膜，例如已知含有硅化合物的水解缩合物、金属螯合物化合物、和低折射率的二氧化硅颗粒的防反射膜(参照专利文献1)。
在通过化学处理得到的强化玻璃的表面形成防反射膜存在必须解决的大的问题。
以往，形成防反射膜后，由于不能使钾离子渗透到玻璃内部而不能进行强化处理，需要对经过形状加工接着经过强化处理的各产品进行防反射膜的形成。此时，能够实现大面积处理的溶胶凝胶法的优点完全失去、生产率显著降低。
为了解决上述问题，提出了在形成防反射膜后通过化学处理进行玻璃强化的方法。
其中之一为利用形成于表面的防反射膜中含有的无机细颗粒的、颗粒与颗粒的间隙空间(以下称为空隙)、进行离子交换进行玻璃强化的方法(专利文献2)。但是，该方法中存在难以控制能够进行离子交换的空隙这种问题。
对于上述问题，提出了，并非利用颗粒与颗粒的空隙、而是使用内部具有空间的中空颗粒借由该内部空间进行离子交换的方法(专利文献3)。该方法由于利用预先具有规定的空间体积的颗粒，与上述空隙法相比，离子交换的条件设定容易。但是另一方面，中空的无机颗粒大都不存在或工业上的制法受限，因此可以利用的无机颗粒的种类受限。
而防反射膜，为了改善其防反射性能，开发了除了低折射率层之外还设置有高折射率层、进而中折射率层的多层防反射膜。
这些高折射率层、中折射率层中，为了表现出规定的折射率，必须配混与二氧化硅颗粒相比高折射率的氧化锆颗粒、氧化钛颗粒。但是，对于这些高折射率颗粒而言，难以获得中空的颗粒，因此不能进行前述的利用颗粒的内部空间的离子交换，防反射膜为多层的情况下，在通常的条件下形成防反射膜后利用通过多层折射率层的离子交换进行玻璃强化处理是困难的。
本申请发明人等首先深入研究并提出了具有这种包含多层的防反射膜的防反射强化玻璃的制造方法(专利文献4)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-221602号公报
专利文献2：日本特开2002-234754号公报
专利文献3：日本特开2011-88765号公报
专利文献4：日本特开2017-178634号公报
发明内容
发明要解决的问题
本申请发明人等在防反射强化玻璃的开发过程中面临以下的问题。
对于强化玻璃，将为了改善强化玻璃与防反射膜的密合性而附着于玻璃表面的有机/无机物质的去除作为目的、进而将防止产品化后强化玻璃发生磨砂玻璃化而失去透明性(防止烧伤)作为目的，需要碱清洗工序。进而另外，以玻璃强化时所附着的杂质等的去除等各种目的，进行碱清洗。
作为烧伤，具体而言有：由于空气中的水分侵蚀所导致的玻璃表面的碱离子缺乏现象、即发青；和由于玻璃表面的含有碱离子的水分的干燥浓缩和二氧化碳而生成碳酸化合物等的现象、即发白。这些烧伤为若一旦产生则只要不进行物理的表面研磨就难以修复的现象。
但是由于进行该碱清洗，产生形成于玻璃表面的防反射膜受到损伤、形成斑驳状、变得不均匀或膜厚减少、没有表现出所希望的防反射性能、或者颜色变化而失去产品价值这种问题。
用于解决问题的方案
本申请发明人等研究防反射膜的由于碱清洗所导致的劣化原因，结果发现，通过在防反射膜中存在铝盐水合物、可以表现出耐碱性而防止防反射膜的劣化，从而完成了本发明。
即，通过本发明提供一种防反射玻璃，其特征在于，其依次包含玻璃基板、防反射膜和保护层，
前述防反射膜从前述玻璃基板侧起以
折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm的中低折射率层、
折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm的中折射率层、
折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm的高折射率层、
折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm的低折射率层
的顺序构成，该高折射率层的折射率高于中折射率层的折射率，
前述保护层的折射率为1.43～1.48、层厚为20～30nm，
前述高折射率层、低折射率层和保护层含有(A)铝盐水合物，
波长380～780nm下的两面的平均光反射比为0.6％以下、波长380～780nm下的平均光透射比为98％以上。
上述防反射玻璃的发明中，优选：
1)进一步地，前述中低折射率层和中折射率层含有(A)铝盐水合物；
2)前述保护层由保护层组合物的固化物形成，所述保护层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份和(C)金属螯合物化合物1～20质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)；
3)前述低折射率层由低折射率层组合物的固化物形成，所述低折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份、(C)金属螯合物化合物1～20质量份和(D)二氧化硅颗粒25～90质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)；
4)前述高折射率层由高折射率层组合物的固化物形成，所述高折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物1～15质量份和(E)金属氧化物颗粒40～130质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)；
5)前述中折射率层由中折射率层组合物的固化物形成，所述中折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物1～15质量份和(E)金属氧化物颗粒40～130质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)；
6)前述中低折射率层由中低折射率层组合物的固化物形成，所述中低折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份、(C)金属螯合物化合物1～20质量份和(D)二氧化硅颗粒25～90质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)；
7)前述玻璃基板为碱铝硅酸盐玻璃；
8)前述防反射玻璃为耐碱性化学强化用防反射玻璃。
需要说明的是，上述各层的二氧化硅颗粒的质量份为实心二氧化硅颗粒和中空二氧化硅颗粒中的任意一者或总计值。另外，上述各层的金属氧化物颗粒的质量份可以为一种金属氧化物颗粒的质量份的值、也可以为两种以上的不同种类的金属氧化物颗粒的质量份的总计值。
进而发明提供一种防反射强化玻璃的制造方法，其特征在于，其包括对上述防反射玻璃在离子交换用金属盐熔解液中进行化学强化处理的工序；和在该化学处理工序的前工序或后工序进行碱清洗的工序。
发明的效果
利用本发明提供的防反射玻璃合适地用于具有高度的防反射性能的防反射强化玻璃的制造。具体而言，在玻璃基板表面形成防反射膜后能够通过碱清洗以及一次性强化处理进行玻璃强化，对于平滑且透明性优异的高品质的防反射强化玻璃的工业上的制造而言是有用的。
利用化学处理进行的玻璃强化能够利用中空二氧化硅颗粒等的内部空洞或氧化物颗粒与颗粒的间隙空间、通过一次性处理进行强化。进而，该防反射玻璃由于耐碱性优异，因此即使经过玻璃表面的平滑化、防止烧伤所需要的碱清洗工序，也可以防止由于防反射膜的不均匀化、膜厚的减少而产生的防反射性能降低。
其结果，可以生产率极高、且低成本地制造具有高度的防反射性能并且平滑性优异、没有透明性降低的高品质的防反射强化玻璃产品。所得到的防反射强化玻璃由于具有包含多层的防反射膜，反射率低并且对于宽范围的波长的光的防反射性能优异。
这种防反射强化玻璃产品合适地用于玻璃基板薄的产品、例如静电电容式触摸面板的前面保护面板、数字照相机、便携式电话等各种移动设备的显示器等用途。
具体实施方式
＜防反射玻璃＞
本发明的防反射玻璃基本由玻璃基板、防反射膜和保护层构成，以该顺序层叠而成。
前述防反射膜从前述玻璃基板侧起以
折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm的中低折射率层、
折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm的中折射率层、
折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm的高折射率层、
折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm的低折射率层
的顺序构成，该高折射率层的折射率被设定得高于中折射率层的折射率。
该保护层的折射率为1.43～1.48、层厚为20～30nm。
该防反射玻璃具有波长380～780nm下的两面的平均光反射比为0.6％以下、波长380～780nm下的平均光透射比为98％以上这种特征。
本发明的最大特征在于，在前述高折射率层、低折射率层和保护层含有(A)铝盐水合物。通过在这些层含有(A)铝盐水合物，表现出防反射玻璃的耐碱性，可以防止防反射膜的劣化、损伤。为了赋予耐碱性，若至少在高折射率层、低折射率层和保护层存在(A)铝盐水合物即可，但是进一步地，在中折射率层和中低折射率层也存在的情况下，耐碱性显著改善，因此优选。
＜玻璃基板＞
玻璃基板若为具有能够通过化学处理进行强化的组成的玻璃则没有特别限制，优选为含有离子半径更小的碱金属离子、碱土金属离子的玻璃。
具体而言，可列举出钠钙硅酸盐玻璃、碱铝硅酸盐玻璃、碱硼硅酸盐玻璃等，它们之中，优选为含有钠离子的玻璃，最优选为含有钠离子5重量％以上的玻璃。
从钾离子的置换量多而得到更深的强化层、以及透明性高的观点考虑，优选使用碱铝硅酸盐玻璃。
玻璃基板的厚度通常为2mm～0.2mm。若超过2mm则作为强化玻璃的强度有可能不足，不适于利用离子交换法进行的化学强化。对基板的面积没有特别限制，由最终产品的尺寸、制造工序的限制任意确定。
＜防反射膜＞
在前述玻璃基板上通常层叠防反射膜，但是为了抗静电、防眩性、密合性改善、进而可见区域光不会透过，也可以在玻璃基板与防反射膜之间或下述任意一种的邻接的折射率层与折射率层之间设置抗静电层、二氧化硅颗粒层、底漆层或烟色层(smoke layer)。
本发明中的防反射膜为由具有下述特性的四个折射率层构成的多层防反射膜。
中低折射率层：折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm
中折射率层：折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm
高折射率层：折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm
低折射率层：折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm
需要说明的是，高折射率层的折射率被设定得高于中折射率层的折射率。
上述四个折射率层从玻璃基板侧起以中低折射率层、中折射率层、高折射率层和低折射率层的顺序配置。
通过形成上述四层的防反射膜，防反射玻璃以及防反射强化玻璃的波长380～780nm下的两面的平均光反射比为0.6％以下、波长380～780nm下的平均光透射比为98％以上，能够得到高性能的防反射品。
上述平均光反射比和平均光透射比的各值为玻璃强化前的值，但是玻璃强化后也得到维持、表现。
＜中低折射率层＞
为位于防反射膜的最下层(玻璃基板侧)的折射率层。通常被层叠于玻璃基板上。
中低折射率层的折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm。优选折射率为1.38～1.43、层厚为170～205nm。
中低折射率层由于需要在防反射膜以及保护层形成后通过化学处理进行玻璃强化，因此优选准备含有下述成分的中低折射率层组合物的溶液，覆盖该溶液并干燥、加热来形成。
相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物(以下称为“烷氧基硅烷化合物等”)形成的粘结剂成分100质量份、
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)
(A)铝盐水合物3～25质量份、
(C)金属螯合物化合物1～20质量份、和
(D)二氧化硅颗粒25～90质量份
中低折射率层中不含有(A)铝盐水合物的情况下，只要从上述中低折射率层组合物将(A)铝盐水合物除外即可。
[烷氧基硅烷化合物或其水解物]
为发挥用于对于玻璃基板形成密合性良好且致密、高强度的膜的粘结剂的作用的成分，通过上述式(1)表示。
式中R为烷基、链烯基或烷氧基烷基。
烷基的碳原子数优选为1～9、更优选1～5。作为烷基，可列举出甲基、乙基、三甲基、丙基、丁基、四甲基、戊基、己基等。
链烯基的碳原子数优选为1～9、更优选1～5。作为链烯基，可列举出乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基等。
烷氧基烷基的碳原子数优选为1～9、更优选1～5。作为烷氧基烷基的烷氧基，可列举出甲氧基、乙氧基、丙氧基等。作为烷氧基烷基的烷基，可列举出甲基、乙基、三甲基、丙基、丁基、四甲基、戊基、己基等。
式中，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子。
烷基和烷氧基烷基分别与R相同。
酰氧基的碳原子数优选为1～9、更优选1～5。作为酰氧基，可列举出乙酰氧基、苯甲酰氧基等。
作为卤素原子，可列举出氟、氯、溴、碘等。
[铝盐水合物]
为了本发明的防反射玻璃表现出耐碱性，必须在保护层以及位于反射膜的上层(视野侧)的低折射率层和高折射率层存在该铝盐水合物。进一步地，在位于反射膜的下层(玻璃基板侧)的中折射率层和中低折射率层也存在铝盐水合物的方式由于耐碱性极其升高而优选。
铝盐水合物指的是对铝盐以结晶水、配位水等形式加成水分子而成的水合化合物。在不为水合物的情况下，由于缺乏与其他成分的亲和性，有时会在混合时发生聚集或沉降。特别是在为具有吸湿的性质的无水物盐的情况下，在涂膜时后述的中低折射率组合物溶液会与空气中的水分反应而难以变得均匀，难以形成中低折射率层。另外，利用其他的金属盐水合物时，耐碱性的表现欠缺。其他的折射率层也由于相同的理由而使用铝盐水合物。
推测由于铝是前述粘结剂成分能够进行配位的金属，而且会在折射率层中生成不易被碱侵入的氧化铝，因此表现出耐碱性。
作为铝盐水合物，代表性地可列举出氯化铝三水合物、氯化铝六水合物、溴化铝六水合物、硝酸铝六水合物、硝酸铝九水合物、氢氧化铝三水合物、乙酸铝n水合物、硫酸铝n水合物等，从耐碱性的表现、耐擦伤性的观点考虑，特别优选氯化铝三水合物、氯化铝六水合物。
中低折射率层中含有铝盐水合物的情况下，相对于前述烷氧基硅烷化合物等100质量份设为3～25质量份。低于3质量份的情况下得不到其效果。若超过25质量份则前述烷氧基硅烷化合物等的键合强度和中低折射率层的硬度降低，因此不优选。
[金属螯合物化合物]
为具有作为交联剂的功能的成分，使所形成的折射率层更致密。
该金属螯合物化合物(C)是以双齿配体为代表例的螯合剂配位于钛、锆、铝等金属而成的化合物。
具体而言，可列举出三乙氧基·单(乙酰丙酮)钛、二乙氧基·双(乙酰丙酮)钛、单乙氧基·三(乙酰丙酮)钛、四(乙酰丙酮)钛、三乙氧基·单(乙酰乙酸乙酯)钛、二乙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、单乙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、单(乙酰丙酮)三(乙酰乙酸乙酯)钛、双(乙酰丙酮)双(乙酰乙酸乙酯)钛、三(乙酰丙酮)单(乙酰乙酸乙酯)钛等钛螯合物化合物；
三乙氧基·单(乙酰丙酮)锆、二乙氧基·双(乙酰丙酮)锆、单乙氧基·三(乙酰丙酮)锆、四(乙酰丙酮)锆、三乙氧基·单(乙酰乙酸乙酯)锆、二乙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、单乙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、四(乙酰乙酸乙酯)锆、单(乙酰丙酮)三(乙酰乙酸乙酯)锆、双(乙酰丙酮)双(乙酰乙酸乙酯)锆、三(乙酰丙酮)单(乙酰乙酸乙酯)锆等锆螯合物化合物；
二乙氧基·单(乙酰丙酮)铝、单乙氧基·双(乙酰丙酮)铝、二-异丙氧基·单(乙酰丙酮)铝、单乙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)铝、二乙氧基·单(乙酰乙酸乙酯)铝、三(乙酰丙酮)铝等铝螯合物化合物等。
上述金属螯合物化合物相对于(B)烷氧基硅烷化合物等100质量份使用1～20质量份、优选3～15质量份。若超过20质量份，则金属螯合物化合物在中低折射率层中析出、存在引起防反射性能降低、外观不良的倾向。小于1质量份的情况下，存在中低折射率层的强度、硬度降低的倾向。
[二氧化硅颗粒]
本发明的中低折射率层中，为了将折射率控制于1.36～1.45而使用二氧化硅颗粒。作为该二氧化硅颗粒，使用以下的实心二氧化硅颗粒和中空二氧化硅颗粒这两种二氧化硅颗粒。
实心二氧化硅颗粒代表地为以二氧化硅作为主要成分的、密度为1.9以上、平均粒径为5～500nm、折射率处于1.44～1.5的范围内的内部不具有空洞的颗粒。需要说明的是，本发明中，平均粒径指的是在利用激光衍射/散射法测定的粒度分布中、累积体积为50％时的粒径。
中空二氧化硅颗粒为内部具有空洞的由二氧化硅形成的颗粒，通常为其粒径为5～150nm、外壳层的厚度处于1～15nm左右的范围内的微细的中空颗粒。也为用于利用其内部空洞进行离子交换、形成折射率为1.36～1.45的层而发挥优异的防反射能力的成分。因此，优选选择中空二氧化硅颗粒的折射率处于1.20～1.38的范围的中空二氧化硅颗粒。
该中空二氧化硅颗粒例如通过日本特开2001-233611号公报等而公知，通常以分散于甲醇、乙醇、丙醇等低级醇而成的分散液的状态市售，因此优选获得市售品来利用。
前述二氧化硅颗粒相对于(B)烷氧基硅烷化合物等100质量份为25～90质量份，优选从前述实心二氧化硅颗粒25～60质量份和中空二氧化硅颗粒0～30质量份的范围中考虑到由于热历程所导致的折射率变化、与中折射率层/高折射率层的折射率平衡等以满足前述规定的折射率的方式适当选择来使用。特别是含有实心二氧化硅颗粒从抑制由于热历程所导致的烷氧基硅烷化合物等的收缩的观点考虑优选。
[中低折射率层形成用溶液]
构成中低折射率层的上述各成分与视需要而定的任意成分出于粘度调节、易涂布性的目的而溶解于下述有机溶剂，制成用于形成中低折射率层的中低折射率层形成用溶液。在该溶液中，为了促进烷氧基硅烷化合物等的水解、缩合，可以以适当的量配混盐酸水溶液等酸水溶液。
作为代表性的有机溶剂，使用甲醇、乙醇、异丙醇、乙基溶纤剂、乙二醇等醇系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂、丙酮、甲乙酮等酮系溶剂；甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂。特别优选使用醇系溶剂。需要说明的是，使用市售的二氧化硅颗粒分散体时，分散介质必然会混入到中低折射率层形成用溶液中。该溶液中的分散介质以及另行配混的有机溶剂会在后工序的干燥以及热固化工序中去除。
有机溶剂的用量若为形成用溶液的粘度不发生流挂等、适于涂覆的范围的量即可。通常若以全部固体成分浓度为总重量的0.1～20重量％的量使用有机溶剂即可。需要说明的是，该有机溶剂量是包含二氧化硅颗粒等的分散介质的量在内的值。
[中低折射率层的形成]
将上述中低折射率层形成用溶液涂布在前述玻璃基板上，进行干燥，接着，加热使其固化来形成中低折射率层。然而，从生产率以及防反射膜各层的密合性的观点考虑，利用加热进行的热固化工序优选在对后述的中折射率层、高折射率层和低折射率层同样地实施涂布、直至干燥后一次性进行。进而，特别优选在直至保护层为止同样地涂布、干燥后，将防反射膜的所有层以及保护层一次性加热来进行热固化。
涂布方法没有特别限制，采用浸涂法、辊涂法、模头涂布法、流涂法、喷雾法等方法，从外观品质、层厚控制的观点考虑，优选为浸涂法。
干燥通常在大气中70～100℃的温度下进行0.25～1小时。用于热固化的加热通常在大气中300～500℃下进行0.5～2小时。
＜中折射率层＞
为被层叠于前述中低折射率层之上(视野侧)的折射率层。
中折射率层的折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm。优选折射率为1.58～1.76、层厚为95～135nm。
中折射率层由于需要在防反射膜以及保护层形成后通过化学处理进行玻璃强化，因此优选准备含有下述成分的中折射率层组合物的溶液，覆盖该溶液并干燥、加热来形成。
相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物(以下称为“烷氧基硅烷化合物等”)形成的粘结剂成分100质量份、
Rn-Si(OR1)4-n (1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)
(A)铝盐水合物1～15质量份、和
(E)金属氧化物颗粒40～130质量份
中折射率层中不含有(A)铝盐水合物的情况下，只要从上述中折射率层组合物将(A)铝盐水合物除外即可。
[烷氧基硅烷化合物或其水解物]
为前述式(1)所示的化合物，如中低折射率层的项中说明所述。中低折射率层的形成中使用的烷氧基硅烷化合物等可以以同样的目的同样地使用。
[铝盐水合物]
为本发明中有助于耐碱性的表现的成分，优选同时在中低折射率层和中折射率层中存在该铝盐水合物。可以同样地使用中低折射率层的形成中使用的铝盐水合物。
中折射率层中，含有铝盐水合物的情况下，相对于前述烷氧基硅烷化合物等100质量份以1～15质量份的量含有。低于1质量份的情况下得不到其效果。若超过15质量份则由于涂膜时容易与空气中的水分反应，难以形成层，所以不优选。
[金属氧化物颗粒]
在中折射率层中，为了控制于前述规定的折射率而配混金属氧化物颗粒。
作为金属氧化物颗粒，可以使用折射率为1.50以上的金属氧化物颗粒。例如优选为选自由氧化钛、氧化锆、五氧化二铌、掺锑氧化锡(ATO)、氧化铟-氧化锡(ITO)、掺磷氧化锡(PTO)、掺氟氧化锡(FTO)以及五氧化二锑组成的组中的至少一种氧化物颗粒。
具体而言，作为该金属氧化物颗粒，使用氧化锆颗粒(折射率＝2.40)、将氧化锆与氧化硅等其他氧化物以分子水平复合化来调节了折射率的复合锆金属氧化物颗粒、氧化钛颗粒(折射率＝2.71)、将氧化钛与氧化硅、氧化锆等其他氧化物以分子水平复合化来调节了折射率的复合钛金属氧化物颗粒等。将这些金属氧化物颗粒适当组合来调节至期望的折射率。这种颗粒其本身是公知的，在市场上有售。
金属氧化物颗粒的平均粒径优选为1～100nm、更优选1～70nm。金属氧化物颗粒的折射率优选为1.70～2.80，更优选1.90～2.50。
中折射率层组合物中的金属氧化物颗粒的含量相对于烷氧基硅烷化合物等100质量份为40～130质量份，优选从氧化锆颗粒40～90质量份和氧化钛颗粒0～40质量份的范围中考虑到由于热历程所导致的折射率变化等以满足前述规定的折射率的方式适当选择。特别是含有氧化锆颗粒从抑制由于热历程所导致的烷氧基硅烷化合物的收缩的观点考虑优选。
[中折射率层形成用溶液]
构成中低折射率层的上述各成分与视需要而定的酸水溶液等任意成分溶解于前述有机溶剂，制成中折射率层形成用溶液。
[中折射率层的形成]
将上述中折射率层形成用溶液涂布在中低折射率层上，进行干燥，接着，加热使其固化来形成中折射率层。
涂布方法、干燥条件、加热条件等依据中低折射率层的形成方法。另外，同样地，从生产率以及所得到的防反射膜的性状的观点考虑，利用加热进行的热固化工序优选构成防反射膜的四层的涂布、干燥后，或进而保护层的涂布、干燥后一次性进行。
＜高折射率层＞
为被层叠于前述中折射率层之上(视野侧)的折射率层，具有比中折射率层的折射率高的折射率。
高折射率层的折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm。优选折射率为1.77～1.85、层厚为35～45nm。
高折射率层由于需要在防反射膜以及保护层形成后通过化学处理进行玻璃强化，因此优选准备含有下述成分的高折射率层组合物的溶液，覆盖该溶液并干燥、加热来形成。
相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物(以下称为“烷氧基硅烷化合物等”)形成的粘结剂成分100质量份、
Rn-Si(OR1)4-n (1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)
(A)铝盐水合物1～15质量份、和
(E)金属氧化物颗粒40～130质量份
为了本发明的防反射玻璃表现出耐碱性，需要在高折射率层中存在(A)铝盐水合物。
[烷氧基硅烷化合物或其水解物]
为前述式(1)所示的化合物，如中低折射率层的项中说明所述。中低折射率层的形成中使用的烷氧基硅烷化合物等可以以同样的目的同样地使用。
[铝盐水合物]
为本发明中有助于耐碱性的表现的成分，优选同时在低折射率层和保护层以及高折射率层中存在该铝盐水合物，作为该铝盐水合物，可以同样地使用中低折射率层的形成中使用的铝盐水合物。
高折射率层中，铝盐水合物的含量相对于前述烷氧基硅烷化合物等100质量份为1～15质量份。低于1质量份的情况下得不到其效果。若超过15质量份则由于涂膜时容易与空气中的水分反应，难以形成层，所以不优选。
[金属氧化物颗粒]
在高折射率层中，为了控制于前述规定的折射率而配混金属氧化物颗粒。
作为金属氧化物颗粒，同样地使用中折射率层的形成中使用的金属颗粒。
高折射率层组合物中的金属氧化物颗粒的含量相对于烷氧基硅烷化合物等100质量份为40～130质量份，优选从氧化锆颗粒0～40质量份和氧化钛颗粒40～90质量份的范围中考虑到由于热历程所导致的折射率变化等以满足前述规定的折射率的方式适当选择。特别是为了达成高的折射率，优选含有氧化钛颗粒。
[高折射率层形成用溶液]
构成高折射率层的上述各成分与视需要而定的酸水溶液等任意成分溶解于前述有机溶剂，制成高折射率层形成用溶液。
[高折射率层的形成]
将上述高折射率层形成用溶液涂布在中折射率层上，进行干燥，接着，加热使其固化来形成高折射率层。
涂布方法、干燥条件、加热条件等依据中低折射率层的形成方法。另外，同样地，从生产率以及所得到的防反射膜的性状的观点考虑，利用加热进行的热固化工序优选构成防反射膜的四层的涂布、干燥后，或进而保护层的涂布、干燥后一次性进行。
＜低折射率层＞
为位于防反射膜的最外层(视野侧)的折射率层，为最有助于防反射性能的层。
低折射率层的折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm。优选折射率为1.28～1.32、层厚为71～74nm。
低折射率层由于需要在防反射膜以及保护层形成后通过化学处理进行玻璃强化，因此优选准备含有下述成分的低折射率层组合物的溶液，覆盖该溶液并干燥、加热来形成。
相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物(以下称为“烷氧基硅烷化合物等”)形成的粘结剂成分100质量份、
Rn-Si(OR1)4-n(1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数)
(A)铝盐水合物3～25质量份、
(C)金属螯合物化合物1～20质量份、和
(D)二氧化硅颗粒25～90质量份
为了本发明的防反射玻璃表现出耐碱性，需要在低折射率层中存在(A)铝盐水合物。
[烷氧基硅烷化合物或其水解物]
为前述式(1)所示的化合物，如中低折射率层的项中说明所述。中低折射率层的形成中使用的烷氧基硅烷化合物等可以以同样的目的同样地使用。
[铝盐水合物]
为本发明中有助于耐碱性的表现的成分，优选同时在高折射率层和保护层以及低折射率层中存在该铝盐水合物，作为该铝盐水合物，可以同样地使用中低折射率层的形成中使用的铝盐水合物。
低折射率层中，铝盐水合物的含量相对于前述烷氧基硅烷化合物等100质量份为3～25质量份。低于3质量份的情况下得不到其效果。若超过25质量份则由于前述烷氧基硅烷化合物等的键合强度和低折射率层的硬度降低而不优选。
[金属螯合物化合物]
可以以同样的目的没有任何限制地使用中低折射率层的形成中使用的金属螯合物。
金属螯合物化合物相对于(B)烷氧基硅烷化合物等100质量份使用1～20质量份、优选3～18质量份。若超过20质量份，则金属螯合物化合物在低折射率层中析出、存在引起外观不良的倾向。小于1质量份的情况下，存在低折射率层的强度、硬度降低的倾向。
[二氧化硅颗粒]
可以以同样的目的没有任何限制地使用中低折射率层的形成中使用的二氧化硅颗粒。
该二氧化硅颗粒相对于(B)烷氧基硅烷化合物等100质量份为25～90质量份，优选从前述实心二氧化硅颗粒0～30质量份和中空二氧化硅颗粒25～60质量份的范围中考虑到由于热历程所导致的折射率变化等以低折射率层满足前述规定的折射率的方式适当选择来使用。特别是含有中空二氧化硅颗粒从可以达成低折射率而实现高的防反射性能的观点考虑优选。
[低折射率层形成用溶液]
构成低折射率层的上述各成分与视需要而定的酸水溶液等任意成分溶解于前述有机溶剂，制成低折射率层形成用溶液。
[低折射率层的形成]
将上述低折射率层形成用溶液涂布在高折射率层上，进行干燥，接着，加热使其固化来形成低折射率层。
涂布方法、干燥条件、加热条件等依据中低折射率层的形成方法。另外，同样地，从生产率以及所得到的防反射膜的性状的观点考虑，利用加热进行的热固化工序优选构成防反射膜的四层的涂布、干燥后，或进而保护层的涂布、干燥后一次性进行。
＜保护层＞
在防反射膜上(视野侧)，为了防止由于擦伤等外部冲击而防反射膜损伤、进而为了防止由于化学强化时对防反射膜的离子碰撞所导致的损伤，设置保护层。
保护层的折射率为1.43～1.48、层厚为20～30nm。优选折射率为1.44～1.46、层厚为20～25nm。
保护层由于需要在防反射膜以及保护层形成后通过化学处理进行玻璃强化，因此优选准备含有下述成分的保护层组合物的溶液，覆盖该溶液并干燥、加热来形成。
相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物(以下称为“烷氧基硅烷化合物等”)形成的粘结剂成分100质量份、
Rn-Si(OR1)4-n (1)
(式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。)
(A)铝盐水合物3～25质量份、和
(C)金属螯合物化合物1～20质量份
为了本发明的防反射玻璃表现出耐碱性，需要在保护层中存在(A)铝盐水合物。
[烷氧基硅烷化合物或其水解物]
为前述式(1)所示的化合物，如中低折射率层的项中说明所述。中低折射率层的形成中使用的烷氧基硅烷化合物等可以以同样的目的同样地使用。
[铝盐水合物]
为本发明中有助于耐碱性的表现的成分，需要同时在低折射率层和高折射率层以及保护层中存在该铝盐水合物，作为该铝盐水合物，可以同样地使用中低折射率层的形成中使用的铝盐水合物。
保护层中，铝盐水合物的含量相对于前述烷氧基硅烷化合物等100质量份为3～25质量份。低于3质量份的情况下得不到其效果。若超过25质量份则由于烷氧基硅烷化合物等的键合强度和保护层的硬度降低而不优选。
[金属螯合物化合物]
可以以同样的目的没有任何限制地使用中低折射率层的形成中使用的金属螯合物。
金属螯合物化合物相对于(B)烷氧基硅烷化合物等100质量份使用1～20质量份、优选3～18质量份。若超过20质量份，则金属螯合物化合物在保护层中析出、存在引起外观不良的倾向。小于1质量份的情况下，保护层的强度、硬度降低，存在玻璃基板的化学强化处理不充分的倾向。
[保护层形成用溶液]
构成保护层的上述各成分与视需要而定的酸水溶液等任意成分溶解于前述有机溶剂，制成保护层形成用溶液。
[保护层的形成]
将上述保护层形成用溶液涂布在低折射率层上，进行干燥，接着，加热使其固化来形成保护层。
涂布方法、干燥条件、加热条件等依据中低折射率层的形成方法。另外，同样地，从生产率以及所得到的防反射膜的性状的观点考虑，利用加热进行的热固化工序优选构成防反射膜的四层的涂布、干燥，接着保护层的涂布、干燥后一次性进行。
＜利用化学处理进行的玻璃强化＞
本发明的防反射玻璃通过化学处理而进行玻璃强化。通过选择构成防反射膜的各四层的组成成分，如前文所述，同时利用颗粒的内部空间和颗粒与颗粒的间隙空间进行离子交换、将玻璃强化。
作为化学处理方法，采用以往公知的方法。代表性的是，通过使未强化的防反射玻璃与硝酸钾等钾盐的金属盐熔液在390℃～450℃的范围接触3～16小时，将离子半径小的钠离子置换为离子半径大的钾离子，制成高强度的强化玻璃。
＜碱清洗＞
在上述玻璃强化工序的前工序或后工序中，出于去除附着在玻璃表面的有机/无机物质的目的、防止玻璃发生磨砂玻璃状化而失去透明性的目的(防止烧伤)及其他理由，会进行碱清洗。
关于碱清洗，由于将氢氧化钠、氢氧化钾等强碱化合物、表面活性剂等溶解于醇系溶剂、水而得到的pH12～13左右的碱清洗液在市场上有售，因此根据碱清洗目的、碱清洗条件将该清洗液用水等适当稀释来实施。
碱清洗通常在室温～55℃下实施0.1～0.5小时左右，然后用水、有机溶剂清洗，将碱清洗液洗掉。
实施例
以下，列举实施例来对本发明进行具体说明，但本发明并不受这些实施例的任何限制。另外，实施例中所说明的特征的组合并不一定全部是本发明的解决方法所必要的。
以下的实施例和比较例中使用的各种成分和缩写、以及试验方法如下。
(A)铝盐水合物
AlCl3·6H2O：氯化铝六水合物
Al(NO3)3·9H2O：硝酸铝九水合物
(B)烷氧基硅烷化合物等
TEOS：四乙氧基硅烷
(C)金属螯合物化合物
AlTA：三(乙酰丙酮)铝
(D)二氧化硅颗粒
中空二氧化硅颗粒
平均粒径：40nm、折射率：1.25、固体成分20重量％、
分散溶剂IPA
实心二氧化硅颗粒
平均粒径：7nm、折射率：1.45、固体成分20重量％、
分散溶剂：IPA
(E)金属氧化物颗粒
氧化锆颗粒
平均粒径：61.9nm、折射率：2.40、固体成分：30重量％、
分散溶剂：甲醇
氧化钛颗粒：
平均粒径：108.8nm、折射率：2.71、固体成分：15重量％、
分散溶剂：甲醇
(有机溶剂)
IPA：异丙醇
Eta Cohol：乙醇/异丙醇混合物
NPA：正丙醇
SBAC：乙酸仲丁酯
(水解催化剂)
HCl：0.05N盐酸
(玻璃基板)
钠钙硅酸盐玻璃(50mm×88mm×1.1mm)
(其他金属盐水合物)
Ni(NO3)2·6H2O：硝酸镍六水合物
Co(NO3)2·6H2O：硝酸钴六水合物
[各折射率层的折射率]
将各折射率层的形成用溶液以100nm的厚度涂布在玻璃基板上，使其固化，形成各折射率层或保护层。使用日本分光株式会社制造的“分光光度计V-650”测定各层的反射率，算出折射率。
[两面的平均光反射比]
两面的平均光反射比(以下也称为平均光反射比)按以下方法测定。
使用日本分光株式会社制造的“紫外可见分光光度计V-650”在380nm～780nm下进行测定，基于JIS Z8722乘以权重系数，从而算出。测定对象物是在玻璃基板的两面形成有防反射膜以及保护层的防反射玻璃。需要说明的是，这些测定值是玻璃强化前的防反射玻璃的值，但确认到玻璃强化后的该值几乎没有变化。
[平均光透射比]
平均光透射比按以下方法测定。使用日本分光株式会社制造的“紫外可见分光光度计V-650”在380nm～780nm下进行测定，基于JIS Z8722乘以权重系数，从而算出。需要说明的是，这些测定值是玻璃强化前的防反射玻璃的值，但确认到玻璃强化后的该值几乎没有变化。
[防反射膜的耐碱性]
为了调查基于碱清洗的防反射膜的碱耐性，用肉眼观察碱清洗前与碱清洗后的防反射玻璃板的颜色的变化，按下述基准进行评价。成为基本的防反射玻璃(未固化)的颜色为无色透明。评价对强化后的防反射强化玻璃进行。需要说明的是，“强化前”指的是在玻璃强化前进行了碱清洗时的耐碱性、“强化后”指的是在玻璃强化后进行了碱清洗时的耐碱性。
在为“◎”和“〇”的情况下，表示防反射膜没有由于碱清洗而在光学上发生变质。“×”是明显发生了防反射膜的剥离。
◎：无变化
○：颜色稍微变化(浅淡的颜色)
△：颜色变化(深色)
×：有膜剥离
[玻璃强度；压缩应力值测定]
使用折原制作所公司制造的“FSM-6000LE”测定化学强化玻璃表面的折射率差(起因于离子置换)所带来的表面应力CS(MPa)以及应力层深度DOL(μm)。CS以及DOL值越大，表示强化度越大。如果DOL值为10μm以上，则足够作为强化玻璃发挥功能。
[中低折射率层形成用溶液的制备]
将表1、2所示的成分以相同表所示的配混量混合，制备中低折射率层形成用溶液(ML-1～ML-9)。
ML-6为不含有(A)铝盐水合物的溶液，ML-8及9为含有铝以外的金属盐水合物的溶液。
[表1]
中低折射率层形成用溶液(1)
[表2]
中低折射率层形成用溶液(2
[中折射率层形成用溶液的制备]
将表3、4所示的成分以相同表所示的配混量混合，制备中折射率层形成用溶液(M-1～M-7)。
M-4为不含有(A)铝盐水合物的溶液，M-6及7为含有铝以外的金属盐水合物的溶液。
[表3]
中折射率层形成用溶液(1
[表4]
中折射率层形成用溶液(2)
[高折射率层形成用溶液的制备]
将表5、6所示的成分以相同表所示的配混量混合，制备高折射率层形成用溶液(H-1～H-9)。
H-6为不含有(A)铝盐水合物的溶液，H-8及9为含有铝以外的金属盐水合物的溶液。
[表5]
高折射率层形成用溶液(1)
[表6]
高折射率层形成用溶液(2
[低折射率层形成用溶液的制备]
将表7、8所示的成分以相同表所示的配混量混合，制备低折射率层形成用溶液(L-1～L-9)。
L-6为不含有(A)铝盐水合物的溶液，L-8及9为含有铝以外的金属盐水合物的溶液。
[表7]
低折射率层形成用溶液(1)
/>
[表8]
低折射率层形成用溶液(2
[保护层形成用溶液的制备]
将表9所示的成分以相同表所示的配混量混合，制备保护层形成用溶液(Co-1～Co-5)。
Co-2为不含有(A)铝盐水合物的溶液，Co-4及5为含有铝以外的金属盐水合物的溶液。
[表9]
保护层形成用溶液
实施例1
将前述铝硅酸盐玻璃(玻璃基板)浸渍于中低折射率层形成用溶液(ML-6)后，在100℃下干燥15分钟，在玻璃基板上形成层厚197nm的未固化中低折射率层。认为通过上述条件下的干燥，中低折射率层形成不充分的固化状态，以下各层也同样。需要说明的是，层厚通过自所浸渍的中低折射率层形成用溶液的提升速度来调节。以下各层也同样。
接着，将上述玻璃基板浸渍于中折射率层形成用溶液(M-4)后，在100℃下干燥15分钟，在未固化中低折射率层上形成层厚109nm的未固化中折射率层。
接着，将上述玻璃基板浸渍于高折射率层形成用溶液(H-1)后，在100℃下干燥15分钟，在未固化中折射率层上形成层厚36nm的未固化高折射率层。
接着，将上述玻璃基板浸渍于低折射率层形成用溶液(L-1)后，在100℃下干燥15分钟，在未固化高折射率层上形成层厚75nm的未固化低折射率层。
接着，将上述玻璃基板浸渍于保护层形成用溶液(Co-1)后，在100℃下干燥15分钟，在未固化低折射率层上形成层厚为25nm的未固化保护层。
对将上述未固化的防反射膜与保护层层叠而得到的玻璃基板在500℃下加热30分钟进行热固化，制作本发明的防反射玻璃。按照前述方法测定所得到的防反射玻璃的两面的平均光反射比和平均光透射比，与各层的层厚、折射率一并示于表10。
进而利用以下的两种方法进行上述防反射玻璃的碱清洗以及玻璃强化。
一方面，对于上述防反射玻璃，首先在将横浜油脂工业株式会社制造的“SEMICLEAN MG；pH＝12.4”用水进行5wt％稀释而得到的稀释液中，在超声波下以40℃浸渍10分钟进行碱清洗，然后用温水以及IPA将清洗液冲洗掉。接着，在硝酸钾的熔融液中以410℃浸渍3小时进行化学强化处理，制成防反射强化玻璃。另一方面，首先在相同的条件下进行化学强化处理，然后在相同的条件下实施碱清洗而制成防反射强化玻璃。
对于上述两种的防反射强化玻璃的玻璃强度和基于碱清洗的防反射膜的耐碱性，按照前述方法测定。结果示于表10。
实施例2～9
按表10所示的组合使用各折射率层形成用溶液和保护层形成用溶液，除此之外与实施例1同样进行，制作两种防反射强化玻璃。
将防反射强化玻璃的两面的平均光反射比和平均光透射比、各层的层厚、折射率、进而防反射强化玻璃的玻璃强度和防反射膜的耐碱性示于表10。
在防反射膜和保护层的全部层中含有氯化铝六水合物的防反射强化玻璃(实施例2～6及8)表现出充分的玻璃强度、且表现出优异的耐碱性。在中低折射率层和中折射率层中不存在氯化铝六水合物的情况(实施例1)、在中折射率层不存在氯化铝六水合物的情况(实施例7)、在防反射膜和保护层的全部层中含有硝酸铝九水合物的情况(实施例9)下，颜色稍微变化但是表现出充分的耐碱性。
[表10]
比较例1～10
以表11所示的组合使用各折射率层形成用溶液和保护层形成用溶液，除此之外与实施例1同样地进行，制作两种防反射强化玻璃。
将防反射玻璃的两面的平均光反射比和平均光透射比、各层的层厚、折射率、进而防反射强化玻璃的玻璃强度和防反射膜的耐碱性一并示于表11。
比较例1为在防反射膜和保护层的全部层中不存在铝盐水合物的情况，耐碱性极差。比较例2为在高折射率层、中折射率层和中低折射率层中不存在铝盐水合物的情况，耐碱性极差。
比较例3为在低折射率层、中折射率层和中低折射率层中不存在铝盐水合物的情况，耐碱性差。比较例4为在保护层、中折射率层和中低折射率层中不存在铝盐水合物的情况，耐碱性差。
比较例5、6为折射率层的层厚不满足本发明范围的情况，耐碱性良好，但是平均光反射比和平均光透射比的光学特性差。
比较例7、8为折射率层的折射率不满足本发明范围的情况，耐碱性良好，但是平均光反射比和平均光透射比的光学特性差。
比较例9、10为在防反射膜和保护层的全部层中使用铝盐水合物以外的金属盐水合物的情况，耐碱性极差。
[表11]
/>

Claims (10)

1.一种防反射玻璃，其特征在于，其依次包含玻璃基板、防反射膜和保护层，
所述防反射膜从所述玻璃基板侧起以
折射率为1.36～1.45、层厚为150～210nm的中低折射率层、
折射率为1.56～1.79、层厚为90～140nm的中折射率层、
折射率为1.75～1.87、层厚为30～50nm的高折射率层、
折射率为1.27～1.35、层厚为70～75nm的低折射率层的顺序构成，该高折射率层的折射率高于中折射率层的折射率，
所述保护层的折射率为1.43～1.48、层厚为20～30nm，
所述高折射率层、低折射率层和保护层含有(A)铝盐水合物，
波长380～780nm下的两面的平均光反射比为0.6％以下、波长380～780nm下的平均光透射比为98％以上。
2.根据权利要求1所述的防反射玻璃，其特征在于，进一步地，所述中低折射率层和中折射率层含有(A)铝盐水合物。
3.根据权利要求1所述的防反射玻璃，其特征在于，所述保护层由保护层组合物的固化物形成，所述保护层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份和(C)金属螯合物化合物1～20质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。
4.根据权利要求1所述的防反射玻璃，其特征在于，所述低折射率层由低折射率层组合物的固化物形成，所述低折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份、(C)金属螯合物化合物1～20质量份和(D)二氧化硅颗粒25～90质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。
5.根据权利要求1所述的防反射玻璃，其特征在于，所述高折射率层由高折射率层组合物的固化物形成，所述高折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物1～15质量份和(E)金属氧化物颗粒40～130质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。
6.根据权利要求2所述的防反射玻璃，其特征在于，所述中折射率层由中折射率层组合物的固化物形成，所述中折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物1～15质量份和(E)金属氧化物颗粒40～130质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。
7.根据权利要求2所述的防反射玻璃，其特征在于，所述中低折射率层由中低折射率层组合物的固化物形成，所述中低折射率层组合物相对于(B)由下述式(1)所示的烷氧基硅烷化合物或其水解物形成的粘结剂成分100质量份，含有(A)铝盐水合物3～25质量份、(C)金属螯合物化合物1～20质量份和(D)二氧化硅颗粒25～90质量份，
Rn-Si(OR1)4-n(1)
式中，R为烷基、链烯基或烷氧基烷基，R1为烷基、烷氧基烷基、酰氧基或卤素原子，n为1或2的整数。
8.根据权利要求1或2所述的防反射玻璃，其特征在于，所述玻璃基板为碱铝硅酸盐玻璃。
9.根据权利要求1或2所述的防反射玻璃，其特征在于，所述防反射玻璃为耐碱性化学强化用防反射玻璃。
10.一种防反射强化玻璃的制造方法，其特征在于，其包括对权利要求1或2所述的防反射玻璃在离子交换用金属盐熔解液中进行化学强化处理的工序；和在该化学处理工序的前工序或后工序进行碱清洗的工序。
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