CN117377935A - 输入装置用盖板构件以及输入装置 - Google Patents

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CN117377935A CN202280036760.0A CN202280036760A CN117377935A CN 117377935 A CN117377935 A CN 117377935A CN 202280036760 A CN202280036760 A CN 202280036760A CN 117377935 A CN117377935 A CN 117377935A
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木下泽泉
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种在向输入装置的输入操作中能够实现优异的书写感觉的输入装置用盖板构件以及输入装置。在作为配置于输入装置(10)中的显示器元件(30)的前表面侧的输入装置用盖板构件的玻璃基板(20)中的至少一个主面(20a)具有凹凸形状，具有所述凹凸形状的主面(20a)中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度(Rv)大于粗糙度曲线要素的最大峰高度(Rp)。

Description

输入装置用盖板构件以及输入装置
技术领域
本发明涉及输入装置用盖板构件以及输入装置。
背景技术
以往，已知有用户能够使用输入笔在画面上手写来进行文字及图形等输入操作的笔输入装置。
在这样的笔输入装置中，在液晶显示器等的显示器装置的前表面侧配置有由玻璃基板等构成的透明的盖板构件，通过在该盖板构件的表面使输入笔接触以及移动，能够进行各种输入操作。
在此，在使用玻璃基板作为笔输入装置的盖板构件的情况下，玻璃基板的表面通常凹凸小且光滑地形成，因此在使输入笔与盖板构件(玻璃基板)的表面接触而移动时，该输入笔的笔尖滑动，产生书写感觉差这一问题。
因此，为了防止输入笔的滑动容易度，专利文献1公开了使用具有较高的摩擦系数的弹性体材料的笔尖。
另外，在专利文献2中，公开了通过蚀刻处理在玻璃表面形成微小的凹凸从而使摩擦力增加以提高书写感觉的盖板玻璃(盖板构件)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-173955号公报
专利文献2：国际公开第2015/072297号
发明内容
发明要解决的课题
然而，在使用专利文献1所记载的弹性体材料的笔尖的情况下，笔尖具有柔软性，由此书写感提高，但由于弹性体材料对盖板构件的附着力大，笔尖过于难以滑动，在使输入笔与盖板构件的表面接触而移动时，有时反而使书写感觉变差。
另外，对于专利文献2中记载的盖板玻璃，即使在使用附着力大的弹性体材料的笔尖的情况下，使输入笔反复接触盖板玻璃的表面而移动时的、笔尖与盖板玻璃之间的摩擦力也过高，有时得不到良好的书写感觉。
本发明是鉴于以上所示的现状的问题点而完成的，提供即使在将弹性体材料那样的具有高摩擦系数的构件用于笔尖的情况下，在向输入装置的输入操作中也能够实现优异的书写感觉的输入装置用盖板构件以及输入装置。
用于解决课题的方案
解决上述课题的输入装置用盖板构件以及输入装置具有以下的特征。
即，本发明的输入装置用盖板构件配置于输入装置中的显示器装置的前表面侧，其特征在于，在所述输入装置用盖板构件中的至少一个主面具有凹凸形状，具有所述凹凸形状的主面中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv大于粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置用盖板构件，通过在主面的凹凸形状中存在较深的谷部，与笔尖的接触面积降低，能够抑制主面与笔尖之间的摩擦力的过度增加，在向输入装置的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
在本发明的输入装置用盖板构件中，优选的是，具有所述凹凸形状的主面中的、最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置用盖板构件，能够抑制主面与笔尖之间的摩擦力的过度增加，在向输入装置的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
另外，在本发明的输入装置用盖板构件中，优选的是，具有所述凹凸形状的主面中的、最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为15。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置用盖板构件，能够进一步抑制主面与笔尖之间的摩擦力的过度增加，在向输入装置的输入操作中，能够实现更优异的书写感觉。
另外，在本发明的输入装置用盖板构件中，优选的是，具有所述凹凸形状的主面中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比的Rv/RSm为0.001以上且0.1以下。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置用盖板构件，能够使笔尖相对于主面容易适度地滑动，在向输入装置的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
另外，在本发明的输入装置用盖板构件中，优选的是，具有所述凹凸形状的主面中的算术平均高度Sa为1nm以上且50nm以下。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置用盖板构件，能够在适度地抑制笔尖在主面上滑动的同时，适度地降低笔尖在主面上的滑动难度，在向输入装置的输入操作中，能够使输入笔的书写感觉变得优异。
而且，本发明的输入装置的特征在于，具备：上述任一个输入装置用盖板构件、显示器装置、以及检测笔输入的检测电路。
另外，本发明的输入装置的特征在于，具备输入笔，该输入笔通过一边与所述输入装置用盖板构件的主面接触一边移动，来进行针对所述输入装置的笔输入。
通过具有这样的结构，根据本发明的输入装置，在利用输入笔向输入装置的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
发明效果
根据本发明，在向输入装置的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
附图说明
图1是表示输入装置的概略侧面剖视图。
图2是表示盖板构件的主面中的测定截面曲线的图。
具体实施方式
接下来，使用附图对用于实施本发明的输入装置用盖板构件以及输入装置的方式进行说明。
[笔输入装置10的整体结构]
首先，使用图1对输入装置10的整体结构进行说明。
输入装置10是具备本发明的输入装置用盖板构件的输入装置的一实施方式。
输入装置10具备：作为显示影像的显示器装置的一例的显示器元件30、作为配置于显示器元件30的前表面侧的盖板构件的玻璃基板20、配置于显示器元件30的背面侧的数字化仪电路40、以及输入笔50等。
另外，玻璃基板20是本发明的输入装置用盖板构件的一例，数字化仪电路40是检测本发明的输入的检测电路的一例。
需要说明的是，在上述的记载中，显示器元件30的“前表面侧”是指显示影像的一侧，显示器元件30的“背面侧”是指显示影像侧的相反侧。
在本实施方式中，例如，显示器元件30的“前表面侧”成为图1中的纸面上方侧，显示器元件30的“后面侧”成为图1中的纸面下方侧。
输入装置10构成为，通过使输入笔50以与玻璃基板20的主面20a(相对于玻璃基板20与显示器元件30侧相反一侧的面)接触的状态移动，能够进行文字及图形等的笔输入(输入操作)。作为输入装置10的例示，例如举出平板终端。
在此，上述平板终端广义上是指具备显示功能以及笔输入功能这两方的笔输入用显示装置，且包括平板PC、移动PC、智能手机以及游戏机等设备。
玻璃基板20由在至少一个主面(本实施方式中为上述的主面20a)形成有凹凸形状的透明的玻璃板形成。
另外，玻璃基板20以形成有凹凸形状的主面20a成为与输入笔50接触的一侧的面的方式配置。
在此，作为玻璃基板20，例如能够使用由铝硅酸盐玻璃或者硼硅酸玻璃等构成的玻璃板。
另外，在通过由含碱铝硅酸盐玻璃构成的玻璃板构成玻璃基板20的情况下，该玻璃基板20可以在表面具有化学强化层。
需要说明的是，对玻璃基板20的详细情况进行后述。
数字化仪电路40具备检测输入笔50的输入操作的检测传感器。
另外，输入笔50是与铅笔、圆珠笔等书写工具相似的形状的输入器具，具有与玻璃基板20接触的作为摩擦件的一例的笔尖51，该笔尖51由弹性体、聚缩醛树脂等合成树脂材料或毛毡等构成。
在输入笔50中，若是由上述的构件构成的笔尖51，则对于微细的凹凸形状也容易钩挂。
因此，在使输入笔50的笔尖51与形成有凹凸形状的玻璃基板20的主面20a接触而移动的情况下，能够实现特别优异的书写感觉。
需要说明的是，在本实施方式中，作为输入装置用盖板构件使用玻璃基板20，但并不限定于此，例如，也可以将由合成树脂形成且在至少一个主面形成有凹凸形状的树脂基板用作输入装置用盖板构件。
在该情况下，该树脂基板的凹凸形状例如可以通过对树脂基板的主面实施湿式喷砂等喷砂加工、或对树脂基板的主面实施压花加工而形成。
另外，也可以将在表面形成有凹凸形状的树脂层层叠于玻璃基板的至少一个主面的构件用作输入装置用盖板构件。
在该情况下，该盖板构件能够通过将在表面形成有凹凸形状的树脂片粘贴于玻璃基板的主面而构成。
需要说明的是，上述树脂片的凹凸形状例如可以通过对树脂片的表面实施压花加工、或将混入有粉粒体的合成树脂形成为片状而形成。
另外，上述树脂层也可以通过向玻璃基板的主面喷涂合成树脂而形成。
但是，在使用玻璃基板20来作为输入装置用盖板构件的情况下，与使用上述的树脂基板、或在玻璃基板的主面形成有树脂层的构件等的情况相比，表面(特别是与输入笔50的笔尖51接触的主面)的硬度变高，因此在表面不易损伤这一点上有利。
[玻璃基板20的结构]
接下来，关于玻璃基板20的结构，使用图1、图2进行详细地说明。
如前述那样，玻璃基板20是本发明的输入装置用盖板构件的一实施方式。在图1中，在玻璃基板20的主面20a形成有凹凸形状。
如图2所示，形成于玻璃基板20的主面20a的凹凸形状由具有不规则深的谷部的微小凹凸构成。
在主面20a的微小凹凸中，粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv大于粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp(Rp＜Rv)。另外，在主面20a的微小凹凸中，算术平均高度Sa为1nm以上且50nm以下。
而且，在主面20a的微小凹凸中，最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上(Sv/Sa≥6)。在该情况下，优选的是，最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为15以上(Sv/Sa≥15)。
另外，在主面20a的微小凹凸中，粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm为0.001以上且0.1以下(0.001≤Rv/RSm≤0.1)。
在此，本申请中的最大谷深度Rv、最大峰高度Rp以及粗糙度曲线要素的平均长度RSm依据JISB 0601 2013，算术平均高度Sa以及最大谷深度Sv依据ISO 25178。
在主面20a的微小凹凸中，算术平均高度Sa是规定的面中的凹凸的峰的高度Za、以及谷的深度Zb的绝对值的平均值即(Sa＝((|Za1|+|Za2|+…+|Zan|)+(|Zb1|+|Zb2|+…+|Zbn|))/2n)。最大谷深度Sv是规定的面中的该微小凹凸的最深的谷Sv。
另外，微小凹凸的最大峰高度Rp是规定的基准长度中的该微小凹凸的最高的峰的高度Rp，微小凹凸的最大谷深度Rv是规定的基准长度中的该微小凹凸的最深的谷的深度Rv。需要说明的是，规定的规定长度中的最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之和为最大高度Rz(Rz＝Rp+Rv)。而且，微小凹凸的粗糙度曲线要素的平均长度RSm是规定的基准长度中的该微小凹凸的各周期长度X的平均值(RSm＝(X1+X2+…+Xn)/n)。
上述的微小凹凸中的算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的最大高度Rz、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp以及粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv的值是根据在将用于从主面20a的测定截面曲线阻断长波长分量的高通滤波器λc的截止值λc1设定为14μm、并且将用于从主面20a的测定截面曲线阻断短波长分量的低通滤波器λs的截止值λs1设为0.35μm的情况下得到的粗糙度曲线来评价的值。
即，形成于玻璃基板20的主面20a的凹凸形状在将高通滤波器λc的截止值λc1设为14μm、且将低通滤波器λs的截止值λs1设为0.35μm的情况下，表现为在最大谷深度Rv与最大峰高度Rp之间具有Rp＜Rv的关系的微小凹凸，表现为算术平均高度Sa为1nm以上且50nm以下的微小凹凸，表现为最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上的微小凹凸，表现为粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm为0.001以上且0.1以下的微小凹凸。
这样，形成于玻璃基板20的主面20a的凹凸形状由具有不规则深的谷部的微小凹凸构成。
在本实施方式中的输入装置10(参照图1)中，通过在上述的条件的范围内分别形成玻璃基板20的主面20a上的微小凹凸的形状，能够保持显示器元件30(同样地参照图1)的可视性，并且提高输入笔50的书写感觉。
另外，通过将这样的微小凹凸设为在上述的条件的范围内构成的凹凸形状，能够抑制由于因该凹凸形状引起的散射光的干扰而产生被称作闪烁的眩光。
而且，在本实施方式中，在玻璃基板20的主面20a未形成树脂层，而相对于该主面20a直接形成凹凸形状，因此耐损伤性高，不易损伤，因此不会使显示器元件30的可视性降低。
微小凹凸有助于玻璃基板20的主面20a与输入笔50的笔尖51之间的摩擦力。另外，上述摩擦力的贡献根据笔尖51的材质而变化。
具体而言，在作为低弹性模量的材料的弹性体制的笔尖51的情况下，玻璃基板20的主面20a越平坦，则越产生由附着力引起的较大的摩擦力，笔尖51相对于玻璃基板20的主面20a越难以滑动。
在该情况下，通过对玻璃基板20的主面20a赋予微小凹凸，能够实现该主面20a与输入笔50的笔尖51的接触面积的减少，能够使笔尖51相对于玻璃基板20的主面20a容易适度地滑动。
另一方面，在由POM这样的硬材质构成的笔尖51的情况下，玻璃基板20的主面20a越平坦，摩擦力越降低，笔尖51相对于玻璃基板20的主面20a越容易滑动。
与此相对地，通过对玻璃基板20的主面20a赋予微小凹凸，能够使输入笔50的笔尖51容易钩挂于该主面20a。由此，主面20a与笔尖51之间的摩擦力增加，能够适度地使笔尖51难以相对于玻璃基板20的主面20a滑动。
需要说明的是，在由毛毡那样的材质构成的笔尖51的情况下，示出与上述的POM制的笔尖51相似的举动，通过对玻璃基板20的主面20a赋予微小凹凸，输入笔50的笔尖51容易相对于该主面20a钩挂。由此，主面20a与笔尖51之间的摩擦力增加，能够适度地使笔尖51难以相对于玻璃基板20的主面20a滑动。
这样，通过对玻璃基板20的主面20a赋予微小凹凸，针对由各种材质(弹性体、POM以及毛毡)构成的输入笔50的笔尖51，能够适度地抑制该笔尖51在主面20a上滑动，或者能够适度地降低该笔尖51在主面20a上的滑动难度。由此，在向输入装置10的输入操作中，能够使输入笔50的书写感觉变得优异。
特别是，通过对玻璃基板20的主面20a赋予算术平均高度Sa为1nm以上且50nm以下的微小凹凸，能够在适度地抑制笔尖51在主面20a上滑动的同时，适度地降低笔尖51在主面20a上的滑动难度，从而在向输入装置10的输入操作中，能够使输入笔50的书写感觉变得优异。
在此，如上述那样，在本实施方式中，微小凹凸的算术平均高度Sa的上限值设定为50nm，但该上限值优选设定为40nm，进一步优选设定为30nm，特别优选设定为20nm，最优选设定为15nm。
另外，如上述那样，在本实施方式中，主面20a中的微小凹凸具有较深的谷部，最大谷深度Rv与最大峰高度Rp具有Rp＜Rv的关系。通过主面20a中的微小凹凸的峰部而在笔尖51产生钩挂，有助于摩擦力增加。另一方面，主面20a中的微小凹凸的谷部不与笔尖51接触，换句话说是有助于接触面积降低。具有不规则深的谷部的微小凹凸成为图2那样的表面形状，通过具有较深的谷部，与笔尖51的接触面积降低，其结果是，能够抑制摩擦力的过度增加。特别是，附着力强的弹性体制的笔尖51有助于摩擦力降低，该笔尖51的滑动变得光滑。由此，在向输入装置10的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
在此，如上述那样，在本实施方式中，最大谷深度Rv与最大峰高度Rp具有Rp＜Rv的关系，但优选具有Rv-Ra≥0.5的关系，进一步优选具有Rv-Ra≥1的关系，特别优选具有Rv-Ra≥2的关系，最优选具有Rv--Ra≥3的关系。
而且，如上述那样，在本实施方式中，最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa设定为6以上，Sv/Sa优选设定为8以上，进一步优选设定为10以上，更优选设定为12以上，特别优选设定为15以上。
在最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上的情况下，成为在该微小凹凸表面具有较深的谷部的指标。因此，在最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上的情况下，主面20a与笔尖51之间的摩擦力的过度增加得到抑制，在向输入装置10的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。特别是，在最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为15以上的情况下，能够进一步抑制主面20a与笔尖51之间的摩擦力的过度增加，在向输入装置10的输入操作中，能够实现更优异的书写感觉。
微小凹凸的粗糙度曲线要素的平均长度RSm与粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv之比即Rv/RSm是与形成于玻璃基板20的主面20a的微小凹凸的谷部中的假想的纵横比相当的值。
具体而言，若粗糙度曲线要素的平均长度RSm与粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv之比即Rv/RSm的值大，则谷部变深。若微小凹凸的谷部变深，则在作为附着力的较大的材料的弹性体制的笔尖51的情况下，能够实现与玻璃基板20的主面20a的接触面积的减少，主面20a与笔尖51之间的摩擦力降低，能够使笔尖51相对于该主面20a容易适度地滑动。由此，在向输入装置10的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
另外，若微小凹凸的谷部变深，则在由POM这样的硬材质构成的笔尖51的情况下，能够抑制由笔尖51相对于主面20a的微小凹凸的过度的钩挂导致的摩擦力的增加，能够使笔尖51相对于该主面20a容易适度地滑动。由此，在向输入装置10的输入操作中，能够实现优异的书写感觉。
如上述那样，在本实施方式中，粗糙度曲线要素的平均长度RSm与粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv之比即Rv/RSm的下限值设定为0.001，但该下限值优选设定为0.002，进一步优选设定为0.003。
另一方面，若粗糙度曲线要素的平均长度RSm与粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv之比即Rv/RSm的值过大，则微小凹凸的谷部形状局部变得过于锋利，容易陷入作为摩擦件的笔尖51，在主面20a与笔尖51之间产生过大的摩擦力，因此书写感觉降低。
因此，在本实施方式中，微小凹凸的粗糙度曲线要素的平均长度RSm与粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv之比即Rv/RSm的上限值设定为0.1，但该上限值优选设定为0.09，进一步优选设定为0.08，更优选设定为0.06，特别优选设定为0.04。
另外，玻璃基板20的主面20a相对于由上述的弹性体以及POM等合成树脂材料、毛毡以及毛毡和合成树脂材料的复合材料等的能够对凹凸调整摩擦力的材质构成的笔尖51，书写感觉特别优异。
在图1中，从经由该玻璃基板20观察显示器元件30的影像时的、影像的可视性的观点出发，玻璃基板20优选以与透明性相关的指标表示不透明度的雾度在可见光的波长区域(380nm～780nm)小于10％。
通过使玻璃基板20的雾度小于10％，能够保持玻璃基板20的透明度，能够保持显示器元件30的可视性。
另外，在玻璃基板20的主面20a，能够形成用于使输入笔50接触的一侧的反射率降低的防反射膜、或者用于防止指纹的附着、并赋予防水性、防油性的防污膜。
在将玻璃基板20用作输入装置10的盖板构件的情况下，上述的防反射膜至少形成于玻璃基板20的表面侧(与输入笔50接触的一侧)的主面20a。另外，在玻璃基板20与显示器元件30之间存在间隙的情况下，优选在玻璃基板20的背面侧(显示器元件30侧)的主面20b也具有防反射膜。
作为防反射膜，例如使用折射率比玻璃基板20低的低折射率膜、或者折射率相对低的低折射率膜和折射率相对高的高折射率膜交替层叠而成的电介质多层膜。防反射膜可以通过溅射法或CVD法等形成。
在玻璃基板20的主面20a具有防反射膜的情况下，以该防反射膜的表面的凹凸成为上述的表面粗糙度(微小凹凸的算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的最大高度Rz、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv的值)的范围的方式，形成玻璃基板20的主面20a的凹凸形状。
另外，在玻璃基板20的主面20a具有防反射膜的情况下，以具有防反射膜的玻璃基板20的雾度成为上述的范围的方式形成玻璃基板20的主面20a的凹凸形状。
需要说明的是，在形成防反射膜之后，在测定微小凹凸的算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的最大高度Rz、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv的情况下，形成10nm的Au膜，然后测定这些值。
在将玻璃基板20用作输入装置10的盖板构件的情况下，上述的防污膜形成于玻璃基板20的表面侧(与输入笔50接触的一侧)的主面20a。另外，防污膜优选在主链中包含含有硅的含氟聚合物。
作为含氟聚合物，例如可以使用在主链中具有一Si一O一Si一单元且在侧链具有含氟的防水性的感官团的聚合物。含氟聚合物例如可以通过将硅烷醇脱水缩合而合成。
需要说明的是，在玻璃基板20的表面侧的主面20a形成防反射膜和防污膜的情况下，在玻璃基板20的主面20a上形成防反射膜，在防反射膜上形成防污膜。
在玻璃基板20的主面20a具有防污膜的情况下，或者在玻璃基板20的主面20a具有防反射膜和防污膜的情况下，以防污膜的表面的凹凸成为上述的表面粗糙度(微小凹凸的算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的最大高度Rz、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv)的范围的方式，形成玻璃基板20的主面20a的凹凸形状。
另外，在玻璃基板20的主面20a具有防污膜的情况下，或者在玻璃基板20的主面20a具有防反射膜和防污膜的情况下，以形成防污膜后的玻璃基板20的雾度、或者形成防反射膜和防污膜后的玻璃基板20的雾度成为上述的范围的方式，形成玻璃基板20的主面20a的凹凸形状。
在玻璃基板20的表面形成化学强化层的情况下，对玻璃基板20实施化学强化处理。
化学强化处理是指将玻璃基板浸渍于包含碱金属的熔融盐中，将存在于玻璃基板的最表面的原子直径小的碱金属(离子)置换为存在于熔融盐中的原子直径大的碱金属(离子)的技术的总称。在进行了化学强化处理的玻璃基板的表面配置有原子直径比处理前的原原子大的碱金属(离子)的原子。例如，在玻璃基板包含钠(Na)的情况下，在化学强化处理时，在熔融盐(例如硝酸盐)中，该钠被例如钾(K)置换。因此，能够在玻璃基板的表面形成压缩应力层，由此，能够提高玻璃基板的强度。
因此，通过对玻璃基板20进行化学强化处理，能够在笔输入装置10自身的耐久性提高的同时，提高作为盖板构件的玻璃基板20的耐损伤性。
[玻璃基板20的制造方法]
接下来，使用图1，对玻璃基板20的制造方法进行说明。
形成于玻璃基板20的至少一个主面20a的凹凸通过对该主面20a组合进行至少1种以上的喷砂处理以及湿式喷砂处理等处理方法来形成。
喷砂处理是通过使用压缩空气从喷射喷嘴向由玻璃构成的工件高速喷射氧化铝等个体粒子、从而在该工件上形成微细的凹凸的处理。相对于此，湿式喷砂处理是如下处理：将由氧化铝等个体粒子构成的磨粒与水等的液体均匀地搅拌而制成浆料，使用压缩空气从喷射喷嘴对由玻璃构成的工件以高速喷射，从而在该工件上形成微细的凹凸的处理。
喷砂处理以及湿式喷砂处理均是在高速喷射的磨粒与工件碰撞时，浆料内的磨粒对工件的表面进行切削、敲击或摩擦，由此在工件的表面形成微细的凹凸。
在该情况下，喷射到工件的磨粒的大小是重要的，例如，通过使用#4000、#6000、#8000等微小磨粒，能够形成微小的凹凸。
通过喷砂处理以及湿式喷砂处理形成于工件的主面的微小凹凸的表面粗糙度(算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的最大高度Rz、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv)能够通过主要喷射的磨粒的粒度分布和向工件喷射浆料时的喷射压力来调整。
喷砂处理以及湿式喷砂处理由于将磨粒以高速喷射至工件，因此磨粒的角部刺入工件，结果在工件形成较深的谷部。
实施例
接下来，对通过喷砂处理或湿式喷砂处理而在一个主面20a形成有凹凸形状的玻璃基板20的实施例进行说明。
需要说明的是，关于玻璃基板20的结构，并不限定于以下所示的结构。
[试样的制作]
在本实施例中，如表1所示，作为玻璃基板20的实施例分别制作试样1～13，作为相对于这些实施例的比较例，分别制作试样14～18。需要说明的是，作为这些的试样1～18中使用的玻璃基板20，使用厚度为0.55mm的含碱铝硅酸盐玻璃。
[表1]
对作为实施例的试样1～9的玻璃基板20实施喷砂处理，由此在一个主面20a形成凹凸形状。
具体而言，通过对试样1～9的玻璃基板20在压力空气0.2～0.4Mpa以及处理时间约3分钟～约6分钟的条件下对粒度为#3000、#4000、#6000、#8000的氧化铝磨粒实施喷砂处理，从而在一个主面20a形成由微小凹凸构成的凹凸形状。
对作为实施例的试样10～13的玻璃基板20实施此湿式喷砂处理，由此在一个主面20a形成凹凸形状。
具体而言，对于试样10～13的玻璃基板20，以压力空气0.2Mpa以及喷嘴扫描速度0.5～10mm/s的条件对粒度为#8000的氧化铝磨粒实施湿式喷砂处理，由此在一个主面20a形成由微小凹凸构成的凹凸形状。
关于湿式喷砂处理，将试样10～13各自的玻璃基板20以大致垂直姿势的状态配置，将由粒度为#8000的氧化铝构成的磨粒3wt％、水、分散剂均匀地搅拌而制备浆料，在使用处理压力为0.2MPa的空气从圆形喷嘴喷射所制备的浆料的状态下，一边使该圆形喷嘴以0.5～10mm/s的速度移动，一边对各玻璃基板20的一个主面20a的整体进行扫描，由此实施湿式喷砂。
需要说明的是，将各个玻璃基板20以大致垂直姿势的状态配置是为了防止向整个主面20a喷射的浆料局部地滞留。
对于作为比较例的试样14的玻璃基板20，未对一个主面20a实施处理。即，试样14的玻璃基板20是未处理的。
对于作为比较例的试样15的玻璃基板20，通过向一个主面20a喷射SiO2分量的液体来进行涂覆，使包含所涂覆的SiO2分量的液体干燥，由此在该主面20a形成SiO2涂膜。即，对试样15的玻璃基板20实施了SiO2涂布。
对于作为比较例的试样16～18的玻璃基板20，通过在调整为5wt％浓度的氟酸溶液(25℃)中分别浸渍规定时间(试样16：约17分钟、试样17：约33分钟、试样18：50分钟)来制作各玻璃基板20。即，对试样16～18的玻璃基板20实施了氟酸蚀刻。
[表面粗糙度的测定]
首先，测定出试样1～18的玻璃基板20中的主面20a的表面粗糙度。
对于试样1～9，对实施了喷砂处理的主面20a进行表面粗糙度的测定，对于试样10～13，对实施了湿式喷砂处理的主面20a进行表面粗糙度的测定，对于试样15，对实施了SiO2涂布的主面20a进行表面粗糙度的测定，对于试样14、16～18，对一个主面20a进行表面粗糙度的测定。
测定出的表面粗糙度的参数是算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp以及粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv，表面粗糙度的测定使用白色干扰显微镜进行。使用的白色干扰显微镜是Zygo公司制的白色干扰显微镜(产品名：New View 7300)。
测定条件被设定为：使用物镜50倍、变焦透镜2倍，对于测定区域74×55μm的区域，相机像素数为640×480，累计次数为10次。
另外，测定算术平均高度Sa、最大谷深度Sv、粗糙度曲线要素的平均长度RSm、粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp以及粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv时的、高通滤波器λc的截止值λc1设定为14μm，低通滤波器λs的截止值λs1设定为0.35μm。
[表面粗糙度的测定结果]
对试样1～18进行的表面粗糙度的测定结果进行说明。
在表2中示出测定结果。
[表2]
如表2所示，对于作为实施例的试样1～13，微小凹凸中的算术平均高度Sa为1.4～10.0nm的范围内的数值。
与此相对地，在作为比较例的试样14～18中，未处理的试样14的算术平均高度Sa小至0.1nm，实施了SiO2涂布的试样15的算术平均高度Sa大至50.1nm，实施了氟酸蚀刻的试样16～18的算术平均高度Sa为0.2～0.3nm的范围内的数值且较小。
另外，关于作为实施例的试样1～13，粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv为9.4～57.5nm的范围内的数值，曲线要素的最大峰高度Rp为5.6～34.2nm的范围内的数值，任一试样均为Rv＞Rp的关系。
与此相对地，在作为比较例的试样14～18中，关于未处理的试样14，粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv为0.4nm，曲线要素的最大峰高度Rp为0.4nm且Rv＝Rp的关系，对于实施了SiO2涂布的试样15，曲线要素的最大谷深度Rv为141.9nm，曲线要素的最大峰高度Rp为185.4nm且Rv＜Rp的关系。另外，对于实施了氟酸蚀刻的试样16～18，曲线要素的最大谷深度Rv为0.8～1.0nm的范围内的数值，曲线要素的最大谷深度Rp为0.8～0.9的范围内的数值且Rv与Rp为相同程度的值。
另外，作为微小凹凸中的最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比的Sv/Sa，关于作为实施例的试样1～13，为8.0～39.0的范围内的数值，Sv/Sa表示6以上的值。特别是，对于实施了喷砂处理的试样1～试样9，微小凹凸中的最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa表示15以上的值。
与此相对地，在作为比较例的试样14～18中，未处理的试样14的最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为12.6。另外，实施了SiO2涂布的试样15的最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为5.5，实施了氟酸蚀刻的试样16～18的最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为5.6～5.8nm的范围内的数值且较小。
而且，作为粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm，关于作为实施例的试样1～13，为0.0040～0.0229的范围内的数值。
与此相对地，在作为比较例的试样14～18中，未处理的试样14的粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm小至0.0004。实施了SiO2涂布的试样15的粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm为0.0172。另外，实施了氟酸蚀刻的试样16～18的粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm为0.0005且较小。
[书写感觉的评价]
通过感官试验来评价通过输入笔50对玻璃基板20进行文字以及图形等输入时的书写感觉。作为评价方法，将在三菱铅笔制的圆珠笔(产品名：JETSTREAM)的壳体上安装Walcom公司制的替换芯(产品名：弹性体芯(ACK一20004)、笔尖的直径：1.4mm)而成的笔用作输入笔50，在玻璃基板20上书写“a”这一字符时，将感觉上能够光滑地操作笔尖且书写感觉非常好的情况设为◎，将感觉良好的情况设为○，将由于难以滑动等而感觉到书写感觉差的情况设为×，进行书写感觉的判定。
[书写感觉的评价结果]
如表2所示，对于作为实施例的试样1～13，分别感觉到弹性体制的笔尖能够光滑地操作，成为书写感觉评价为◎这一结果。另一方面，实施了作为比较例的未处理的试样14、实施了SiO2涂布的试样15、以及实施了氟酸蚀刻的试样16～18均感觉到弹性体制的笔尖难以滑动，书写感觉评价为×。
[各试样的综合评价]
由以上的结果可知，如表2所示，关于作为实施例的试样1～13，通过形成于输入笔50的笔尖51所接触的主面20a的适当的微小凹凸形状，抑制笔尖51在玻璃基板20的主面20a上滑动并且适度地降低笔尖51与主面20a之间的摩擦力，从而成为得到良好的书写感觉的结果。
另一方面，对于作为比较例的未处理的试样14，输入笔50接触的主面20a的凹凸小，在弹性体制的笔尖51的情况下非常难以滑动，因此书写感差。
另外，对于实施了作为比较例的实施了SiO2涂布的试样15、以及实施了氟酸蚀刻的试样16～18，笔尖51过于滑动而产生钩挂，书写感觉差。
工业上的可利用性
本发明能够利用于输入装置用盖板构件以及输入装置。
附图标记说明：
10 输入装置
20 玻璃基板(输入装置用盖板构件)
20a 主面
30 显示器元件(显示器装置)
40 数字化仪电路(检测电路)
50 输入笔50
51 笔尖(摩擦件)
Rp 粗糙度曲线要素的最大峰高度
Rv 粗糙度曲线要素的最大谷深度
RSm 粗糙度曲线要素的平均长度
Sa 算术平均高度
Sv 最大谷深度
Λc 高通滤波器
λc1 高通滤波器的截止值
λs 低通滤波器
λs1 低通滤波器的截止值。

Claims (7)

1.一种输入装置用盖板构件，其配置于输入装置中的显示器装置的前表面侧，其特征在于，
在所述输入装置用盖板构件中的至少一个主面具有凹凸形状，
具有所述凹凸形状的主面中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv大于粗糙度曲线要素的最大峰高度Rp。
2.根据权利要求1所述的输入装置用盖板构件，其特征在于，
具有所述凹凸形状的主面中的、最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为6以上。
3.根据权利要求1所述的输入装置用盖板构件，其特征在于，
具有所述凹凸形状的主面中的、最大谷深度Sv与算术平均高度Sa之比即Sv/Sa为15以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的输入装置用盖板构件，其特征在于，
具有所述凹凸形状的主面中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度Rv与粗糙度曲线要素的平均长度RSm之比即Rv/RSm为0.001以上且0.1以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的输入装置用盖板构件，其特征在于，
具有所述凹凸形状的主面中的算术平均高度Sa为1nm以上且50nm以下。
6.一种输入装置，其特征在于，
所述输入装置具备权利要求1至5中任一项所述的输入装置用盖板构件、显示器装置以及检测笔输入的检测电路。
7.根据权利要求6所述的输入装置，其特征在于，
所述输入装置具备输入笔，该输入笔通过一边与所述输入装置用盖板构件的主面接触一边移动，来进行针对所述输入装置的笔输入。
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