CN117305783A - 一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 - Google Patents
一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117305783A CN117305783A CN202311183821.9A CN202311183821A CN117305783A CN 117305783 A CN117305783 A CN 117305783A CN 202311183821 A CN202311183821 A CN 202311183821A CN 117305783 A CN117305783 A CN 117305783A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- alloy
- touch
- copper alloy
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 42
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 90
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 90
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims abstract description 61
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 31
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 20
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 15
- 238000003801 milling Methods 0.000 claims description 15
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 claims description 14
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 10
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- LUKDNTKUBVKBMZ-UHFFFAOYSA-N aluminum scandium Chemical compound [Al].[Sc] LUKDNTKUBVKBMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 5
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 claims description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 5
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 5
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 2
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D7/00—Casting ingots, e.g. from ferrous metals
- B22D7/005—Casting ingots, e.g. from ferrous metals from non-ferrous metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23P—METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; COMBINED OPERATIONS; UNIVERSAL MACHINE TOOLS
- B23P15/00—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0068—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for particular articles not mentioned below
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/02—Making non-ferrous alloys by melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/08—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其技术方案要点是:包括以下具体步骤:步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;成分创新,膜层稳定性:纯铜靶材镀膜后膜层具有很高的导电性,而掺杂了Zr、Cr、Zn、Al等元素中的一种或多种可增强靶材镀膜膜层的抗氧化性、机械强度等,且满足膜层电导率≥70%IACS,通过引入惰性气体充分排气也能降低成品中的氧含量,从而提高了最终制品的纯度。
Description
技术领域
本发明涉及铜合金触控靶材技术领域,特别涉及一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法。
背景技术
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。
如授权公告号为CN214422738U的中国专利,其公开了一种铜靶材,属于溅射材料领域。铜靶材包括沿靶材厚度方向层叠设置的多个无晶界铜层,每个无晶界铜层的晶格取向相同且均为Cu(111)、Cu(110)、Cu(211)和Cu(100)中的一种
上述的这种铜靶材具有整体一致性较好的优点;但是上述的这种铜靶材以及市场上常用的靶材依旧存在着一些缺点,如:该种靶材具有很高的电导率,但其制备出的膜层抗氧化能力不能满足高温环境中长时间烘烤,因此需要提高其抗氧化能力;市面上也有CuAl合金靶材,可满足其抗氧化能力,但电导率不能满足≥70%IACS;而Ag元素可增强其机械性能,但对其抗氧化能力的增强影响不大;Fe对半导体材料有致命影响,Mg则对显示器另一种成分产生冲击,稀土的增加可以增强其抗氧化钪腐蚀能力,但稀土对氧敏感,极易吸收氧元素从而使合金变成氧化物,且安全性有风险
发明内容
针对背景技术中提到的问题,本发明的目的是提供一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,以解决背景技术中提到的问题。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,包括以下具体步骤:
步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;
步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;
步骤3、真空熔炼炉加热:根据合金元素和含量的不同设置温度1000℃-1300℃,将真空熔炼炉加热,使熔炼炉中的单质或合金原料熔化,维持真空熔炼炉中真空度;
步骤4、通气除杂:待原料全部熔化后,向真空熔炼炉中通入惰性气体,有助于金属溶液加热后产生的气体杂质上浮排出,从而去除杂质,最终得到高纯合金靶材;
步骤5、合金靶材浇铸成型加工:在真空状态下进行浇铸,保证高温溶液的流动性,冷却定型得到合金铸锭;
步骤6、高纯合金靶材轧制处理:将熔炼好的合金铸锭使用热轧机进行轧制操作,设置加热炉温度700℃-900℃,温度到达后将铸锭放入加热炉中保温1.5-3h,随后进行5~10道次轧制过程;
步骤7、高纯合金靶材退火处理:在500℃~700℃条件下对校平后的高纯合金靶材进行退火处理,退火时间1~1.5小时;
步骤8、高纯合金靶材铣削加工:采用铣床设备对高纯合金靶材的进行表面铣削加工,平均粒度在80~120μm;
步骤9、高纯合金靶材的应用:使用金属化贴合方法将其贴合于所需尺寸背板上,从而获得用于高端触控器件的高导电性能铜合金触控平面靶材,靶材大小不受限制。
较佳的,所述Zr元素的掺杂质量为1%-2%;所述Cr元素的掺杂质量为0.4%-1.1%,所述Zn元素的掺杂质量为0.03%-0.3%,所述Al元素的掺杂质量为0.5%-0.7%。
较佳的,所述步骤2中,将真空熔炼室抽真空至0.1-2.0Pa。
较佳的,所述步骤3中,同时对浇铸模具进行预热,避免高温溶液遇冷模具瞬间凝固缩孔导致成型不好。
较佳的,所述步骤5、合金成型加工中,控制氧含量≤160ppm。
较佳的,所述步骤6、合金靶材轧制处理中,控制铝钪板材总变形量为90%以上,厚度5-15mm,使用校平机校平板材,保证其平整度。
较佳的,为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比。
较佳的,所述步骤9中,当平面靶材性能满足需求后,可研制旋转靶材来提高其利用率,具体步骤如下:
步骤1:使用真空熔炼炉进行熔炼浇铸,工序与平面靶材步骤1-5一致;
步骤2:将熔炼好的合金铸锭进行挤压操作,使用穿孔挤压一次成型,从而达到所需尺寸;
步骤3:对挤压成型后的管材进行切割和机械加工,达到成品内外径尺寸的坯件;
步骤4:根据成品靶材计算坯件长度尺寸和用量,使用金属化贴合方式制备出成品高导电性能铜合金触控旋转靶材,此方式制备出的靶材不受尺寸限制。
较佳的,所述步骤2、真空熔炼中原料投入过程中采取均匀交错投料的方式。
综上所述,本发明主要具有以下有益效果:
第一、用于触控器件的铜合金触控靶材的制备方法中,成分创新,膜层稳定性:纯铜靶材镀膜后膜层具有很高的导电性,但是其抗氧化能力不够,在120℃环境中,膜层容易氧化,而掺杂了Zr、Cr、Zn、Al等元素中的一种或多种可增强靶材镀膜膜层的抗氧化性、机械强度等,且满足膜层电导率≥70%IACS;熔料均匀性:为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比,从而避免了温度差过大导致的个别元素氧化严重的现象;
第二、用于触控器件的铜合金触控靶材的制备方法中,成分均匀性:在原料投入过程中采取均匀交错投料的方式,减少成分偏析;氧含量对最终靶材的性能也有一定的影响,在整个工艺路线中熔料浇铸和冷却都在真空环境中,减少了材料的氧化,且通过引入惰性气体充分排气也能降低成品中的氧含量,从而提高了最终制品的纯度,且增加了成分均匀性;晶粒细小均匀:通过轧制工艺制备的靶材能够很好的细化晶粒,而热处理后能让晶粒更均匀,均匀的靶材性能会得到均匀的膜层性能;膜层稳定性:通过掺杂上述元素的铜合金靶材镀膜后的膜层能在170℃、40%湿度环境中烘烤60min,电阻值变化率≤10%。
附图说明
图1是本发明的流程框图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
参考图1,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,包括以下具体步骤:
步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;
步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;
步骤3、真空熔炼炉加热:根据合金元素和含量的不同设置温度1000℃,将真空熔炼炉加热,使熔炼炉中的单质或合金原料熔化,维持真空熔炼炉中真空度;
步骤4、通气除杂:待原料全部熔化后,向真空熔炼炉中通入惰性气体,有助于金属溶液加热后产生的气体杂质上浮排出,从而去除杂质,最终得到高纯合金靶材;
步骤5、合金靶材浇铸成型加工:在真空状态下进行浇铸,保证高温溶液的流动性,冷却定型得到合金铸锭;
步骤6、高纯合金靶材轧制处理:将熔炼好的合金铸锭使用热轧机进行轧制操作,设置加热炉温度700℃,温度到达后将铸锭放入加热炉中保温1.5h,随后进行5道次轧制过程;
步骤7、高纯合金靶材退火处理:在500℃条件下对校平后的高纯合金靶材进行退火处理,退火时间1小时;
步骤8、高纯合金靶材铣削加工:采用铣床设备对高纯合金靶材的进行表面铣削加工,平均粒度在80μm;
步骤9、高纯合金靶材的应用:使用金属化贴合方法将其贴合于所需尺寸背板上,从而获得用于高端触控器件的高导电性能铜合金触控平面靶材,靶材大小不受限制。
较佳的,Zr元素的掺杂质量为1%;Cr元素的掺杂质量为0.4%,Zn元素的掺杂质量为0.03%,Al元素的掺杂质量为0.5%。
较佳的,步骤2中,将真空熔炼室抽真空至0.1Pa。
较佳的,步骤3中,同时对浇铸模具进行预热,避免高温溶液遇冷模具瞬间凝固缩孔导致成型不好。
较佳的,步骤5、合金成型加工中,控制氧含量≤160ppm。
较佳的,步骤6、合金靶材轧制处理中,控制铝钪板材总变形量为90%以上,厚度5mm,使用校平机校平板材,保证其平整度。
较佳的,为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比。
较佳的,步骤9中,当平面靶材性能满足需求后,可研制旋转靶材来提高其利用率,具体步骤如下:
步骤1:使用真空熔炼炉进行熔炼浇铸,工序与平面靶材步骤1-5一致;
步骤2:将熔炼好的合金铸锭进行挤压操作,使用穿孔挤压一次成型,从而达到所需尺寸;
步骤3:对挤压成型后的管材进行切割和机械加工,达到成品内外径尺寸的坯件;
步骤4:根据成品靶材计算坯件长度尺寸和用量,使用金属化贴合方式制备出成品高导电性能铜合金触控旋转靶材,此方式制备出的靶材不受尺寸限制。
较佳的,步骤2、真空熔炼中原料投入过程中采取均匀交错投料的方式。
实施例2
参考图1,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,包括以下具体步骤:
步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;
步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;
步骤3、真空熔炼炉加热:根据合金元素和含量的不同设置温度1150℃,将真空熔炼炉加热,使熔炼炉中的单质或合金原料熔化,维持真空熔炼炉中真空度;
步骤4、通气除杂:待原料全部熔化后,向真空熔炼炉中通入惰性气体,有助于金属溶液加热后产生的气体杂质上浮排出,从而去除杂质,最终得到高纯合金靶材;
步骤5、合金靶材浇铸成型加工:在真空状态下进行浇铸,保证高温溶液的流动性,冷却定型得到合金铸锭;
步骤6、高纯合金靶材轧制处理:将熔炼好的合金铸锭使用热轧机进行轧制操作,设置加热炉温度800℃,温度到达后将铸锭放入加热炉中保温2.3h,随后进行8道次轧制过程;
步骤7、高纯合金靶材退火处理:在600℃条件下对校平后的高纯合金靶材进行退火处理,退火时间1.2小时;
步骤8、高纯合金靶材铣削加工:采用铣床设备对高纯合金靶材的进行表面铣削加工,平均粒度在100μm;
步骤9、高纯合金靶材的应用:使用金属化贴合方法将其贴合于所需尺寸背板上,从而获得用于高端触控器件的高导电性能铜合金触控平面靶材,靶材大小不受限制。
较佳的,Zr元素的掺杂质量为1.5%;Cr元素的掺杂质量为0.8%,Zn元素的掺杂质量为0.1%,Al元素的掺杂质量为0.6%。
较佳的,步骤2中,将真空熔炼室抽真空至1.0Pa。
较佳的,步骤3中,同时对浇铸模具进行预热,避免高温溶液遇冷模具瞬间凝固缩孔导致成型不好。
较佳的,步骤5、合金成型加工中,控制氧含量≤160ppm。
较佳的,步骤6、合金靶材轧制处理中,控制铝钪板材总变形量为90%以上,厚度10mm,使用校平机校平板材,保证其平整度。
较佳的,为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比。
较佳的,步骤9中,当平面靶材性能满足需求后,可研制旋转靶材来提高其利用率,具体步骤如下:
步骤1:使用真空熔炼炉进行熔炼浇铸,工序与平面靶材步骤1-5一致;
步骤2:将熔炼好的合金铸锭进行挤压操作,使用穿孔挤压一次成型,从而达到所需尺寸;
步骤3:对挤压成型后的管材进行切割和机械加工,达到成品内外径尺寸的坯件;
步骤4:根据成品靶材计算坯件长度尺寸和用量,使用金属化贴合方式制备出成品高导电性能铜合金触控旋转靶材,此方式制备出的靶材不受尺寸限制。
较佳的,步骤2、真空熔炼中原料投入过程中采取均匀交错投料的方式。
实施例3
参考图1,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,包括以下具体步骤:
步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;
步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;
步骤3、真空熔炼炉加热:根据合金元素和含量的不同设置温度1300℃,将真空熔炼炉加热,使熔炼炉中的单质或合金原料熔化,维持真空熔炼炉中真空度;
步骤4、通气除杂:待原料全部熔化后,向真空熔炼炉中通入惰性气体,有助于金属溶液加热后产生的气体杂质上浮排出,从而去除杂质,最终得到高纯合金靶材;
步骤5、合金靶材浇铸成型加工:在真空状态下进行浇铸,保证高温溶液的流动性,冷却定型得到合金铸锭;
步骤6、高纯合金靶材轧制处理:将熔炼好的合金铸锭使用热轧机进行轧制操作,设置加热炉温度900℃,温度到达后将铸锭放入加热炉中保温3h,随后进行10道次轧制过程;
步骤7、高纯合金靶材退火处理:在700℃条件下对校平后的高纯合金靶材进行退火处理,退火时间1.5小时;
步骤8、高纯合金靶材铣削加工:采用铣床设备对高纯合金靶材的进行表面铣削加工,平均粒度在120μm;
步骤9、高纯合金靶材的应用:使用金属化贴合方法将其贴合于所需尺寸背板上,从而获得用于高端触控器件的高导电性能铜合金触控平面靶材,靶材大小不受限制。
较佳的,Zr元素的掺杂质量为2%;Cr元素的掺杂质量为1.1%,Zn元素的掺杂质量为0.3%,Al元素的掺杂质量为0.7%。
较佳的,步骤2中,将真空熔炼室抽真空至2.0Pa。
较佳的,步骤3中,同时对浇铸模具进行预热,避免高温溶液遇冷模具瞬间凝固缩孔导致成型不好。
较佳的,步骤5、合金成型加工中,控制氧含量≤160ppm。
较佳的,步骤6、合金靶材轧制处理中,控制铝钪板材总变形量为90%以上,厚度15mm,使用校平机校平板材,保证其平整度。
较佳的,为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比。
较佳的,步骤9中,当平面靶材性能满足需求后,可研制旋转靶材来提高其利用率,具体步骤如下:
步骤1:使用真空熔炼炉进行熔炼浇铸,工序与平面靶材步骤1-5一致;
步骤2:将熔炼好的合金铸锭进行挤压操作,使用穿孔挤压一次成型,从而达到所需尺寸;
步骤3:对挤压成型后的管材进行切割和机械加工,达到成品内外径尺寸的坯件;
步骤4:根据成品靶材计算坯件长度尺寸和用量,使用金属化贴合方式制备出成品高导电性能铜合金触控旋转靶材,此方式制备出的靶材不受尺寸限制。
较佳的,步骤2、真空熔炼中原料投入过程中采取均匀交错投料的方式。
通过以上现状分析和可掺杂元素排除,选用了Zr、Cr、Zn、Al等元素中的一种或多种来掺杂进行实验,Zr、Cr等元素具有很好的稳定性,掺杂1%-2%Zr时电导率即可达到95%IACS;掺杂0.4%-1.1%Cr+0.03%-0.3%Zr时电导率可达78%-86%IACS。
使用原理及优点:
该用于触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其成分创新,膜层稳定性:纯铜靶材镀膜后膜层具有很高的导电性,但是其抗氧化能力不够,在120℃环境中,膜层容易氧化,而掺杂了Zr、Cr、Zn、Al等元素中的一种或多种可增强靶材镀膜膜层的抗氧化性、机械强度等,且满足膜层电导率≥70%IACS;熔料均匀性:为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比,从而避免了温度差过大导致的个别元素氧化严重的现象,成分均匀性:在原料投入过程中采取均匀交错投料的方式,减少成分偏析;氧含量对最终靶材的性能也有一定的影响,在整个工艺路线中熔料浇铸和冷却都在真空环境中,减少了材料的氧化,且通过引入惰性气体充分排气也能降低成品中的氧含量,从而提高了最终制品的纯度,且增加了成分均匀性;晶粒细小均匀:通过轧制工艺制备的靶材能够很好的细化晶粒,而热处理后能让晶粒更均匀,均匀的靶材性能会得到均匀的膜层性能;膜层稳定性:通过掺杂上述元素的铜合金靶材镀膜后的膜层能在170℃、40%湿度环境中烘烤60min,电阻值变化率≤10%。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (9)
1.一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:包括以下具体步骤:
步骤1、靶材掺杂元素的选取和配比:根据最终所需达到膜层性能,从Zr、Cr、Zn、Al中选取计算,并分析出靶材元素掺杂元素种类和配比;
步骤2、真空熔炼:将计算配比好的单质或合金原料投入真空熔炼炉中;
步骤3、真空熔炼炉加热:根据合金元素和含量的不同设置温度1000℃-1300℃,将真空熔炼炉加热,使熔炼炉中的单质或合金原料熔化,维持真空熔炼炉中真空度;
步骤4、通气除杂:待原料全部熔化后,向真空熔炼炉中通入惰性气体,有助于金属溶液加热后产生的气体杂质上浮排出,从而去除杂质,最终得到高纯合金靶材;
步骤5、合金靶材浇铸成型加工:在真空状态下进行浇铸,保证高温溶液的流动性,冷却定型得到合金铸锭;
步骤6、高纯合金靶材轧制处理:将熔炼好的合金铸锭使用热轧机进行轧制操作,设置加热炉温度700℃-900℃,温度到达后将铸锭放入加热炉中保温1.5-3h,随后进行5~10道次轧制过程;
步骤7、高纯合金靶材退火处理:在500℃~700℃条件下对校平后的高纯合金靶材进行退火处理,退火时间1~1.5小时;
步骤8、高纯合金靶材铣削加工:采用铣床设备对高纯合金靶材的进行表面铣削加工,平均粒度在80~120μm;
步骤9、高纯合金靶材的应用:使用金属化贴合方法将其贴合于所需尺寸背板上,从而获得用于高端触控器件的高导电性能铜合金触控平面靶材,靶材大小不受限制。
2.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述Zr元素的掺杂质量为1%-2%;所述Cr元素的掺杂质量为0.4%-1.1%,所述Zn元素的掺杂质量为0.03%-0.3%,所述Al元素的掺杂质量为0.5%-0.7%。
3.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤2中,将真空熔炼室抽真空至0.1-2.0Pa。
4.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤3中,同时对浇铸模具进行预热,避免高温溶液遇冷模具瞬间凝固缩孔导致成型不好。
5.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤5、合金成型加工中,控制氧含量≤160ppm。
6.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤6、合金靶材轧制处理中,控制铝钪板材总变形量为90%以上,厚度5-15mm,使用校平机校平板材,保证其平整度。
7.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:为了使熔炼过程中熔炼温度差最小,通过二元相图或多元相图计算出原料合金的成分和配比。
8.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤9中,当平面靶材性能满足需求后,可研制旋转靶材来提高其利用率,具体步骤如下:
步骤1:使用真空熔炼炉进行熔炼浇铸,工序与平面靶材步骤1-5一致;
步骤2:将熔炼好的合金铸锭进行挤压操作,使用穿孔挤压一次成型,从而达到所需尺寸;
步骤3:对挤压成型后的管材进行切割和机械加工,达到成品内外径尺寸的坯件;
步骤4:根据成品靶材计算坯件长度尺寸和用量,使用金属化贴合方式制备出成品高导电性能铜合金触控旋转靶材,此方式制备出的靶材不受尺寸限制。
9.根据权利要求1所述的一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法,其特征在于:所述步骤2、真空熔炼中原料投入过程中采取均匀交错投料的方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311183821.9A CN117305783A (zh) | 2023-09-14 | 2023-09-14 | 一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311183821.9A CN117305783A (zh) | 2023-09-14 | 2023-09-14 | 一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN117305783A true CN117305783A (zh) | 2023-12-29 |
Family
ID=89249042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311183821.9A Pending CN117305783A (zh) | 2023-09-14 | 2023-09-14 | 一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN117305783A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005094280A2 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Honeywell International Inc. | High-strength backing plates, target assemblies, and methods of forming high-strength backing plates and target assemblies |
US20070039817A1 (en) * | 2003-08-21 | 2007-02-22 | Daniels Brian J | Copper-containing pvd targets and methods for their manufacture |
US20100000860A1 (en) * | 2006-09-08 | 2010-01-07 | Tosoh Smd, Inc. | Copper Sputtering Target With Fine Grain Size And High Electromigration Resistance And Methods Of Making the Same |
WO2018163861A1 (ja) * | 2017-03-06 | 2018-09-13 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
CN114381631A (zh) * | 2022-01-12 | 2022-04-22 | 深圳市众诚达应用材料科技有限公司 | 一种镀膜用靶材及其制备方法 |
CN115595540A (zh) * | 2022-10-21 | 2023-01-13 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司(Cn) | 一种铝钪合金靶材的制备工艺 |
-
2023
- 2023-09-14 CN CN202311183821.9A patent/CN117305783A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070039817A1 (en) * | 2003-08-21 | 2007-02-22 | Daniels Brian J | Copper-containing pvd targets and methods for their manufacture |
WO2005094280A2 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Honeywell International Inc. | High-strength backing plates, target assemblies, and methods of forming high-strength backing plates and target assemblies |
US20100000860A1 (en) * | 2006-09-08 | 2010-01-07 | Tosoh Smd, Inc. | Copper Sputtering Target With Fine Grain Size And High Electromigration Resistance And Methods Of Making the Same |
WO2018163861A1 (ja) * | 2017-03-06 | 2018-09-13 | 三菱マテリアル株式会社 | Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
CN114381631A (zh) * | 2022-01-12 | 2022-04-22 | 深圳市众诚达应用材料科技有限公司 | 一种镀膜用靶材及其制备方法 |
CN115595540A (zh) * | 2022-10-21 | 2023-01-13 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司(Cn) | 一种铝钪合金靶材的制备工艺 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
何金江等: ""集成电路用高纯金属溅射靶材发展研究"", 《中国工程科学》, vol. 25, no. 1, 13 February 2023 (2023-02-13), pages 79 - 87 * |
高岩等: ""大规模集成电路用高纯铜及铜合金靶材研究与应用现状"", 《材料导报》, vol. 32, 25 November 2018 (2018-11-25), pages 111 - 121 * |
黄国杰等: "《铜加工生产技术500问》", 31 May 2023, 冶金工业出版社, pages: 112 - 113 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111455223B (zh) | 铝钪合金靶材及其制备方法 | |
CN102367568B (zh) | 高纯钽靶材制备方法 | |
TWI457450B (zh) | 銀系圓筒靶及其製造方法 | |
WO2012005098A1 (ja) | Cu-Ga合金およびCu-Ga合金スパッタリングターゲット | |
US20070137831A1 (en) | Method of manufacturing aluminum and aluminum alloy sputtering targets | |
KR20020028890A (ko) | 구리 스퍼터링 타겟 어셈블리 및 그 제조방법 | |
WO2021023284A1 (zh) | 高钪含量铝钪合金靶材及其制备方法 | |
CN1940104A (zh) | 引线框架用铜合金及其制造方法 | |
US10161032B2 (en) | High-purity titanium ingots, manufacturing method therefor, and titanium sputtering target | |
TWI617680B (zh) | Cu-Ga alloy sputtering target and manufacturing method thereof | |
CN105296945A (zh) | 一种铝合金溅射靶材及其制备方法 | |
CN111286703B (zh) | 一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法 | |
CN111471905B (zh) | 一种用于3D打印的Al-Zn-Mg-Sc系铝合金丝材及其制备方法 | |
CN107429322A (zh) | 散热元件用铜合金板和散热元件 | |
CN110904364A (zh) | 一种铝合金靶材的制备方法 | |
JP6274026B2 (ja) | 銅合金スパッタリングターゲット及び銅合金スパッタリングターゲットの製造方法 | |
CN117305783A (zh) | 一种触控器件的铜合金触控靶材的制备方法 | |
JP5750393B2 (ja) | Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
CN116397128A (zh) | 一种稀土铜铬合金材料及其制备方法 | |
CN105177513A (zh) | 一种用粉末冶金法制备高性能钽靶材的方法 | |
KR102472890B1 (ko) | 열전도율이 우수한 주조용 알루미늄 합금 및 알루미늄 합금 주조방법 | |
KR102044983B1 (ko) | 고내식 마그네슘 합금 및 그 제조방법 | |
RU2559803C2 (ru) | СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОМПОЗИЦИОННОГО СВЕРХПРОВОДЯЩЕГО ПРОВОДА НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЯ Nb3Sn И ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ ЛИНИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОМПОЗИЦИОННОГО СВЕРХПРОВОДЯЩЕГО ПРОВОДА НА ОСНОВЕ СОЕДИНЕНИЯ Nb3Sn | |
CN115612874B (zh) | 一种大尺寸细晶TiAl合金靶材的制备方法 | |
WO2022185859A1 (ja) | 熱延銅合金板およびスパッタリングターゲット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |