CN116985039A - 一种双面抛光机的水冷机构 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 125
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 21
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 34
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 14
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 5
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000008400 supply water Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004018 waxing Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B55/00—Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
- B24B55/02—Equipment for cooling the grinding surfaces, e.g. devices for feeding coolant
- B24B55/03—Equipment for cooling the grinding surfaces, e.g. devices for feeding coolant designed as a complete equipment for feeding or clarifying coolant
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
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Abstract
本发明公开了一种双面抛光机的水冷机构,涉及抛光机水冷机构技术领域,包括开设在下磨板上端面上的多个疏水槽,多个疏水槽在下磨板上呈圆周等距分布,下磨板中心位置开设有安装孔,安装孔的周侧内壁上固定设置中转盒,多个疏水槽的均与中转盒连通,在中转盒的下方还设置有上水组件。通过在下磨板的上表面开设多个由主槽与扩散槽共同构成的疏水槽,并在下磨板的中部固定中转盒,且将多个疏水槽与中转盒连通,再由上水组件向中转盒内供水,当双面抛光机在对待抛光物进行抛光时,在水孔中淋水对待抛光物上表面进行降温的同时,通过将疏水槽对待抛光物下表面进行水冷,进而对待抛光物双面都能够实现很好的降温效果,有利于抛光工作的进行。
Description
技术领域
本发明属于抛光机水冷机构技术领域,具体涉及一种双面抛光机的水冷机构。
背景技术
抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作时,电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。而抛光机通常分为单面抛光机与双面抛光机,相较于单面抛光机而言,双面抛光机的抛光效率更高。
双面抛光机在使用过程中,由于摩擦往往会产生大量的热量,为了对保证抛光机以及抛光工件进行保护,就需要使用到水冷机构来给抛光部位进行降温。而针对常见的双面抛光机而言,其只在抛光件的上方的磨板上开设了通孔,并在通孔上连接设置了水管,再通过水管将水淋到抛光物上,以此来实现对抛光物进行降温的效果,由于抛光物的双面都在进行抛光处理,所以仅仅一面进行水冷,是不能对抛光物起到很好的降温的,有待优化。
发明内容
本发明的目的在于提供一种双面抛光机的水冷机构,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种双面抛光机的水冷机构,包括开设在下磨板上端面上的多个疏水槽,多个所述疏水槽在下磨板上呈圆周等距分布,所述下磨板中心位置开设有安装孔,所述安装孔的周侧内壁上固定设置中转盒,多个所述疏水槽的均与中转盒连通,在所述中转盒的下方还设置有上水组件。
优选的,所述上水组件包括:
存水箱,所述存水箱转动设置在中转盒的下方,所述存水箱上端与中转盒下部连通设置;
转动杆,所述转动杆轴向转动设置在存水箱内;
提水叶片,所述提水叶片为螺旋叶片,所述提水叶片固定设置在转动杆侧壁上。
优选的,所述上水组件还包括转动接头,所述转动接头设置在存水箱与中转盒之间,所述存水箱与中转盒之间通过转动接头转动连接。
优选的,所述疏水槽包括主槽以及扩散槽,所述主槽与中转盒连通设置,所述主槽在下磨板上径向设置,所述扩散槽呈发散状连通设置在主槽两侧。
优选的,所述存水箱上下端内侧壁上均固定设置有支撑架,所述转动杆的上下两端分别转动设置在两支撑架上,所述转动杆通过支撑架设置在存水箱内。
优选的,所述下磨板下方还设置有工作台,所述下磨板转动设置在工作台上,所述下磨板底部端面上固定设置有多个齿牙,多个所述齿牙呈等距圆周分布在下磨板上,所述工作台底部还设置有转动电机,所述转动电机输出端同轴固定有转动齿盘,所述转动齿盘与齿牙啮合设置,所述转动齿盘与转动杆之间还设置有驱动组件。
优选的,所述驱动组件包括:
连接杆,所述连接杆固定设置在转动齿盘远离转动电机的一侧壁上,所述连接杆与转动齿盘同轴设置;
转动孔,所述转动孔贯穿开设在存水箱的侧壁上,所述连接杆远离转动齿盘的一端转动贯穿设置在转动孔上;
驱动锥齿轮,所述驱动锥齿轮同轴固定在位于存水箱内部的连接杆杆体端头;
从动锥齿轮,所述从动锥齿轮同轴固定连接在转动杆上,且所述从动锥齿轮与驱动锥齿轮啮合设置。
优选的,所述工作台底部端面上固定连接有支撑腿,所述支撑腿的侧壁上固定设置有固定板,所述固定板上端面与存水箱下端面固定连接。
优选的,所述工作台底部端面上固定设置有电机套,所述转动电机通过电机套固定设置在工作台底部端面上。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
1.本发明通过在下磨板的上表面开设多个由主槽与扩散槽共同构成的疏水槽,并在下磨板的中部固定中转盒,且将多个疏水槽与中转盒连通,再由存水箱向中转盒内供水,当双面抛光机在对待抛光物进行抛光时,在水孔中淋水对待抛光物上表面进行降温的同时,通过将疏水槽对待抛光物下表面进行水冷,从而实现降温效果,进而对待抛光物双面实现很好的降温效果,有利于抛光工作的进行。
2.本发明通过在驱动下磨板的转动齿盘的另一侧壁上固定连接杆,并在连接杆的另一端同轴固定驱动锥齿轮,进一步的,在转动杆上同轴固定与驱动锥齿轮啮合的从动锥齿轮,可以在给下磨板提供转动动力的同时,将存水箱内的水提入中转盒内,进而保证可以不断地向疏水槽内提供水,保证待抛光物的下表面能够得到水冷效果以及保证对待抛光物降温效果的正常实现。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图;
图2为下磨板上疏水槽分布图;
图3为图2中A处放大示意图;
图4为本发明爆炸结构示意图;
图5为本发明另一角度爆炸结构示意图;
图6为存水箱内部结构示意图。
图中:1、下磨板;11、疏水槽;111、主槽;112、扩散槽;12、安装孔;13、中转盒;14、齿牙;
2、上水组件;21、存水箱;211、支撑架;22、转动杆;23、提水叶片;24、转动接头;
3、工作台;31、转动电机;32、转动齿盘;33、支撑腿;34、固定板;35、电机套;
4、驱动组件;41、连接杆;42、转动孔;43、驱动锥齿轮;44、从动锥齿轮;
5、上磨板;51、水孔;52、水管;
6、限位板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
为了更好的理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
实施例一:
如图1-图6所示,一种双面抛光机的水冷机构,包括开设在下磨板1上端面上的多个疏水槽11,下磨板1上方设置有用于对加工件上表面进行抛光的上磨板5,上磨板5上贯穿开设有多个水孔51,水孔51上连通有水管52,上磨板5与下磨板1之间设置有用于对抛光物进行位置限定的限位板6。进一步的,将多个疏水槽11在下磨板1上呈圆周等距分布,下磨板1中心位置开设有安装孔12,安装孔12的周侧内壁上固定设置中转盒13,多个疏水槽11的均与中转盒13连通,在中转盒13的下方还设置有上水组件2。
其中上水组件2包括:存水箱21、转动杆22、提水叶片23。
上水组件2中的存水箱21转动设置在中转盒13的下方,存水箱21上端与中转盒13下部连通设置,且存水箱21接通水源;转动杆22轴向转动设置在存水箱21内;提水叶片23为螺旋叶片,提水叶片23固定设置在转动杆22侧壁上。
上述上水组件2还包括转动接头24,转动接头24设置在存水箱21与中转盒13之间,存水箱21与中转盒13之间通过转动接头24转动连接。
需要说明的是:当双面抛光机工作,对待抛光物的双面进行抛光时,抛光过程中由于摩擦会产生大量的热能,为了保证双面抛光机能过正常的对待抛光物进行抛光以及保证带抛光物的质量,通过设置在上磨板5上的水管52向水孔51中加水,从而使水从待抛光物的上方淋下,进而使待抛光物的上表面得到水冷效果,进而实现降温的效果。
进一步的,先在存水箱21内存满水,再通过转动轴向设置在存水箱21内的转动杆22,来带动固定在转动杆22外壁上提水叶片23,进而将存水箱21内的水上提,存水箱21内的水上提进入中转盒,由于中转盒13与下磨板1是固定在一起的,所以在下磨板1的转动作用下,位于中转盒13内的水会由于受到离心力的作用而向连通在中转盒13周侧的疏水槽11内流动,进而对放置在下磨板1上表面上的待抛光物的下表面实现水冷效果,进而对待抛光物的下表面进行降温。
进一步的,如图2、3所示,疏水槽11包括主槽111以及扩散槽112,主槽111与中转盒13连通设置,主槽111在下磨板1上径向设置,扩散槽112呈发散状连通设置在主槽111两侧。
通过设置由主槽111与扩散槽112共同构成的疏水槽11,可以使待抛光物下表面的水更加分散,进而使双面抛光机的水冷机构能够实现更好的水冷效果,进而进一步提高双面抛光机水冷机构的降温效果。
上述设置,通过在下磨板1的上表面开设多个由主槽111与扩散槽112共同构成的疏水槽11,并在下磨板1的中部固定中转盒13,且将多个疏水槽11与中转盒13连通,再由存水箱21向中转盒13内供水,当双面抛光机在对待抛光物进行抛光时,在水孔51中淋水对待抛光物上表面进行降温的同时,通过将疏水槽11对待抛光物下表面进行水冷,从而实现降温效果,进而对待抛光物双面实现很好的降温效果,有利于抛光工作的进行。
在其中存水箱21上下端内侧壁上均固定设置有支撑架211,转动杆22的上下两端分别转动设置在两支撑架211上,转动杆22通过支撑架211设置在存水箱21内。
实施例二:
本实施例与实施例一区别之处在于,如图4-6所示,下磨板1下方还设置有工作台3,下磨板1转动设置在工作台3上,下磨板1底部端面上固定设置有多个齿牙14,多个齿牙14呈等距圆周分布在下磨板1上,工作台3底部还设置有转动电机31,转动电机31输出端同轴固定有转动齿盘32,转动齿盘32与齿牙14啮合设置,转动齿盘32与转动杆22之间还设置有驱动组件4。
其中驱动组件4包括:连接杆41、转动孔42、驱动锥齿轮43以及从动锥齿轮44。
连接杆41固定设置在转动齿盘32远离转动电机31的一侧壁上,连接杆41与转动齿盘32同轴设置;转动孔42贯穿开设在存水箱21的侧壁上,连接杆41远离转动齿盘32的一端转动贯穿设置在转动孔42上;驱动锥齿轮43同轴固定在位于存水箱21内部的连接杆41杆体端头;从动锥齿轮44同轴固定连接在转动杆22上,且从动锥齿轮44与驱动锥齿轮43啮合设置。
需要说明的是:双面抛光机工作时,通过转动电机31的转动使同轴固定的转动齿盘32一起转动,转动齿盘32的转动会带动通过齿牙14一起转动,进而使下磨板1转动,用于给下磨板1提供转动的动力。
进一步的,转动齿盘32的转动会带动同轴固定在另一侧壁上的连接杆41进行转动,进而带动固定在连接杆41另一端的驱动锥齿轮43同步转动,与此同时,与驱动锥齿轮43啮合的从动锥齿轮44也开始转动,进而带动转动杆22转动,转动杆22的转动会带动提水叶片23,进而将存水箱21内的水提入中转盒13内,进而可以使中转盒13内一直有水,进而保证可以不断地向疏水槽11内提供水,从而保证待抛光物的下表面能够得到水冷效果,保证降温效果的正常实现。
上述设置,通过在驱动下磨板1的转动齿盘43的另一侧壁上固定连接杆41,并在连接杆41的另一端同轴固定驱动锥齿轮43,进一步的,在转动杆22上同轴固定与驱动锥齿轮43啮合的从动锥齿轮44,可以在给下磨板1提供转动动力的同时,将存水箱21内的水提入中转盒13内,进而保证可以不断地向疏水槽11内提供水,保证待抛光物的下表面能够得到水冷效果以及保证对待抛光物降温效果的正常实现。
如图1所示,工作台3底部端面上固定连接有支撑腿33,支撑腿33的侧壁上固定设置有固定板34,固定板34上端面与存水箱21下端面固定连接。进一步的,在工作台3底部端面上固定设置有电机套35,转动电机31通过电机套35固定设置在工作台3底部端面上。
固定板34用于对存水箱21进行固定,电机套35用于对转动电机31进行固定。
最后应说明的是:以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种双面抛光机的水冷机构,包括开设在下磨板(1)上端面上的多个疏水槽(11),其特征在于:多个所述疏水槽(11)在下磨板(1)上呈圆周等距分布,所述下磨板(1)中心位置开设有安装孔(12),所述安装孔(12)的周侧内壁上固定设置中转盒(13),多个所述疏水槽(11)的均与中转盒(13)连通,在所述中转盒(13)的下方还设置有上水组件(2)。
2.根据权利要求1所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述上水组件(2)包括:
存水箱(21),所述存水箱(21)转动设置在中转盒(13)的下方,所述存水箱(21)上端与中转盒(13)下部连通设置;
转动杆(22),所述转动杆(22)轴向转动设置在存水箱(21)内;
提水叶片(23),所述提水叶片(23)为螺旋叶片,所述提水叶片(23)固定设置在转动杆(22)侧壁上。
3.根据权利要求2所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述上水组件(2)还包括转动接头(24),所述转动接头(24)设置在存水箱(21)与中转盒(13)之间,所述存水箱(21)与中转盒(13)之间通过转动接头(24)转动连接。
4.根据权利要求1所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述疏水槽(11)包括主槽(111)以及扩散槽(112),所述主槽(111)与中转盒(13)连通设置,所述主槽(111)在下磨板(1)上径向设置,所述扩散槽(112)呈发散状连通设置在主槽(111)两侧。
5.根据权利要求2所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述存水箱(21)上下端内侧壁上均固定设置有支撑架(211),所述转动杆(22)的上下两端分别转动设置在两支撑架(211)上,所述转动杆(22)通过支撑架(211)设置在存水箱(21)内。
6.根据权利要求2所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述下磨板(1)下方还设置有工作台(3),所述下磨板(1)转动设置在工作台(3)上,所述下磨板(1)底部端面上固定设置有多个齿牙(14),多个所述齿牙(14)呈等距圆周分布在下磨板(1)上,所述工作台(3)底部还设置有转动电机(31),所述转动电机(31)输出端同轴固定有转动齿盘(32),所述转动齿盘(32)与齿牙(14)啮合设置,所述转动齿盘(32)与转动杆(22)之间还设置有驱动组件(4)。
7.根据权利要求6所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述驱动组件(4)包括:
连接杆(41),所述连接杆(41)固定设置在转动齿盘(32)远离转动电机(31)的一侧壁上,所述连接杆(41)与转动齿盘(32)同轴设置;
转动孔(42),所述转动孔(42)贯穿开设在存水箱(21)的侧壁上,所述连接杆(41)远离转动齿盘(32)的一端转动贯穿设置在转动孔(42)上;
驱动锥齿轮(43),所述驱动锥齿轮(43)同轴固定在位于存水箱(21)内部的连接杆(41)杆体端头;
从动锥齿轮(44),所述从动锥齿轮(44)同轴固定连接在转动杆(22)上,且所述从动锥齿轮(44)与驱动锥齿轮(43)啮合设置。
8.根据权利要求6所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述工作台(3)底部端面上固定连接有支撑腿(33),所述支撑腿(33)的侧壁上固定设置有固定板(34),所述固定板(34)上端面与存水箱(21)下端面固定连接。
9.根据权利要求6所述的一种双面抛光机的水冷机构,其特征在于:所述工作台(3)底部端面上固定设置有电机套(35),所述转动电机(31)通过电机套(35)固定设置在工作台(3)底部端面上。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311012262.5A CN116985039A (zh) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | 一种双面抛光机的水冷机构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202311012262.5A CN116985039A (zh) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | 一种双面抛光机的水冷机构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116985039A true CN116985039A (zh) | 2023-11-03 |
Family
ID=88524576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311012262.5A Pending CN116985039A (zh) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | 一种双面抛光机的水冷机构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116985039A (zh) |
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