CN116953825A - 金属遮光元件、成像镜头模块及电子装置 - Google Patents

金属遮光元件、成像镜头模块及电子装置 Download PDF

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CN116953825A CN202211113505.XA CN202211113505A CN116953825A CN 116953825 A CN116953825 A CN 116953825A CN 202211113505 A CN202211113505 A CN 202211113505A CN 116953825 A CN116953825 A CN 116953825A
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张临安
周明达
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Abstract

一种金属遮光元件、成像镜头模块及电子装置，金属遮光元件环绕于一中心轴，且包含一外径面、一第一环面、一第二环面及一抗反射层。外径面环绕金属遮光元件。第一环面相对外径面设置，且第一环面较外径面靠近中心轴。第二环面相对外径面设置，第二环面较外径面靠近中心轴，且第一环面与第二环面连接并且形成一最小开孔结构。抗反射层设置于第一环面与第二环面，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层与一纳米结构层，其中纳米结构层设置于光线吸收层上。借此，可提升遮光效率。

Description

金属遮光元件、成像镜头模块及电子装置
技术领域
本揭示内容是关于一种金属遮光元件与成像镜头模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的金属遮光元件与成像镜头模块。
背景技术
近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的成像镜头模块与其金属遮光元件也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于金属遮光元件的品质要求也愈来愈高。
请参照图9，其为依照现有技术中成像镜头模块90的示意图。由图9可知，现有技术中的成像镜头模块90常因成像透镜组91外周的组装元件(如保护玻璃94)的反射，导致非成像光线L的产生。因此，发展一种可提供较高遮光效率的金属遮光元件遂成为产业上重要且急欲解决的问题。
发明内容
本揭示内容提供一种金属遮光元件、成像镜头模块及电子装置，通过设置抗反射层以防止非成像光线进入成像镜头模块，借以提供较高的遮光效率。
依据本揭示内容一实施方式提供一种金属遮光元件，其环绕于一中心轴，且包含一外径面、一第一环面、一第二环面及一抗反射层。外径面环绕金属遮光元件。第一环面相对外径面设置，且第一环面较外径面靠近中心轴。第二环面相对外径面设置，第二环面较外径面靠近中心轴，且第一环面与第二环面连接并且形成一最小开孔结构。抗反射层设置于第一环面与第二环面，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层与一纳米结构层，其中纳米结构层设置于光线吸收层上。最小开孔结构为一尖端开孔结构，且第一环面与第二环面形成一夹角，夹角为α，其满足下列条件：0度<α≤170度。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中光线吸收层为碳黑材料层。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中纳米结构层包含多个纳米结构单元，且纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中纳米结构层包含一连接层，且连接层设置于光线吸收层与纳米脊状凸起结构层之间。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中连接层的厚度为d，其满足下列条件：30nm≤d≤500nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中各纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：90nm≤h≤350nm。另外，其满足下列条件：90nm≤h≤290nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中尖端开孔结构具有至少一缩孔结构，且缩孔结构较尖端开孔结构的最大外径靠近中心轴。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中夹角为α，其满足下列条件：10度≤α≤150度。另外，其满足下列条件：20度≤α≤120度。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，还包含一凹槽结构，其中凹槽结构设置于第一环面与第二环面中至少一者，凹槽结构朝向外径面凹陷，且抗反射层的至少一部分设置于凹槽结构上。
依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头模块，其包含一成像透镜组与至少一如前述实施方式的金属遮光元件，其中金属遮光元件与成像透镜组对应设置。
依据本揭示内容一实施方式提供一种电子装置，其包含如前述实施方式的成像镜头模块与一电子感光元件，其中电子感光元件设置于成像镜头模块的一成像面。
依据本揭示内容一实施方式提供一种金属遮光元件，其环绕于一中心轴，且包含一外径面、一第一环面、一第二环面及一抗反射层。外径面环绕金属遮光元件。第一环面相对外径面设置，且第一环面较外径面靠近中心轴。第二环面相对外径面设置，第二环面较外径面靠近中心轴，且第一环面与第二环面连接并且形成一最小开孔结构。抗反射层设置于第一环面与第二环面，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层与一纳米结构层，其中纳米结构层设置于光线吸收层上。第一环面沿中心轴的长度为L1，第二环面沿中心轴的长度为L2，其满足下列条件：0.01mm≤L1+L2≤3.00mm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中光线吸收层为碳黑材料层。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中纳米结构层包含多个纳米结构单元，且纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中纳米结构层包含一连接层，且连接层设置于光线吸收层与纳米脊状凸起结构层之间。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中连接层的厚度为d，其满足下列条件：30nm≤d≤500nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中各纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：90nm≤h≤350nm。另外，其满足下列条件：90nm≤h≤290nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中第一环面沿中心轴的长度为L1，第二环面沿中心轴的长度为L2，其满足下列条件：0.03≤L1/L2≤5。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，还包含一凹槽结构，其中凹槽结构设置于第一环面与第二环面中至少一者，凹槽结构朝向外径面凹陷，且抗反射层的至少一部分设置于凹槽结构上。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中最小开孔结构具有至少一缩孔结构，且缩孔结构较最小开孔结构的最大外径靠近中心轴。
依据本揭示内容一实施方式提供一种金属遮光元件，其环绕于一中心轴，且包含一外径面、一第一环面、一第二环面及一抗反射层。外径面环绕金属遮光元件。第一环面相对外径面设置，且第一环面较外径面靠近中心轴。第二环面相对外径面设置，第二环面较外径面靠近中心轴，且第一环面与第二环面连接。抗反射层设置于第一环面与第二环面中至少一者，且包含一光线吸收层与一纳米结构层，其中纳米结构层设置于光线吸收层上。纳米结构层包含多个纳米结构单元，各纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：90nm≤h≤350nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中各纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：90nm≤h≤290nm。
依据前段所述实施方式的金属遮光元件，其中光线吸收层为碳黑材料层。
附图说明
图1A绘示依照本揭示内容第一实施例中成像镜头模块的立体图；
图1B绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块的应用情境示意图；
图1C绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块的示意图；
图1D绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块的分解图；
图1E绘示依照图1D第一实施例中抗反射层的扫描式电子显微镜影像；
图1F绘示依照图1D第一实施例中纳米脊状凸起结构层的扫描式电子显微镜影像；
图1G绘示依照图1A第一实施例中金属遮光元件的示意图；
图2A绘示依照本揭示内容第二实施例中成像镜头模块的示意图；
图2B绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件的放大图；
图2C绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件的部分剖面图；
图2D绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件的示意图；
图2E绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件的放大图；
图2F绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件的放大图；
图3绘示依照本揭示内容第三实施例中金属遮光元件的放大图；
图4A绘示依照本揭示内容第四实施例中成像镜头模块的示意图；
图4B绘示依照图4A第四实施例中金属遮光元件的放大图；
图5绘示依照本揭示内容第五实施例中成像镜头模块的示意图；
图6A绘示依照本揭示内容第六实施例中电子装置的示意图；
图6B绘示依照图6A第六实施例中电子装置的另一示意图；
图6C绘示依照图6A第六实施例中电子装置拍摄的影像示意图；
图6D绘示依照图6A第六实施例中电子装置拍摄的另一影像示意图；
图6E绘示依照图6A第六实施例中电子装置拍摄的再一影像示意图；
图7绘示依照本揭示内容第七实施例中电子装置的示意图；
图8A绘示依照本揭示内容第八实施例中车辆工具的示意图；
图8B绘示依照图8A第八实施例中车辆工具的另一示意图；
图8C绘示依照图8A第八实施例中车辆工具的再一示意图；以及
图9绘示依照现有技术中成像镜头模块的示意图。
【符号说明】
10,20,40,50,81,90:成像镜头模块
11,21,41,51,91:成像透镜组
12,22a,22b,22c,300,42,52:金属遮光元件
13,23,43,53:镜筒
14,94:保护玻璃
110,210a,210b,210c,310,410,510:外径面
120,220a,220b,220c,320,420,520:第一环面
130,230a,230b,230c,330,430,530:第二环面
131,231a,231b,231c,331,431,531:最小开孔
140,240a,240b,240c,340,440,540:抗反射层
141,241a,241b,241c,341,441,541:光线吸收层
142,242a,242b,242c,342,442,542:纳米结构层
143,143a,143b,143c,243a,243b,243c,343,443,543:纳米结构单元
144,244b,244c,344,444,544:连接层
145:纳米脊状凸起结构层
232a:缩孔结构
250a,350:凹槽结构
60,70:电子装置
61:使用者界面
62,711,712:超广角相机模块
63:高像素相机模块
64,715,716,717,718:摄远相机模块
65:成像信号处理元件
66,720:闪光灯模块
713,714:广角相机模块
719:TOF模块
80:车辆工具
O:中心轴
L:非成像光线
I1,I2,I3,I4:外部空间信息
h:各纳米结构单元的高度
L1:第一环面沿中心轴的长度
L2:第二环面沿中心轴的长度
α:夹角
d:连接层的厚度
θ:视角
具体实施方式
本揭示内容提供一种金属遮光元件，其环绕于一中心轴，且包含一外径面、一第一环面、一第二环面及一抗反射层。外径面环绕金属遮光元件。第一环面相对外径面设置，且第一环面较外径面靠近中心轴。第二环面相对外径面设置，第二环面较外径面靠近中心轴，且第一环面与第二环面连接。抗反射层设置于第一环面与第二环面中至少一者，并包含一光线吸收层与一纳米结构层，其中纳米结构层设置于光线吸收层上。具体而言，纳米结构层可将打到金属遮光元件表面的入射光线导入至底下的光线吸收层，并由光线吸收层吸收光线，使金属遮光元件的表面具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。
金属遮光元件的材质可为快削黄铜或铜合金，且可为辅助遮光件、间隔环、镜筒或遮光片，其中辅助遮光件可为设置在成像镜头模块外的附加元件，借以配合成像镜头模块的构型以遮蔽成像镜头模块容易产生杂散光的部位，但不以此为限。
第一环面与第二环面连接可形成一最小开孔结构，抗反射层包覆最小开孔结构，且最小开孔结构可为一尖端开孔结构。具体而言，第一环面与第二环面的连接处为一最小开孔结构，其中抗反射层包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴以形成最小开孔。借此，可提供光学用途。具体而言，金属遮光元件可通过特殊工艺使最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层与纳米结构层，使最小开孔结构具有低反射的特性。
第一环面与第二环面形成一夹角，夹角为α，其可满足下列条件：0度<α≤170度。另外，其可满足下列条件：10度≤α≤150度。当α满足上述的数值范围时，可使金属加工制造较具效率。另外，其可满足下列条件：20度≤α≤120度。当α满足上述的数值范围时，适合应用于光学通光孔，借以提供较高的光学品质。
第一环面沿中心轴的长度为L1，第二环面沿中心轴的长度为L2，其可满足下列条件：0.01mm≤L1+L2≤3.00mm。通过第一环面与第二环面沿中心轴具有特定长度范围时，可确保最小开孔结构达到抗反射的功效。再者，第一环面与第二环面可因金属车削的角度使得沿中心轴的长度可以是零，即L1和L2可为零。
纳米结构层可包含多个纳米结构单元，且纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层，其中各纳米结构单元的高度为h，其可满足下列条件：90nm≤h≤350nm。通过设置具有光学匹配性的高度范围的纳米结构单元，较容易使光线进入光线吸收层。借此，可提供镀制纳米结构单元于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，纳米脊状凸起结构层由横截面观察时，如山脊般呈现下宽上窄的形式，借以使等效折射率自纳米结构层底部向顶部渐减，以减少反射光产生。具体而言，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，但并不以此为限。另外，其可满足下列条件：90nm≤h≤290nm。当h满足上述的数值范围时，可得到结构较稳固的纳米脊状凸起结构层，其较不易产生剥落或断裂。
光线吸收层可为碳黑材料层。借此，可提升光线吸收率，并且提供模层的均匀性。
纳米结构层可包含一连接层，其中连接层设置于光线吸收层与纳米脊状凸起结构层之间。进一步来说，连接层的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层与纳米脊状凸起结构层为紧密接合。借此，纳米结构层可具有较强的结构稳定度。具体而言，连接层可由二氧化硅材料制成，但不以此为限。
最小开孔结构可具有至少一缩孔结构，且缩孔结构较最小开孔结构的最大外径靠近中心轴。进一步来说，尖端开孔结构可具有缩孔结构，其中缩孔结构较尖端开孔结构的最大外径靠近中心轴。通过缩孔结构的遮光设计，可降低尖端开孔结构产生杂散光的机率。
金属遮光元件可还包含一凹槽结构，其中凹槽结构设置于第一环面与第二环面中至少一者，凹槽结构朝向外径面凹陷，且抗反射层的至少一部分设置于凹槽结构上。借此，可形成光陷阱结构，以降低杂散光产生的机率。
连接层的厚度为d，其可满足下列条件：30nm≤d≤500nm。通过设置特定厚度范围的连接层能提高纳米脊状凸起结构层的镀制良率，并且可保护光线吸收层避免刮伤。
第一环面沿中心轴的长度为L1，第二环面沿中心轴的长度为L2，其可满足下列条件：0.03≤L1/L2≤5。当L1/L2满足上述的数值范围时，可减少金属遮光元件的最小开孔结构直接照射强光源的比例范围，并且保持制造的可行性。
上述本揭示内容金属遮光元件中的各技术特征皆可组合配置，而达到对应的功效。
本揭示内容提供一种成像镜头模块，其中成像镜头模块包含一成像透镜组与至少一前述的金属遮光元件。金属遮光元件与成像透镜组对应设置。详细来说，金属遮光元件可以是设置在成像透镜组的物侧，也可以是在成像透镜组的像侧，或者在成像透镜组的任意二成像透镜之间。
本揭示内容提供一种电子装置，其中电子装置包含前述的成像镜头模块与一电子感光元件。电子感光元件设置于成像镜头模块的一成像面。
根据上述实施方式，以下提出具体实施例并配合附图予以详细说明。
＜第一实施例＞
请参照图1A至图1D，其中图1A绘示依照本揭示内容第一实施例中成像镜头模块10的立体图，图1B绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块10的应用情境示意图，图1C绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块10的示意图，图1D绘示依照图1A第一实施例中成像镜头模块10的分解图。由图1A至图1D可知，成像镜头模块10包含一成像透镜组11、一金属遮光元件12、一镜筒13及一保护玻璃14，其中金属遮光元件12与成像透镜组11对应设置，金属遮光元件12设置于成像透镜组11的物侧，镜筒13用以容纳成像透镜组11，且保护玻璃14设置于金属遮光元件12的物侧。
再者，金属遮光元件12设置于镜筒13的外表面，借以方便组装以快速达到遮光的功效。具体而言，金属遮光元件12为辅助遮光件，其中辅助遮光件可为设置在成像镜头模块10外的附加元件，借以配合成像镜头模块10的构型以遮蔽成像镜头模块10容易产生杂散光的部位，但不以此为限。
请参照图1E至图1G，其中图1E绘示依照图1D第一实施例中抗反射层140的扫描式电子显微镜影像，图1F绘示依照图1D第一实施例中纳米脊状凸起结构层145的扫描式电子显微镜影像，图1G绘示依照图1A第一实施例中金属遮光元件12的示意图。由图1B至图1G可知，金属遮光元件12环绕于一中心轴O，且包含一外径面110、一第一环面120、一第二环面130及一抗反射层140。外径面110环绕金属遮光元件12。具体而言，第一环面120相对外径面110设置，且第一环面120较外径面110靠近中心轴O；第二环面130相对外径面110设置，第二环面130较外径面110靠近中心轴O，且第一环面120与第二环面130连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层140设置于第一环面120与第二环面130，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层141与一纳米结构层142，其中纳米结构层142设置于光线吸收层141上。具体而言，第一环面120与第二环面130的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层140包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔131。必须说明的是，图1G绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件12的结构细节，且图1B、图1C及图1G中虚线是指抗反射层140的设置范围。
由图1B可知，金属遮光元件12通过特殊加工，借以防止成像透镜组11的外周产生非成像光线L。具体而言，金属遮光元件12是通过特殊工艺使其最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层141与纳米结构层142以防止额外的非成像光线L产生，其中纳米结构层142可将打到金属遮光元件12表面的入射光线导入至底下的光线吸收层141，并由光线吸收层141吸收光线，使金属遮光元件12的表面与最小开孔结构皆具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。再者，光线吸收层141为碳黑材料层以提升光线吸收率并提供模层的均匀性，而金属遮光元件12的材质可为快削黄铜或铜合金，但并不以此为限。
由图1E至图1G可知，纳米结构层142包含多个纳米结构单元143、143a、143b、143c及一连接层144，其中纳米结构单元143、143a、143b、143c形成纳米脊状凸起结构层145，且连接层144设置于光线吸收层141与纳米脊状凸起结构层145之间。借此，可提供镀制纳米结构单元143、143a、143b、143c于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层144的顶部与纳米脊状凸起结构层145的底部之间无任何间隙，即连接层144与纳米脊状凸起结构层145为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层142。详细来说，纳米脊状凸起结构层145可由氧化铝材料制成，且连接层144可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
由图1E可知，纳米脊状凸起结构层145由横截面观察时，如山脊般呈现下宽上窄的形式，借以使等效折射率自纳米结构层142底部向顶部渐减，以减少反射光产生。再者，各纳米结构单元143a、143b、143c的高度为h，其中纳米结构单元143a的高度h为143.6nm，纳米结构单元143b的高度h为143.1nm，纳米结构单元143c的高度h为131.5nm。
由图1G可知，第一环面120与第二环面130形成一夹角，夹角为α；连接层144的厚度为d；各纳米结构单元143的高度为h；第一环面120沿中心轴O的长度为L1，第二环面130沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表1A条件。
＜第二实施例＞
请参照图2A，其为依照本揭示内容第二实施例中成像镜头模块20的示意图。由图2A可知，成像镜头模块20包含一成像透镜组21、多个金属遮光元件22a、22b、22c及一镜筒23，其中金属遮光元件22a、22b、22c与成像透镜组21对应设置，金属遮光元件22a、22b、22c分别设置于成像透镜组21的任意二成像透镜(图未标示)之间，且镜筒23用以容纳成像透镜组21。再者，金属遮光元件22a、22b、22c设置于镜筒23内，借以依需求达到遮光功效。具体而言，金属遮光元件22a、22c为间隔环，且金属遮光元件22b为遮光片。
请参照图2B至图2D，其中图2B绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件22a的放大图，图2C绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件22a的部分剖面图，图2D绘示依照图2A第二实施例中金属遮光元件22a的示意图。由图2B至图2D可知，金属遮光元件22a环绕于一中心轴O，且包含一外径面210a、一第一环面220a、一第二环面230a及一抗反射层240a。外径面210a环绕金属遮光元件22a。具体而言，第一环面220a相对外径面210a设置，且第一环面220a较外径面210a靠近中心轴O；第二环面230a相对外径面210a设置，第二环面230a较外径面210a靠近中心轴O，且第一环面220a与第二环面230a连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层240a设置于第一环面220a与第二环面230a，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层241a与一纳米结构层242a，其中纳米结构层242a设置于光线吸收层241a上。具体而言，第一环面220a与第二环面230a的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层240a包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔231a。必须说明的是，图2B绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件22a的结构细节。
纳米结构层242a包含多个纳米结构单元243a，其中纳米结构单元243a形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且纳米脊状凸起结构层直接镀制于光线吸收层241a，可视材料条件选择是否设置连接层。借此，可提供镀制纳米结构单元243a于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，但并不以此为限。
由图2B与图2C可知，金属遮光元件22a还包含一凹槽结构250a，其中凹槽结构250a设置于第二环面230a，凹槽结构250a朝向外径面210a凹陷，且抗反射层240a的至少一部分设置于凹槽结构250a上。借此，可形成光陷阱结构，以降低杂散光产生的机率。
由图2D可知，尖端开孔结构具有至少一缩孔结构232a，其中缩孔结构232a较尖端开孔结构的最大外径靠近中心轴O。通过缩孔结构232a的遮光设计，可降低尖端开孔结构产生杂散光的机率。再者，抗反射层240a搭配缩孔结构232a可更有效率地遮蔽非成像光线，能够有效减少影像产生鬼影的机率。
由图2B可知，第一环面220a与第二环面230a形成一夹角，夹角为α；各纳米结构单元243a的高度为h；第一环面220a沿中心轴O的长度为L1，第二环面230a沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表2A条件。
请参照图2E，其为依照图2A第二实施例中金属遮光元件22b的放大图。由图2E可知，金属遮光元件22b环绕于一中心轴O，且包含一外径面210b、一第一环面220b、一第二环面230b及一抗反射层240b。外径面210b环绕金属遮光元件22b。具体而言，第一环面220b相对外径面210b设置，且第一环面220b较外径面210b靠近中心轴O；第二环面230b相对外径面210b设置，第二环面230b较外径面210b靠近中心轴O，且第一环面220b与第二环面230b连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层240b设置于第一环面220b与第二环面230b，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层241b与一纳米结构层242b，其中纳米结构层242b设置于光线吸收层241b上。具体而言，第一环面220b与第二环面230b的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层240b包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔231b。必须说明的是，图2E绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件22b的结构细节。
纳米结构层242b包含多个纳米结构单元243b及一连接层244b，其中纳米结构单元243b形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且连接层244b设置于光线吸收层241b与纳米脊状凸起结构层之间。借此，可提供镀制纳米结构单元243b于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层244b的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层244b与纳米脊状凸起结构层为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层242b。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，且连接层244b可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
第一环面220b与第二环面230b形成一夹角，夹角为α；连接层244b的厚度为d；各纳米结构单元243b的高度为h；第一环面220b沿中心轴O的长度为L1，第二环面230b沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表2B条件。
请参照图2F，其为依照图2A第二实施例中金属遮光元件22c的放大图。由图2F可知，金属遮光元件22c环绕于一中心轴O，且包含一外径面210c、一第一环面220c、一第二环面230c及一抗反射层240c。外径面210c环绕金属遮光元件22c。具体而言，第一环面220c相对外径面210c设置，且第一环面220c较外径面210c靠近中心轴O；第二环面230c相对外径面210c设置，第二环面230c较外径面210c靠近中心轴O，且第一环面220c与第二环面230c连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层240c设置于第一环面220c与第二环面230c，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层241c与一纳米结构层242c，其中纳米结构层242c设置于光线吸收层241c上。具体而言，第一环面220c与第二环面230c的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层240c包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔231c。必须说明的是，图2F绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件22c的结构细节。
纳米结构层242c包含多个纳米结构单元243c及一连接层244c，其中纳米结构单元243c形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且连接层244c设置于光线吸收层241c与纳米脊状凸起结构层之间。借此，可提供镀制纳米结构单元243c于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层244c的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层244c与纳米脊状凸起结构层为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层242c。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，且连接层244c可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
第一环面220c与第二环面230c形成一夹角，夹角为α；连接层244c的厚度为d；各纳米结构单元243c的高度为h；第一环面220c沿中心轴O的长度为L1，第二环面230c沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表2C条件。
必须说明的是，各金属遮光元件22a、22b、22c是通过特殊工艺使其最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层241a、241b、241c与纳米结构层242a、242b、242c以防止额外的非成像光线产生，其中各纳米结构层242a、242b、242c可将打到金属遮光元件22a、22b、22c表面的入射光线导入至底下的光线吸收层241a、241b、241c，并由光线吸收层241a、241b、241c吸收光线，使金属遮光元件22a、22b、22c的表面与最小开孔结构皆具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。再者，各光线吸收层241a、241b、241c为碳黑材料层以提升光线吸收率并提供模层的均匀性，而各金属遮光元件22a、22b、22c的材质可为快削黄铜或铜合金，但并不以此为限。进一步来说，图2A、图2B、图2E及图2F中虚线是指抗反射层240a、240b、240c的设置范围。
＜第三实施例＞
请参照图3，其为依照本揭示内容第三实施例中金属遮光元件300的放大图。由图3可知，金属遮光元件300环绕于一中心轴O，且包含一外径面310、一第一环面320、一第二环面330及一抗反射层340。外径面310环绕金属遮光元件300。具体而言，第一环面320相对外径面310设置，且第一环面320较外径面310靠近中心轴O；第二环面330相对外径面310设置，第二环面330较外径面310靠近中心轴O，且第一环面320与第二环面330连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层340设置于第一环面320与第二环面330，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层341与一纳米结构层342，其中纳米结构层342设置于光线吸收层341上。具体而言，第一环面320与第二环面330的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层340包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔331。必须说明的是，图3绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件300的结构细节，且图3中虚线是指抗反射层340的设置范围。
金属遮光元件300通过特殊加工，借以防止成像透镜组(图未绘示)的外周产生非成像光线。具体而言，金属遮光元件300是通过特殊工艺使其最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层341与纳米结构层342以防止额外的非成像光线产生，其中纳米结构层342可将打到金属遮光元件300表面的入射光线导入至底下的光线吸收层341，并由光线吸收层341吸收光线，使金属遮光元件300的表面与最小开孔结构皆具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。再者，光线吸收层341为碳黑材料层以提升光线吸收率并提供模层的均匀性，而金属遮光元件300的材质可为快削黄铜或铜合金，但并不以此为限。
纳米结构层342包含多个纳米结构单元343及一连接层344，其中纳米结构单元343形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且连接层344设置于光线吸收层341与纳米脊状凸起结构层之间。借此，可提供镀制纳米结构单元343于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层344的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层344与纳米脊状凸起结构层为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层342。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，且连接层344可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
金属遮光元件300还包含一凹槽结构350，其中凹槽结构350设置于第二环面330，凹槽结构350朝向外径面310凹陷，且抗反射层340的至少一部分设置于凹槽结构350上。借此，可形成光陷阱结构，以降低杂散光产生的机率。
第一环面320与第二环面330形成一夹角，夹角为α；连接层344的厚度为d；各纳米结构单元343的高度为h；第一环面320沿中心轴O的长度为L1，第二环面330沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表3A条件。
＜第四实施例＞
请参照图4A，其为依照本揭示内容第四实施例中成像镜头模块40的示意图。由图4A可知，成像镜头模块40包含一成像透镜组41、一金属遮光元件42及一镜筒43，其中金属遮光元件42与成像透镜组41对应设置，金属遮光元件42设置于成像透镜组41的物侧，且镜筒43用以容纳成像透镜组41。再者，金属遮光元件42设置于镜筒43的外表面，借以方便组装以快速达到遮光的功效。具体而言，金属遮光元件42为辅助遮光件，其中辅助遮光件可为设置在成像镜头模块40外的附加元件，借以配合成像镜头模块40的构型以遮蔽成像镜头模块40容易产生杂散光的部位，但不以此为限。
请参照图4B，其为依照图4A第四实施例中金属遮光元件42的放大图。由图4B可知，金属遮光元件42环绕于一中心轴O，且包含一外径面410、一第一环面420、一第二环面430及一抗反射层440。外径面410环绕金属遮光元件42。具体而言，第一环面420相对外径面410设置，且第一环面420较外径面410靠近中心轴O；第二环面430相对外径面410设置，第二环面430较外径面410靠近中心轴O，且第一环面420与第二环面430连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层440设置于第一环面420与第二环面430，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层441与一纳米结构层442，其中纳米结构层442设置于光线吸收层441上。具体而言，第一环面420与第二环面430的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层440包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔431。必须说明的是，图4B绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件42的结构细节，且图4A与图4B中虚线是指抗反射层440的设置范围。
金属遮光元件42通过特殊加工，借以防止成像透镜组41的外周产生非成像光线。具体而言，金属遮光元件42是通过特殊工艺使其最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层441与纳米结构层442以防止额外的非成像光线产生，其中纳米结构层442可将打到金属遮光元件42表面的入射光线导入至底下的光线吸收层441，并由光线吸收层441吸收光线，使金属遮光元件42的表面与最小开孔结构皆具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。再者，光线吸收层441为碳黑材料层以提升光线吸收率并提供模层的均匀性，而金属遮光元件42的材质可为快削黄铜或铜合金，但并不以此为限。
纳米结构层442包含多个纳米结构单元443及一连接层444，其中纳米结构单元443形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且连接层444设置于光线吸收层441与纳米脊状凸起结构层之间。借此，可提供镀制纳米结构单元443于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层444的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层444与纳米脊状凸起结构层为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层442。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，且连接层444可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
第一环面420与第二环面430形成一夹角，夹角为α；连接层444的厚度为d；各纳米结构单元443的高度为h；第一环面420沿中心轴O的长度为L1，第二环面430沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表4A条件。
＜第五实施例＞
请参照图5，其为依照本揭示内容第五实施例中成像镜头模块50的示意图。由图5可知，成像镜头模块50包含一成像透镜组51、一金属遮光元件52及一镜筒53，其中金属遮光元件52与成像透镜组51对应设置，金属遮光元件52设置于成像透镜组51的像侧，且镜筒53用以容纳成像透镜组51与金属遮光元件52。再者，金属遮光元件52为镜筒，其可用以装设成像透镜组51，并用以遮蔽非成像光线。必须说明的是，图5绘示二种倍率的放大图以清楚观察金属遮光元件52的结构细节。
金属遮光元件52环绕于一中心轴O，且包含一外径面510、一第一环面520、一第二环面530及一抗反射层540。外径面510环绕金属遮光元件52。具体而言，第一环面520相对外径面510设置，且第一环面520较外径面510靠近中心轴O；第二环面530相对外径面510设置，第二环面530较外径面510靠近中心轴O，且第一环面520与第二环面530连接并且形成一最小开孔结构(图未标示)，其中最小开孔结构为一尖端开孔结构，借以提供光学用途；抗反射层540设置于第一环面520与第二环面530，并包覆最小开孔结构，且包含一光线吸收层541与一纳米结构层542，其中纳米结构层542设置于光线吸收层541上。具体而言，第一环面520与第二环面530的连接处为最小开孔结构，其中抗反射层540包覆最小开孔结构，且最小开孔结构环绕中心轴O以形成最小开孔531。必须说明的是，图5中虚线是指抗反射层540的设置范围。
金属遮光元件52通过特殊加工，借以防止成像透镜组51的外周产生非成像光线。具体而言，金属遮光元件52是通过特殊工艺使其最小开孔结构与最小开孔结构周围的表面镀上光线吸收层541与纳米结构层542以防止额外的非成像光线产生，其中纳米结构层542可将打到金属遮光元件52表面的入射光线导入至底下的光线吸收层541，并由光线吸收层541吸收光线，使金属遮光元件52的表面与最小开孔结构皆具有低反射的特性，提供较高的遮光效率。再者，光线吸收层541为碳黑材料层以提升光线吸收率并提供模层的均匀性，而金属遮光元件52的材质可为快削黄铜或铜合金，但并不以此为限。
纳米结构层542包含多个纳米结构单元543及一连接层544，其中纳米结构单元543形成一纳米脊状凸起结构层(图未标示)，且连接层544设置于光线吸收层541与纳米脊状凸起结构层之间。借此，可提供镀制纳米结构单元543于内孔的制造方式，且可达到快速且易量产的可行性。再者，连接层544的顶部与纳米脊状凸起结构层的底部之间无任何间隙，即连接层544与纳米脊状凸起结构层为紧密接合，借以得到结构稳定度较强的纳米结构层542。详细来说，纳米脊状凸起结构层可由氧化铝材料制成，且连接层544可由二氧化硅材料制成，但并不以此为限。
第一环面520与第二环面530形成一夹角，夹角为α；连接层544的厚度为d；各纳米结构单元543的高度为h；第一环面520沿中心轴O的长度为L1，第二环面530沿中心轴O的长度为L2，所述参数满足下列表5A条件。
＜第六实施例＞
请参照图6A与图6B，其中图6A绘示依照本揭示内容第六实施例中电子装置60的示意图，图6B绘示依照图6A第六实施例中电子装置60的另一示意图。由图6A与图6B可知，电子装置60是一智能手机，电子装置60包含一成像镜头模块(图未标示)、一电子感光元件(图未绘示)及一使用者界面61，其中成像镜头模块包含一成像透镜组(图未绘示)与至少一金属遮光元件(图未绘示)，电子感光元件设置于成像镜头模块的一成像面(图未绘示)，且金属遮光元件与成像透镜组对应设置。进一步来说，成像镜头模块为超广角相机模块62、高像素相机模块63及摄远相机模块64，且使用者界面61为触控屏幕，但并不以此为限。具体而言，金属遮光元件可为前述第一实施例至第五实施例中的任一金属遮光元件，但本揭示内容不以此为限。
使用者通过使用者界面61进入拍摄模式，其中使用者界面61用以显示画面，且可用以手动调整拍摄视角以切换不同的成像镜头模块。此时成像镜头模块汇集成像光线在电子感光元件上，并输出有关影像的电子信号至成像信号处理元件(Image SignalProcessor，ISP)65。
由图6B可知，因应电子装置60的相机规格，电子装置60可还包含光学防手震组件(图未绘示)，进一步地，电子装置60可还包含至少一对焦辅助模块(图未标示)及至少一感测元件(图未绘示)。对焦辅助模块可以是补偿色温的闪光灯模块66、红外线测距元件、激光对焦模块等，感测元件可具有感测物理动量与作动能量的功能，如加速计、陀螺仪、霍尔元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在环境施加的晃动及抖动，进而有利于电子装置60中成像镜头模块配置的自动对焦功能及光学防手震组件的发挥，以获得良好的成像品质，有助于依据本揭示内容的电子装置60具备多种模式的拍摄功能，如优化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高动态范围成像)、高解析4K(4K Resolution)录影等。此外，使用者可由使用者界面61直接目视到相机的拍摄画面，并在使用者界面61上手动操作取景范围，以达成所见即所得的自动对焦功能。
进一步来说，成像镜头模块、电子感光元件、光学防手震组件、感测元件及对焦辅助模块可设置在一软性电路板(Flexible Printed Circuitboard，FPC)(图未绘示)上，并通过一连接器(图未绘示)电性连接成像信号处理元件65等相关元件以执行拍摄流程。当前的电子装置如智能手机具有轻薄的趋势，将成像镜头模块与相关元件配置于软性电路板上，再利用连接器将电路汇整至电子装置的主板，可满足电子装置内部有限空间的机构设计及电路布局需求并获得更大的裕度，亦使得其成像镜头模块的自动对焦功能通过电子装置的触控屏幕获得更灵活的控制。第六实施例中，电子装置60可包含多个感测元件及多个对焦辅助模块，感测元件及对焦辅助模块设置在软性电路板及另外至少一软性电路板(图未绘示)，并通过对应的连接器电性连接成像信号处理元件65等相关元件以执行拍摄流程。在其他实施例中(图未绘示)，感测元件及辅助光学元件亦可依机构设计及电路布局需求设置于电子装置的主板或是其他形式的载板上。
此外，电子装置60可进一步包含但不限于显示单元(Display)、控制单元(ControlUnit)、储存单元(Storage Unit)、暂储存单元(RAM)、只读储存单元(ROM)或其组合。
图6C绘示依照图6A第六实施例中电子装置60拍摄的影像示意图。由图6C可知，以超广角相机模块62可拍摄到较大范围的影像，具有容纳更多景色的功能。
图6D绘示依照图6A第六实施例中电子装置60拍摄的另一影像示意图。由图6D可知，以高像素相机模块63可拍摄一定范围且兼具高像素的影像，具有高解析低变形的功能。
图6E绘示依照图6A第六实施例中电子装置60拍摄的再一影像示意图。由图6E可知，以摄远相机模块64具有高倍数的放大功能，可拍摄远处的影像并放大至高倍。
由图6C至图6E可知，由具有不同焦距的成像镜头模块进行取景，并搭配影像处理的技术，可于电子装置60实现变焦的功能。
＜第七实施例＞
请参照图7，其为依照本揭示内容第七实施例中电子装置70的示意图。由图7可知，电子装置70是一智能手机，且电子装置70包含一成像镜头模块(图未标示)与一电子感光元件(图未绘示)，其中成像镜头模块包含一成像透镜组(图未绘示)与至少一金属遮光元件(图未绘示)，电子感光元件设置于成像镜头模块的一成像面(图未绘示)，且金属遮光元件与成像透镜组对应设置。进一步来说，成像镜头模块为超广角相机模块711、712、广角相机模块713、714、摄远相机模块715、716、717、718及TOF模块(Time-Of-Flight:飞时测距模块)719，而TOF模块719另可为其他种类的成像镜头模块，并不限于此配置方式。具体而言，金属遮光元件可为前述第一实施例至第五实施例中的任一金属遮光元件，但本揭示内容不以此为限。
再者，摄远相机模块717、718用以转折光线，但本揭示内容不以此为限。
因应电子装置70的相机规格，电子装置70可还包含光学防手震组件(图未绘示)，进一步地，电子装置70可还包含至少一对焦辅助模块(图未绘示)及至少一感测元件(图未绘示)。对焦辅助模块可以是补偿色温的闪光灯模块720、红外线测距元件、激光对焦模块等，感测元件可具有感测物理动量与作动能量的功能，如加速计、陀螺仪、霍尔元件(HallEffect Element)，以感知使用者的手部或外在环境施加的晃动及抖动，进而有利于电子装置70中成像镜头模块配置的自动对焦功能及光学防手震组件的发挥，以获得良好的成像品质，有助于依据本揭示内容的电子装置70具备多种模式的拍摄功能，如优化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高动态范围成像)、高解析4K(4K Resolution)录影等。
另外，第七实施例与第六实施例其余的元件的结构及配置关系皆相同，在此将不另赘述。
＜第八实施例＞
请参照图8A至图8C，其中图8A绘示依照本揭示内容第八实施例中车辆工具80的示意图，图8B绘示依照图8A第八实施例中车辆工具80的另一示意图，图8C绘示依照图8A第八实施例中车辆工具80的再一示意图。由图8A至图8C可知，车辆工具80包含多个成像镜头模块81与一电子感光元件(图未绘示)，其中各成像镜头模块81分别包含一成像透镜组(图未绘示)与至少一金属遮光元件(图未绘示)，电子感光元件设置于成像镜头模块的一成像面(图未绘示)，且金属遮光元件与成像透镜组对应设置。第八实施例中，成像镜头模块81的数量为六，且金属遮光元件可为前述第一实施例至第五实施例中的任一金属遮光元件，但并不以此数量为限。
由图8A与图8B可知，成像镜头模块81为车用成像镜头模块，且成像镜头模块81中二者分别位于左右后照镜的下方，且用以撷取一视角θ的影像信息。具体而言，视角θ可满足下列条件：40度<θ<90度。借此，可撷取左右二旁车道范围内的影像信息。
由图8B可知，成像镜头模块81中另二者可设置于车辆工具80内部的空间。具体而言，所述二成像镜头模块81分别设置于靠近车内后视镜的位置与靠近后车窗的位置。再者，成像镜头模块81中另可分别设置于车辆工具80左右后照镜的非镜面，但并不以此为限。
由图8C可知，成像镜头模块81中再二者可设置于车辆工具80的前端与后端的位置，其中通过成像镜头模块81于车辆工具80的前端与后端及左右后照镜的下方的配置，有助于驾驶人借此获得驾驶舱以外的外部空间信息，例如外部空间信息I1、I2、I3、I4，但并不以此为限。借此，可提供更多视角以减少死角，进而有助于提升行车安全。
虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。

Claims (27)

1.一种金属遮光元件，其特征在于，环绕于一中心轴，且包含：
一外径面，环绕该金属遮光元件；
一第一环面，相对该外径面设置，且该第一环面较该外径面靠近该中心轴；
一第二环面，相对该外径面设置，该第二环面较该外径面靠近该中心轴，且该第一环面与该第二环面连接并且形成一最小开孔结构；以及
一抗反射层，设置于该第一环面与该第二环面，并包覆该最小开孔结构，且包含：
一光线吸收层；及
一纳米结构层，设置于该光线吸收层上；
其中，该最小开孔结构为一尖端开孔结构，且该第一环面与该第二环面形成一夹角，该夹角为α，其满足下列条件：
0度<α≤170度。
2.如权利要求1所述的金属遮光元件，其特征在于，该光线吸收层为碳黑材料层。
3.如权利要求1所述的金属遮光元件，其特征在于，该纳米结构层包含多个纳米结构单元，且所述多个纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
4.如权利要求3所述的金属遮光元件，其特征在于，该纳米结构层包含一连接层，且该连接层设置于该光线吸收层与该纳米脊状凸起结构层之间。
5.如权利要求4所述的金属遮光元件，其特征在于，该连接层的厚度为d，其满足下列条件：
30nm≤d≤500nm。
6.如权利要求3所述的金属遮光元件，其特征在于，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤350nm。
7.如权利要求6所述的金属遮光元件，其特征在于，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤290nm。
8.如权利要求1所述的金属遮光元件，其特征在于，该尖端开孔结构具有至少一缩孔结构，且该至少一缩孔结构较该尖端开孔结构的最大外径靠近该中心轴。
9.如权利要求1所述的金属遮光元件，其特征在于，该夹角为α，其满足下列条件：
10度≤α≤150度。
10.如权利要求9所述的金属遮光元件，其特征在于，该夹角为α，其满足下列条件：
20度≤α≤120度。
11.如权利要求1所述的金属遮光元件，其特征在于，还包含：
一凹槽结构，设置于该第一环面与该第二环面中至少一者，该凹槽结构朝向该外径面凹陷，且该抗反射层的至少一部分设置于该凹槽结构上。
12.一种成像镜头模块，其特征在于，包含：
一成像透镜组；以及
至少一如权利要求1所述的金属遮光元件，其中该至少一金属遮光元件与该成像透镜组对应设置。
13.一种电子装置，其特征在于，包含：
如权利要求12所述的成像镜头模块；以及
一电子感光元件，设置于该成像镜头模块的一成像面。
14.一种金属遮光元件，其特征在于，环绕于一中心轴，且包含：
一外径面，环绕该金属遮光元件；
一第一环面，相对该外径面设置，且该第一环面较该外径面靠近该中心轴；
一第二环面，相对该外径面设置，该第二环面较该外径面靠近该中心轴，且该第一环面与该第二环面连接并且形成一最小开孔结构；以及
一抗反射层，设置于该第一环面与该第二环面，并包覆该最小开孔结构，且包含：
一光线吸收层；及
一纳米结构层，设置于该光线吸收层上；
其中，该第一环面沿该中心轴的长度为L1，该第二环面沿该中心轴的长度为L2，其满足下列条件：
0.01mm≤L1+L2≤3.00mm。
15.如权利要求14所述的金属遮光元件，其特征在于，该光线吸收层为碳黑材料层。
16.如权利要求14所述的金属遮光元件，其特征在于，该纳米结构层包含多个纳米结构单元，且所述多个纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
17.如权利要求16所述的金属遮光元件，其特征在于，该纳米结构层包含一连接层，且该连接层设置于该光线吸收层与该纳米脊状凸起结构层之间。
18.如权利要求17所述的金属遮光元件，其特征在于，该连接层的厚度为d，其满足下列条件：
30nm≤d≤500nm。
19.如权利要求16所述的金属遮光元件，其特征在于，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤350nm。
20.如权利要求19所述的金属遮光元件，其特征在于，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤290nm。
21.如权利要求14所述的金属遮光元件，其特征在于，该第一环面沿该中心轴的长度为L1，该第二环面沿该中心轴的长度为L2，其满足下列条件：
0.03≤L1/L2≤5。
22.如权利要求14所述的金属遮光元件，其特征在于，还包含：
一凹槽结构，设置于该第一环面与该第二环面中至少一者，该凹槽结构朝向该外径面凹陷，且该抗反射层的至少一部分设置于该凹槽结构上。
23.如权利要求14所述的金属遮光元件，其特征在于，该最小开孔结构具有至少一缩孔结构，且该至少一缩孔结构较该最小开孔结构的最大外径靠近该中心轴。
24.一种金属遮光元件，其特征在于，环绕于一中心轴，且包含：
一外径面，环绕该金属遮光元件；
一第一环面，相对该外径面设置，且该第一环面较该外径面靠近该中心轴；
一第二环面，相对该外径面设置，该第二环面较该外径面靠近该中心轴，且该第一环面与该第二环面连接；以及
一抗反射层，设置于该第一环面与该第二环面中至少一者，且包含：
一光线吸收层；及
一纳米结构层，设置于该光线吸收层上；
其中，该纳米结构层包含多个纳米结构单元，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤350nm。
25.如权利要求24所述的金属遮光元件，其特征在于，所述多个纳米结构单元形成一纳米脊状凸起结构层。
26.如权利要求25所述的金属遮光元件，其特征在于，各该纳米结构单元的高度为h，其满足下列条件：
90nm≤h≤290nm。
27.如权利要求24所述的金属遮光元件，其特征在于，该光线吸收层为碳黑材料层。
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